JPH06273118A - 寸法測定方法および画像調整方法 - Google Patents
寸法測定方法および画像調整方法Info
- Publication number
- JPH06273118A JPH06273118A JP5059764A JP5976493A JPH06273118A JP H06273118 A JPH06273118 A JP H06273118A JP 5059764 A JP5059764 A JP 5059764A JP 5976493 A JP5976493 A JP 5976493A JP H06273118 A JPH06273118 A JP H06273118A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- sample
- displayed
- scanning
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Digital Computer Display Output (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 エネルギービームを試料上で２次元的に走査
し、試料から得られる信号に基づいて、被測定物を画像
表示装置に画像表示し、該表示画像に基づいて決定され
た部位の寸法を測定する方法において、短時間で画像調
整、寸法測定をする。 【構成】 エネルギービームを用いて寸法測定に必要な
部分のみを走査して、ＣＲＴの全視野（１）に対応した
画像メモリ上の部分領域にこの画像信号を取込み、画像
表示する（２）。
し、試料から得られる信号に基づいて、被測定物を画像
表示装置に画像表示し、該表示画像に基づいて決定され
た部位の寸法を測定する方法において、短時間で画像調
整、寸法測定をする。 【構成】 エネルギービームを用いて寸法測定に必要な
部分のみを走査して、ＣＲＴの全視野（１）に対応した
画像メモリ上の部分領域にこの画像信号を取込み、画像
表示する（２）。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ走査型顕微鏡、
走査型電子顕微鏡等を利用して被測定物の寸法を測定す
る方法に関するものである。
走査型電子顕微鏡等を利用して被測定物の寸法を測定す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は走査型電子顕微鏡（以下ＳＥＭ）
に於て、電子ビームが試料上を走査する様子を示したも
のである。６２は電子ビーム、３２は画像表示装置の全
視野に表示される試料上での電子ビーム６２の走査領
域、３３は寸法測定に必要な部分視野の試料上での電子
ビーム６２の走査領域、３は試料上のパターンである。
に於て、電子ビームが試料上を走査する様子を示したも
のである。６２は電子ビーム、３２は画像表示装置の全
視野に表示される試料上での電子ビーム６２の走査領
域、３３は寸法測定に必要な部分視野の試料上での電子
ビーム６２の走査領域、３は試料上のパターンである。
【０００３】図４は、図５の電子ビーム走査領域３２を
画像表示装置に表示してパターン３の寸法測定を行なう
際の観察画像を示したものである。図４において、１は
画像表示装置（以下ＣＲＴ）の全視野、３はパターン、
４はプロファイル信号、２１、２２はマーカである。電
子ビーム走査領域３２の画像信号は、ＣＲＴの全視野１
に対応した図６に示すＭｘＮ画素領域（４２は画素を示
す）の画像メモリ４１に電子ビームの走査に同期して取
込まれ、画像メモリ４１の内容がＣＲＴの走査に同期し
て読み出され、ＣＲＴの全視野に画像表示されている。
画像表示装置に表示してパターン３の寸法測定を行なう
際の観察画像を示したものである。図４において、１は
画像表示装置（以下ＣＲＴ）の全視野、３はパターン、
４はプロファイル信号、２１、２２はマーカである。電
子ビーム走査領域３２の画像信号は、ＣＲＴの全視野１
に対応した図６に示すＭｘＮ画素領域（４２は画素を示
す）の画像メモリ４１に電子ビームの走査に同期して取
込まれ、画像メモリ４１の内容がＣＲＴの走査に同期し
て読み出され、ＣＲＴの全視野に画像表示されている。
【０００４】電子ビーム６２が１ライン水平走査される
ときの画像信号の強弱（輝度信号）であるラインプロフ
ァイル信号４をマーカ２１とマーカ２２の間で積算して
プロファイル信号４として表示するとともに、パターン
３の幅寸法は、このプロファイル信号４を演算処理して
測定している。このとき利用される試料の観察画像は、
画質のＳ／Ｎ等の面から画像メモリ４１に繰り返し取り
込まれた画像信号を積算、あるいは平均などの画像処理
をして表示されるのが通常である。
ときの画像信号の強弱（輝度信号）であるラインプロフ
ァイル信号４をマーカ２１とマーカ２２の間で積算して
プロファイル信号４として表示するとともに、パターン
３の幅寸法は、このプロファイル信号４を演算処理して
測定している。このとき利用される試料の観察画像は、
画質のＳ／Ｎ等の面から画像メモリ４１に繰り返し取り
込まれた画像信号を積算、あるいは平均などの画像処理
をして表示されるのが通常である。
【０００５】また、従来は図４のように寸法測定に必要
な部分をマーカ２１、２２で指定して寸法測定するよう
な場合でも、走査領域３２の画像信号がＣＲＴの全視野
１に対応した画像メモリ４１に繰り返し取込まれ画像処
理されて表示されていた。そのため、観察画像の焦点合
わせ、輝度、コントラストの画像調整や、寸法測定に時
間がかかっていた。
な部分をマーカ２１、２２で指定して寸法測定するよう
な場合でも、走査領域３２の画像信号がＣＲＴの全視野
１に対応した画像メモリ４１に繰り返し取込まれ画像処
理されて表示されていた。そのため、観察画像の焦点合
わせ、輝度、コントラストの画像調整や、寸法測定に時
間がかかっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】上記の如き従来の技
術に於いては、寸法測定を行なう観察画像の焦点合わ
せ、輝度、コントラストの調整や、寸法測定に必要な部
分をマーカ２１、２２で指定して寸法測定するような場
合に、ＣＲＴの全視野に対応した画像メモリ４１に繰り
返し取込まれて画像処理された観察画像を利用していた
ので、短時間で画像調整、寸法測定ができないという問
題点があった。
術に於いては、寸法測定を行なう観察画像の焦点合わ
せ、輝度、コントラストの調整や、寸法測定に必要な部
分をマーカ２１、２２で指定して寸法測定するような場
合に、ＣＲＴの全視野に対応した画像メモリ４１に繰り
返し取込まれて画像処理された観察画像を利用していた
ので、短時間で画像調整、寸法測定ができないという問
題点があった。
【０００７】本発明は、短時間で画像調整、寸法測定す
ることを目的とする。
ることを目的とする。
【０００８】
【問題を解決する為の手段】上記目的の解決のために、
本発明では、光ビームあるいは電子ビーム等荷電粒子線
から成るエネルギービームを用いて寸法測定に必要な部
分のみを走査して、ＣＲＴの全視野に対応した画像モメ
リ上の部分領域にこの画像信号を取込み、画像表示する
ようにした。
本発明では、光ビームあるいは電子ビーム等荷電粒子線
から成るエネルギービームを用いて寸法測定に必要な部
分のみを走査して、ＣＲＴの全視野に対応した画像モメ
リ上の部分領域にこの画像信号を取込み、画像表示する
ようにした。
【０００９】
【作用】本発明に於いては、寸法測定に必要な部分のみ
を走査した観察画像を利用するので、短時間で画像調整
および寸法測定ができる。
を走査した観察画像を利用するので、短時間で画像調整
および寸法測定ができる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明による寸法測定に用いられる
観察画像の例で、１はＣＲＴの全視野、２は寸法測定に
必要な部分の領域のみを表示した観察画像、３は被測長
パターン、４はプロファイル信号である。図２は、本発
明の一実施例を実施するために用いられる電子線測長機
のブロック図である。電子銃６１からの電子線６２は、
コンデンサレンズ６３で集束され、走査コイル６４で走
査される。対物レンズ６５は試料６６上で電子線６２の
径がほぼ最小になるように調整する。コンデンサレンズ
６３、走査コイル６４、対物レンズ６５は電子光学系制
御装置７１にて制御される。試料６６からの２次電子は
２次電子検出器６７に集められ、増幅器６８で増幅され
て画像処理装置６９の画像メモリに、電子線６２による
試料６６の走査に同期して記憶される。この同期信号
は、電子光学系制御装置７１内のカウンタ回路で形成さ
れる。カウンタ回路のカウンタはＸ座標、Ｙ座標に対応
して設けられ、それぞれの計数値がアナログ信号（走査
信号）に変換されて走査コイル６４に印加されると共
に、それぞれの計数値が画像処理装置６９内の画像メモ
リの番地を指定することになる。
観察画像の例で、１はＣＲＴの全視野、２は寸法測定に
必要な部分の領域のみを表示した観察画像、３は被測長
パターン、４はプロファイル信号である。図２は、本発
明の一実施例を実施するために用いられる電子線測長機
のブロック図である。電子銃６１からの電子線６２は、
コンデンサレンズ６３で集束され、走査コイル６４で走
査される。対物レンズ６５は試料６６上で電子線６２の
径がほぼ最小になるように調整する。コンデンサレンズ
６３、走査コイル６４、対物レンズ６５は電子光学系制
御装置７１にて制御される。試料６６からの２次電子は
２次電子検出器６７に集められ、増幅器６８で増幅され
て画像処理装置６９の画像メモリに、電子線６２による
試料６６の走査に同期して記憶される。この同期信号
は、電子光学系制御装置７１内のカウンタ回路で形成さ
れる。カウンタ回路のカウンタはＸ座標、Ｙ座標に対応
して設けられ、それぞれの計数値がアナログ信号（走査
信号）に変換されて走査コイル６４に印加されると共
に、それぞれの計数値が画像処理装置６９内の画像メモ
リの番地を指定することになる。
【００１１】コンピュータ７２はキーボード７２ａに入
力された情報その他により、電子光学系制御装置７１、
画像処理装置６９の動作を制御する。画像処理装置６９
はＣＲＴ１０に表示する画像を決定する。さて、図４の
観察画像を見ているオペレータがたとえばマーカ２１、
２２及びマーカ２１、２２を９０度回転させたマーカを
用いて寸法測定に必要な部分の観察画像の範囲を図２の
コンピュータ７２のキーボード７２ａを用いて指定する
と、電子光学系制御装置７１は走査コイル６４を制御し
て、電子ビーム３１をその部分に対応する試料６６上の
走査領域３３で走査する（図５参照）。
力された情報その他により、電子光学系制御装置７１、
画像処理装置６９の動作を制御する。画像処理装置６９
はＣＲＴ１０に表示する画像を決定する。さて、図４の
観察画像を見ているオペレータがたとえばマーカ２１、
２２及びマーカ２１、２２を９０度回転させたマーカを
用いて寸法測定に必要な部分の観察画像の範囲を図２の
コンピュータ７２のキーボード７２ａを用いて指定する
と、電子光学系制御装置７１は走査コイル６４を制御し
て、電子ビーム３１をその部分に対応する試料６６上の
走査領域３３で走査する（図５参照）。
【００１２】画像信号は、走査領域３３に対応する画像
メモリ４１上の図３に示す mxn画素（４２は画素を示
す）の画像メモリ領域５１に繰り返し取込まれて画像表
示されるので、寸法測定に必要な部分の観察画像２のみ
が図１のように得られる。すなわち、通常、画像メモリ
４１上の画素の番地及び走査領域３３上の位置とは、
Ｘ、Ｙ方向にそれぞれ設けられた電子光学系制御装置７
１内のカウンタの計数値に対応づけられており、カウン
タの計数値に相当する指令に応じて、電子光学系制御装
置７１が、カウンタの計数値に対応した試料６６上の位
置に電子ビーム６２を偏向するように走査コイル６４に
走査信号を入力する一方、画像処理装置６９は電子光学
系制御装置７１からのカウンタの計数値に相当する指令
に応じて対応する番地に入力情報を記憶していく。
メモリ４１上の図３に示す mxn画素（４２は画素を示
す）の画像メモリ領域５１に繰り返し取込まれて画像表
示されるので、寸法測定に必要な部分の観察画像２のみ
が図１のように得られる。すなわち、通常、画像メモリ
４１上の画素の番地及び走査領域３３上の位置とは、
Ｘ、Ｙ方向にそれぞれ設けられた電子光学系制御装置７
１内のカウンタの計数値に対応づけられており、カウン
タの計数値に相当する指令に応じて、電子光学系制御装
置７１が、カウンタの計数値に対応した試料６６上の位
置に電子ビーム６２を偏向するように走査コイル６４に
走査信号を入力する一方、画像処理装置６９は電子光学
系制御装置７１からのカウンタの計数値に相当する指令
に応じて対応する番地に入力情報を記憶していく。
【００１３】画像メモリ領域５１は画像メモリ４１の画
素よりも少ないので、観察画像２を表示するための画像
信号の取込みは、画像信号のサンプリングレイトが同じ
であれば、画像メモリ４１の全画素に相当する観察画像
を表示するための画像信号の取込みのときよりも速くな
る。画像の焦点合わせ、輝度、コントラストの調整は観
察画像２を利用してオペレータがコンピュータ７２のキ
ーボード７２ａを用いて行ない、画像処理装置６９が観
察画像２のラインプロファイル信号を積算してプロファ
イル信号４を表示すると共に、パターン３の幅寸法は、
コンピュータ７２がプロファイル信号と観察倍率とに基
づいて演算処理して測定する。コンピュータ７２により
求めた測定値はコンピュータ７２の表示画面に表示した
り、画像処理装置６９を介してＣＲＴ７０に表示する。
素よりも少ないので、観察画像２を表示するための画像
信号の取込みは、画像信号のサンプリングレイトが同じ
であれば、画像メモリ４１の全画素に相当する観察画像
を表示するための画像信号の取込みのときよりも速くな
る。画像の焦点合わせ、輝度、コントラストの調整は観
察画像２を利用してオペレータがコンピュータ７２のキ
ーボード７２ａを用いて行ない、画像処理装置６９が観
察画像２のラインプロファイル信号を積算してプロファ
イル信号４を表示すると共に、パターン３の幅寸法は、
コンピュータ７２がプロファイル信号と観察倍率とに基
づいて演算処理して測定する。コンピュータ７２により
求めた測定値はコンピュータ７２の表示画面に表示した
り、画像処理装置６９を介してＣＲＴ７０に表示する。
【００１４】このように本実施例では、寸法測定に必要
な部分のみを走査して、画像信号もＣＲＴの全視野に対
応した画像メモリの部分領域に取込むので、全領域を取
込む場合に比べて取込み時間が短くて済み画像調整と寸
法測定を短時間で行なうことができる。また、寸法測定
に必要な部分のみを走査して、画像の焦点合わせ、輝
度、コントラストの調整をするので、図４の観察画像で
調整するときにくらべて、必要なパターンのみの情報に
基づいた調整が行なえるので、条件が良くなるため（ゴ
ミや他のパターンの影響を受けない）画質も向上する。
な部分のみを走査して、画像信号もＣＲＴの全視野に対
応した画像メモリの部分領域に取込むので、全領域を取
込む場合に比べて取込み時間が短くて済み画像調整と寸
法測定を短時間で行なうことができる。また、寸法測定
に必要な部分のみを走査して、画像の焦点合わせ、輝
度、コントラストの調整をするので、図４の観察画像で
調整するときにくらべて、必要なパターンのみの情報に
基づいた調整が行なえるので、条件が良くなるため（ゴ
ミや他のパターンの影響を受けない）画質も向上する。
【００１５】さらに、観察画像を積算あるいは平均する
画像処理を増やしたり、画像信号のサンプリングレイト
を遅くするなどの操作により、Ｓ／Ｎの良い観察画像を
利用しての寸法測定も行なうことができるため測定精度
も向上する。
画像処理を増やしたり、画像信号のサンプリングレイト
を遅くするなどの操作により、Ｓ／Ｎの良い観察画像を
利用しての寸法測定も行なうことができるため測定精度
も向上する。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、寸法測定
に必要な部分のみを走査した観察画像を利用するので、
画像調整と寸法測定を短時間で行なうことができる。ま
た、Ｓ／Ｎの良い観察画像で寸法測定を行なうこともで
きるので、測定精度も向上する。
に必要な部分のみを走査した観察画像を利用するので、
画像調整と寸法測定を短時間で行なうことができる。ま
た、Ｓ／Ｎの良い観察画像で寸法測定を行なうこともで
きるので、測定精度も向上する。
【図１】本発明の一実施例による寸法測定の観察画像を
表示するＣＲＴの全視野を示す像である。
表示するＣＲＴの全視野を示す像である。
【図２】本発明の一実施例を実施する装置のブロック図
である。
である。
【図３】本発明の一実施例による画像メモリの画像メモ
リ領域の様子を示す図である。
リ領域の様子を示す図である。
【図４】従来の寸法測定の観察画像を表示するＣＲＴの
全視野を示す像である。
全視野を示す像である。
【図５】ＳＥＭに於て電子ビームが試料上を走査される
様子を示す図である。
様子を示す図である。
【図６】ＭｘＮ画素領域を有する画像メモリのメモリ領
域を視覚的に示した図である。
域を視覚的に示した図である。
１ ＣＲＴの全視野 ２ 部分観察画像 ３ パターン ４ プロファイル信号 ２１、２２ マーカ ３２、３３ 電子ビームの走査領域 ４１ ＭｘＮ画素の画像メモリ ４２ 画素 ５１ ＭｘＮ画素の画像メモリ内の mxn画素の部分領域 ６１ 電子銃 ６２ 電子ビーム ６３ コンデンサレンズ ６４ 走査コイル ６５ 対物レンズ ６６ 試料 ６７ ２次電子検出器 ６８ 増幅器 ６９ 画像処理装置 ７０ 画像表示装置 ７１ 電子光学系制御装置 ７２ コンピュータ
Claims (2)
- 【請求項１】 エネルギービームを試料上で２次元的に
走査し、試料から得られる信号に基づいて被測定物を画
像表示装置に画像表示し、該表示画像に基づいて決定さ
れた部位の寸法を測定する方法に於いて、 前記画像表示装置に表示される全視野の画像の中から寸
法測定に必要な部分の指定に基づいて、前記指定された
部分に相当する試料上の部分のみを走査し、該走査した
試料の部分の画像を表示し、寸法測定を行なうことを特
徴とする寸法測定方法。 - 【請求項２】 エネルギービームを試料上で２次元的に
走査し、試料から得られる信号に基づいて被測定物を画
像表示装置に画像表示し、該表示画像に基づいて決定さ
れた部位の寸法を測定する方法と共に用いられる画像調
整方法において、 前記画像表示装置に表示される全視野の画像の中から寸
法測定に必要な部分の指定に基づいて、前記指定された
部分に相当する試料上の部分のみを走査し、該走査した
試料の部分の画像に基づいて、画像の焦点合わせ、輝
度、コントラストを自動で調整することを特徴とする画
像調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5059764A JPH06273118A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 寸法測定方法および画像調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5059764A JPH06273118A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 寸法測定方法および画像調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06273118A true JPH06273118A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13122673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5059764A Pending JPH06273118A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 寸法測定方法および画像調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06273118A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6317258B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-11-13 | Olympus Optical Co., Ltd. | Scanning confocal microscope |
-
1993
- 1993-03-19 JP JP5059764A patent/JPH06273118A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6317258B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-11-13 | Olympus Optical Co., Ltd. | Scanning confocal microscope |
| US6437910B1 (en) | 1999-03-19 | 2002-08-20 | Olympus Optical Co., Ltd. | Scanning confocal microscope |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20090261252A1 (en) | Method and apparatus for pattern inspection | |
| WO2010050136A1 (ja) | 試料観察方法、及び電子顕微鏡 | |
| JP2002267935A (ja) | 光学的観察装置の重畳補足情報の明るさ制御装置 | |
| US8362426B2 (en) | Scanning electron microscope and image signal processing method | |
| JP6716026B2 (ja) | 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置における条件設定方法 | |
| JP3036444B2 (ja) | 収束電子線回折図形を用いた格子歪み評価方法および評価装置 | |
| US6573502B2 (en) | Combined electron microscope | |
| JPH06273118A (ja) | 寸法測定方法および画像調整方法 | |
| JP4397730B2 (ja) | 電子顕微鏡の絞り補正方法及び装置 | |
| JPH0783844A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPH04106853A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP2787299B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPH07254387A (ja) | 走査型荷電粒子線顕微鏡 | |
| JP2010015731A (ja) | 走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡における画像の改良方法 | |
| JPS63116348A (ja) | 電子線装置の視野対応装置 | |
| KR900004371B1 (ko) | 헤드라이트의 광축조정방법 및 장치 | |
| JP2913807B2 (ja) | 電子線照射型分析装置 | |
| JP3078645B2 (ja) | 走査型ｒｈｅｅｄ顕微鏡装置によるｒｈｅｅｄ像の観察方法 | |
| JPH0352179B2 (ja) | ||
| JPS5914222B2 (ja) | 走査電子顕微鏡等用倍率制御装置 | |
| JPS63214642A (ja) | 亀裂試験装置の亀裂進展追跡装置 | |
| JPH06124678A (ja) | 荷電粒子顕微鏡 | |
| SU884005A1 (ru) | Способ измерени диаметра электронного зонда в растровом электронном микроскопе | |
| JPH0139393Y2 (ja) | ||
| JPH05258704A (ja) | 走査型電子顕微鏡 |