JPH06263769A - 有機珪素化合物の製造方法 - Google Patents
有機珪素化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH06263769A JPH06263769A JP5052445A JP5244593A JPH06263769A JP H06263769 A JPH06263769 A JP H06263769A JP 5052445 A JP5052445 A JP 5052445A JP 5244593 A JP5244593 A JP 5244593A JP H06263769 A JPH06263769 A JP H06263769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- metallic silicon
- compound
- catalyst
- organic compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 title abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 22
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 46
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IBWXKMBLEOLOLY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(prop-2-enyl)silicon Chemical compound CO[Si](OC)CC=C IBWXKMBLEOLOLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- YYNJYMYRHBOARL-UHFFFAOYSA-N 7-methoxyquinoxalin-5-amine Chemical compound N1=CC=NC2=CC(OC)=CC(N)=C21 YYNJYMYRHBOARL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NVLPQIPTCCLBEU-UHFFFAOYSA-N allyl methyl sulphide Natural products CSCC=C NVLPQIPTCCLBEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 3
- YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[SiH](OC)OC YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical class [H]C#C* 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- JFZUABNDWZQLIJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-chloroacetyl)amino]benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1NC(=O)CCl JFZUABNDWZQLIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPWJFTZUNKCLIU-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2,5-dihydro-1H-silole Chemical compound CO[SiH]1CC=CC1 RPWJFTZUNKCLIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWJHSQQHGRQCKO-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoxypropane Chemical compound CCCOCC=C LWJHSQQHGRQCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- UBJVUCKUDDKUJF-UHFFFAOYSA-N Diallyl sulfide Chemical compound C=CCSCC=C UBJVUCKUDDKUJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- -1 ethylene, propylene, 1-butene Chemical class 0.000 description 2
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGJLGGUQXBCUIA-UHFFFAOYSA-N CCO[SiH](OC)OC Chemical compound CCO[SiH](OC)OC UGJLGGUQXBCUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001500 aryl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000013064 chemical raw material Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- RXBGEIGGCCSMHC-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(propoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](OC)OC RXBGEIGGCCSMHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGKDAFJDYSMACD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](OC)OC SGKDAFJDYSMACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 置換基の種類が限定されない有機珪素化合物
を経済的且つ高収率に製造する方法を提供する。 【構成】 金属珪素、不飽和基含有有機化合物及び水酸
基含有有機化合物を銅系触媒の存在下に反応させて有機
珪素化合物を製造する。
を経済的且つ高収率に製造する方法を提供する。 【構成】 金属珪素、不飽和基含有有機化合物及び水酸
基含有有機化合物を銅系触媒の存在下に反応させて有機
珪素化合物を製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は有機珪素化合物の全く新
規な製造方法に関するものである。
規な製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】Si−C結合を有する有機珪素化合物の
ほとんどは、ロコー(Rochow)法と呼ばれる方法で工業生
産されている。この方法は、金属珪素とアルキルクロラ
イド(またはアリールクロライド)を反応させてアルキ
ル(またはアリール)クロロシラン類を得る方法である
が、この方法が適用される化合物はアルキル基(または
アリール基)と言っても、ほぼメチル基(またはフェニ
ル基)に限定される。
ほとんどは、ロコー(Rochow)法と呼ばれる方法で工業生
産されている。この方法は、金属珪素とアルキルクロラ
イド(またはアリールクロライド)を反応させてアルキ
ル(またはアリール)クロロシラン類を得る方法である
が、この方法が適用される化合物はアルキル基(または
アリール基)と言っても、ほぼメチル基(またはフェニ
ル基)に限定される。
【0003】このため、メチル基やフェニル基以外の置
換基を導入するためには、グリニャール試薬等の有機金
属化合物を用いる方法に頼らざるを得ず、極めて不経済
な方法となっている。
換基を導入するためには、グリニャール試薬等の有機金
属化合物を用いる方法に頼らざるを得ず、極めて不経済
な方法となっている。
【0004】又、ヒドロシラン類と不飽和基含有有機化
合物を白金触媒の存在下で反応させるヒドロシリル化反
応も有用な方法であるが、原料がHSiCl3 やCH3
SiHCl2 等に限られるという欠点がある。
合物を白金触媒の存在下で反応させるヒドロシリル化反
応も有用な方法であるが、原料がHSiCl3 やCH3
SiHCl2 等に限られるという欠点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであって、置換基の種類が限定され
ず、且つ経済的に有利な方法で広範な有機珪素化合物を
製造することのできる様な化学的方法の確立を目的とす
るものである。
みてなされたものであって、置換基の種類が限定され
ず、且つ経済的に有利な方法で広範な有機珪素化合物を
製造することのできる様な化学的方法の確立を目的とす
るものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すること
のできた本発明の方法は、金属珪素、不飽和基含有有機
化合物及び水酸基含有有機化合物を銅系触媒の存在下に
反応させることを要旨とするものである。
のできた本発明の方法は、金属珪素、不飽和基含有有機
化合物及び水酸基含有有機化合物を銅系触媒の存在下に
反応させることを要旨とするものである。
【0007】
【発明の構成の説明】本発明者らは金属珪素とメタノー
ル等のアルコール類との反応系に、エチレン等の不飽和
基を有する有機化合物を導入すれば、Si−C結合を有
する有機珪素化合物が生成することを見出し、更に反応
機構の研究及び適用範囲の拡大を図る研究を重ねた結
果、本発明を完成するに至った。即ち本発明者らは、上
記反応を行なうことにより、有用な有機珪素化合物を金
属珪素から直接製造することに成功したものである。
ル等のアルコール類との反応系に、エチレン等の不飽和
基を有する有機化合物を導入すれば、Si−C結合を有
する有機珪素化合物が生成することを見出し、更に反応
機構の研究及び適用範囲の拡大を図る研究を重ねた結
果、本発明を完成するに至った。即ち本発明者らは、上
記反応を行なうことにより、有用な有機珪素化合物を金
属珪素から直接製造することに成功したものである。
【0008】本発明の原料として用いられる金属珪素
は、通常の化学用原料として使われる純度80%以上の
ものであれば特別の制約はない。粒径としては、1mm
以下のものが汎用されるが、特に100μm以下のもの
が反応効率的に好ましい。尚原料となる金属珪素の表面
が酸化珪素によって覆われていると、反応の進行を阻害
することがある。そこでHF等の強酸によってこれらを
洗浄除去し、活性面を回復させてから反応に供すること
が望まれる。
は、通常の化学用原料として使われる純度80%以上の
ものであれば特別の制約はない。粒径としては、1mm
以下のものが汎用されるが、特に100μm以下のもの
が反応効率的に好ましい。尚原料となる金属珪素の表面
が酸化珪素によって覆われていると、反応の進行を阻害
することがある。そこでHF等の強酸によってこれらを
洗浄除去し、活性面を回復させてから反応に供すること
が望まれる。
【0009】本発明における不飽和基含有有機化合物と
しては、オレフィン性2重結合を有する化合物及びアセ
チレン性3重結合を有する化合物が好ましい。具体的に
は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、
シクロヘキセン、スチレン、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、酢酸ビニル、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ア
リルエチルエーテル、アリルn−プロピルエーテル、ジ
アリルエーテル、アリルメチルスルフィド、ジアリルス
ルフィド等のオレフィン性2重結合を有するオレフィン
類;ブタジエン、イソプレン等の共役2重結合を有する
ジエン類;アセチレン、置換アセチレン等のアセチレン
類;等が好適に利用できる。即ち、直鎖状、分岐鎖状、
脂環状、芳香族系等の如何を問わず、広範な不飽和有機
化合物が用いられる。
しては、オレフィン性2重結合を有する化合物及びアセ
チレン性3重結合を有する化合物が好ましい。具体的に
は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、
シクロヘキセン、スチレン、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、酢酸ビニル、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ア
リルエチルエーテル、アリルn−プロピルエーテル、ジ
アリルエーテル、アリルメチルスルフィド、ジアリルス
ルフィド等のオレフィン性2重結合を有するオレフィン
類;ブタジエン、イソプレン等の共役2重結合を有する
ジエン類;アセチレン、置換アセチレン等のアセチレン
類;等が好適に利用できる。即ち、直鎖状、分岐鎖状、
脂環状、芳香族系等の如何を問わず、広範な不飽和有機
化合物が用いられる。
【0010】本発明における水酸基含有有機化合物とし
ては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、オクタノール、シクロヘキサノール等の1価アル
コール;エチレングリコール、プロピレングリコール等
の多価アルコール類;複数個の水酸基を有するオリゴマ
ー類;更にはフェノールやカテコール等の水酸基含有芳
香族化合物等が好適に利用できる。即ち、直鎖状、分岐
鎖状、脂環状、芳香族系等の如何を問わず、広範な水酸
基含有化合物が用いられる。
ては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、オクタノール、シクロヘキサノール等の1価アル
コール;エチレングリコール、プロピレングリコール等
の多価アルコール類;複数個の水酸基を有するオリゴマ
ー類;更にはフェノールやカテコール等の水酸基含有芳
香族化合物等が好適に利用できる。即ち、直鎖状、分岐
鎖状、脂環状、芳香族系等の如何を問わず、広範な水酸
基含有化合物が用いられる。
【0011】本発明の反応は銅系触媒の存在下に行なわ
れるが、その様な銅系触媒としては、ハロゲン化銅、特
に塩化銅が好ましい。又、触媒の活性や選択性を考慮し
て、微量の金属成分、例えばAl,As,Cd,Cr,
Fe,Ni,Pb,Sb,Sn,Zn等を触媒として添
加することもできる。尚更に必要であれば、金属銅と金
属珪素を合金化させたもの、更には金属銅、金属珪素並
びに前記微量金属成分を合金化して使用することも可能
である。
れるが、その様な銅系触媒としては、ハロゲン化銅、特
に塩化銅が好ましい。又、触媒の活性や選択性を考慮し
て、微量の金属成分、例えばAl,As,Cd,Cr,
Fe,Ni,Pb,Sb,Sn,Zn等を触媒として添
加することもできる。尚更に必要であれば、金属銅と金
属珪素を合金化させたもの、更には金属銅、金属珪素並
びに前記微量金属成分を合金化して使用することも可能
である。
【0012】前記銅系触媒の使用量は、金属珪素に対し
て0.1〜30重量%の範囲、好ましくは0.5〜15
重量%程度の範囲で使用される。触媒量が少なすぎると
反応の進行が遅くなり、又、触媒量が多すぎてもそれ以
上特に効果が増すものではない。尚上述した触媒使用量
とは、下記計算式によって求められるものである。
て0.1〜30重量%の範囲、好ましくは0.5〜15
重量%程度の範囲で使用される。触媒量が少なすぎると
反応の進行が遅くなり、又、触媒量が多すぎてもそれ以
上特に効果が増すものではない。尚上述した触媒使用量
とは、下記計算式によって求められるものである。
【0013】
【数1】
【0014】本発明によって製造される有機珪素化合物
としては、下記一般式で表される化合物が例示される。 HSi(R1)m(OR2)n (ただし、R1 は炭素原子数2〜12のアルキル基もし
くはアルケニル基または炭素原子数4〜12のアルケニ
レン基を示し、R2 は炭素原子数1〜12のアルキル
基、またはフェニル基等のアリール基を示し、m、nは
それぞれ独立に1または2の整数を示し、mとnの総和
は3である)
としては、下記一般式で表される化合物が例示される。 HSi(R1)m(OR2)n (ただし、R1 は炭素原子数2〜12のアルキル基もし
くはアルケニル基または炭素原子数4〜12のアルケニ
レン基を示し、R2 は炭素原子数1〜12のアルキル
基、またはフェニル基等のアリール基を示し、m、nは
それぞれ独立に1または2の整数を示し、mとnの総和
は3である)
【0015】より具体的には下記の反応が例示される。
すなわち、エチレンとメタノールを同時に反応させると
エチルジメトキシシラン[HSiEt(OCH3)2 ]
が、またエチレンの代わりにプロピレンを使用すると、
プロピルジメトキシシラン[HSiPr(OCH3)2 ]
が得られる。また、エチレンの代わりにアリルエチルエ
ーテルやアリルメチルスルフィド等を使用すると、いず
れもアリルジメトキシシラン[HSi(CH2 CH=C
H2 )(OCH3)2 ]が得られる。また、エチレンの代
わりにブタジエンを使用すると、Siを含む環化生成物
である1−メトキシシラシクロペント−3−エンが得ら
れる。これらの生成物は、いずれもSiに水素とアルコ
キシ基及びアルキル基が結合しており、有機珪素合成化
学上有用な生成物である。
すなわち、エチレンとメタノールを同時に反応させると
エチルジメトキシシラン[HSiEt(OCH3)2 ]
が、またエチレンの代わりにプロピレンを使用すると、
プロピルジメトキシシラン[HSiPr(OCH3)2 ]
が得られる。また、エチレンの代わりにアリルエチルエ
ーテルやアリルメチルスルフィド等を使用すると、いず
れもアリルジメトキシシラン[HSi(CH2 CH=C
H2 )(OCH3)2 ]が得られる。また、エチレンの代
わりにブタジエンを使用すると、Siを含む環化生成物
である1−メトキシシラシクロペント−3−エンが得ら
れる。これらの生成物は、いずれもSiに水素とアルコ
キシ基及びアルキル基が結合しており、有機珪素合成化
学上有用な生成物である。
【0016】反応方法に関しては、液相でも気相でも良
いが、反応温度、装置や操作の簡便さ等の点で、気相反
応が推奨される。気相で反応させる場合は、金属珪素と
触媒との混合物を反応管に充填しておき、所定温度に加
熱して不飽和基含有有機化合物と水酸基含有化合物を、
好ましくは同時にガス状で流通させる方法が最も簡便で
あり、且つ反応効率上の理由もあって推奨される。この
場合、反応管に流通させるガスを、窒素、炭酸ガス、ヘ
リウム等で希釈してもよい。また上記方法の他、流動床
式反応器に上記ガスを供給すると共に、金属珪素も反応
器に供給して連続的に有機珪素化合物を製造することも
できる。
いが、反応温度、装置や操作の簡便さ等の点で、気相反
応が推奨される。気相で反応させる場合は、金属珪素と
触媒との混合物を反応管に充填しておき、所定温度に加
熱して不飽和基含有有機化合物と水酸基含有化合物を、
好ましくは同時にガス状で流通させる方法が最も簡便で
あり、且つ反応効率上の理由もあって推奨される。この
場合、反応管に流通させるガスを、窒素、炭酸ガス、ヘ
リウム等で希釈してもよい。また上記方法の他、流動床
式反応器に上記ガスを供給すると共に、金属珪素も反応
器に供給して連続的に有機珪素化合物を製造することも
できる。
【0017】気相反応を行なう場合、銅化合物を主体と
する触媒は単に金属珪素と混合して用いても良いが、均
一混合性の良さや取扱い易さ等を考慮すると、銅化合物
を主体とする触媒を溶媒中に溶解もしくは分散させ、こ
れに金属珪素を投入して良く混合した後、溶媒を加熱蒸
発除去する方法が特に好適である。この場合、溶媒とし
ては、水、アルコール等の親水性溶媒が好適に使用でき
る。このようにして調製された金属珪素−触媒混合物中
には、ある程度水分が含まれるが、水分が共存すると、
いったん生成したアルコキシシリル基が水と反応して分
解され目的物質の収量が低下するので好ましくない。そ
のため、少なくとも100℃以上の温度で、必要に応じ
て減圧下で乾燥を行ない、触媒中に残存している水分を
可及的に除いておくことが推奨される。この様にして製
造された触媒を含む金属珪素は、反応装置や反応条件に
応じて、適当な大きさに整えて使用される。
する触媒は単に金属珪素と混合して用いても良いが、均
一混合性の良さや取扱い易さ等を考慮すると、銅化合物
を主体とする触媒を溶媒中に溶解もしくは分散させ、こ
れに金属珪素を投入して良く混合した後、溶媒を加熱蒸
発除去する方法が特に好適である。この場合、溶媒とし
ては、水、アルコール等の親水性溶媒が好適に使用でき
る。このようにして調製された金属珪素−触媒混合物中
には、ある程度水分が含まれるが、水分が共存すると、
いったん生成したアルコキシシリル基が水と反応して分
解され目的物質の収量が低下するので好ましくない。そ
のため、少なくとも100℃以上の温度で、必要に応じ
て減圧下で乾燥を行ない、触媒中に残存している水分を
可及的に除いておくことが推奨される。この様にして製
造された触媒を含む金属珪素は、反応装置や反応条件に
応じて、適当な大きさに整えて使用される。
【0018】液相反応を行なう場合、銅を主体とする触
媒が溶媒中に溶解またはよく分散している状態であれ
ば、金属珪素との接触が十分に行なわれ、反応もよく進
行する。溶媒としては任意の有機溶媒、例えばジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の不活性
溶媒を用いることができるが、本発明の原料物質である
不飽和基含有有機化合物及び水酸基含有有機化合物が液
体であればこれらを溶媒として兼用することもできる。
媒が溶媒中に溶解またはよく分散している状態であれ
ば、金属珪素との接触が十分に行なわれ、反応もよく進
行する。溶媒としては任意の有機溶媒、例えばジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の不活性
溶媒を用いることができるが、本発明の原料物質である
不飽和基含有有機化合物及び水酸基含有有機化合物が液
体であればこれらを溶媒として兼用することもできる。
【0019】反応はバッチ的に行なう方法に限定され
ず、金属珪素、不飽和基含有有機化合物及び水酸基含有
有機化合物を連続的に供給する連続方式とすることもで
きる。反応温度は、特に限定されず、一般に150〜5
00℃の範囲で行なうが、好ましくは200〜400℃
である。反応温度が低すぎると反応の進行が遅くなり、
一方、反応温度が高すぎすると反応生成物が不安定とな
る。尚不飽和基含有有機化合物や水酸基含有有機化合物
の沸点以上の温度で反応を行なうときは、加圧下に反応
を行なうことが推奨される。
ず、金属珪素、不飽和基含有有機化合物及び水酸基含有
有機化合物を連続的に供給する連続方式とすることもで
きる。反応温度は、特に限定されず、一般に150〜5
00℃の範囲で行なうが、好ましくは200〜400℃
である。反応温度が低すぎると反応の進行が遅くなり、
一方、反応温度が高すぎすると反応生成物が不安定とな
る。尚不飽和基含有有機化合物や水酸基含有有機化合物
の沸点以上の温度で反応を行なうときは、加圧下に反応
を行なうことが推奨される。
【0020】
【実施例】以下本発明を実施例により更に詳しく説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお、実施例中の%は特に断りのない限り重量基準
とする。尚、実施例で使用した金属珪素は、全て以下に
述べる方法で調製したものを使用した。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお、実施例中の%は特に断りのない限り重量基準
とする。尚、実施例で使用した金属珪素は、全て以下に
述べる方法で調製したものを使用した。
【0021】添川理化学(株)製(純度99.9%)の
金属珪素を、粒径:45〜63μmにふるい分け、更に
イオン交換水で洗浄することにより、表面に付着してい
る金属珪素の粉末を除去した。その後、46%HF水溶
液で室温下1時間撹拌洗浄し、更にイオン交換水で水洗
した後、減圧下323Kで乾燥した。
金属珪素を、粒径:45〜63μmにふるい分け、更に
イオン交換水で洗浄することにより、表面に付着してい
る金属珪素の粉末を除去した。その後、46%HF水溶
液で室温下1時間撹拌洗浄し、更にイオン交換水で水洗
した後、減圧下323Kで乾燥した。
【0022】実施例1 触媒として塩化第一銅を用い、金属珪素、エチレン及び
メタノールとの反応を以下の如く行なった。まず、関東
化学(株)製の塩化第一銅を粒径:45〜63μmにふ
るい分け、その内31mg(0.31mmol)を金属
珪素169mg(6.0mmol)とよく混合し、内径
10mmの固定床反応器に充填した。その後、反応器を
240℃に加熱してヘリウムガスを30ml/分にて1
時間流通した。ヘリウムガスの流通を止めた後、エチレ
ンを51mmol/時間の供給速度、及びメタノールを
マイクロフィーダーにて20mmol/時間の供給速度
で3時間20分反応して有機珪素化合物の製造を行なっ
た。この時、ガスクロマトグラフ分析のため内部標準と
してn−ヘプタンを0.548mmol/時間の供給速
度で供給した。尚、反応生成物は、反応管出口に接続し
たガスクロマトグラフにて自動的に3.5分毎に分析し
た。
メタノールとの反応を以下の如く行なった。まず、関東
化学(株)製の塩化第一銅を粒径:45〜63μmにふ
るい分け、その内31mg(0.31mmol)を金属
珪素169mg(6.0mmol)とよく混合し、内径
10mmの固定床反応器に充填した。その後、反応器を
240℃に加熱してヘリウムガスを30ml/分にて1
時間流通した。ヘリウムガスの流通を止めた後、エチレ
ンを51mmol/時間の供給速度、及びメタノールを
マイクロフィーダーにて20mmol/時間の供給速度
で3時間20分反応して有機珪素化合物の製造を行なっ
た。この時、ガスクロマトグラフ分析のため内部標準と
してn−ヘプタンを0.548mmol/時間の供給速
度で供給した。尚、反応生成物は、反応管出口に接続し
たガスクロマトグラフにて自動的に3.5分毎に分析し
た。
【0023】その結果、金属珪素の転化率は約77%
で、エチルジメトキシシラン[HSiEt(OCH3)
2 ]が選択率5%で得られた。この生成物の同定は、別
途合成したエチルジメトキシシランのマススペクトル
と、反応により得られた生成物のガス−マス分析による
マススペクトルとを比較することにより確認された。そ
の他の主生成物は、トリメトキシシラン(以下、TMS
と略す)で、95%の選択率であった。
で、エチルジメトキシシラン[HSiEt(OCH3)
2 ]が選択率5%で得られた。この生成物の同定は、別
途合成したエチルジメトキシシランのマススペクトル
と、反応により得られた生成物のガス−マス分析による
マススペクトルとを比較することにより確認された。そ
の他の主生成物は、トリメトキシシラン(以下、TMS
と略す)で、95%の選択率であった。
【0024】実施例2 エチレンをジアリルエーテルに変更し、ジアリルエーテ
ルを20mmol/時間、メタノールを51mmol/
時間で供給し、反応時間を5時間40分とした以外は実
施例1と同様にして反応を行なった。その結果、金属珪
素の転化率は約50%で、アリルジメトキシシラン[H
Si(CH2 CH=CH2 )(OCH3)2 ]が選択率1
2%で得られた。この生成物の同定も、別途合成したア
リルジメトキシシランのマススペクトルと、反応により
得られた生成物のガス−マス分析によるマススペクトル
を比較することにより確認された。その他の主生成物
は、TMSで88%の選択率であった。
ルを20mmol/時間、メタノールを51mmol/
時間で供給し、反応時間を5時間40分とした以外は実
施例1と同様にして反応を行なった。その結果、金属珪
素の転化率は約50%で、アリルジメトキシシラン[H
Si(CH2 CH=CH2 )(OCH3)2 ]が選択率1
2%で得られた。この生成物の同定も、別途合成したア
リルジメトキシシランのマススペクトルと、反応により
得られた生成物のガス−マス分析によるマススペクトル
を比較することにより確認された。その他の主生成物
は、TMSで88%の選択率であった。
【0025】実施例3 エチレンをアリルエチルエーテルに変更し、反応時間を
2時間とした以外は実施例1と同様にして反応を行なっ
た。その結果、金属珪素の転化率は約30%で、アリル
ジメトキシシランが選択率35%で得られた。その他の
主生成物は、TMSとエトキシジメトキシシランでそれ
ぞれ63%、3%の選択率であった。
2時間とした以外は実施例1と同様にして反応を行なっ
た。その結果、金属珪素の転化率は約30%で、アリル
ジメトキシシランが選択率35%で得られた。その他の
主生成物は、TMSとエトキシジメトキシシランでそれ
ぞれ63%、3%の選択率であった。
【0026】実施例4 エチレンをアリルn−プロピルエーテルに変更し、反応
時間を3時間とした以外は実施例1と同様にして反応を
行なった。その結果、金属珪素の転化率は約50%で、
アリルジメトキシシランが選択率23%で得られた。そ
の他の主生成物は、TMSとプロポキシジメトキシシラ
ンでそれぞれ52%、25%の選択率であった。
時間を3時間とした以外は実施例1と同様にして反応を
行なった。その結果、金属珪素の転化率は約50%で、
アリルジメトキシシランが選択率23%で得られた。そ
の他の主生成物は、TMSとプロポキシジメトキシシラ
ンでそれぞれ52%、25%の選択率であった。
【0027】実施例5 ジアリルエーテルをアリルメチルスルフィドに変更し、
反応時間を2時間とした以外は実施例2と同様にして反
応を行なった。その結果、金属珪素の転化率は約10%
で、アリルジメトキシシランが選択率36%で得られ
た。その他の主生成物は、TMSで64%の選択率であ
った。
反応時間を2時間とした以外は実施例2と同様にして反
応を行なった。その結果、金属珪素の転化率は約10%
で、アリルジメトキシシランが選択率36%で得られ
た。その他の主生成物は、TMSで64%の選択率であ
った。
【0028】実施例6 ジアリルエーテルに変更した以外は実施例2と同様にし
て反応を行なった。その結果、転化率は数%で主生成物
はTMSであったが、極微量の1−メトキシシラシクロ
ペント−3−エンが得られた。
て反応を行なった。その結果、転化率は数%で主生成物
はTMSであったが、極微量の1−メトキシシラシクロ
ペント−3−エンが得られた。
【0029】比較例1 実施例1で、塩化第一銅触媒を加えずにそのまま反応さ
せた以外は、実施例1と同様にして反応を行なった。そ
の結果、反応は進行しなかった。 比較例2 実施例1で、メタノールの供給を行なわない以外は、実
施例1と同様にして反応を行なった。その結果、反応は
進行しなかった。
せた以外は、実施例1と同様にして反応を行なった。そ
の結果、反応は進行しなかった。 比較例2 実施例1で、メタノールの供給を行なわない以外は、実
施例1と同様にして反応を行なった。その結果、反応は
進行しなかった。
【0030】
【発明の効果】本発明は上記の様に不飽和基含有有機化
合物と水酸基含有有機化合物を銅系触媒の存在下金属珪
素と直接反応させる様にしたので、置換基の種類が限定
されない有機珪素化合物を経済的且つ高収率に製造でき
ることとなった。
合物と水酸基含有有機化合物を銅系触媒の存在下金属珪
素と直接反応させる様にしたので、置換基の種類が限定
されない有機珪素化合物を経済的且つ高収率に製造でき
ることとなった。
Claims (1)
- 【請求項1】 金属珪素、不飽和基含有有機化合物及び
水酸基含有有機化合物を銅系触媒の存在下に反応させる
ことを特徴とする有機珪素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5052445A JPH06263769A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 有機珪素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5052445A JPH06263769A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 有機珪素化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06263769A true JPH06263769A (ja) | 1994-09-20 |
Family
ID=12914936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5052445A Withdrawn JPH06263769A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 有機珪素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06263769A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002226488A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Toagosei Co Ltd | アルコキシシランの製造方法 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP5052445A patent/JPH06263769A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002226488A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Toagosei Co Ltd | アルコキシシランの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5041595A (en) | Method for manufacturing vinylalkoxysilanes | |
JP2000095785A (ja) | 高収率ヒドロシリル化方法 | |
EP1754708B1 (en) | Preparation of 1-(alkoxysilyl) ethyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane | |
EP1650213B1 (en) | Making of contact mass for organohalosilane preparation and preparation of organohalosilanes | |
US5260471A (en) | Process for producing trialkoxysilane | |
JP3181885B2 (ja) | 酸化レニウムの有機誘導体 | |
JP3560992B2 (ja) | フラーレン誘導体およびその製造方法 | |
JPH06263769A (ja) | 有機珪素化合物の製造方法 | |
US5294727A (en) | Method for preparing tertiary hydrocarbon-silyl compounds | |
EP2963046A1 (en) | Mononuclear ruthenium complex and organic synthesis reaction using same | |
US6414176B2 (en) | Preparation of vinylsilanes | |
JP3122358B2 (ja) | 3−クロロプロピルシラン類の製造方法 | |
US6476250B1 (en) | Optically active fluorinated binaphthol derivative | |
JP2775239B2 (ja) | 接触アルキル化方法 | |
EP1756123B1 (en) | Process for making haloorganoalkoxysilanes | |
JPS6341919B2 (ja) | ||
JPH0211587A (ja) | シリル化方法 | |
JP4340257B2 (ja) | メチルクロロシランの製造方法 | |
JPH04288087A (ja) | 4−エトキシフェニル−3−アリールプロピル(ジメチル)シランの製造方法 | |
KR101133865B1 (ko) | 할로유기알콕시실란의 제조 방법 | |
KR101117246B1 (ko) | 모노할로게노비닐 화합물로부터 비타민 d 유도체를획득하는 방법 | |
JPH0684381B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP3177881B2 (ja) | 有機銅錯体の製造方法 | |
JPS5929042B2 (ja) | パ−ハロゲン化アルカンとオレフイン類との付加反応方法 | |
JP2773568B2 (ja) | トリアルコキシシランの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |