JPH06263772A - β−シアノアルキルシランの製造法 - Google Patents

β−シアノアルキルシランの製造法

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JPH06263772A
JPH06263772A JP5321934A JP32193493A JPH06263772A JP H06263772 A JPH06263772 A JP H06263772A JP 5321934 A JP5321934 A JP 5321934A JP 32193493 A JP32193493 A JP 32193493A JP H06263772 A JPH06263772 A JP H06263772A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 加水分解性β−シアノアルキルシランの製造
法の提供。 【構成】 ＨＳｉＸ３で示される水素化ケイ素と、 で示される不飽和オレフィンニトリルを、Ｒａ（ＲＯ）
ｂＳｉ（Ｒ１ＮＲ２ ２）ｃ、で示されるアミノオルガノ
シランからなり、５０℃〜２５０℃の範囲内の温度で固
体保持体に保持される触媒の存在下で接触させることか
ら成ることを特徴とする、 で示されるβ−シアノアルキルシランの製造法。（Ｒは
一価の炭化水素基；Ｒ１は二価の炭化水素基；Ｒ２は水
素原子、一価の炭化水素基、アミノアルキル基、アルキ
ルアミノアルキル基、アルキルアミノジアルキレン基、
ジアルキルアミノアルキル基およびポリアミノアルキル
から選び；Ｘはハロゲン、Ｙは水素原子および低級アル
キル基から選び；ａ；ｂ；ｃは０，１，２又は３；そし
てａ＋ｂ＋ｃ＝４である）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加水分解性のβ−シア
ノアルキルシランの製造法に関し、特にβ−シアノアル
キルシランを生成するために、α，β−不飽和オレフイ
ンニトリルに水素化ケイ素を触媒添加することに関す
る。本発明は、担持アミノオルガノシランからなる新規
の触媒を使用する。
【０００２】β−シアノアルキル置換基を含有するポリ
オルガノシロキサンの製造に加水分解性のβ−シアノア
ルキルシランが有効である。ケイ素を結合したβ−シア
ノアルキル基は、高温、湿潤条件下で加水分解および開
裂に対して極めて耐性をもっている。従って、β−シア
ノアルキルシランは高温、湿潤条件を受けるポリオルガ
ノシロキサンの製造に特に有用である。ポリオルガノシ
ロキサンに置換されたケイ素を結合したβ−シアノアル
キル基の存在も液体炭化水素による膨潤に対してポリオ
ルガノシロキサンを安定化させる傾向がある。
【０００３】
【従来の技術】オレフインニトリルをシランと反応させ
てシアノアルキルシランを製造する従来の手段は、米国
特許第２，９０６，７６４号；パイク（Ｐｉｋｅ）らに
よるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２４，１９３９−４２，１
９５９年；およびパイクらによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．２７ ２１９０−９２，１９６２年に記載されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の方法は、担持
アミノオルガノシランからなる新規の触媒を使用する。
用語「担持アミノオルガノシラン」は固体保持体に保持
されるアミノオルガノシランを意味する。そのアミノオ
ルガノシランのアミノ基は炭素基に結合され、それは次
いでＳｉ−Ｃ結合を介してケイ素に結合される。これら
の担持アミノオルガノシランは、水素化ケイ素（シラ
ン）によって不飽和オレフインニトリルのβ−ヒドロシ
リル化を促進する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、
【０００６】
【式１】 で示される水素化ケイ素と、
【０００７】
【式２】 で示される不飽和オレフインニトリルを、
【０００８】
【式３】 で示されるアミノオルガノシランからなり、５０℃〜２
５０℃の範囲内の温度で固体保持体に保持される触媒の
存在下で接触させることから成ることを特徴とする、
【０００９】
【式４】 （上式中の各Ｒは炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水
素基からそれぞれ選び；各Ｒ1 は炭素原子数が１〜２０
の二価の炭化水素基からそれぞれ選び；各Ｒ2 は水素原
子、炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水素基、アミノ
アルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルキルアミ
ノジアルキレン基、ジアルキルアミノアルキル基および
ポリアミノアルキルからそれぞれ選び；Ｘはハロゲンで
あり、各Ｙは水素原子および炭素原子数が１〜８の低級
アルキル基からそれぞれ選び；ａ＝０、１、２又は３；
ｂ＝０、１、２又は３；ｃ＝０、１、２又は３；そして
ａ＋ｂ＋ｃ＝４である）で示されるβ−シアノアルキル
シランの製造法である。
【００１０】
【作用】本法は、式４で示したように１つのケイ素に結
合したβ−シアノアルキル基を含有するβ−シアノアル
キルシランの製造に利用することができる。本法により
製造できるβ−シアノアルキルシランは、例えば、β−
シアノエチルトリクロロシラン、β−シアノプロピルト
リクロロシラン、β−シアノブチルクロロシラン、β−
シアノ第三ブチルトリクロロシラン、β−シアノペンチ
ルトリクロロシラン、β−シアノプロピルトリクロロシ
ラン、β−シアノヘキシルトリクロロシラン、β−シア
ノヘプチルトリクロロシラン、β−シアノオクチルトリ
クロロシラン、α−メチル−β−シアノエチルトリクロ
ロシラン、α−エチル−β−シアノエチルトリクロロシ
ラン、α−オクチル−β−シアノプロピルトリクロロシ
ラン、β−シアノエチルトリブロモシランおよび−シア
ノプロピルトリフルオロシランである。これらの中でβ
−シアノエチルトリクロロシランが望ましい。
【００１１】式１で示した水素化ケイ素（シラン）は、
Ｓｉに結合した１個の水素原子とＳｉに結合した３個の
ハロゲン原子を含有する。そのハロゲン原子は臭素、塩
素、フッ素、およびヨウ素から選ぶことができるが、塩
素が望ましい。
【００１２】水素化ケイ素は式２で示したα，β−不飽
和オレフインニトリルと接触させる。その不飽和オレフ
インニトリルは、水素原子および低級アルキル基からそ
れぞれ選ぶ置換基Ｙを含有する。用語「低級アルキル
基」は炭素原子数が１〜８のアルキル基を意味する。Ｙ
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチル
にすることができる。不飽和オレフインニトリルは、例
えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、クロト
ノニトリル、エチルアクリロニトリル、１−シアノブテ
ン−１または２−シアノオクテン−１を含むが、アクリ
ロニトリルが望ましい。
【００１３】水素化ケイ素と不飽和オレフインニトリル
とのモル比は広範囲に変えうるが、過剰なモルを用いて
も両成分共特別の利点は得られない。水素化ケイ素／不
飽和オレフインニトリルのモル比は０．５〜１．５の範
囲内が望ましいが、０．７〜１．２が最適である。
【００１４】水素化ケイ素と不飽和オレフインニトリル
はアミノオルガノシランからなる触媒の存在下で接触さ
せる。そのアミノオルガノシランは式３、すなわち、Ｒ
ａ（ＲＯ）ｂＳｉ（Ｒ1 ＮＲ2 2 ）ｄ〔式中の各Ｒは炭
素原子数が１〜２０の一価の炭化水素基からそれぞれ選
び；各Ｒ1 は炭素原子数が１〜２０の二価の炭化水素基
からそれぞれ選び；各Ｒ2 は水素原子、炭素原子数が１
〜２０の一価の炭化水素基、アミノアルキル基、アルキ
ルアミノアルキル基、アルキルアミノジアルキレン基、
ジアルキルアミノアルキル基およびポリアミノアルキル
からそれぞれ選び；ａ＝０、１、２又は３；ｂ＝０、
１、２又は３；ｃ＝０、１、２又は３；そしてａ＋ｂ＋
ｃ＝４である〕で示される。
【００１５】アミノオルガノシランの各基Ｒは炭素原子
数が１〜２０の一価の炭化水素基からそれぞれ選ぶ。そ
の基Ｒはアルキル、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチルおよびエイコシルにするこ
とができる。望ましいアルキル基は、Ｒが１〜８個の炭
素原子を含有する低級アルキル基の場合である。基Ｒは
アリール基、例えば、フエニル、ナフチル、ジフエニ
ル、トリル、キシリル、クメニル、エチルフエニルおよ
びビニルフエニルにすることもできる。望ましいアリー
ル基はフエニルである。基Ｒはアラルキル、例えば、ベ
ンジルおよびフエニルエチル；シアノアルキル、例え
ば、β−シアノエチル、β−シアノプロピルおよびβ−
シアノブチル；シクロアルキル、例えば、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル；およびアル
ケニル、例えば、ビニルおよびアリルにすることができ
る。
【００１６】アミノオルガノシランの各基Ｒ1 は、炭素
原子数が１〜２０の二価の炭化水素基からそれぞれ選
ぶ。アミノオルガノシランの基Ｒ1 の例は、二価のアル
キレン基、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、
イソプロピレン、ブチレン、イソ−ブチレン、ｔ−ブチ
レン、ペンチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、
オクタメチレンおよびエイコサメチレンを含む。
【００１７】基Ｒ1 は二価のアルケニレン基、例えば、
エテニレン、プロペニレン、ｔ−ブテニレンおよびエイ
コセニレン；二価の環状基、例えば、シクロプロピレ
ン、シクロプロピリデンおよびシクロブチレン；二価の
アリーレン基、例えば、フエニレン、ナフタレニレンお
よびフエナントリレンにすることもできる。
【００１８】各基Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１〜２０
の一価の炭化水素基、アミノアルキル基、アルキルアミ
ノアルキル基、アルキルアミノジアルキレン基、ジアル
キルアミノアルキル基およびポリアミノアルキル基から
それぞれ選ぶ。アミノオルガノシランのＲ2 の例は水素
原子およびアミノオルガノシランの基Ｒに対して示した
一価の炭化水素基の例を含む。
【００１９】基Ｒ2 はアミノアルキル基、例えば、アミ
ノメチルおよびアミノプロピル；アルキルアミノアルキ
ル基、例えば、Ｎ′−メチルアミノメチル、Ｎ′−メチ
ルアミノエチル、Ｎ′−エチルアミノエチル、Ｎ′−エ
チルアミノメチルおよびＮ′−メチルアミノヘキサメチ
ル；アルキルアミノジアルキレン基、例えば、次の構造
式
【００２０】
【式５】 （それはアミノオルガノシランのＮと結合してメチルピ
ペラジニルであった。ＮＲ2 を生成する）をもった基；
ジアルキルアミノアルキル、例えば、Ｎ′，Ｎ′−ジメ
チルアミノメチル、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチ
ル、Ｎ′，Ｎ′−ジエチルアミノエチル、Ｎ′−メチル
−Ｎ′−エチルアミノエチル、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルア
ミノプロピルおよびＮ′−メチル−Ｎ′−オクチルアミ
ノエチルにす
【００２１】
【式６】 〔式中のＡは水素原子および低級アルキル基から選び、
ｅは１〜６の整数であり、ｆは１〜２０の整数であり、
「低級アルキル」は前に定義した通りである。〕で示さ
れるポリアミノアルキルにすることもできる。そのポリ
アミノアルキル基Ｒ2 の例は、Ｎ″，Ｎ″−ジメチルア
ミノエチル−Ｎ′−メチルアミノエチル、Ｎ″，Ｎ″−
ジメチルアミノエチルアミノエチル、Ｎ″−エチルアミ
ノエチル−Ｎ′−エチルアミノエチルおよびＮ″−メチ
ルアミノプロピル−Ｎ′−メチルアミノプロピルを含
む。望ましい基Ｒ2 はメチルおよびＮ′，Ｎ′−ジメチ
ルアミノエチルである。１つの基Ｒ2 がメチルで第２の
基Ｒ2 がＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチルのときが最
適である。上記の例において窒素原子について側基の場
所を示す素数は、それらがアミノオルガノシランの例を
以下に示すために用いた命名法に従ってアミノオルガノ
シランで数えるように数える。
【００２２】アミノオルガノシランの例は、Ｎ−メチル
アミノプロピルトリメトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ
3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ3 ｝、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチルアミノプロピルトリ
メトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）2 ｝、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノエチルメチルジメトキシシラ
ン｛すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）2 ＣＨ3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2
Ｎ（ＣＨ3 ）2 ｝、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル
−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
｛（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3）2 ｝、Ｎ′，Ｎ′−ジメチル
アミノ−プロピル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−
メチルアミノプロピルトリメチルシラン、Ｎ″−メチル
アミノエチル−Ｎ′−メチルアミノエチル−Ｎ−メチル
アミノエチルトリメトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ3
Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ
（ＣＨ3 ）ＣＨ2ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ3 ｝、Ｎ″，Ｎ″
−ジメチルアミノエチル−Ｎ′−エチルアミノエチルア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン｛すなわち、（Ｃ
Ｈ3 Ｏ）2 ＣＨ3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ
2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 ）2 ｝、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−
メチルアミノブチルトリメトキシシラン、Ｎ′，Ｎ′−
ジメチルアミノ−エチル−Ｎ−メチル−アミノエチルメ
チルジメトキシシラン、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエ
チル−Ｎ−メチル−アミノイソブチルメチルジメトキシ
シラン、ピペラジニルプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ″−Ｎ″−ジメチルアミノブチル−Ｎ′−メチルアミ
ノブチルアミノベンジルトリメトキシシラン、，Ｎ′，
Ｎ′−ジメチルアミノメチルアミノフエニルエチルトリ
メトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）2 ＳｉＣＨ2
−ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ4 −Ｎ（Ｈ）ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）2 ｝、
Ｎ−メチルアミノヘキサメチルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジルプロピルメチルジメ
トキシシラン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジニルプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノヘキサメチル
ジクロロメチルシランおよびＮ′−Ｎ′−ジメチルアミ
ノエチル−Ｎ−メチルアミノイソブチルクロロジメトキ
シシランを含む。望ましいアミノオルガノシランはＮ，
Ｎ−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、すな
わち、（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ
3 ）2 ；Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラ
ン、すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
Ｎ（Ｈ）ＣＨ3 ；Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジニルプロ
ピルメチルジメトキシシラン、すなわち
【００２３】
【式７】 およびＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−メチル
アミノプロピルトリメトキシシラン、すなわち、（ＣＨ
3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 Ｎ（ＣＨ3 ）2 である。最適のアミノオルガノシラ
ンはＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−メチルア
ミノプロピルトリメトキシシランである。
【００２４】アミノオルガノシランは固体保持体に保持
される。アミノオルガノシランを固体保持体上に保持す
る方法は本発明に重要ではない。アミノオルガノシラン
は本法は実施する際に固体保持体から脱離しないことが
望ましく、普通の方法、例えば、吸着、イオン結合、共
通結合又は物理的閉じ込めによって固体保持体に保持さ
れるが、共有結合が望ましい。
【００２５】固体保持体は作業条件下でアミノオルガノ
シランを保持できる材料にする。例えば、シリカゲル、
酸化アルミニウム、酸化アルミニウムと酸化クロムの混
合体、ナトリウム・ゼオライト、酸化アルミニウムと酸
化タングステンの混合体、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化チタン、アスベスト、ケイ酸マグネシウム、ケ
イ酸アルミウム、ケイ酸カルシウムおよびガラスにする
ことができる。望ましい固体支持体はシリカゲルであ
る。
【００２６】固体保持体は、例えばフレーク、チップ、
粒子、粉末、ペットおよびタブレットの形にすることが
できるが、直径が１ｃｍ以下が望ましく、０．５ｃｍ以
下がさらに望ましい。固体保持体の大きさの下限は材料
の保持、回収および取扱いの実用性によって決まる。固
定触媒床を用いる場合の固体保持体の粒度は液体がその
触媒床を十分流通できる大きさにすることが望ましい。
【００２７】固体保持体に保持されるアミノオルガノシ
ランの有効濃度は、アミノオガノシランの重量が固体保
持体の重量の０．１〜５０重量％の範囲内にある場合で
ある。アミノオルガノシランの濃度が低い程、β−シア
ノアキルシランの生産速度は低下する。
【００２８】不飽和オレフインニトリルの量に関して本
法に使用されるアミノオルガノシランの量は広範囲に変
えることができる。一般に、本法はアミノオルガノシラ
ン／不飽和オレフインニトリルのモル比が０．００１〜
５．０の範囲内にある条件下で実施することができる
が、０．０１０〜０．７の範囲内のモル比が望ましい。
必ずしも必要ないけれども、担持アミノオルガノシラン
の固体保持体をシリル化することができる。望ましいシ
リル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
【００２９】水素化ケイ素、不飽和オフインニトリルお
よび触媒を標準設計の適当な反応器内で接触させる。反
応器の種類は重要ではない。本法はバッチ法、セミ・バ
ッチ法又は連結法で実施することができるが、望ましい
方法は、反応が連続流の加圧コイル内で不均一条件下、
固定触媒床で行われる場合である。
【００３０】必ずしも必要ないけれども、反応器の内容
物はバッチ法の場合には混合することが望ましい。混合
は、普通の手段、例えば、機械的かくはん、還流、超音
波又は乱流によって行うことができる。
【００３１】本法は本質的に酸素を含まない環境で行う
ことが望ましい。用語「遊離酸素」とは、他の元素と結
合して存在しない酸素を意味する。「本質的に酸素を含
まない環境」とは、本法を実施する環境の遊離酸素含量
が普通の空気の値以下に減少することを意味する。本質
的に酸素を含まない環境は０．５％以下の遊離酸素を含
有することが望ましい。
【００３２】本法を本質的に酸素を含まない環境で実施
する場合には、遊離酸素が水素化ケイ素、不飽和オレフ
インニトリルおよび触媒と接触するのを本質的に排除さ
せるタイプの反応器にすることが望ましい。反応器は、
標準の手段、例えば、窒素、アルゴン又はヘリウムのよ
うな不活性ガスでのパージングや真空引きによって遊離
酸素を低減させることができる。
【００３３】反応器は、反応物質および触媒の添加前に
不活性ガスでパージし、本法の実施中に本質的に酸素を
含まない環境を与えるのに適当な不活性ガスのブランケ
ット又は流れを維持することが望ましい。
【００３４】本法を実施する温度は５０℃〜２５０℃の
範囲内にすることができるが、５０°〜２００℃の範囲
内の温度が望ましい。一般に、高温程、触媒の濃度は低
くなるので担持触媒の使用量は本法を実施する温度に依
存する。
【００３５】本法を実施するのに必要な時間は、使用す
る特定の水素化ケイ素、不飽和オレフインニトリルおよ
び触媒に依存して変わる。一般に、反応時間は０．１〜
３０．０時間が有用であるが、１．０〜２０．０時間が
望ましい。
【００３６】次の実施例は本発明の説明のためのもので
あって、特許請求の範囲を限定するものではない。
【００３７】
【実施例】実施例１ アクリロニトリルにトリクロロシランを添加してβ−シ
アノエチルトリクロロシランを生成するのを促進する各
種アミノオルガノシランの能力を評価する実験を行っ
た。
【００３８】アミノオルガノシランは、デビソン・ケミ
カル（Ｄａｖｉｓｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ｏｆ Ｂａ
ｌｔｉｍｏｒｅ，Ｍａｒｙｌａｎｄ）社のグレード５７
のシリカゲル上に保持した。この研究で評価した担持ア
ミノオガノシランは次の５種類であった。
【００３９】（１）シリカゲルの重量の１１．７２重量
％の割合で担持されたＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
−トリメトキシシラン、（２）シリカゲルの重量の１
２．０６重量％で担持されたＮ−メチルアミノプロピル
−トリメトキシシラン、（３）シリカゲルの重量の１
１．５２重量％で担持さたＮ′−メチル−Ｎ−ピペラジ
ニルプロピルメチルジメトキシシラン、（４）シリカゲ
ルの重量の１２．２５重量％で担持されたＮ′，Ｎ′−
ジメチルアミノエチル−Ｎ−メチアミノプロピルトリメ
トキシシラン、および（５）シリカゲルの重量の２０．
６４重量％で担持されたＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエ
チル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン。
【００４０】これらの担持アミノオルガノシランは、以
下の検討および表１にこれらの数字呼称で示す。
【００４１】各担持アミノオガノシラン調製の第１工程
でシリカゲルからの遊離水を共沸によって除去した。４
０ｇのシリカゲルと３００〜４００ｍＬのトルエンの混
合体をアルゴンでパージした反応器内で１０８℃におい
て２時間共沸させた。シリカゲルとトルエンからなる共
沸混合体にアミノオガノシランを添加した。その共沸混
合体にアミノオルガノシランを添加した。共沸混合体に
添加したアミノオルガノシラン（１）、（２）、（３）
および（４）の量は、理論的にシリカゲルの重量の１０
重量％で担持されるアミノオルガノシランが得られる量
である。アミノオルガノシラン（１）、（２）、（３）
および（４）は、実際にシリカゲル上にそれぞれ１１．
７２、１２．０６、１１．５２および１１．２５重量％
で担持された。添加されたアミノオガノシランの量は、
理論的にシリカゲルの３０重量％で担持されるアミノオ
ルガノシランが得られる量であった。アミノオガノシラ
ン（５）は、実際にシリカゲルの重量の２０．６４重量
％で担持された。
【００４２】シリカゲル、トルエンおよびアミノオルガ
ノシロキサンの混合体を７〜１８時間還流させた。
【００４３】次に担持アミノオガノシロキサン（４）と
（５）をドライ・トルエンですすぎ、それらに十分なヘ
キサメチルジシラザンを添加してシリカゲルを回収する
ことによって、それらをシリル化した。担持アミノオル
ガノシランとヘキサメチルジシラザンの混合体を加熱還
流し、それを連続的にかくはんし乍ら５時間維持した。
担持アミノオルガノシラン（１）、（２）および（３）
はシリル化しなかった。 アルゴン・パージ雰囲気中
で、担持アミノオルガノシランは全てトルエン又はヘキ
サンで洗浄し、ソックスレ−抽出器内のトルエン又はヘ
キサンで少なくとも５時間抽出し、再びトルエン又はヘ
キサンで洗浄し、室温で真空下６時間乾燥させた。
【００４４】担持アミノオルガノシランの調製後、比較
実験をアルゴンでパージした密封ガラス管内で行った。
それらの実験は、担持アミノオルガノシランを各ガラス
管内に入れ、各ガラス管にトリクロロシランとアクリロ
ニトリルの混合体（モル比は１．１トリクロロシラン／
１．０アクリロニトリル）２ｍＬを添加すことによって
行った。それらのガラス管を密封した後、表１に示した
ように１２０℃又は１７０℃で２時間加熱した。
【００４５】これらの実験結果を表１に示す。各管の内
容物は熱伝導度検出器（ＴＣＤ）と共に気液クロマトグ
ラフイー（ＧＬＣ）によって分析した。その結果は、Ｇ
ＬＣ−ＴＣＤトレース以下の全面積の％としてβ−シア
ノエチルトリクロロシランに対するＧＬＣ−ＴＣＤトレ
ース以下の面積％として示す。
【００４６】
【表１】 実施例２ 過剰モルのトリクロロシランの存在下でアクリロニトリ
ルにトリクロロシランを添加してβ−シアノエチルトリ
クロロシランを生成する担持アミノオルガノシランの能
力を評価する実験を行った。アミノオガノシランは、実
施例１に記載した方法でデビソン・ケミカル社のグレー
ド５７のシリカゲルに担持された。これらの実験で評価
したアミノオルガノシランはシリカゲルに担持された
Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−メチルアミノ
プロピル−トリメトキシシランであった。
【００４７】アミノオルガノシランの２試料は、理論的
にシリカゲルの重量の３０重量％でアミノオルガノシラ
ンを担持することになるアミノオルガノシランの量を添
加することによって、実施例１に記載した方法と類似の
方法でシリカゲルの重量の２０．１９および２０．６４
重量％の割合でシリカゲルに担持された。これらは表Ｉ
Ｉにそれぞれ担持アミノオガノシラン（６）および
（７）として示す。
【００４８】アミノオルガノシラン（７）をシリカゲル
上に担持後、担持アミノオルガノシラン（７）を実施例
１に記載したようにシリル化させた。担持アミノオルガ
ノシラン（６）はシリル化させなかった。
【００４９】実験はアルゴンでパージした密封ガラス管
で行い、担持アミノオルガノシランを含有する各管にト
リクロロシランおよびアクリロニトリルの混合体２ｍＬ
を添加することによって行った。トリクロロシランは表
２に示したように各管過剰に添加した。担持アミノオル
ガノシラン（６）および（７）を含む管は、次に１１２
〜１１８℃の範囲内の温度で１．５時間加熱した。担持
アミノオルガノシラン（７）を含有するもう１つの管は
１６５〜１８０℃の範囲内の温度で１．５時間加熱し
た。
【００５０】これらの実験結果を表２に示す。各管の内
容物はＧＬＣ−ＴＣＤによって分析した。それらの結果
は、ＧＬＣ−ＴＣＤトレースの下の全面積％として、β
−シアノエチルトリクロロシランに対するＧＬＣ−ＴＣ
Ｄトレースの下の面積％として示す。
【００５１】
【表２】

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式 〔Ｉ〕 で示される水素化ケイ素と、 式 〔ＩＩ〕 で示される不飽和オレフインニトリルを、 式 〔ＩＩＩ〕 で示されるアミノオルガノシランからなり、５０℃〜２
    ５０℃の範囲内の温度で固体保持体に保持される触媒の
    存在下で接触させることから成ることを特徴とする、 式 〔ＩＶ〕 （上式中の各Ｒは炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水
    素基からそれぞれ選び；各Ｒ1 は炭素原子数が１〜２０
    の二価の炭化水素基からそれぞれ選び；各Ｒ2 は水素原
    子、炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水素基、アミノ
    アルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルキルアミ
    ノジアルキレン基、ジアルキルアミノアルキル基および
    ポリアミノアルキルからそれぞれ選び；Ｘはハロゲンで
    あり、各Ｙは水素原子および炭素原子数が１〜８の低級
    アルキル基からそれぞれ選び；ａ＝０、１、２又は３；
    ｂ＝０、１、２又は３；ｃ＝０、１、２又は３；そして
    ａ＋ｂ＋ｃ＝４である）で示されるβ−シアノアルキル
    シランの製造法。
  2. 【請求項２】不飽和オレフインニトリルをアクリロニト
    リル、メタクリロニトリル、クロトノニトリル、エチル
    アクリロニトリル、１−シアノブテン−１および２−シ
    アノオクテン−１から選ぶことを特徴とする請求項１の
    製造法。
  3. 【請求項３】アミノオルガノシランの１つのＲ2 がメチ
    ルであり、アミノオルガノシランの１つのＲ2 がＮ，
    Ｎ′−ジメチルアミノエチルであることを特徴とする請
    求項１の方法。
  4. 【請求項４】アミノオルガノシランをＮ，Ｎ−ジメチル
    アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ′，Ｎ′−ジメ
    チルアミノエチル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメト
    キシシラン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジニルプロピル
    メチルジメトキシシラン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジ
    ニルプロピルトリメトキシシランおよびＮ−メチルアミ
    ノプロピルトリメトキシシランから選ぶことを特徴とす
    る請求項１の製造法。
  5. 【請求項５】アミノオルガノシランがＮ′，Ｎ′−ジメ
    チアミノエチル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキ
    シシランであり、固体保持体がシリカゲルであってアミ
    ノオルガノシランが該シリカゲル上にシリカゲル重量の
    １〜２５重量％の範囲内の量で担持されることを特徴と
    する請求項１の製造法。
  6. 【請求項６】β−シアノアルキルシランがβ−シアノエ
    チルトリクロロシランであることを特徴とする請求項１
    の製造法。
  7. 【請求項７】水素ケイ素がトリクロロシランであり、オ
    レフインニトリルがアクリロニトリルであり、温度が１
    ００℃〜１７０℃の範囲内であることを特徴とする請求
    項５の製造法。
  8. 【請求項８】アミノオルガノシラン／不飽和オレフイン
    ニトリルのモル比が０．００１〜５．０の範囲内にある
    ことを特徴とする請求項１の製造法。
  9. 【請求項９】水素化ケイ素／オレフインニトリルのモル
    比が０．５〜１．５であることを、特徴とする請求項１
    の製造法。
  10. 【請求項１０】本法を本質的に酸素を含まない雰囲気下
    で行うことを特徴とする請求項１の製造法。
  11. 【請求項１１】本法を０．１〜３０時間の範囲内で行う
    ことを特徴とする請求項１の製造法。
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