JPH06263771A - β−シアノアルキルシランの製造法 - Google Patents

β−シアノアルキルシランの製造法

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JPH06263771A
JPH06263771A JP5321933A JP32193393A JPH06263771A JP H06263771 A JPH06263771 A JP H06263771A JP 5321933 A JP5321933 A JP 5321933A JP 32193393 A JP32193393 A JP 32193393A JP H06263771 A JPH06263771 A JP H06263771A
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JP
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aminoorganosilane
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carbon atoms
methyl
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JP5321933A
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Howard M Bank
マービン バンク ハワード
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Dow Silicones Corp
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Dow Corning Corp
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12—Organo silicon halides
    • C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 加水分解性β−シアノアルキルシランの製造
法の提供。 【構成】 α，β−不飽和オレフインニトリルにハロゲ
ン化シランを添加して一般式IVのβ−シアノアルキルシ
ランを製造する方法において、一般式IIIのアミノオル
ガノシラン新規触媒を使用し、５０〜２５０℃で反応さ
せる。 （各ＲはＣ１〜２０の一価の炭化水素基から選び；各Ｒ
１はＣ１〜２０の二価の炭化水素基から選び；各Ｒ２は
Ｈ，Ｃ１〜２０の一価の炭化水素基、アミノアルキル
基、アルキルアミノアルキル基、アルキルアミノジアル
キレン基、ジアルキルアミノアルキル基およびポリアミ
ノアルキルから選び；Ｘはハロゲンであり、各ＹはＨお
よびＣ１〜８の低級アルキル基から選び；ａ，ｂおよび
ｃは０，１，２又は３；ｄは１，２，３又は４；かつａ
＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝４である）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加水分解性のβ−シア
ノアルキルシランの製造法に関し、特にβ−シアノアル
キルシランを生成するために、α，β−不飽和オレフイ
ンニトリルに水素化ケイ素を触媒添加することに関す
る。本発明は、アミノオルガノシランからなる新規の触
媒を使用する。
【０００２】β−シアノアルキル置換基を含有するポリ
オルガノシロキサンの製造に加水分解性のβ−シアノア
ルキルシランが有効である。ケイ素を結合したβ−シア
ノアルキル基は、高温、湿潤条件下で加水分解および開
裂に対して極めて耐性をもっている。従って、β−シア
ノアルキルシランは高温、湿潤条件を受けるポリオルガ
ノシロキサンの製造に特に有用である。ポリオルガノシ
ロキサンに置換されたケイ素を結合したβ−シアノアル
キル基の存在も液体炭化水素による膨潤に対してポリオ
ルガノシロキサンを安定化させる傾向がある。
【０００３】
【従来の技術】オレフインニトリルをシランと反応させ
てシアノアルキルシランを製造する従来の手段は、米国
特許第２，９０６，７６４号；パイク（Ｐｉｋｅ）らに
よるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２４，１９３９−４２，１
９５９年；およびパイクらによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．２７ ２１９０−９２，１９６２年に記載されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の方法は、アミ
ノオルガノシランからなる新規の触媒を使用する。その
アミノオガノシランの窒素原子は炭素基に結合されるア
ミノ基に存在し、それは次いでＳｉ−Ｃ結合を介してケ
イ素に結合される。窒素原子はケイ素原子に直接結合し
ない。前記アミノオルガノシランは、水素化ケイ素（シ
ラン）によって不飽和オレフインニトリルのβ−ヒドロ
シリル化を促進する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、
【０００６】
【式１】 で示される水素化ケイ素と、
【０００７】
【式２】 で示される不飽和オレフインニトリルを、
【０００８】
【式３】 で示されるアミノオルガノシランからなる触媒の存在
下、５０℃〜２５０℃の範囲内の温度で接触させること
から成ることを特徴とする、
【０００９】
【式４】 （上式中の各Ｒは炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水
素基からそれぞれ選び；各Ｒ1 は炭素原子数が１〜２０
の二価の炭化水素基からそれぞれ選び；各Ｒ2 は水素原
子、炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水素基、アミノ
アルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルキルアミ
ノジアルキレン基、ジアルキルアミノアルキル基および
ポリアミノアルキルからそれぞれ選び；Ｘはハロゲンで
あり、各Ｙは水素原子および炭素原子数が１〜８の低級
アルキル基からそれぞれ選び；ａ＝０、１、２又は３；
ｂ＝０、１、２又は３；ｃ＝０、１、２又は３；ｄ＝
１、２、３又は４；そしてａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝４である）
で示されるβ−シアノアルキルシランの製造法である。
【００１０】
【作用】本法は、式４で示したように１つのケイ素に結
合したβ−シアノアルキル基を含有するβ−シアノアル
キルシランの製造に利用することができる。本法により
製造できるβ−シアノアルキルシランは、例えば、β−
シアノエチルトリクロロシラン、β−シアノプロピルト
リクロロシラン、β−シアノブチルクロロシラン、β−
シアノ第三ブチルトリクロロシラン、β−シアノペンチ
ルトリクロロシラン、β−シアノプロピルトリクロロシ
ラン、β−シアノヘキシルトリクロロシラン、β−シア
ノヘプチルトリクロロシラン、β−シアノオクチルトリ
クロロシラン、α−メチル−β−シアノエチルトリクロ
ロシラン、α−エチル−β−シアノエチルトリクロロシ
ラン、α−オクチル−β−シアノプロピルトリクロロシ
ラン、β−シアノエチルトリブロモシランおよび−シア
ノプロピルトリフルオロシランである。これらの中でβ
−シアノエチルトリクロロシランが望ましい。
【００１１】式１で示した水素化ケイ素（シラン）は、
Ｓｉに結合した１個の水素原子とＳｉに結合した３個の
ハロゲン原子を含有する。そのハロゲン原子は臭素、塩
素、フッ素、およびヨウ素から選ぶことができるが、塩
素が望ましい。
【００１２】水素化ケイ素は式２で示したα，β−不飽
和オレフインニトリルと接触させる。その不飽和オレフ
インニトリルは、水素原子および低級アルキル基からそ
れぞれ選ぶ置換基Ｙを含有する。用語「低級アルキル
基」は炭素原子数が１〜８のアルキル基を意味する。Ｙ
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチル
にすることができる。不飽和オレフインニトリルは、例
えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、クロト
ノニトリル、エチルアクリロニトリル、１−シアノブテ
ン−１または２−シアノオクテン−１を含むが、アクリ
ロニトリルが望ましい。
【００１３】水素化ケイ素と不飽和オレフインニトリル
とのモル比は広範囲に変えうるが、過剰なモルを用いて
も両成分共特別の利点は得られない。水素化ケイ素／不
飽和オレフインニトリルのモル比は０．５〜１．５の範
囲内が望ましいが、０．７〜１．２が最適である。
【００１４】水素化ケイ素と不飽和オレフインニトリル
はアミノオルガノシランからなる触媒の存在下で接触さ
せる。そのアミノオルガノシランは式３、すなわち、Ｘ
ａＲｂ（ＲＯ）ｃＳｉ（Ｒ1 ＮＲ2 2 ）ｄ〔式中の各Ｒ
は炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水素基からそれぞ
れ選び；各Ｒ1 は炭素原子数が１〜２０の二価の炭化水
素基からそれぞれ選び；各Ｒ2 は水素原子、炭素原子数
が１〜２０の一価の炭化水素基、アミノアルキル基、ア
ルキルアミノアルキル基、アルキルアミノジアルキレン
基、ジアルキルアミノアルキル基およびポリアミノアル
キルからそれぞれ選び；Ｘはハロゲンであり；各Ｙは水
素原子および炭素原子数が１〜８の低級アルキル基から
それぞれ選び；ａ＝０、１、２又は３；ｂ＝０、１、２
又は３；ｃ＝０、１、２又は３；ｄ＝１、２、３又は
４；そしてａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝４である〕で示されてい
る。
【００１５】アミノオルガノシランの各ハロゲン原子、
すなわち、Ｘは臭素、塩基、フッ素およびヨウ素からそ
れぞれ選ぶ。望ましいハロゲンは塩素である。
【００１６】アミノオルガノシランの各基Ｒは炭素原子
数が１〜２０の一価の炭化水素基からそれぞれ選ぶ。そ
の基Ｒはアルキル、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチルおよびエイコシルにするこ
とができる。望ましいアルキル基は、Ｒが１〜８個の炭
素原子を含有する低級アルキル基の場合である。基Ｒは
アリール基、例えば、フエニル、ナフチル、ジフエニ
ル、トリル、キシリル、クメニル、エチルフエニルおよ
びビニルフエニルにすることもできる。望ましいアリー
ル基はフエニルである。基Ｒはアラルキル、例えば、ベ
ンジルおよびフエニルエチル；シアノアルキル、例え
ば、β−シアノエチル、β−シアノプロピルおよびβ−
シアノブチル；シクロアルキル、例えば、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル；およびアル
ケニル、例えば、ビニルおよびアリルにすることができ
る。
【００１７】アミノオルガノシランの各基Ｒ1 は、炭素
原子数が１〜２０の二価の炭化水素基からそれぞれ選
ぶ。アミノオルガノシランの基Ｒ1 の例は、二価のアル
キレン基、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、
イソプロピレン、ブチレン、イソ−ブチレン、ｔ−ブチ
レン、ペンチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、
オクタメチレンおよびエイコサメチレンを含む。
【００１８】基Ｒ1 は二価のアルケニレン基、例えば、
エテニレン、プロペニレン、ｔ−ブテニレンおよびエイ
コセニレン；二価の環状基、例えば、シクロプロピレ
ン、シクロプロピリデンおよびシクロブチレン；二価の
アリーレン基、例えば、フエニレン、ナフタレニレンお
よびフエナントリレンにすることもできる。
【００１９】各基Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１〜２０
の一価の炭化水素基、アミノアルキル基、アルキルアミ
ノアルキル基、アルキルアミノジアルキレン基、ジアル
キルアミノアルキル基およびポリアミノアルキル基から
それぞれ選ぶ。アミノオルガノシランのＲ2 の例は水素
原子およびアミノオルガノシランの基Ｒに対して示した
一価の炭化水素基の例を含む。
【００２０】基Ｒ2 はアミノアルキル基、例えば、アミ
ノメチルおよびアミノプロピル；アルキルアミノアルキ
ル基、例えば、Ｎ′−メチルアミノメチル、Ｎ′−メチ
ルアミノエチル、Ｎ′−エチルアミノエチル、Ｎ′−エ
チルアミノメチルおよびＮ′−メチルアミノヘキサメチ
ル；アルキルアミノジアルキレン基、例えば、次の構造
式
【００２１】
【式５】 （それはアミノオルガノシランのＮと結合してメチルピ
ペラジニルであった。ＮＲ2 を生成する）をもった基；
ジアルキルアミノアルキル、例えば、Ｎ′，Ｎ′−ジメ
チルアミノメチル、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチ
ル、Ｎ′，Ｎ′−ジエチルアミノエチル、Ｎ′−メチル
−Ｎ′−エチルアミノエチル、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルア
ミノプロピルおよびＮ′−メチル−Ｎ′−オクチルアミ
ノエチルにすることができる。基Ｒ2 は、式
【００２２】
【式６】 〔式中のＡは水素原子および低級アルキル基から選び、
ｅは１〜６の整数であり、ｆは１〜２０の整数であり、
「低級アルキル」は前に定義した通りである。〕で示さ
れるポリアミノアルキルにすることもできる。そのポリ
アミノアルキル基Ｒ2 の例は、Ｎ″，Ｎ″−ジメチルア
ミノエチル−Ｎ′−メチルアミノエチル、Ｎ″，Ｎ″−
ジメチルアミノエチルアミノエチル、Ｎ″−エチルアミ
ノエチル−Ｎ′−エチルアミノエチルおよびＮ″−メチ
ルアミノプロピル−Ｎ′−メチルアミノプロピルを含
む。望ましい基Ｒ2 はメチルおよびＮ′，Ｎ′−ジメチ
ルアミノエチルである。１つの基Ｒ2 がメチルで第２の
基Ｒ2 がＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチルのときが最
適である。上記の例において窒素原子について側基の場
所を示す素数は、それらがアミノオルガノシランの例を
以下に示すために用いた命名法に従ってアミノオルガノ
シランで数えるように数える。
【００２３】アミノオルガノシランの例は、Ｎ−メチル
アミノプロピルトリメトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ
3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ3 ｝、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチルアミノプロピルトリ
メトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）2 ｝、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノエチルメチルジメトキシシラ
ン｛すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）2 ＣＨ3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2
Ｎ（ＣＨ3 ）2 ｝、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル
−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
｛（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3）2 ｝、Ｎ′，Ｎ′−ジメチル
アミノ−プロピル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−
メチルアミノプロピルトリメチルシラン、Ｎ″−メチル
アミノエチル−Ｎ′−メチルアミノエチル−Ｎ−メチル
アミノエチルトリメトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ3
Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ
（ＣＨ3 ）ＣＨ2ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ3 ｝、Ｎ″，Ｎ″
−ジメチルアミノエチル−Ｎ′−エチルアミノエチルア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン｛すなわち、（Ｃ
Ｈ3 Ｏ）2 ＣＨ3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（Ｈ）ＣＨ
2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ2 ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 ）2 ｝、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−
メチルアミノブチルトリメトキシシラン、Ｎ′，Ｎ′−
ジメチルアミノ−エチル−Ｎ−メチル−アミノエチルメ
チルジメトキシシラン、Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエ
チル−Ｎ−メチル−アミノイソブチルメチルジメトキシ
シラン、ピペラジニルプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ″−Ｎ″−ジメチルアミノブチル−Ｎ′−メチルアミ
ノブチルアミノベンジルトリメトキシシラン、，Ｎ′，
Ｎ′−ジメチルアミノメチルアミノフエニルエチルトリ
メトキシシラン｛すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）2 ＳｉＣＨ2
−ＣＨ2 Ｃ6 Ｈ4 −Ｎ（Ｈ）ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）2 ｝、
Ｎ−メチルアミノヘキサメチルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジルプロピルメチルジメ
トキシシラン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジニルプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノヘキサメチル
ジクロロメチルシランおよびＮ′−Ｎ′−ジメチルアミ
ノエチル−Ｎ−メチルアミノイソブチルクロロジメトキ
シシランを含む。望ましいアミノオルガノシランはＮ，
Ｎ−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、すな
わち、（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ
3 ）2 ；Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラ
ン、すなわち、（ＣＨ3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
Ｎ（Ｈ）ＣＨ3 ；Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジニルプロ
ピルメチルジメトキシシラン、すなわち
【００２４】
【式７】 およびＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−メチル
アミノプロピルトリメトキシシラン、すなわち、（ＣＨ
3 Ｏ）3 ＳｉＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 Ｎ（ＣＨ3 ）2 である。最適のアミノオルガノシラ
ンはＮ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチル−Ｎ−メチルア
ミノプロピルトリメトキシシランである。
【００２５】不飽和オレフインニトリルの量に関して本
法に使用されるアミノオルガノシランの量は広範囲に変
えることができる。一般に、本法はアミノオルガノシラ
ン／不飽和オレフインニトリルのモル比が０．００１〜
１．０の範囲内にある条件下で実施することができる
が、０．００５〜０．１の範囲内のモル比が望ましい。
水素化ケイ素、不飽和オフインニトリルおよび触媒を標
準設計の適当な反応器内で接触させる。反応器の種類は
重要ではない。
【００２６】本法はバッチ法、セミ・バッチ法又は連結
法で実施することができるが、望ましい方法は、反応が
連続流の加圧コイル内で均一条件下で行われる場合であ
る。必ずしも必要ないけれども、反応器の内容物はバッ
チ法の場合には混合することが望ましい。混合は、普通
の手段、例えば、機械的かくはん、還流、超音波又は乱
流によって行うことができる。
【００２７】本法は本質的に酸素を含まない環境で行う
ことが望ましい。用語「遊離酸素」とは、他の元素と結
合して存在しない酸素を意味する。「本質的酸素を含ま
ない環境」とは、本法を実施する環境の遊離酸素含量が
普通の空気の値以下に減少することを意味する。本質的
に酸素を含まない環境は０．５％以下の遊離酸素を含有
することが望ましい。
【００２８】本法を実質的に酸素を含まない環境で実施
する場合には、遊離酸素が水素化ケイ素、不飽和オレフ
インニトリルおよび触媒と接触するのを本質的に排除さ
せるタイプの反応器にすることが望ましい。反応器は、
標準の手段、例えば、窒素、アルゴン又はヘリウムのよ
うな不活性ガスでのパージングや真空引きによって遊離
酸素を低減させることができる。
【００２９】本法を実施する温度は５０℃〜２５０℃の
範囲内にすることができるが、５０°〜２００℃の範囲
内の温度が望ましい。一般に、高温程、触媒の濃度は低
くなるので触媒の使用量は本法を実施する温度に依存す
る。
【００３０】本法を実施するのに必要な時間は、使用す
る特定の水素化ケイ素、不飽和オレフインニトリルおよ
び触媒に依存して変わる。一般に、反応時間は０．１〜
３０．０時間が有用であるが、１．０〜２０．０時間が
望ましい。
【００３１】次の実施例は本発明の説明のためのもので
あって、特許請求の範囲を限定するものではない。
【００３２】
【実施例】実施例１ アクリロニトリルにトリクロロシランを添加してβ−シ
アノエチルトリクロロシランを生成するのを促進する各
種アミノオルガノシランの能力を評価する一連の実験を
行った。比較のために、その添加を促進するためにテト
ラメチルエチレンジアミン（ＴＭＤＡ）を使用した実験
も行った。この一連の実験で評価したアミノオルガノシ
ランは、（１）Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、（２）Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノエチ
ル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
（３）Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジルプロピルメチルジ
メトキシシラン、および（４）Ｎ−メチルアミノプロピ
ルトリメトキシシランであった。これらのアミノオルガ
ノシランは、表１および表２にこれらの数字呼称で示
す。
【００３３】実験はアルゴンでパージした密封ガラス管
内で行った。実験はアミノオルガノシラン又はＴＭＥＤ
Ａを各ガラス管に入れ、該各ガラス管にシリクロロシラ
ンとアクリロニトリルの混合体（トリクロロシラン／ア
クリロニトリルのモル比＝１．１）２ｍＬを添加するこ
とによって行った。次にそれらのガラス管は密封し、１
２０℃で２時間または１７０℃で１８時間加熱した。ア
ミノオルガノシラン／アクリロニトリルのモル比は０．
００８３であった。ＴＭＥＤＡ／アクリロニトリルのモ
ル比も０．００８３であった。アミノオルガノシラン又
はＴＭＥＤＡを含まないトリクロロシランとアクリロニ
トリルの混合体を含有する対照ガラス管も同様に実験し
た。
【００３４】これらの実験の結果は表１および表２に示
す。表１は１２０℃で行った実験の結果を示し、表２は
１７０℃で実験結果を示す。
【００３５】各管の内容物は熱伝導度検出器（ＴＣＤ）
と共に、気液クロマトグラフイー（ＧＬＣ）によって分
析した。それらの結果は、ＧＬＣ−ＴＣＤトレースの下
の全面積％として、β−シアノエチルトリクロロシラン
に対してＧＬＣ−ＴＣＤトレースの下の面積％として示
される。
【００３６】 ［表１］ １２０℃におけるトリクロロシランとアクリロニトリルの アミノオルガノシラン触媒化反応 アミノオルガノ β−シアノエチルトリクロロシラン（面積％） シランＮＯ． ２．０時間 １ １５．９０ ２ ８．３６ ３ ８．０８ ４ ０．００ ＴＭＥＤＡ ０．７０ 対照１ ０．００ ［表２］ １７０℃におけるトリクロロシランとアクリロニトリルの アミノオルガノシラン触媒化反応 アミノオルガノ β−シアノエチルトリクロロシラン シランＮＯ． ２０時間 １８時間 １ ８４．３ ８７．２ ２ ８２．５ ９０．０ ３ ８５．９ ８７．９ ４ ２８．２ ７３．４ ＴＭＥＤＡ ６３．９ ９３．２ 対照 ２．０ １３．６

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式 〔Ｉ〕 で示される水素化ケイ素と、 式 〔ＩＩ〕 で示される不飽和オレフインニトリルを、 式 〔ＩＩＩ〕 で示されるアミノオルガノシランからなる触媒の存在
    下、５０℃〜２５０℃の範囲内の温度で接触させること
    から成ることを特徴とする、 式 〔ＩＶ〕 （上式中の各Ｒは炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水
    素基からそれぞれ選び；各Ｒ1 は炭素原子数が１〜２０
    の二価の炭化水素基からそれぞれ選び；各Ｒ2 は水素原
    子、炭素原子数が１〜２０の一価の炭化水素基、アミノ
    アルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルキルアミ
    ノジアルキレン基、ジアルキルアミノアルキル基および
    ポリアミノアルキルからそれぞれ選び；Ｘはハロゲンで
    あり、各Ｙは水素原子および炭素原子数が１〜８の低級
    アルキル基からそれぞれ選び；ａ＝０、１、２又は３；
    ｂ＝０、１、２又は３；ｃ＝０、１、２又は３；ｄ＝
    １、２、３又は４；そしてａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝４である）
    で示されるβ−シアノアルキルシランの製造法。
  2. 【請求項２】不飽和オレフインニトリルをアクリロニト
    リル、メタクリロニトリル、クロトノニトリル、エチル
    アクリロニトリル、１−シアノブテン−１および２−シ
    アノオクテン−１から選ぶことを特徴とする請求項１の
    製造法。
  3. 【請求項３】アミノオルガノシランの１つのＲ2 がメチ
    ルであり、アミノオルガノシランの１つのＲ2 がＮ，
    Ｎ′−ジメチルアミノエチルであることを特徴とする請
    求項１の方法。
  4. 【請求項４】アミノオルガノシランをＮ，Ｎ−ジメチル
    アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ′，Ｎ′−ジメ
    チルアミノエチル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメト
    キシシラン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジニルプロピル
    メチルジメトキシシラン、Ｎ′−メチル−Ｎ−ピペラジ
    ニルプロピルトリメトキシシランおよびＮ−メチルアミ
    ノプロピルトリメトキシシランから選ぶことを特徴とす
    る請求項１の製造法。
  5. 【請求項５】β−シアノアルキルシランがβ−シアノエ
    チルトリクロロシランであり、水素化シリコンがトリク
    ロロシランであり、オレフインニトリルがアクリロトリ
    ルであり、アミノオルガノシランをＮ，Ｎ−ジメチルア
    ミノプロピルトリメトキシシランおよびＮ′，Ｎ′−ジ
    メチル−アミノエチル−Ｎ−メチルアミノプロピル−ト
    リメトキシシランから選び、そして温度が５０℃〜２０
    ０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１の製造
    法。
  6. 【請求項６】アミノオルガノシラン／不飽和オレフイン
    ニトリルのモル比が０．００１〜１．０の範囲内にある
    ことを特徴とする請求項１の製造法。
  7. 【請求項７】本質的に酸素を含まない雰囲気下で行うこ
    とを特徴とする請求項１の製造法。
  8. 【請求項８】本法を０．１〜３０時間の範囲内で行うこ
    とを特徴とする請求項１の製造法。
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