JPH06279110A - チタン酸バリウム系粉体組成物及びこれを用いた半導体磁器組成物の製造法 - Google Patents
チタン酸バリウム系粉体組成物及びこれを用いた半導体磁器組成物の製造法Info
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Abstract
の抵抗温度特性を有するチタン酸バリウム系半導体磁器
組成物の製造法およびその前駆体である粉体組成物を提
供する。 【構成】主成分のうちBaTiO3 は液相から合成した
疑似立方晶でBET比表面積が5〜14m2 /gのもの
を用い、他の主成分はPbTiO3 、SrTiO 3 、C
aTiO3 を用いるが、少なくとも1種は炭酸塩や酸化
物からなり、半導体化剤、MnO2 および/またはCu
O、SiO2 を添加した組成物からなる。
Description
つ、耐電圧特性に優れた正の抵抗温度特性を有するチタ
ン酸バリウム系半導体磁器組成物の製造法及びその前駆
体であるチタン酸バリウム系粉体組成物に関する。
の製造方法は、炭酸バリウム(BaCO3 )、二酸化チ
タン(TiO2 )、を主原料とし、これに、Y,La,
Nb等の半導体化元素を加えて仮焼して固相反応をおこ
なわせ、それによって得られたチタン酸バリウム(Ba
TiO3 )粉体を粉砕し、それを用いて成型した後、焼
成する方法が知られている。
小さく、かつキュリー点を超えると著しい正の抵抗温度
変化を示す特性を有しており、例えば過電流保護装置、
モータ起動素子、温度センサ及び自己温度制御発熱体に
使用されている。また、上記チタン酸バリウム系半導体
磁器のキュリー点は、その主成分であるチタン酸バリウ
ムの影響によりほぼ120℃付近にある。かかるチタバ
リ系半導体磁器のキュリー点を高温側に移行させるた
め、Baの一部をPbで置換する方法が知られている。
逆に上記キュリー点を低温側に移行させるためにBaの
一部をSrで置換したり、Tiの一部をZr,Snなど
で置換したりする方法も知られている。
Mnやシリカ、アルミナ、酸化銅等を添加することによ
り、キュリー点を越えた後の抵抗温度変化率を改善した
り、半導体磁器の特性を安定させる等の試みが行われて
いる(特公昭53-29386号、特公昭54-10110号)。
時に置換し、これらPb,Sr,Caを共存状態で主成
分のBaに含有させることにより、10Ω・cm以下でも高
い耐電圧が得られることが記載されている(特公昭63-2
8324号、特開平3-215353〜6号、特開平4-104951号、特
開平4-104948号, 特開平4-170360号, 特開平4-170361
号)。さらに、特開平3-88770 号公報には上記と同様に
Baの一部をPb,Sr,Caで置換するが、この主成
分原料のBa,Sr,PbあるいはBa,Srに蓚酸塩
を熱分解したチタン酸塩を用いて、比抵抗が8Ω・cm以
下でも耐電圧が60V/mm以上となることが記載されてい
る。
報のようにBaの一部をPb,Sr,Caで同時に置換
したものは、比抵抗が低く高い耐電圧を得ることができ
るものの、原料に炭酸塩を使用しているため、焼成時の
寸法変化が大きくなるので仮焼が必要である。寸法変化
をなくすのにチタン酸塩を原料とすれば良いが、比抵抗
が上昇するうえ、それぞれを個別に製造しなければなら
ず、多くの設備と労力が必要となる。さらに、従来の固
相法に準じて仮焼し、この仮焼粉体にMnやシリカを添
加する方法をとらないと、比抵抗は変わらないものの耐
電圧が大きく低下する。
a,Srの原料に蓚酸塩を熱分解したものを用い、比抵
抗が8Ω・cm以下で耐電圧が60V/mm以上を達成してい
るが、この方法では、それぞれの蓚酸塩を製造しなけれ
ばならず、多くの設備と製造工程が増すための大変な設
備投資と労力を要す。図1に上述のそれぞれの製造工程
の比較図を示す。従って、本発明の目的は、製造工程が
簡略化でき、さらに比抵抗が小さく、かつ高い耐電圧を
有するチタン酸バリウム系半導体磁器を製造する方法及
びその前駆体であるチタン酸バリウム系粉体組成物を提
供することにある。
現状に鑑み、上記問題点を解決するために鋭意検討を行
った結果チタン酸バリウム系半導体磁器のBaの一部を
Pb,Sr,Caで同時に置換した磁器組成物であっ
て、この前駆体粉末には、液相から合成したBET表面
積が5〜14m2 /gの疑似立方晶BaTiO3 を用
い、このBaTiO 3 を除くPb,Sr,CaはPbT
iO3 、SrTiO3 、CaTiO3 を用いるが、この
うち少なくとも一種が炭酸塩や酸化物からなり、この粉
体組成物は仮焼せず直接焼成させることにより、比抵抗
が低く、しかも耐電圧、抵抗温度特性等の他の特性が非
常に優れた正の抵抗温度特性を持つ磁器が得られること
を見いだし、本発明に到達したものである。
O3 、SrTiO3 、CaTiO3の主成分のうち、B
aTiO3 は疑似立方晶でBET比表面積が5〜14m
2 /gであり、BaTiO3 を除く主成分のうち少なく
とも一種は炭酸塩や酸化物とからなり、半導体化剤とし
てY,La,Ceなどの希土類元素、Nb,Sbのうち
少なくとも一種が、さらにMnO2 および/またはCu
O、SiO2 が添加含有されたチタン酸バリウム系粉体
組成物、および、この粉体組成物を仮焼せず直接焼成さ
せることを特徴とするチタン酸バリウム系半導体磁器の
製造方法を提供するものである。
O3 について述べる。BaTiO3は通常室温では正方
晶(そのX線回折図を図2に示すが、200と002が
分裂)、キュリー点の120℃以上で立方晶であること
が知られているが、液相からの合成によって疑似立方晶
(そのX線回折図を図3に示すが、200と002が明
確に分離しない)の微粒子な粉末を製造することができ
る。液相からの合成方法には蓚酸塩法,アルコキシド
法,水熱法,アルカリ加水分解法等がある。
と、この方法は蓚酸チタン酸バリウムを湿式合成し、こ
れを熱分解して得るといういわゆるクラボー法が知られ
ている〔W.S.Clabaughet al., J.Res.Nat.Bur.Stand.,5
6(5),289-291,(1956) 〕。そのほか塩化バリウムの水溶
液を蓚酸とオキシ塩化チタンの混合物を含む水溶液に2
0〜60℃、好ましくは55〜60℃の温度で滴下する
方法(特開昭63-103827号)や塩化バリウムが母液に含
有され、塩化チタンが滴下液に含有され、母液中に滴下
液を滴下して攪拌混合することにより、塩化バリウム、
塩化チタン及び蓚酸を反応させて蓚酸チタン酸バリウム
を合成する製造方法(特開平3-88720 号)が提案されて
いる。本発明に用いる蓚酸塩BaTiO3 は特にこれら
の製造方法や製造条件を規定するものではないが、好ま
しくは、できるだけ純度の高い蓚酸塩を得ること、蓚酸
塩中のBaとTiのモル比ができるだけ1に近くかつ各
結晶間のばらつきのないものを得ることである。そのた
め純度については原料となる蓚酸、四塩化チタンや塩化
バリウムができるだけ高純度であることはむろん、反応
容器からの混入を避けるため反応容器はテフロン等の耐
酸性のプラスチック容器が好ましく、最終的に得られた
蓚酸塩はアルカリ土類を除いた他の金属不純物濃度は数
ppm以下、トータルで100ppm以下が望ましい。
熱分解する焼成温度と焼成時間は特に制限はないが通
常、700〜900℃にて1〜5時間程度である。この
ようにして得たBaTiO3 は疑似立方晶でBET比表
面積は5〜14m2 /gとなり望ましい。その比表面積
が5〜14m2 /gとしたのは、熱分解する焼成温度と
焼成時間を選ぶことによって、任意にすることができる
が、例えば1000℃以上の温度で焼成すると正方晶と
なり、BET比表面積も5m 2 /gより小さく他成分と
固溶しにくく、さらにボールミル粉砕で微細化に時間を
要しボールの成分が不純物として混入するため、比抵抗
が高くなり好ましくない。
水分解法で製造した場合は反応沈澱物が疑似立方晶Ba
TiO3 になっているが、いずれも粒子径がかなり小さ
く、粉砕・混合によって他の炭酸塩や酸化物と粒子径が
大きく異なり、焼成時の固相反応に於て異常粒成長の原
因になり耐電圧が低下するため、BET比表面積を5〜
14m2 /gの範囲内にそろえなければならない。この
とき、仮焼温度が高すぎると疑似立方晶から正方晶に転
移し比表面積が小さくなるのでアルコキシド法では70
0℃以下、アルカリ加水分解法では1000℃以下、水
熱法では800℃以下が望ましい。また、Ba/Ti比
と純度についても蓚酸塩と同様に、BaとTiのモル比
ができるだけ1に近く、不純物濃度はアルカリ土類を除
いた他の金属不純物が数ppm以下、トータルで100
ppm以下が望ましい。
O3 、SrTiO3 等のチタン酸塩は一般的な固相法で
製造した場合は、炭酸塩および酸化物を加えてボールミ
ル等で粉砕混合し仮焼して固相反応を行わせるため、そ
の温度にもよるが強固にネッキングするので、粉砕して
使用する。また、原料に蓚酸塩を熱分解したチタン酸塩
を用いる場合は、製造する蓚酸塩が増すほど製造工程が
増え多くの設備を必要とする。従って、本発明はBaT
iO3 を除くSrTiO3 、PbTiO3 、CaTiO
3 の代わりに炭酸塩や酸化物で用いることが出来るのが
大きな特徴で、これによりこれらの各チタン酸塩の製造
プロセスが削減できる。また、固相法においてはさらに
仮焼後の粉砕混合が必要なのでこれによって不純物が混
入するが、かかるプロセスでは、不純物の混入を防ぐこ
とができる。また、原料に炭酸塩や酸化物を使用した場
合、通常仮焼するのは固溶させるためと、焼成中の寸法
変化を小さくするためであるが、本発明の場合、BaT
iO3 がおよそ半分以上占めているため、他の主成分原
料に炭酸塩や酸化物を使用しても、寸法変化への影響が
小さいので仮焼する必要がなく、またさらに重要なこと
は、仮焼しない方が比抵抗を低くでき耐電圧も高く維持
できる。
TiO3 は疑似立方晶でBET比表面積が5〜14m2
/gのものを用い、他の主成分のSrTiO3 、PbT
iO 3 、CaTiO3 のうち少なくとも一種を炭酸塩や
酸化物で用いたために、さらに仮焼せず直接焼成するこ
とによって優れた電気的特性を有するようになった。そ
の理由として、以下のような点が挙げられる。BaT
iO3 を除く他の主成分SrTiO3 、PbTiO3 、
CaTiO3 に炭酸塩や酸化物を用いるので粉砕が容
易。溶液法で合成したBaTiO3 がおよそ半分以上
占め、アルカリ土類元素を除いた全金属元素が100p
pm以下で純度が非常に高い。蓚酸塩法のような液相
から合成したBaTiO3 粒子の大きさは固相法で製造
した約1.0μm以上に比べ、通常0.1μm以下とか
なり粒子が小さく非常に易焼結性である。
がコントロールしやすくその特性改善効果が大きいこ
と、磁器中の組成が粒径が10μm以下で平均粒径がお
よそ5μmに制御された整った粒径の焼結体からなる均
一微細組織となっているため耐電圧特性が向上したこと
が考えられる。
晶BaTiO3 を用い、さらにBaTiO3 を除く他の
主成分を炭酸塩や酸化物を用いたチタン酸バリウム系粉
体組成物、及びこの粉体組成物を仮焼せず直接焼結させ
ることによって、製造工程が簡略化でき、さらに比抵抗
が低く、かつ高耐電圧を有するチタン酸バリウム系半導
体磁器を製造する方法を提供できる。
るが、本発明はかかる実施例に限定するものではない。
備した。その方法は塩化バリウムの水溶液とオキシ塩化
チタンの混合物を含む水溶液に80℃の温度に保った蓚
酸水溶液に滴下して攪拌混合することにより蓚酸チタン
酸バリウムを合成し、これを750℃,800℃,85
0℃で1時間焼成して比表面積がそれぞれ11,9.
0,6.5m2 /gのものをを得た。また水熱法で合成
した比表面積17m2 /gのBaTiO3 を700℃で
仮焼し11m2 /gとしたBaTiO3 も用意した。こ
れらのBaTiO3 はX線回折によって疑似立方晶であ
ることを確認した。SrTiO3 、PbTiO3 、Ca
TiO3 はそれぞれSrCO 3 とTiO2 、PbOとT
iO2 、CaCO3 とTiO2 で用い、アルカリ土類金
属以外の金属不純物がいずれも10ppm以下の粉末
を、次に微量添加物として酸化ランタン、蓚酸マンガ
ン、無水ケイ酸を準備した。これらの原材料を表1に示
す比率のチタン酸バリウム系半導体磁器組成物が得られ
るように配合し、約50wt%のスラリー濃度で湿式混
合した。次に、このスラリー状の原料にバインダーとし
てPVAを加え造粒し、成型圧力1000Kg/cm2
で円板状にプレス成型した。次にこの円板の成型体を5
℃/minで1300℃まで昇温して所定時間保持した
後、5℃/minで冷却した。これにより、直径13m
m×厚さ2.0mm円板状の半導体磁器を得た。そして
この半導体磁器の両面にIn−Ga合金からなる電極を
付与し、これを本実験用試料とした。
(25℃)における比抵抗、耐電圧、キュリー点、α値
をそれぞれ測定した。なお、上記耐電圧は試料に破壊が
生じる寸前の最高印加電圧値を測定した。その結果を表
1、表2に示す。
した疑似立方晶BaTiO3 でBET比表面積が11m
2 /gのもの、実施例17は9.0m2 /gのもの、実
施例18は6.5m2 /gのものをそれぞれ用いた。ま
た、実施例19は水熱法で製造した疑似立方晶BaTi
O3 でBET比表面積が11m2 /gのものを用いた。
炭酸塩や酸化物での添加は、SrCO3 とTiO2 、P
bOとTiO2 、CaCO3 とTiO2 となるが、この
うち全部または一つか二つを用いた場合のその組合せ全
てを、実施例1の方法に準じ全く同様の組成、方法で磁
器を製造してその電気的特性を測定した。その時の条件
及び電気的特性を表3に示す。
CaTiO3 の炭酸塩や酸化物での添加は、BaCO3
とTiO2 、SrCO3 とTiO2 、PbOとTi
O2 、CaCO3 とTiO2 となるが、これらを全て炭
酸塩や酸化物で添加、もしくは固相法で製造したX線回
折で正方晶のBaTiO3 (BET比表面積が4m2 /
g)を使用し比較を行った。また、本発明の液相法で製
造したBaTiO3 であって比表面積が請求範囲外のも
のを用いた比較もおこなった。方法は実施例1に準じ全
く同様の組成で磁器を製造し、その電気的特性を測定し
た。その時の条件及び電気的特性を表4に示す。
成物を用いることにより、磁器組成物の製造工程が大幅
に短縮改善されるとともに比抵抗が小さく、かつ、耐電
圧特性の優れた正の抵抗温度特性を有するチタン酸バリ
ウム系半導体磁器の製造を可能にした。
を示す。
す。
Claims (2)
- 【請求項1】主成分がBaTiO3 、SrCO3 、C
aCO3 、酸化鉛、TiO2 、またはBaTiO3 、
SrTiO3 、CaCO3 、酸化鉛、TiO2 、または
BaTiO3 、CaTiO3 、SrCO3 、酸化鉛、
TiO2 、またはBaTiO3 、PbTiO3 、Sr
CO3 、CaCO3 、TiO2 、またはBaTi
O3 、SrTiO3 、CaTiO3 、酸化鉛、Ti
O2 、またはBaTiO3 、SrTiO3 、PbTi
O3 、CaCO3 、TiO2 、またはBaTiO3 、
PbTiO3 、CaTiO3 、SrCO3 、TiO2 、
であり、前記主成分(〜)に半導体化剤、MnO2
および/またはCuO、SiO2 を添加したチタン酸バ
リウム系粉体組成物であって、BaTiO3 は疑似立方
晶でBET比表面積が5〜14m2 /gであることを特
徴とするチタン酸バリウム系粉体組成物。 - 【請求項2】請求項1記載のチタン酸バリウム系粉体組
成物を仮焼せず直接焼成させることを特徴とするチタン
酸バリウム系半導体磁器の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5065305A JP2885599B2 (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | チタン酸バリウム系粉体組成物及びこれを用いた半導体磁器組成物の製造法 |
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JPH06279110A true JPH06279110A (ja) | 1994-10-04 |
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ID=13283070
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6362521B1 (en) | 1998-11-11 | 2002-03-26 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor ceramic and device using the same |
JP2006169046A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Tdk Corp | 水熱合成装置、チタン酸塩粉末の製造方法、チタン酸塩粉末及び積層セラミックコンデンサ |
JP2010103396A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Nichicon Corp | 正特性サーミスタ磁器組成物 |
EP2296200A1 (en) | 2009-09-15 | 2011-03-16 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element |
JP5210300B2 (ja) * | 2007-04-20 | 2013-06-12 | 京セラ株式会社 | 誘電体磁器および積層セラミックコンデンサ |
-
1993
- 1993-03-24 JP JP5065305A patent/JP2885599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
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