JPH06263681A - 光学活性アルデヒド類の製造法 - Google Patents

光学活性アルデヒド類の製造法

Info

Publication number
JPH06263681A
JPH06263681A JP5052539A JP5253993A JPH06263681A JP H06263681 A JPH06263681 A JP H06263681A JP 5052539 A JP5052539 A JP 5052539A JP 5253993 A JP5253993 A JP 5253993A JP H06263681 A JPH06263681 A JP H06263681A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
lower alkyl
rhodium
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5052539A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidemasa Takatani
秀正 高谷
Nozomi Sakai
望 坂井
Kyoko Tamao
京子 玉尾
Satoshi Mano
聡 真野
Hidenori Kumobayashi
秀徳 雲林
Tetsuo Tomita
哲郎 富田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takasago International Corp
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Takasago International Corp
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Takasago Perfumery Industry Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takasago International Corp, Mitsubishi Gas Chemical Co Inc, Takasago Perfumery Industry Co filed Critical Takasago International Corp
Priority to JP5052539A priority Critical patent/JPH06263681A/ja
Priority to EP19940103675 priority patent/EP0614870B1/en
Priority to DE1994607840 priority patent/DE69407840T2/de
Publication of JPH06263681A publication Critical patent/JPH06263681A/ja
Priority to US08/323,492 priority patent/US5530150A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
    • C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C221/00—Preparation of compounds containing amino groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
    • C07C231/12—Preparation of carboxylic acid amides by reactions not involving the formation of carboxamide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
    • C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
    • C07C45/50—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide by oxo-reactions
    • C07C45/505—Asymmetric hydroformylation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
    • C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
    • C07C51/23—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of oxygen-containing groups to carboxyl groups
    • C07C51/235—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of oxygen-containing groups to carboxyl groups of —CHO groups or primary alcohol groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C51/487—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to chemical modification
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/293—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50—Organo-phosphines
    • C07F9/5022—Aromatic phosphines (P-C aromatic linkage)

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】ＣＨ2＝ＣＨ−Ｑ （１） で表わされるビニル化合物類を、ロジウム−ホスフィン
錯体を触媒として用いて、ヒドロホルミル化することを
特徴とする ＯＨＣ−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｑ （２） （式中、Ｑはハロゲン原子、低級アルキル基、フタルイ
ミド基、低級アルキルカルボニルオキシ基、シアノ基、
カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、アセチル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基、モノアルキルアミノ
基、ジアルキルアミノ基、ベンゾイル基またはハロゲン
原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換
されていてもよいフェニル基、またはナフチル基を示
す）で表わされる光学活性アルデヒド類の製造法。 【効果】上記アルデヒド類を、簡単な操作により温和な
条件下に高収率で安価に製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性なアルデヒド類
の製造法、更に詳細には、一般式（１）のビニル化合物
類、一酸化炭素および水素を原料として一般式（２）の
光学活性なアルデヒド類を製造する方法に関する。
【０００２】ＣＨ2＝ＣＨ−Ｑ （１） ＯＨＣ−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｑ （２） （式中、Ｑはハロゲン原子、低級アルキル基、フタルイ
ミド基、低級アルキルカルボニルオキシ基、シアノ基、
カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、アセチル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基、モノアルキルアミノ
基、ジアルキルアミノ基、ベンゾイル基またはハロゲン
原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換
されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子、低
級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されてい
てもよいナフチル基を示す）
【０００３】
【従来の技術】従来から、不斉ヒドロホルミル化反応が
光学活性なアルデヒド類を合成する際の実用性のために
有機合成化学の分野で大きな注目を集めてきた。特に炭
素−炭素結合を形成するステップでの高い位置選択性
（分岐したものと直鎖状のものとの比）と高い立体選択
性の両方を達成するために、効果的な不斉反応触媒を開
発する多大の努力がなされてきた。例えば、光学活性な
ジホスフィンによって修飾されたロジウムや白金錯体が
触媒として使われてきた。
【０００４】しかしながら、今までに得られている結果
は、合成化学的見地から多くの場合満足の行くものでは
なかった。白金触媒を不斉ヒドロホルミル化反応に用い
た場合、一般的に反応速度が遅く、かつまた原料の水素
化反応が競争的に進行する傾向がある。ロジウム触媒を
用いた場合はこのような欠点がなくなるが、全く問題が
ないわけではない。
【０００５】酢酸ビニルを不斉ヒドロホルミル化して光
学活性な２−アセトキシプロパナールを得る試みが幾つ
かある。例えば、Ｃ．Ｆ．Ｈｏｂｂｓ ａｎｄ Ｗ．
Ｓ．Ｋｎｏｗｌｅｓ著Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８
１，４６，４４２２によれば、ＤＩＰＨＯＬとＲｈ（ｃ
ｏｄ）（ａｃａｃ）の混合物を触媒として酢酸ビニルの
不斉ヒドロホルミル化反応を行い最高で５１％ｅｅの光
学収率を得ている。
【０００６】また、本発明者らはＤＩＰＨＯＬより合成
の容易なビス（トリアリールホスファイト）を配位子と
するロジウム触媒を用いて、酢酸ビニルの不斉ヒドロホ
ルミル化反応を行い、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ａｓｙ
ｍｍｅｔｒｙ Ｖｏｌ．３，Ｎｏ．５，ｐｐ５８３に報
告した。この方法では、工業的な実用性はおおいに向上
したが、光学収率は４９％ｅｅで従来法と差がなかっ
た。
【０００７】その他に、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
Ｊａｐａｎ，１９７９，５２，２６０５には、光学活性
な二座ホスフィン（ＤＩＯＰ等）を配位子とするロジウ
ム錯体を用いたオレフィン類の不斉ヒドロホルミル化反
応の例が、またＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ａｓｙｍｍｅ
ｔｒｙ Ｖｏｌ．１０，ｐｐ６９３（１９９０）には光
学活性な二座ホスフィンを配位子とするロジウム錯体を
用いたα−アセトアミドアクリル酸メチルの不斉ヒドロ
ホルミル化反応の例が記載されているが、いずれも光学
収率は高くない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】一般に、ヒドロホルミ
ル化反応は、コバルト触媒、ロジウム触媒を用いてよい
収率を得ることができる。しかしホルミル基が付加する
位置の選択性を高めるために、種々の工夫がなされてい
る。ホスフィン配位子を添加する等の工夫により、位置
選択性は非常に高くなった。しかし、更に進んで立体特
異的にヒドロホルミル化を規制するのに容易でなく、生
成するアルデヒド類の光学収率はせいぜい５０％ｅｅど
まりであった。
【０００９】立体選択性を増大するには、触媒の中心金
属の周りの配位空間を厳密に制御することにより、ホル
ミル基付加の経路を空間上の一方向に制限することが必
要である。このような配位子空間の制御は、配位子の立
体的形状をうまく設計することによってのみ可能であ
る。従来使用された触媒が、配位空間を制御することに
おいて、充分でなかったことは明白である。そこで、本
発明者らは、非常に優れた不斉源であり、最近入手が容
易になった光学活性なビナフトールを用いて配位子を設
計することを意図した。このような目的で、既にビス
（トリアリールホスファイト）系の配位子を合成しテス
トしたが、結果は満足できるものではなかった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このような実情におい
て、本発明者は、上記欠点を解決せんと鋭意研究を行っ
た結果、ビナフチル骨格にホスフィン構造とホスファイ
ト構造を同時に有する新規なホスフィン化合物を合成
し、このホスフィン化合物を配位子とし、中心金属にロ
ジウムを用いた触媒を使用して、種々のオレフィン類に
ヒドロホルミル化反応を行ったところ、驚くべきことに
従来の触媒からは予想もできない非常に高い立体制御性
を示すことを見出し、本発明を完成した。
【００１１】すなわち、本発明は、ビニル化合物類
（１）を後記一般式（３−ａ）または（３−ｂ）で表わ
されるロジウム−ホスフィン錯体を触媒として用いて、
ヒドロホルミル化して光学活性アルデヒド類（２）を製
造する方法である。本発明は次の反応式によって示され
る。
【００１２】
【化２】
【００１３】（式中、Ｑは前記と同じものを示す）本発
明に使用される触媒は次の一般式（３−ａ）または（３
−ｂ）で表わされる。 〔Ｒｈ（Ｌ）（Ｙ）（Ｘ）〕 （３−ａ） 〔Ｒｈ（Ｌ）（Ｙ）〕（Ｘ） （３−ｂ） ここにおいて、Ｌはホスフィン化合物を示し、次の構造
を有する。
【００１４】
【化３】
【００１５】（式中、Ｒ1およびＲ2は同一または異なっ
て、ハロゲン原子または低級アルキル基で置換されてい
てもよいフェニル基を示すか、Ｒ1とＲ2が共同して２価
の炭化水素基を示し、Ｒ3およびＲ4は同一または異なっ
て、低級アルキル基またはハロゲン原子、低級アルキル
基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいフ
ェニル基を示すか、Ｒ3とＲ4が共同して２価の炭化水素
基を示す）
【００１６】また、Ｙは一酸化炭素、これより配位力の
弱い単座もしくは二座の中性配位子、オレフィンまたは
ジエンを示し、Ｘは水素原子、１価の陰イオンまたはト
リフェニルホスフィンを示すか、あるいはＸとＹが一緒
になってβ−ジケトナートを示す。
【００１７】ホスフィン化合物は次の反応式に従って高
収率で合成することができる。
【００１８】
【化４】
【００１９】（Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基
を示し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は前記と同じものを示
す）
【００２０】このようにして合成したホスフィン化合物
は、空気中および湿気中でも安定であり、シリカゲルを
用いるカラムクロマトグラフィーにかけることにより簡
単に純粋にすることができた。元素分析値とスペクトル
データはこの物が確かにホスフィン化合物の構造を持つ
ことを示した。ＨＰＬＣ分析を行ったところ、光学的に
純粋であることが証明された。
【００２１】本発明で使用するロジウム−ホスフィン錯
体は、Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）のようなロジウム錯
体とホスフィン化合物から収率よく合成することができ
る。ロジウム化合物としては、ロジウム金属錯体、ロジ
ウム鉱酸塩、ロジウム有機酸塩、ロジウム酸化物等を使
用することができる。これらの各種ロジウム化合物の中
でも、ロジウムトリアセチルアセトナート、ロジウムジ
カルボニルアセチルアセトナート、テトラロジウムドデ
カカルボニル、ヘキサロジウムヘキサデカカルボニル、
ロジウムシクロオクタジエン、アセチルアセトナート等
のロジウム錯体、硝酸ロジウム、硫酸ロジウム、酢酸ロ
ジウム、酸化ロジウムなどが好ましい。なお、ロジウム
−ホスフィン錯体は、通常錯体中にＲｈ原子が１個の単
核錯体であるが、Ｒｈ原子が２個以上の複核錯体の場合
もある。
【００２２】本発明の方法では、ロジウム−ホスフィン
錯体を加えるか、あるいはロジウム化合物とホスフィン
化合物を別々に反応系に加え、その系の中でロジウム−
ホスフィン錯体を形成させてもよい。反応系の触媒の濃
度は、液相１ｌあたりロジウム原子として、０．０００
１〜１０００mg原子、好ましくは、０．００１〜１００
mg原子の範囲に相当する量で使用される。
【００２３】本発明の方法は、反応溶媒を用いることな
く実施することができるが、通常は反応溶媒の存在下に
反応を行わせるのがよい。反応溶媒としては、反応に悪
影響を及ぼさないものであれば、いずれも用いることが
できる。特に、炭化水素類が好ましく、具体的にはヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどを挙げることができる。こ
のほか、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、
ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケ
トン類、酪酸ブチル、安息香酸ブチルなどのエステル類
も好ましい例である。
【００２４】一般に、ヒドロホルミル化反応では、触媒
活性を高めるために、反応系内に水を共存させる方法が
好まれるが、本発明の方法においても反応時に水を共存
させることができる。水の添加量に特に制限はないが、
極端に少量では効果が薄く、極端に多量用いても効果は
頭打ちとなる。通常、水の添加量は、基質オレフィン類
に対して重量比で、０．００１〜１０００倍を添加すれ
ば反応速度が増大する場合がある。
【００２５】本発明の方法では、触媒の活性や位置選択
性および立体選択性を改良する目的や、更に触媒の安定
性を改良する目的で、水以外にも種々の添加物を添加す
ることができる。このような添加物として、ホスフィン
化合物その他トリエチルホスフィンオキサイド、トリブ
チルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオ
キサイド、トリエチルホスファイト、トリブチルホスフ
ァイト、トリフェニルホスファイト等の燐化合物、脂肪
族アミン類、芳香族アミン類、ピリジン類、キノリン
類、イミダゾール類、ジアミン類、トリアミン類、アミ
ノアルコール類、アミド類等の窒素化合物、酢酸、プロ
ピオン酸、ピバリン酸等のカルボン酸類が共存していて
も特に支障はない。
【００２６】本発明の方法を実施する時の反応条件とし
て、通常、反応温度は−２０〜２５０℃、更に好ましく
は１０〜１５０℃の範囲がよい。反応温度は、生成する
アルデヒド類の熱安定性の面からは低い方がよく、反応
速度の面からは高い方が望ましい。反応圧力は５〜２０
０kg／cm2、更に好ましくは２０〜１５０kg／cm2の範囲
で行う。また、原料の一酸化炭素および水素の混合モル
比は、通常１０〜０．１の範囲であり、更に好ましくは
４〜０．２の範囲である。一酸化炭素と水素の混合比
が、このような割合を保持している限り、反応に不活性
な他のガスで希釈することができる。希釈ガスとして
は、メタン、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等
を単独乃至は複数で用いる。
【００２７】本発明の方法は、回分法、半回分法、連続
法のいずれの方法によっても行うことができる。例え
ば、回分法を行う場合、ロジウム−ホスフィン錯体、オ
レフィン類、および必要に応じて反応溶媒、添加物を所
定量オートクレープに仕込み、これに一酸化炭素および
水素を含有するガスを所定の圧力まで導入する。つい
で、攪拌しながら、所定温度に加温することによって反
応が進行する。また、連続法の場合は、ロジウム−ホス
フィン錯体、オレフィン類、添加物を溶媒に溶解した液
を、耐圧の反応器の一方からストロークポンプを用いて
連続的に供給し、また同時に一酸化炭素と水素の混合ガ
スを供給して反応圧を一定に保持するようにする。加温
状態で、攪拌しながら反応を行いつつ、反応器の他方か
ら、反応混合液と混合ガスの一部を連続して抜き出すこ
とによって行う。
【００２８】
【作用および発明の効果】本発明により、従来合成に非
常に手間がかかりかつ高価であった光学活性なアルデヒ
ド類を、簡単な操作により温和な条件下に高収率で安価
に製造することができる。特に、本発明の方法により、
従来の不斉ヒドロホルミル化では到底達成することがで
きなかったような、非常に高い光学収率で反応を進行さ
せることが可能になる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例により本発明の方法を更に具体
的に説明する。 実施例１ （Ｓ）−２，２′−ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ）−１，１′−ビナフチルの合成〔以後「化合
物Ｉ」と略記する〕 １００mlのフラスコに塩化メチレン２６ml、（Ｓ）−
１，１′−ビ−２−ナフトール５ｇ（１７．４mmol）と
２，６−ルチジン５．５８ｇ（５２．２mmol）そして４
−ジメチルアミノピリジン０．９５５ｇ（７．８３mmo
l）を溶解し、この溶液中に０℃にてトリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物１４．７ｇ（５２．２mmol）を加え
る。そして、室温で２３時間攪拌し反応を終了した。反
応終了後、溶媒を留去した後、残渣を塩化メチレンを展
開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、９．５６ｇの（Ｓ）−２，２′−ビス（トリフル
オロメタンスルホニルオキシ）−１，１′−ビナフチル
を得た。収率１００％。
【００３０】２−オキソジフェニルホスフィノ−２′−
トリフルオロメタンスルホニルオキシ−１，１′−ビナ
フチルの合成〔以後「化合物II」と略記する〕 １００mlのフラスコに、アルゴン気流下で化合物〔Ｉ〕
２．７４ｇ（４．９８mmol）とジフェニルホスフィンオ
キシド１．９９ｇ（９．８２mmol）をジメチルスルホキ
シド２０mlに溶解し、この溶液中に酢酸パラジウム１１
０mg（０．４９１mmol）、エチルジイソプロピルアミン
５．１mlと蟻酸ナトリウム３３mg（０．４９１mmol）を
加えて、室温で２０分攪拌した。次に、溶液を９０℃で
１９時間攪拌した後室温に戻し、エーテル２５０mlと水
１５０mlを加えて攪拌し分液した。分液後、有機層を１
２５mlの水で４回洗浄し、次に５％の希塩酸１２５mlで
２回、５０mlの水で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液１２５mlで１回、最後に、飽和食塩水１２５mlで洗浄
した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した後、残渣をトルエン／アセトニトリ
ル＝３／１混合液（溶媒比、以下同様）を展開溶媒とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する
ことにより、標題化合物を２．５１ｇ得た。収率８３
％。
【００３１】２−ジフェニルホスフィノ−２′−ヒドロ
キシ−１，１′−ビナフチルの合成〔以後「化合物II
I」と略記する〕 ５０mlの３つ口フラスコに化合物〔II〕４００mg（０．
６６４mmol）をキシレン２２mlに溶解させ、この中にト
リエチルアミン１．２１ｇ（１２mmol）とトリクロロシ
ラン１．６２ｇ（１２mmol）を加えた。この混合液を１
２０℃で１７時間攪拌した。反応液の温度を室温まで戻
した後、３５％の水酸化ナトリウム４．４mlを注意深く
加え、更に２時間攪拌した後分液した。分液後、有機層
を３０mlの飽和食塩水で２回洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって
粗生成物を得た。この粗生成物をテトラヒドロフラン７
mlに溶解し、この中に、水酸化リチウム３３５mg（７．
９８mmol）を２．４mlの水に溶かした水溶液を加え、室
温で１５時間攪拌した。エーテル５０mlと５％希塩酸１
５mlを加えて分液し、有機層を２回水で洗浄してから無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、残渣
をヘキサン／酢酸エチル＝５／１の混合液を展開溶媒と
するシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製するこ
とにより標題化合物１５３mgを得た。収率５１％。
【００３２】（Ｓ）−１，１′−ビナフタレン−２，
２′−ジイルオキシクロロホスフィンの合成〔以後「化
合物IV」と略記する〕 アルゴン気流下、５０mlのフラスコに（Ｓ）−１，１′
−ビ−２−ナフトール４．９４ｇ（１７．３mmol）と三
塩化リン１１３ｇ（０．８３mol）を加え、４時間加熱
還流した後、室温に戻した未反応の三塩化リンは減圧下
に留去して白色結晶の表記化合物５．５６ｇを得た。収
率９２％。
【００３３】（Ｒ）−２−ジフェニルホスフィノ−１，
１′−ビナフタレン−２′−イルオキシ−（（Ｓ）−
１，１′−ビナフタレン−２，２′−ジイルオキシ）ホ
スフィンの合成〔（Ｒ，Ｓ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳと略記
する〕 １００mlのフラスコに化合物〔III〕４３０mg（０．９
４６mmol）と化合物〔IV〕６６２mg（１．８９mmol）を
エーテル３０mlに溶解し、この中に０℃にてトリエチル
アミン１９１mg（１．８９mmol）を加え、室温で１５時
間攪拌した後、２０mlの水を加えて反応を停止させた。
分液後得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去し粗生成物を得た。このものを、ヘキサ
ン／ジクロロメタン＝１／１の混合液を展開溶媒とする
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して（Ｒ，
Ｓ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳを白色結晶として７１２mg得
た。収率９８％。31 P-NMR(CDCl3)δ：−14.6(d, J=29.0Hz), 144.7(d, J=
29.0Hz)
【００３４】酢酸ビニルの不斉ヒドロホルミル化反応 ５０mlのオートクレーブに酢酸ビニル１．３０１ｇ（１
５．１３mmol）、触媒前駆体としてＲｈ（ＣＯ）2 （ａ
ｃａｃ）９．８mg（０．０３７８mmol）、光学活性ホス
フィンとして（Ｒ，Ｓ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳ ５８mg
（０．０７５５mmol）、ベンゼン１４mlを加え、水素圧
５０ａｔｍ、一酸化炭素圧５０ａｔｍの条件下で、６０
℃で１１２時間攪拌した。酢酸ビニルの転化率の測定お
よび生成物の分析はガスクロマトグラフィー（１０％Ｓ
Ｅ−３０ ｏｎ Ｃｈｒｏｍｏｓｏｒｂ Ｗ ８０−１
００ ｍｅｓｈ ｐａｃｋｅｄ ｉｎ ａ ５mm×２ｍ
ｇｌａｓｓ ｃｏｌｕｍｎ）を用い、光学純度は光学
活性ガスクロマトグラフィー（Ａｓｔｅｃ Ｃｈｉｒａ
ｌｄｅｘ Ｂ−ＰＨ）により決定した。その結果、本反
応で生成した化合物は、２−アセトキシプロパナール９
０％と３−アセトキシプロパナール１０％の混合物であ
り、転化率は９８％であった。続いて、２−アセトキシ
プロパナールを蒸留し、このものの光学純度を測定した
ところ９０％ｅｅであった。次にこのものをジョーンズ
酸化して２−アセトキシプロピオン酸に導き、旋光度を
測定したところ、このものは（Ｓ）−（−）−２−アセ
トキシプロピオン酸であることが確認された。
【００３５】実施例２ （Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）−１，１′−ビ
ナフタレン−２−イルオキシ−（（Ｒ）−１，１′−ビ
ナフタレン−２，２′−イルオキシ）ホスフィンの合成
〔以後、（Ｒ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳと略記する〕 １００mlのフラスコにエーテル３０mlを入れ、これに化
合物〔III〕２０９mg（０．４６mmol）と（Ｒ）−１，
１′−ビナフト−２，２′−イルオキシクロロホスフィ
ン３２２mg（０．９２mmol）を溶解した。この溶液に０
℃にてトリエチルアミン１９１mg（１．８９mmol）を加
えて、（Ｒ，Ｓ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳの場合と同様に操
作し、標題化合物を３５３mg得た。収率９６．３％。31 P-NMR(CDCl3)δ：−18.0(d, J=9.2Hz), 140.5(d, J=
9.1Hz)
【００３６】Ｒｈ（（Ｒ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳ）
（ａｃａｃ）の合成 ２０mlのシュレンク管の中に、（Ｒ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰ
ＨＯＳ ０．０２５mmolとＲｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）
（ａｃａｃはアセトアセトナートを表す。以下同様）
６．５mg（０．０２５mmol）を入れて、塩化メチレン５
mlで溶解する。反応液を室温で５分攪拌した後、減圧下
溶媒を留去してＲｈ（（Ｒ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳ）
（ａｃａｃ）を６３mg得た。収率９９％。31 P-NMR(CDCl3)δ：51.9(dd, Jp-p=80.8Hz, JRh-p=178.
4Hz),152.5(dd,JRh-p=335.1Hz)
【００３７】酢酸ビニルの不斉ヒドロホルミル化反応 触媒としてＲｈ（（Ｒ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳ）（ａ
ｃａｃ）を用い５０℃、３７時間反応した以外は、実施
例１と同様な操作をして、２−アセトキシプロパナール
９２％と３−アセトキシプロパナール８％の混合物を得
た。転化率４６％。また、得られた２−アセトキシプロ
パナールを実施例１と同様に蒸留した後の光学純度は７
３％ｅｅであった。次にこのものをジョーンズ酸化して
２−アセトキシプロピオン酸に導き、旋光度を測定した
ところ、このものは（Ｓ）−（−）−２−アセトキシプ
ロピオン酸であることが確認された。
【００３８】実施例３ ５０mlのオートクレーブにスチレン３．０６ｇ（２９．
４mmol）、Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）３．７mg（０．
０１４３mmol）、（Ｓ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳ ４４
mg（０．０５７３mmol）、重ベンゼン１mlを加え、５０
ａｔｍの水素と５０ａｔｍの一酸化炭素を加えて、６０
℃で４３時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで
戻し、加圧ガスを除いた後に反応混合物を直接1Ｈ−Ｎ
ＭＲで分析したところ、スチレンの転化率は９９％以上
であり、生成物の２−フェニルプロパナール８８％と３
−フェニルプロパナール１２％の混合物を１．２７３ｇ
得た。なお、ほかの生成物は全く見られなかった。蒸留
後得られた２−フェニルプロパナールをジョーンズ酸化
により２−フェニルプロピオン酸に導いて光学純度を測
定したところ、９４％ｅｅの（Ｓ）−（＋）−２−フェ
ニルプロピオン酸であった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年３月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】
【化２】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】本発明で使用するロジウム−ホスフィン錯
体は、Ｒｈ（ＣＯ）２（ａｃａｃ）のようなロジウム錯
体とホスフィン化合物から収率よく合成することができ
る。ロジウム化合物としては、ロジウム金属錯体、ロジ
ウム鉱酸塩、ロジウム有機酸塩、ロジウム酸化物等を使
用することができる。これらの各種ロジウム化合物の中
でも、ロジウムトリアセチルアセトナート、ロジウムジ
カルボニルアセチルアセトナート、テトラロジウムドデ
カカルボニル、ヘキサロジウムヘキサデカカルボニル、
ロジウム（１，５−シクロオクタジエン）アセチルアセ
トナート等のロジウム錯体、硝酸ロジウム、硫酸ロジウ
ム、酢酸ロジウム、酸化ロジウムなどが好ましい。な
お、ロジウム−ホスフィン錯体は、通常錯体中にＲｈ原
子が１個の単核錯体であるが、Ｒｈ原子が２個以上の複
核錯体の場合もある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２９】
【実施例】以下、実施例により本発明の方法を更に具体
的に説明する。 実施例１ （Ｒ）−２，２′−ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ）−１，１′−ビナフチルの合成〔以後「化合
物Ｉ」と略記する〕 １００ｍｌのフラスコに塩化メチレン２６ｍｌ、（Ｒ）
−１，１′−ビ−２−ナフトール５ｇ（１７．４ｍｍｏ
ｌ）と２，６−ルチジン５．５８ｇ（５２．２ｍｍｏ
ｌ）そして４−ジメチルアミノピリジン０．９５５ｇ
（７．８３ｍｍｏｌ）を溶解し、この溶液中に０℃にて
トリフルオロメタンスルホン酸無水物１４．７ｇ（５
２．２ｍｍｏｌ）を加える。そして、室温で２３時間攪
拌し反応を終了した。反応終了後、溶媒を留去した後、
残渣を塩化メチレンを展開溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、９．５６ｇの（Ｒ）−
２，２′−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ）−１，１′−ビナフチルを得た。収率１００％。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３０】（Ｒ）−２−ジフェニルホスフィニル−
２′−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−１，１′
−ビナフチルの合成〔以後「化合物ＩＩ」と略記する〕 １００ｍｌのフラスコに、アルゴン気流下で化合物
〔Ｉ〕２．７４ｇ（４．９８ｍｍｏｌ）とジフェニルホ
スフィンオキシド１．９９ｇ（９．８２ｍｍｏｌ）をジ
メチルスルホキシド２０ｍｌに溶解し、この溶液中に酢
酸パラジウム１１０ｍｇ（０．４９１ｍｍｏｌ）、１，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン２１０ｍｇ
（０．４９１ｍｍｏｌ）、エチルジイソプロピルアミン
５．１ｍｌと蟻酸ナトリウム３３ｍｇ（０．４９１ｍｍ
ｏｌ）を加えて、室温で２０分攪拌した。次に、溶液を
９０℃で１９時間攪拌した後室温に戻し、エーテル２５
０ｍｌと水１５０ｍｌを加えて攪拌し分液した。分液
後、有機層を１２５ｍｌの水で４回洗浄し、次に５％の
希塩酸１２５ｍｌで２回、５０ｍｌの水で２回、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液１２５ｍｌで１回、最後に、飽
和食塩水１２５ｍｌで洗浄した。得られた有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、残渣を
トルエン／アセトニトリル＝３／１混合液（溶媒比、以
下同様）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製することにより、標題化合物を２．
５１ｇ得た。収率８３％。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】（Ｒ）−２−ジフェニルホスフィノ−２′
−ヒドロキシ−１，１′−ビナフチルの合成〔以後「化
合物ＩＩＩ」略記する〕 ５０ｍｌの３つ口フラスコに化合物〔ＩＩ〕４００ｍｇ
（０．６６４ｍｍｏｌ）をキシレン２２ｍｌに溶解さ
せ、この中にトリエチルアミン１．２１ｇ（１２ｍｍｏ
ｌ）とトリクロロシラン１．６２ｇ（１２ｍｍｏｌ）を
加えた。この混合液を１２０℃で１７時間攪拌した。反
応液の温度を室温まで戻した後、３５％の水酸化ナトリ
ウム４．４ｍｌを注意深く加え、更に２時間攪拌した後
分液した。分液後、有機層を３０ｍｌの飽和食塩水で２
回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下留去することによって粗生成物を得た。この粗生
成物をテトラヒドロフラン７ｍｌに溶解し、この中に、
水酸化リチウム３３５ｍｇ（７．９８ｍｍｏｌ）を２．
４ｍｌの水に溶かした水溶液を加え、室温で１５時間攪
拌した。エーテル５０ｍｌと５％希塩酸１５ｍｌを加え
て分液し、有機層を２回水で洗浄してから無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、残渣をヘキサン
／酢酸エチル＝５／１の混合液を展開溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより標
題化合物１５３ｍｇを得た。収率５１％。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３２】（Ｓ）−１，１′−ビナフタレン−２，
２′−ジイルジオキシクロロホスフィンの合成〔以後
「化合物ＩＶ」と略記する〕 アルゴン気流下、５０ｍｌのフラスコに（Ｓ）−１，
１′−ビ−２−ナフトール４．９４ｇ（１７．３ｍｍｏ
ｌ）と三塩化リン１１３ｇ（０．８３ｍｏｌ）を加え、
４時間加熱還流した後、室温に戻した未反応の三塩化リ
ンは減圧下に留去して白色結晶の表記化合物５．５６ｇ
を得た。収率９２％。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３３】（Ｒ）−２−ジフェニルホスフィノ−１，
１′−ビナフタレン−２′−イルオキシ−（（Ｓ）−
１，１′−ビナフタレン−２，２′−ジイルジオキシ）
ホスフィンの合成〔（Ｒ，Ｓ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳと略
記する〕 １００ｍｌのフラスコに化合物〔ＩＩＩ〕４３０ｍｇ
（０．９４６ｍｍｏｌ）と化合物〔ＩＶ〕６６２ｍｇ
（１．８９ｍｍｏｌ）をエーテル３０ｍｌに溶解し、こ
の中に０℃にてトリエチルアミン１９１ｍｇ（１．８９
ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した後、２０ｍ
ｌの水を加えて反応を停止させた。分液後得られた有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し粗生
成物を得た。このものを、ヘキサン／ジクロロメタン＝
１／１の混合液を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して（Ｒ，Ｓ）−ＢＩＮＡＰＨＯ
Ｓを白色結晶として７１２ｍｇ得た。収率９８％。３１ Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：−１４．６（ｄ，Ｊ
＝２９．０Ｈｚ），１４４．７（ｄ，Ｊ＝２９．０Ｈ
ｚ）
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３５】実施例２ （Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）−１，１′−ビ
ナフタレン−２′−イルオキシ−（（Ｒ）−１，１′−
ビナフタレン−２，２′−ジイルジオキシ）ホスフィン
の合成〔以後、（Ｒ，Ｒ）−ＢＩＮＡＰＨＯＳと略記す
る〕 １００ｍｌのフラスコにエーテル３０ｍｌを入れ、これ
に化合物〔ＩＩＩ〕２０９ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）と
（Ｒ）−１，１′−ビナフタレン−２，２′−ジイルジ
オキシクロロホスフィン３２２ｍｇ（０．９２ｍｍｏ
ｌ）を溶解した。この溶液に０℃にてトリエチルアミン
１９１ｍｇ（１．８９ｍｍｏｌ）を加えて、（Ｒ，Ｓ）
−ＢＩＮＡＰＨＯＳの場合と同様に操作し、標題化合物
を３５３ｍｇ得た。収率９６．３％。３１ Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：−１８．０（ｄ，Ｊ
＝９．２Ｈｚ），１４０．５（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/14 9279−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 209/48 // Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｂ 7419−4Ｈ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｆ 9/50 9155−4Ｈ 15/00 Ｂ 9155−4Ｈ (72)発明者 玉尾 京子 京都府京都市上京区河原町通丸太町上る出 水町262番地 ベル・メゾン鴨川303号 (72)発明者 真野 聡 京都府京都市左京区一乗寺築田町17番地 藤田マンション208 (72)発明者 雲林 秀徳 東京都大田区蒲田５丁目36番31号 高砂香 料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 富田 哲郎 東京都港区芝浦１丁目２番１号 三菱瓦斯 化学株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（１） ＣＨ2＝ＣＨ−Ｑ （１） （式中、Ｑはハロゲン原子、低級アルキル基、フタルイ
    ミド基、低級アルキルカルボニルオキシ基、シアノ基、
    カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、低
    級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、アセチル
    アミノ基、ベンゾイルアミノ基、モノアルキルアミノ
    基、ジアルキルアミノ基、ベンゾイル基またはハロゲン
    原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換
    されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子、低
    級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されてい
    てもよいナフチル基を示す）で表わされるビニル化合物
    類を、一般式（３−ａ）または（３−ｂ） 〔Ｒｈ（Ｌ）（Ｙ）（Ｘ）〕 （３−ａ） 〔Ｒｈ（Ｌ）（Ｙ）〕（Ｘ） （３−ｂ） 〔式中、Ｌは一般式（４） 【化１】 （Ｒ1およびＲ2は同一または異なって、ハロゲン原子ま
    たは低級アルキル基で置換されていてもよいフェニル基
    を示すか、Ｒ1とＲ2が共同して２価の炭化水素基を示
    し、Ｒ3およびＲ4は同一または異なって、低級アルキル
    基またはハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級ア
    ルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を示す
    か、Ｒ3とＲ4が共同して２価の炭化水素基を示す）で表
    わされるホスフィン化合物を示し、Ｙは一酸化炭素、こ
    れより配位力の弱い単座もしくは二座の中性配位子、オ
    レフィンまたはジエンを示し、Ｘは水素原子、１価の陰
    イオンまたはトリフェニルホスフィンを示すか、あるい
    はＸとＹが一緒になってβ−ジケトナートを示す〕で表
    わされるロジウム−ホスフィン錯体を触媒として用い
    て、ヒドロホルミル化することを特徴とする一般式
    （２） ＯＨＣ−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｑ （２） （式中、Ｑは前記と同じものを示す）で表わされる光学
    活性アルデヒド類の製造法。
  2. 【請求項２】 ビニル化合物類が、酢酸ビニル、Ｎ−ビ
    ニルフタルイミド、塩化ビニル、スチレンまたはアクリ
    ロニトリルである請求項１の製造法。
  3. 【請求項３】 一般式（３−ａ）または（３−ｂ）中の
    ホスフィン化合物のビナフチル骨格が光学活性なＲまた
    はＳ構造を有するホスフィン化合物である請求項１の製
    造法。
JP5052539A 1993-03-12 1993-03-12 光学活性アルデヒド類の製造法 Pending JPH06263681A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5052539A JPH06263681A (ja) 1993-03-12 1993-03-12 光学活性アルデヒド類の製造法
EP19940103675 EP0614870B1 (en) 1993-03-12 1994-03-10 Process for producing optically active aldehydes
DE1994607840 DE69407840T2 (de) 1993-03-12 1994-03-10 Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven Aldehyden
US08/323,492 US5530150A (en) 1993-03-12 1994-10-12 Phosphine compound, complex containing the phosphine compound as ligand, process for producing optically active aldehyde using the phosphine compound or the complex, and 4-[(R)-1'-formylethyl]azetidin-2-one derivatives

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5052539A JPH06263681A (ja) 1993-03-12 1993-03-12 光学活性アルデヒド類の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06263681A true JPH06263681A (ja) 1994-09-20

Family

ID=12917588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5052539A Pending JPH06263681A (ja) 1993-03-12 1993-03-12 光学活性アルデヒド類の製造法

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0614870B1 (ja)
JP (1) JPH06263681A (ja)
DE (1) DE69407840T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2006129628A1 (ja) * 2005-05-31 2009-01-08 株式会社カネカ 光学活性２−置換プロパナール誘導体の製造法
JP2015218173A (ja) * 2014-05-20 2015-12-07 エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ＡＧ ｔ−ブチルオキシカルボニル基を有する新規のモノホスフィット配位子

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19521340A1 (de) * 1995-06-12 1996-12-19 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung von Hydroxybiarylphosphanen und neue Verbindungen aus dieser Stoffgruppe
DE19702025A1 (de) * 1997-01-23 1998-07-30 Studiengesellschaft Kohle Mbh Verwendung perfluoralkylsubstituierter Phosphorverbindungen als Liganden für die homogene Katalyse in überkritischem Kohlendioxid
DE19827232A1 (de) * 1998-06-18 1999-12-23 Basf Ag Katalysator, umfassend einen Komplex eines Metalls der VIII. Nebengruppe auf Basis eines Phosphinitliganden und Verfahren zur Hydroformylierung und Hydrocyanierung
DE10355066A1 (de) 2003-11-25 2005-06-23 Basf Ag Verfahren zur asymmetrischen Synthese
DE102014209533A1 (de) 2014-05-20 2015-12-17 Evonik Degussa Gmbh Gemische von Monophosphitligand und deren Verwendung zur Katalyse einer Hydroformylierungsreaktion
DE102014209534A1 (de) * 2014-05-20 2015-11-26 Evonik Degussa Gmbh Neue Monophosphitliganden mit einer Carbonat-Gruppe

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5360938A (en) * 1991-08-21 1994-11-01 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Asymmetric syntheses

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2006129628A1 (ja) * 2005-05-31 2009-01-08 株式会社カネカ 光学活性２−置換プロパナール誘導体の製造法
JP2015218173A (ja) * 2014-05-20 2015-12-07 エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ＡＧ ｔ−ブチルオキシカルボニル基を有する新規のモノホスフィット配位子

Also Published As

Publication number Publication date
EP0614870A2 (en) 1994-09-14
EP0614870A3 (en) 1994-11-09
DE69407840D1 (de) 1998-02-19
DE69407840T2 (de) 1998-05-14
EP0614870B1 (en) 1998-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3604410B2 (ja) ω−ホルミルアルカンカルボン酸エステルの製造方法
JP3313805B2 (ja) ホスフィン化合物およびこれを配位子とする遷移金属−ホスフィン錯体
US5530150A (en) Phosphine compound, complex containing the phosphine compound as ligand, process for producing optically active aldehyde using the phosphine compound or the complex, and 4-[(R)-1'-formylethyl]azetidin-2-one derivatives
JP2733880B2 (ja) 光学活性三級ホスフィン化合物およびこれを配位子とする遷移金属錯体
JPH06263681A (ja) 光学活性アルデヒド類の製造法
EP0684249B1 (en) Phosphine compounds, complexes containing the phosphine compounds as ligands, and process for producing optically active aldehydes using the phosphine compounds or complexes
JPH08245664A (ja) 光学活性非対称ジホスフィン及び該化合物の存在下にて光学活性体を得る方法
US4781868A (en) Method for making unsaturated aliphatic carboxylic acid anhydrides
JP3277065B2 (ja) ホスフィン化合物およびそれを配位子とする錯体、それらを使用する光学活性アルデヒドの製造方法ならびに４−［（ｒ）−１’−ホルミルエチル］アゼチジン−２−オン誘導体
Zhu et al. Palladium‐catalyzed selective alkoxycarbonylation of N‐vinylphthalimide
JPH06279345A (ja) ヒドロキシブチルアルデヒドの製法
EP0081149A1 (en) New steroidal chiral phosphines, methods for their preparation, catalytic systems containing them and catalytic processes in which they are used
JP4578592B2 (ja) ３−ホルミルテトラヒドロフランの製造方法
JP2014189525A (ja) 直鎖状ジアルデヒドの製造方法
JP3699989B2 (ja) ホスフィニル基含有ｎ−置換アミノ酸誘導体及びその製造方法
JP2002508345A (ja) 不斉水素化
JPH10218830A (ja) カルボン酸エステル又はカルボン酸の製造方法
JP2908919B2 (ja) 光学活性有機ケイ素化合物の製造方法
US4328362A (en) Conversion of acetic anhydride to ethylidene diacetate
EP0065323B1 (en) Process for the co-production of dicarboxylates and acids
JP4157968B2 (ja) ホスフィン酸アルケニル及びその製造方法
JPS59157053A (ja) モノエステルの製造法
WO1994020510A1 (en) Homogeneous bimetallic hydroformylation catalysts and processes utilizing these catalysts for conducting hydroformylation reactions
JP3572352B2 (ja) アリルホスホン酸エステル化合物及びその製造方法
JP3912808B2 (ja) アルカトリエン類の製造方法