JPH06261788A - 光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法 - Google Patents
光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法Info
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- JPH06261788A JPH06261788A JP5077469A JP7746993A JPH06261788A JP H06261788 A JPH06261788 A JP H06261788A JP 5077469 A JP5077469 A JP 5077469A JP 7746993 A JP7746993 A JP 7746993A JP H06261788 A JPH06261788 A JP H06261788A
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- carbon atoms
- formula
- alkyl group
- trialkylsilylethynyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Enzymes And Modification Thereof (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−
２−シクロアルケノールの新規な製造方法、及びそれを
用いたビンカミンの新規な製造方法を提供する。 【構成】 ラセミ体にリパーゼを作用し光学分割するこ
とにより光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２
−シクロアルケノールを得る。 【効果】 本発明によれば、温和な条件で光学活性体が
製造できる。すなわち、危険な化合物を使用しないで、
室温で全ての反応が行え、効率よく両鏡像体とも製造す
ることができる。本発明方法によれば光学活性体から高
い収率でビンカミンが得られる。
２−シクロアルケノールの新規な製造方法、及びそれを
用いたビンカミンの新規な製造方法を提供する。 【構成】 ラセミ体にリパーゼを作用し光学分割するこ
とにより光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２
−シクロアルケノールを得る。 【効果】 本発明によれば、温和な条件で光学活性体が
製造できる。すなわち、危険な化合物を使用しないで、
室温で全ての反応が行え、効率よく両鏡像体とも製造す
ることができる。本発明方法によれば光学活性体から高
い収率でビンカミンが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学活性２−トリアル
キルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの新規な
製造方法、及びそれを用いたビンカミンの新規な製造方
法に関するものである。
キルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの新規な
製造方法、及びそれを用いたビンカミンの新規な製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学活性２−トリアルキルシリルエチニ
ル−２−シクロアルケノールは有用化合物の合成原料と
して価値のあるものである。例えば（＋）−２−トリメ
チルシリルエチニル−２−シクロアルケノールを出発物
質に用いた１，２５−ジヒドロキシカルシフェロールの
製造方法が開示されている（カバら、テトラヘドロン・
レターズ、32、2343（1991))。
ル−２−シクロアルケノールは有用化合物の合成原料と
して価値のあるものである。例えば（＋）−２−トリメ
チルシリルエチニル−２−シクロアルケノールを出発物
質に用いた１，２５−ジヒドロキシカルシフェロールの
製造方法が開示されている（カバら、テトラヘドロン・
レターズ、32、2343（1991))。
【０００３】光学活性２−トリアルキルシリルエチニル
−２−シクロアルケノールの製造方法としては、たとえ
ばシクロペンテノンから光学活性オギザザボロリジン触
媒を用いた不斉還元により得る方法が開示されている
（カバら、テトラヘドロン・レターズ、32、2343（199
1))。
−２−シクロアルケノールの製造方法としては、たとえ
ばシクロペンテノンから光学活性オギザザボロリジン触
媒を用いた不斉還元により得る方法が開示されている
（カバら、テトラヘドロン・レターズ、32、2343（199
1))。
【０００４】
【化２３】
【０００５】また、ビンカミンの製造法としてクーエン
らの方法（ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー、86、2946（1964))、およびハーマン
らの方法（ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー、96、3702（1974))が知られている。
らの方法（ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー、86、2946（1964))、およびハーマン
らの方法（ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー、96、3702（1974))が知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カバら
の方法は触媒の調製が難しい、ボランＴＨＦ錯体の危険
性が高い、反応を完全な禁水系で行う必要がある、など
工業的に不利な製造方法である。また、クーエンらの方
法ではラセミ体が得られるのみであり、ハーマンらの方
法は極めて効率が悪い。
の方法は触媒の調製が難しい、ボランＴＨＦ錯体の危険
性が高い、反応を完全な禁水系で行う必要がある、など
工業的に不利な製造方法である。また、クーエンらの方
法ではラセミ体が得られるのみであり、ハーマンらの方
法は極めて効率が悪い。
【０００７】このため温和な条件で実施できる新規な光
学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロア
ルケノール、及びビンカミンの製造方法が望まれてい
た。本発明者らはかかる問題点を解決するために鋭意努
力した結果、ラセミ体の２−トリアルキルシリルエチニ
ル−２−シクロアルケノール、ないしラセミ体の３−ア
ルカノイルオキシ−２−トリアルキルシリルエチニルシ
クロアルケンにリパーゼを作用し光学分割することによ
り光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シク
ロアルケノールが好適に得られることを見いだし本発明
を完成するに至った。
学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロア
ルケノール、及びビンカミンの製造方法が望まれてい
た。本発明者らはかかる問題点を解決するために鋭意努
力した結果、ラセミ体の２−トリアルキルシリルエチニ
ル−２−シクロアルケノール、ないしラセミ体の３−ア
ルカノイルオキシ−２−トリアルキルシリルエチニルシ
クロアルケンにリパーゼを作用し光学分割することによ
り光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シク
ロアルケノールが好適に得られることを見いだし本発明
を完成するに至った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第一
は、次式（1)：
は、次式（1)：
【０００９】
【化２４】
【００１０】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を、Ａは
水素原子または炭素数２から１１のアシル基を示す。）
で表される（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−
２−シクロアルケノールあるいは（±）−３−アルカノ
イルオキシ−２−トリアルキルシリルエチニルシクロア
ルケンをリパーゼの存在下でエステル化あるいは加水分
解に付し、生成した光学活性アルコールの立体配置を反
転させることを特徴とする光学活性２−トリアルキルシ
リルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法であ
る。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を、Ａは
水素原子または炭素数２から１１のアシル基を示す。）
で表される（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−
２−シクロアルケノールあるいは（±）−３−アルカノ
イルオキシ−２−トリアルキルシリルエチニルシクロア
ルケンをリパーゼの存在下でエステル化あるいは加水分
解に付し、生成した光学活性アルコールの立体配置を反
転させることを特徴とする光学活性２−トリアルキルシ
リルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法であ
る。
【００１１】また、本発明の第二は、次式（2)：
【００１２】
【化２５】
【００１３】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を示
す。）で表される（±）−２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールにリパーゼ、エステルを
作用し次式（3)で示される（−）−アルコール：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を示
す。）で表される（±）−２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールにリパーゼ、エステルを
作用し次式（3)で示される（−）−アルコール：
【００１４】
【化２６】
【００１５】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を示
す。）および次式（4)で示される、対掌体の（＋）−エ
ステル：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を示
す。）および次式（4)で示される、対掌体の（＋）−エ
ステル：
【００１６】
【化２７】
【００１７】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１か
ら10のアルキル基を示す。）の混合物としたのち、この
混合物にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフ
ォスフィン、酸を作用し、前記式（4)で示される（＋）
−エステルとし、更に脱エステル化することを特徴とす
る、式（5)：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１か
ら10のアルキル基を示す。）の混合物としたのち、この
混合物にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフ
ォスフィン、酸を作用し、前記式（4)で示される（＋）
−エステルとし、更に脱エステル化することを特徴とす
る、式（5)：
【００１８】
【化２８】
【００１９】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を示
す。）で示される（＋）−２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールの製造方法である。ま
た、本発明の第三は、次式（6)：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４のアルキル基を示
す。）で示される（＋）−２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールの製造方法である。ま
た、本発明の第三は、次式（6)：
【００２０】
【化２９】
【００２１】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１か
ら10のアルキル基を示す。）で表される（±）−３−ア
ルカノイルオキシ−２−トリアルキルシリルエチニルシ
クロアルケンにリパーゼ、緩衝溶液を作用し前記式（5)
で示される（＋）−アルコールおよび次式（7)で示され
る、対掌体の（−）−エステル：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１か
ら10のアルキル基を示す。）で表される（±）−３−ア
ルカノイルオキシ−２−トリアルキルシリルエチニルシ
クロアルケンにリパーゼ、緩衝溶液を作用し前記式（5)
で示される（＋）−アルコールおよび次式（7)で示され
る、対掌体の（−）−エステル：
【００２２】
【化３０】
【００２３】（ただし上式において、ｎは１から４を、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１か
ら10のアルキル基を示す。）の混合物としたのち、この
混合物にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフ
ォスフィン、酸を作用し、前記式（7)の（−）−エステ
ルとし、更に脱エステル化することを特徴とする、前記
式（3)で示される（−）−２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールの製造方法である。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１か
ら10のアルキル基を示す。）の混合物としたのち、この
混合物にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフ
ォスフィン、酸を作用し、前記式（7)の（−）−エステ
ルとし、更に脱エステル化することを特徴とする、前記
式（3)で示される（−）−２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールの製造方法である。
【００２４】また、本発明の第四は、前記式（2)で表さ
れる（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シ
クロアルケノールにリパーゼ、エステルを作用し前記式
（3)で示される（−）−アルコールおよび前記式（4)で
示される、対掌体の（＋）−エステルの混合物としたの
ち、この混合物にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフ
ェニルフォスフィン、酸を作用し、前記式（4)の（＋）
−エステルとすることを特徴とする（＋）−２−トリア
ルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造
方法である。
れる（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シ
クロアルケノールにリパーゼ、エステルを作用し前記式
（3)で示される（−）−アルコールおよび前記式（4)で
示される、対掌体の（＋）−エステルの混合物としたの
ち、この混合物にアゾジカルボン酸ジアルキル、トリフ
ェニルフォスフィン、酸を作用し、前記式（4)の（＋）
−エステルとすることを特徴とする（＋）−２−トリア
ルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造
方法である。
【００２５】また、本発明の第五は、前記式（6)で表さ
れる（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリアルキ
ルシリルエチニルシクロアルケンにリパーゼ、緩衝溶液
を作用し前記式（5)で示される（＋）−アルコールおよ
び前記式（7)で示される、対掌体の（−）−エステルの
混合物としたのち、この混合物にアゾジカルボン酸ジア
ルキル、トリフェニルフォスフィン、酸を作用し、前記
式（7)の（−）−エステルとすることを特徴とする
（−）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールの製造方法である。
れる（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリアルキ
ルシリルエチニルシクロアルケンにリパーゼ、緩衝溶液
を作用し前記式（5)で示される（＋）−アルコールおよ
び前記式（7)で示される、対掌体の（−）−エステルの
混合物としたのち、この混合物にアゾジカルボン酸ジア
ルキル、トリフェニルフォスフィン、酸を作用し、前記
式（7)の（−）−エステルとすることを特徴とする
（−）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールの製造方法である。
【００２６】また、本発明の第六は、前記式（2)で表さ
れる（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シ
クロアルケノールにリパーゼ、エステルを作用し前記式
（3)で示される（−）−アルコールおよび前記式（4)で
示される、対掌体の（＋）−エステルとすることを特徴
とする光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−
シクロアルケノールの製造方法である。
れる（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シ
クロアルケノールにリパーゼ、エステルを作用し前記式
（3)で示される（−）−アルコールおよび前記式（4)で
示される、対掌体の（＋）−エステルとすることを特徴
とする光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−
シクロアルケノールの製造方法である。
【００２７】また、本発明の第七は、前記式（6)で表さ
れる（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリアルキ
ルシリルエチニルシクロアルケンにリパーゼ、緩衝溶液
を作用し前記式（5)で示される（＋）−アルコールおよ
び前記式（7)で示される対掌体の（−）−エステルとす
ることを特徴とする光学活性２−トリアルキルシリルエ
チニル−２−シクロアルケノールの製造方法である。
れる（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリアルキ
ルシリルエチニルシクロアルケンにリパーゼ、緩衝溶液
を作用し前記式（5)で示される（＋）−アルコールおよ
び前記式（7)で示される対掌体の（−）−エステルとす
ることを特徴とする光学活性２−トリアルキルシリルエ
チニル−２−シクロアルケノールの製造方法である。
【００２８】また、本発明の第八は、光学活性２−トリ
アルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールにア
ゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフォスフィ
ン、酸を作用しエステル化することを特徴とする光学活
性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケ
ノールの立体配置の反転方法である。また、本発明の第
九は、光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−
シクロアルケノールを出発物質に用いることを特徴とす
る次式（8)：
アルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールにア
ゾジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフォスフィ
ン、酸を作用しエステル化することを特徴とする光学活
性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケ
ノールの立体配置の反転方法である。また、本発明の第
九は、光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−
シクロアルケノールを出発物質に用いることを特徴とす
る次式（8)：
【００２９】
【化３１】
【００３０】で示されるビンカミンの製造方法である。
本発明は次の経路で実施される。まず、ラセミ体の２−
トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノール
（2)にリパーゼの存在下、エステルを作用し（＋）体の
みをエステル化することにより、（−）−アルコール
（3)および（＋）−エステル（4)の混合物が得られる。
本発明は次の経路で実施される。まず、ラセミ体の２−
トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノール
（2)にリパーゼの存在下、エステルを作用し（＋）体の
みをエステル化することにより、（−）−アルコール
（3)および（＋）−エステル（4)の混合物が得られる。
【００３１】ここで使用するリパーゼとしては上記のエ
ステル化能を有するものであればいずれのものでも使用
できるが、特にシュウドモナス菌由来のリパーゼすなわ
ちリパーゼＰＳ、リパーゼＰ、リパーゼＣＥＳ、リパー
ゼＢが好ましい。使用するエステルとしては酢酸アルキ
ル、プロピオン酸アルキルのごとき脂肪酸アルキル、エ
チレングリコールのごときグリコール類、トリアセチ
ン、トリカプロインのごときトリグリセライド、酢酸ビ
ニル、カプロン酸ビニルのごときビニルエステルが使用
できる。中でも反応速度が早い、生成したアルコールが
ホルムアルデヒドとして系外に除外されるという理由か
ら、ビニルエステルの使用が好ましい。
ステル化能を有するものであればいずれのものでも使用
できるが、特にシュウドモナス菌由来のリパーゼすなわ
ちリパーゼＰＳ、リパーゼＰ、リパーゼＣＥＳ、リパー
ゼＢが好ましい。使用するエステルとしては酢酸アルキ
ル、プロピオン酸アルキルのごとき脂肪酸アルキル、エ
チレングリコールのごときグリコール類、トリアセチ
ン、トリカプロインのごときトリグリセライド、酢酸ビ
ニル、カプロン酸ビニルのごときビニルエステルが使用
できる。中でも反応速度が早い、生成したアルコールが
ホルムアルデヒドとして系外に除外されるという理由か
ら、ビニルエステルの使用が好ましい。
【００３２】反応温度は室温で充分であるが温度を変え
ることによって反応時間を短縮することができる。基質
が固体である場合は溶媒が必要である。使用する溶媒と
しては基質を溶解する能力を有するものであればいずれ
のものでもよいがトルエンが好適である。使用するラセ
ミ体の基質（2)のシリル基としてはいずれのトリアルキ
ルシリル基でもよいが、汎用で使用されているトリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基を使用して何等差し支えない。
ることによって反応時間を短縮することができる。基質
が固体である場合は溶媒が必要である。使用する溶媒と
しては基質を溶解する能力を有するものであればいずれ
のものでもよいがトルエンが好適である。使用するラセ
ミ体の基質（2)のシリル基としてはいずれのトリアルキ
ルシリル基でもよいが、汎用で使用されているトリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基を使用して何等差し支えない。
【００３３】使用したリパーゼは濾別し再使用すること
ができる。この様にして得た（−）−アルコール（3)お
よび（＋）−エステル（4)の混合物からそれぞれ（−）
−アルコール（3)、（＋）−エステル（4)を取り出すこ
とによって光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−
２−シクロアルケノールおよびそのエステルを得ること
ができる。しかしながら、上記混合物に酸、トリフェニ
ルフォスフィン、アゾジカルボン酸ジエステルを加え
（−）−アルコール（3)のみ立体反転を伴うエステル化
に供することによって上記混合物全てを（＋）−エステ
ル（4)に変換することができる。
ができる。この様にして得た（−）−アルコール（3)お
よび（＋）−エステル（4)の混合物からそれぞれ（−）
−アルコール（3)、（＋）−エステル（4)を取り出すこ
とによって光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−
２−シクロアルケノールおよびそのエステルを得ること
ができる。しかしながら、上記混合物に酸、トリフェニ
ルフォスフィン、アゾジカルボン酸ジエステルを加え
（−）−アルコール（3)のみ立体反転を伴うエステル化
に供することによって上記混合物全てを（＋）−エステ
ル（4)に変換することができる。
【００３４】ここで使用するアゾジカルボン酸ジエステ
ルとしては、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカル
ボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、ア
ゾジカルボン酸ジメチルが好適である。（＋）−エステ
ル（4)は塩基性条件下加水分解ないし還元的脱エステル
化により（＋）−アルコール（5)へと変換できる。
ルとしては、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカル
ボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、ア
ゾジカルボン酸ジメチルが好適である。（＋）−エステ
ル（4)は塩基性条件下加水分解ないし還元的脱エステル
化により（＋）−アルコール（5)へと変換できる。
【００３５】更に、ラセミ体の３−アルカノイルオキシ
−２−トリアルキルシリルエチニルシクロアルケン（6)
にリパーゼの存在下、水を作用し（＋）体のみを加水分
解することにより（＋）−アルコール（5)および（−）
−エステル（7)の混合物が得られる。ここで使用するリ
パーゼとしては上記の加水分解能を有するものであれば
いずれのものでも使用できるが、特にシュウドモナス菌
由来のリパーゼすなわちリパーゼＰＳ、リパーゼＰ、リ
パーゼＣＥＳ、リパーゼＢが好ましい。
−２−トリアルキルシリルエチニルシクロアルケン（6)
にリパーゼの存在下、水を作用し（＋）体のみを加水分
解することにより（＋）−アルコール（5)および（−）
−エステル（7)の混合物が得られる。ここで使用するリ
パーゼとしては上記の加水分解能を有するものであれば
いずれのものでも使用できるが、特にシュウドモナス菌
由来のリパーゼすなわちリパーゼＰＳ、リパーゼＰ、リ
パーゼＣＥＳ、リパーゼＢが好ましい。
【００３６】反応温度は室温で充分であるが温度を変え
ることによって反応時間を短縮することができる。反応
系中はｐＨ７前後であることが好ましい。ｐＨの調整に
は緩衝溶液を用いることが好適である。反応時間を短縮
するために、反応溶液中に水と混和する有機溶媒を適当
量混合することが好ましい。混合する有機溶媒としては
アセトンが好適である。
ることによって反応時間を短縮することができる。反応
系中はｐＨ７前後であることが好ましい。ｐＨの調整に
は緩衝溶液を用いることが好適である。反応時間を短縮
するために、反応溶液中に水と混和する有機溶媒を適当
量混合することが好ましい。混合する有機溶媒としては
アセトンが好適である。
【００３７】この様にして得た（＋）−アルコール（5)
および（−）−エステル（7)の混合物からそれぞれ
（＋）−アルコール（5)、（−）−エステル（7)を取り
出すことによって光学活性２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールおよびそのエステルを得
ることができる。しかしながら上記混合物に酸、トリフ
ェニルフォスフィン、アゾジカルボン酸ジエステルを加
え（＋）−アルコール（5)のみ立体反転を伴うエステル
化に供することによって上記混合物全てを（−）−エス
テル（7)に変換することができる。
および（−）−エステル（7)の混合物からそれぞれ
（＋）−アルコール（5)、（−）−エステル（7)を取り
出すことによって光学活性２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロアルケノールおよびそのエステルを得
ることができる。しかしながら上記混合物に酸、トリフ
ェニルフォスフィン、アゾジカルボン酸ジエステルを加
え（＋）−アルコール（5)のみ立体反転を伴うエステル
化に供することによって上記混合物全てを（−）−エス
テル（7)に変換することができる。
【００３８】ここで使用するアゾジカルボン酸ジエステ
ルとしては、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカル
ボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、ア
ゾジカルボン酸ジメチルが好適である。（−）−エステ
ル（7)は塩基性条件下加水分解ないし還元的脱エステル
化により（−）−アルコール（3)へと変換できる。
ルとしては、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカル
ボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、ア
ゾジカルボン酸ジメチルが好適である。（−）−エステ
ル（7)は塩基性条件下加水分解ないし還元的脱エステル
化により（−）−アルコール（3)へと変換できる。
【００３９】この様にして得られた光学活性２−トリメ
チルシリルエチニル−２−シクロアルケノール（3)ない
し（5)の光学純度は再結晶を行うことにより簡単に99％
ee以上とすることができる。再結晶溶媒としてはノルマ
ルペンタンが好適である。原料となる（±）−２−トリ
アルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノール（1)
および（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリアル
キルシリルエチニルシクロアルケン（6)は文献に従い次
の経路により好適に合成できる（カバら、テトラヘドロ
ン・レターズ、32、2343（1991))。
チルシリルエチニル−２−シクロアルケノール（3)ない
し（5)の光学純度は再結晶を行うことにより簡単に99％
ee以上とすることができる。再結晶溶媒としてはノルマ
ルペンタンが好適である。原料となる（±）−２−トリ
アルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノール（1)
および（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリアル
キルシリルエチニルシクロアルケン（6)は文献に従い次
の経路により好適に合成できる（カバら、テトラヘドロ
ン・レターズ、32、2343（1991))。
【００４０】
【化３２】
【００４１】すなわち、２−シクロアルカノン（9）を
ヨウ素化（10）、還元して得た２−ヨウ化−２−シクロ
アルケノール（11）とトリアルキルシリルアセチレンを
カップリングすることにより（±）−２−トリアルキル
シリルエチニル−２−シクロアルケノール（2）が得ら
れる。また、これをエステル化することにより（±）−
３−アルカノイルオキシ−２−トリアルキルシリルエチ
ニルシクロペンテン（6）が得られる。
ヨウ素化（10）、還元して得た２−ヨウ化−２−シクロ
アルケノール（11）とトリアルキルシリルアセチレンを
カップリングすることにより（±）−２−トリアルキル
シリルエチニル−２−シクロアルケノール（2）が得ら
れる。また、これをエステル化することにより（±）−
３−アルカノイルオキシ−２−トリアルキルシリルエチ
ニルシクロペンテン（6）が得られる。
【００４２】
【化３３】
【００４３】また光学活性２−トリアルキルシリルエチ
ニル−２−シクロペンタノール((3)においてｎ＝1 のも
の）を出発物質に用いて上記の経路でビンカミン(8) が
製造できる。すなわち、臭化アセタール体（12）とした
のち環化し（13）とする。次にシリル基を除去しエステ
ル基を導入し（14）としたのちアルキン部を環元し（1
5）とする。このものを一担ラクトン体（16）としたの
ち開環し、アミド体（17）とする。アミド体（17）は既
知の方法（高野誠一ら、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカ
ル・ソサエティー・ケミカル・コミュニケーションズ，
156 (1986)) でビンカミン（8）に誘導できる。
ニル−２−シクロペンタノール((3)においてｎ＝1 のも
の）を出発物質に用いて上記の経路でビンカミン(8) が
製造できる。すなわち、臭化アセタール体（12）とした
のち環化し（13）とする。次にシリル基を除去しエステ
ル基を導入し（14）としたのちアルキン部を環元し（1
5）とする。このものを一担ラクトン体（16）としたの
ち開環し、アミド体（17）とする。アミド体（17）は既
知の方法（高野誠一ら、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカ
ル・ソサエティー・ケミカル・コミュニケーションズ，
156 (1986)) でビンカミン（8）に誘導できる。
【００４４】
【発明の効果】本発明の方法により温和な条件で光学活
性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケ
ノールが製造できる。すなわち、危険な化合物を使用し
ない、室温で全ての反応が行える。本発明の方法によれ
ば両鏡像体とも製造することができる。
性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケ
ノールが製造できる。すなわち、危険な化合物を使用し
ない、室温で全ての反応が行える。本発明の方法によれ
ば両鏡像体とも製造することができる。
【００４５】本発明の方法の収率が高い。例えば（±）
−２−トリメチルシリルエチニル−２−シクロペンテノ
ールから（＋）−２−トリメチルシリルエチニル−２−
シクロペンテノールが73.5％の収率で（実施例３）、
（±）−３−アセチルオキシ−２−トリメチルシリルエ
チニルシクロペンテンから（−）−２−トリメチルルシ
リルエチニル−２−シクロペンテノールが75％の収率で
（実施例４）得られる。
−２−トリメチルシリルエチニル−２−シクロペンテノ
ールから（＋）−２−トリメチルシリルエチニル−２−
シクロペンテノールが73.5％の収率で（実施例３）、
（±）−３−アセチルオキシ−２−トリメチルシリルエ
チニルシクロペンテンから（−）−２−トリメチルルシ
リルエチニル−２−シクロペンテノールが75％の収率で
（実施例４）得られる。
【００４６】本発明の方法によれば光学活性２−トリア
ルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールよりビ
ンカミンが効率よく得られる。
ルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールよりビ
ンカミンが効率よく得られる。
【００４７】
【実施例】以下、更に本発明を代表的な実施例により具
体的に説明する。 実施例１．（±）−２−トリメチルシリルエチニル−２
−シクロペンテノール((2)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学分割 （±）−２−トリメチルシリルエチニル−２−シクロペ
ンテノール((2)においてｎが１、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がメ
チル基であるもの）131 ミリグラム（0.726 ミリモル）
のトルエン８ml溶液に酢酸ビニル0.13ミリリットル（1.
45ミリモル）、リパーゼＰＳ（天野製薬社製）73ミリグ
ラムを加え30℃で２日間攪はんした。
体的に説明する。 実施例１．（±）−２−トリメチルシリルエチニル−２
−シクロペンテノール((2)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学分割 （±）−２−トリメチルシリルエチニル−２−シクロペ
ンテノール((2)においてｎが１、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がメ
チル基であるもの）131 ミリグラム（0.726 ミリモル）
のトルエン８ml溶液に酢酸ビニル0.13ミリリットル（1.
45ミリモル）、リパーゼＰＳ（天野製薬社製）73ミリグ
ラムを加え30℃で２日間攪はんした。
【００４８】反応液よりリパーゼＰＳを濾別したのち、
減圧下溶媒を留去し得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィーに付し（＋）−アセテート((４）においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの）77.3
ミリグラム（収率48％）、および（−）−アルコール
((3)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がメチル基である
もの）61.3ミリグラム（収率47％）を得た。（−）−ア
ルコール((3)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル
基であるもの）をノルマルペンタンより再結晶し無色プ
リズム晶を得た。
減圧下溶媒を留去し得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィーに付し（＋）−アセテート((４）においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの）77.3
ミリグラム（収率48％）、および（−）−アルコール
((3)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がメチル基である
もの）61.3ミリグラム（収率47％）を得た。（−）−ア
ルコール((3)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル
基であるもの）をノルマルペンタンより再結晶し無色プ
リズム晶を得た。
【００４９】（＋）−アセテート((4)においてｎが１、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの） ［α］D 27 ＋52.4°（ｃ 1.00, CHCl3) ＩＲνmax （film) cm-1：2960, 2152, 1738.1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3)δ：0.18(s, 9H), 1.89-2.53(m, 4
H), 2.08(s, 3H),5.72-5.79(m, 1H), 6.36-6.39(m, 1
H). ＭＳ m/e：222 （Ｍ+), 207, 162 (100%). Ｈｉ−ＭＳ m/e：実測値 220.1038,計算値 222.1075 (C
12H18O2Si (Ｍ+))
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの） ［α］D 27 ＋52.4°（ｃ 1.00, CHCl3) ＩＲνmax （film) cm-1：2960, 2152, 1738.1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3)δ：0.18(s, 9H), 1.89-2.53(m, 4
H), 2.08(s, 3H),5.72-5.79(m, 1H), 6.36-6.39(m, 1
H). ＭＳ m/e：222 （Ｍ+), 207, 162 (100%). Ｈｉ−ＭＳ m/e：実測値 220.1038,計算値 222.1075 (C
12H18O2Si (Ｍ+))
【００５０】（−）−アルコール((3)においてｎが１、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの） ｍｐ．43℃ ［α］D 30 −19.8°（ｃ 0.58, CHCl3) ＩＲνmax （nujol)cm-1：3358, 2960, 2146.1 Ｈ−ＮＭＲ（CDC13)δ：0.20(s，9H), 1.59-1.95(m, 2
H), 2.18-2.58(m, 3H),4.72-4.90(m, 1H), 6.22-6.28
(m, 1H). ＭＳ m/e:180（Ｍ+), 165, 99(100%)． Ｈｉ−ＭＳ m/e: 実測値 180.0996,計算値 180.0970 (C
10H16OSi（Ｍ+))
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの） ｍｐ．43℃ ［α］D 30 −19.8°（ｃ 0.58, CHCl3) ＩＲνmax （nujol)cm-1：3358, 2960, 2146.1 Ｈ−ＮＭＲ（CDC13)δ：0.20(s，9H), 1.59-1.95(m, 2
H), 2.18-2.58(m, 3H),4.72-4.90(m, 1H), 6.22-6.28
(m, 1H). ＭＳ m/e:180（Ｍ+), 165, 99(100%)． Ｈｉ−ＭＳ m/e: 実測値 180.0996,計算値 180.0970 (C
10H16OSi（Ｍ+))
【００５１】また（−）−アルコール((3)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度
はキラルセルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰ
ＬＣにより99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプ
ロパノール／ヘキサン。上で得た（＋）−アセテート
((4)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基
であるもの）46ミリグラム(0.207ミリモル）のテトラヒ
ドロフラン３ミリリットル溶液に氷冷下水素化リチウム
アルミニウム16ミリグラム(0.430ミリモル）を加え５分
間攪はんした。水、セライト、ジクロロメタンを加え室
温で更に12時間攪はんした。
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度
はキラルセルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰ
ＬＣにより99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプ
ロパノール／ヘキサン。上で得た（＋）−アセテート
((4)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基
であるもの）46ミリグラム(0.207ミリモル）のテトラヒ
ドロフラン３ミリリットル溶液に氷冷下水素化リチウム
アルミニウム16ミリグラム(0.430ミリモル）を加え５分
間攪はんした。水、セライト、ジクロロメタンを加え室
温で更に12時間攪はんした。
【００５２】反応液より不溶物を濾別し、減圧下溶媒を
留去し得られた残留物をカラムクロマトグラフィ−に付
し（＋）−アルコール((5)においてｎが１、Ｒ1、
Ｒ2 、Ｒ3がメチル基であるもの）31.7ミリグラム（収
率85％）を得た。ノルマルヘプタンより再結晶し無色プ
リズム晶を得た。
留去し得られた残留物をカラムクロマトグラフィ−に付
し（＋）−アルコール((5)においてｎが１、Ｒ1、
Ｒ2 、Ｒ3がメチル基であるもの）31.7ミリグラム（収
率85％）を得た。ノルマルヘプタンより再結晶し無色プ
リズム晶を得た。
【００５３】 ｍｐ．43.5℃, ［α］D 30 ＋19.5°（ｃ 0.59 ，CHC13) また、本化合物のスペクトルデータは先に合成した
（−）−アルコール((3)において、ｎが１、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3 がメチル基であるもの）のそれと完全に一致した。
また（＋）−アルコール((5)においてｎが１、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度はキラル
セルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰＬＣによ
り99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプロパノー
ル／ヘキサン。
（−）−アルコール((3)において、ｎが１、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3 がメチル基であるもの）のそれと完全に一致した。
また（＋）−アルコール((5)においてｎが１、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度はキラル
セルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰＬＣによ
り99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプロパノー
ル／ヘキサン。
【００５４】実施例２．（±）−３−アセトキシ−２−
トリメチルシリルエチニルシクロペンテン((6)において
ｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの）
の光学分割 （±）−３−アセトキシ−２−トリメチルシリルエチニ
ルシクロペンテン((6)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの）81.7ミリグラム（0.3
68 ミリモル）、0.1 Ｎリン酸緩衝液４ミリリットル、
アセトン0.5 ミリリットル、リパーゼＰＳ（天野製薬社
製）37ミリグラムの混合物を30℃で２日間攪はんした。
トリメチルシリルエチニルシクロペンテン((6)において
ｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの）
の光学分割 （±）−３−アセトキシ−２−トリメチルシリルエチニ
ルシクロペンテン((6)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4 がメチル基であるもの）81.7ミリグラム（0.3
68 ミリモル）、0.1 Ｎリン酸緩衝液４ミリリットル、
アセトン0.5 ミリリットル、リパーゼＰＳ（天野製薬社
製）37ミリグラムの混合物を30℃で２日間攪はんした。
【００５５】エーテルを加え抽出したのち水、飽和食塩
水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水
硫酸マグネシウムを濾別したのち、減圧下溶媒を留去し
得られた残留物をカラムクロマトグラフィーに付し
（−）−アセテート((7)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4 がメチル基であるもの）37.7ミリグラム（収率4
6％）、および（＋）−アルコール((5)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）28.5ミリグ
ラム（収率43％）を得た。
水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水
硫酸マグネシウムを濾別したのち、減圧下溶媒を留去し
得られた残留物をカラムクロマトグラフィーに付し
（−）−アセテート((7)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4 がメチル基であるもの）37.7ミリグラム（収率4
6％）、および（＋）−アルコール((5)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）28.5ミリグ
ラム（収率43％）を得た。
【００５６】（＋）−アルコール((5)においてｎが１、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）をノルマルペン
タンより再結晶し無色プリズム晶を得た。（−）−アセ
テート((7)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメ
チル基であるもの） ［α］D 29 −53.6°（c 1.08, CHC13) 各種スペクトルデータは実施例１で得たそれと完全に一
致した。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）をノルマルペン
タンより再結晶し無色プリズム晶を得た。（−）−アセ
テート((7)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメ
チル基であるもの） ［α］D 29 −53.6°（c 1.08, CHC13) 各種スペクトルデータは実施例１で得たそれと完全に一
致した。
【００５７】（＋）−アルコール((5)においてｎが１、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの） ｍｐ．43.5℃ ［α］D 32 ＋19.5°（c 0.80, CHC13) 各種スペクトルデータは実施例1で得たそれと完全に一
致した。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの） ｍｐ．43.5℃ ［α］D 32 ＋19.5°（c 0.80, CHC13) 各種スペクトルデータは実施例1で得たそれと完全に一
致した。
【００５８】また（＋）−アルコール((5)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度
はキラルセルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰ
ＬＣにより99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプ
ロパノール／ヘキサン。上で得た（−）−アセテート
((7)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基
であるもの）43.9ミリグラム（0.198 ミリモル）を実施
例１と同様な方法で還元し（−）−アルコール((3)にお
いてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）3
0.6ミリグラム（収率86％）を得た。ノルマルペンタン
より再結晶し無色プリズム晶を得た。
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度
はキラルセルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰ
ＬＣにより99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプ
ロパノール／ヘキサン。上で得た（−）−アセテート
((7)においてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4 がメチル基
であるもの）43.9ミリグラム（0.198 ミリモル）を実施
例１と同様な方法で還元し（−）−アルコール((3)にお
いてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）3
0.6ミリグラム（収率86％）を得た。ノルマルペンタン
より再結晶し無色プリズム晶を得た。
【００５９】 ｍｐ．43.5℃，［α］D 29 −19.4°（c 1.19, CHC13) また（−）−アルコール((3)においてｎが１、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度はキラル
セルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰＬＣによ
り99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプロパノー
ル／ヘキサン。
Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の光学純度はキラル
セルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨＰＬＣによ
り99％以上と決定した。溶媒２ｖ／ｖ％イソプロパノー
ル／ヘキサン。
【００６０】実施例３．（＋）−２−トリメチルシリル
エチニル−２−シクロペンテノール((5)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の合成 （±）−２−トリメチルシリルエチニル−２−シクロペ
ンテノール((2)においてｎが１、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がメ
チル基であるもの）43ミリグラム（0.238 ミリモル）の
トルエン３ml溶液に酢酸ビニル40ミリグラム（0.476 ミ
リモル）、リパーゼＰＳ（天野製薬社製）24ミリグラム
を加え30℃で５日間攪はんした。
エチニル−２−シクロペンテノール((5)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の合成 （±）−２−トリメチルシリルエチニル−２−シクロペ
ンテノール((2)においてｎが１、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がメ
チル基であるもの）43ミリグラム（0.238 ミリモル）の
トルエン３ml溶液に酢酸ビニル40ミリグラム（0.476 ミ
リモル）、リパーゼＰＳ（天野製薬社製）24ミリグラム
を加え30℃で５日間攪はんした。
【００６１】反応液よりリパーゼＰＳを濾別したのち、
濾液にトリフェニルフォスフィン49ミリグラム（0.190
ミリモル）、酢酸11ミリグラム（0.190ミリモル）、ア
ゾジカルボン酸ジイソプロピル38ミリグラム（0.190ミ
リモル）を順次加え室温で１時間攪はんした。減圧下溶
媒を留去し得られた残留物を実施例１、２の方法と同様
に還元し、更にカラムクロマトグラフィーに付し（＋）
−アルコール((5)においてｎが１、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 が
メチル基であるもの）38.6ミリグラム（収率91％）を得
た。キラルセルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨ
ＰＬＣによりこのものの光学純度が84.2％eeであること
がわかった。溶媒２ｖ／ｖ％イソプロパノール／ヘキサ
ン。
濾液にトリフェニルフォスフィン49ミリグラム（0.190
ミリモル）、酢酸11ミリグラム（0.190ミリモル）、ア
ゾジカルボン酸ジイソプロピル38ミリグラム（0.190ミ
リモル）を順次加え室温で１時間攪はんした。減圧下溶
媒を留去し得られた残留物を実施例１、２の方法と同様
に還元し、更にカラムクロマトグラフィーに付し（＋）
−アルコール((5)においてｎが１、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 が
メチル基であるもの）38.6ミリグラム（収率91％）を得
た。キラルセルＯＪ（ダイセル工業社製）を使用したＨ
ＰＬＣによりこのものの光学純度が84.2％eeであること
がわかった。溶媒２ｖ／ｖ％イソプロパノール／ヘキサ
ン。
【００６２】更に（＋）−アルコール((5)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）をノルマル
ペンタンより再結晶し無色プリズム晶として光学純度99
％以上の（＋）−アルコール((5)においてｎが１、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がメチル基であるもの）31.5ミリグラ
ム（収率73.4％）を得た。 ｍｐ．43.5℃、［α］D 30 ＋19.5°（c 0.59, CHC13) また、各種スペクトルデ−タは実施例１で得たそれと完
全に一致した。
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）をノルマル
ペンタンより再結晶し無色プリズム晶として光学純度99
％以上の（＋）−アルコール((5)においてｎが１、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がメチル基であるもの）31.5ミリグラ
ム（収率73.4％）を得た。 ｍｐ．43.5℃、［α］D 30 ＋19.5°（c 0.59, CHC13) また、各種スペクトルデ−タは実施例１で得たそれと完
全に一致した。
【００６３】実施例４. （−）−２−トリメチルシリル
エチニル−２−シクロペンテノール((3)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の合成 （±）−３−アセトキシ−２−トリメチルシリルエチニ
ルシクロペンテン((6)において、ｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4 がメチル基であるもの）80ミリグラム（0.36ミ
リモル）、0.1 Ｎリン酸緩衝液４ミリリットル、アセト
ン0.5 ミリリットル、リパーゼＰＳ（天野製薬社製）36
ミリグラムの混合物を30℃で２日間攪はんした。
エチニル−２−シクロペンテノール((3)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）の合成 （±）−３−アセトキシ−２−トリメチルシリルエチニ
ルシクロペンテン((6)において、ｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4 がメチル基であるもの）80ミリグラム（0.36ミ
リモル）、0.1 Ｎリン酸緩衝液４ミリリットル、アセト
ン0.5 ミリリットル、リパーゼＰＳ（天野製薬社製）36
ミリグラムの混合物を30℃で２日間攪はんした。
【００６４】エ−テルを加え抽出したのち水、飽和食塩
水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水
硫酸マグネシウムを濾別したのち、減圧下溶媒を留去し
た。得られた残留物にトルエン３ミリリットル、トリフ
ェニルフォスフィン76ミリグラム（0.28ミリモル）、酢
酸17ミリグラム（0.28ミリモル）、アゾジカルボン酸ジ
イソプロピル58ミリグラム（0.28ミリモル）を順次加え
室温で１時間攪はんした。減圧下溶媒を留去し得られた
残留物を実施例１、２の方法と同様に還元し、更にカラ
ムクロマトグラフィーに付し（−）−アルコール((3)に
おいてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）
57ミリグラム（収率87％）を得た。キラルセルＯＪ（ダ
イセル工業社製）を使用したＨＰＬＣによりこのものの
光学純度が89％eeであることがわかった。溶媒２ｖ／ｖ
％イソプロパノール／ヘキサン。
水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水
硫酸マグネシウムを濾別したのち、減圧下溶媒を留去し
た。得られた残留物にトルエン３ミリリットル、トリフ
ェニルフォスフィン76ミリグラム（0.28ミリモル）、酢
酸17ミリグラム（0.28ミリモル）、アゾジカルボン酸ジ
イソプロピル58ミリグラム（0.28ミリモル）を順次加え
室温で１時間攪はんした。減圧下溶媒を留去し得られた
残留物を実施例１、２の方法と同様に還元し、更にカラ
ムクロマトグラフィーに付し（−）−アルコール((3)に
おいてｎが１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）
57ミリグラム（収率87％）を得た。キラルセルＯＪ（ダ
イセル工業社製）を使用したＨＰＬＣによりこのものの
光学純度が89％eeであることがわかった。溶媒２ｖ／ｖ
％イソプロパノール／ヘキサン。
【００６５】更に（−）−アルコール((3)においてｎが
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）をノルマル
ペンタンより再結晶し無色プリズム晶として光学純度99
％以上の（−）−アルコール((3)においてｎが１、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）48ミリグラム
（収率75％）を得た。 ｍｐ．43.5℃、［α］D 28 −19.3°（c 0.57, CHC13) また、各種スペクトルデータは実施例１で得たそれと完
全に一致した。
１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）をノルマル
ペンタンより再結晶し無色プリズム晶として光学純度99
％以上の（−）−アルコール((3)においてｎが１、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 がメチル基であるもの）48ミリグラム
（収率75％）を得た。 ｍｐ．43.5℃、［α］D 28 −19.3°（c 0.57, CHC13) また、各種スペクトルデータは実施例１で得たそれと完
全に一致した。
Claims (9)
- 【請求項１】 次式（1)： 【化１】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を、Ａは水素原子また
は炭素数２から１１のアシル基を示す。）で表される
（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールあるいは（±）−３−アルカノイルオキシ
−２−トリアルキルシリルエチニルシクロアルケンをリ
パーゼの存在下でエステル化あるいは加水分解に付し、
生成した光学活性アルコールの立体配置を反転させるこ
とを特徴とする光学活性２−トリアルキルシリルエチニ
ル−２−シクロアルケノールの製造方法。 - 【請求項２】 次式（2)： 【化２】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）で表される
（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールにリパーゼ、エステルを作用し次式（3)で
示される（−）−アルコール： 【化３】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）および次式
（4)で示される、対掌体の（＋）−エステル： 【化４】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１から10のアルキ
ル基を示す。）の混合物としたのち、この混合物にアゾ
ジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフォスフィン、
酸を作用し、前記式（4)で示される（＋）−エステルと
し、更に脱エステル化することを特徴とする、式（5)： 【化５】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）で示される
（＋）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールの製造方法。 - 【請求項３】 次式（6)： 【化６】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１から10のアルキ
ル基を示す。）で表される（±）−３−アルカノイルオ
キシ−２−トリアルキルシリルエチニルシクロアルケン
にリパーゼ、緩衝溶液を作用し次式 (5)で示される
（＋）−アルコール： 【化７】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）および次式
（7)で示される、対掌体の（−）−エステル： 【化８】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１から10のアルキ
ル基を示す。）の混合物としたのち、この混合物にアゾ
ジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフォスフィン、
酸を作用し、前記式（7)で示される（−）−エステルと
し、更に脱エステル化することを特徴とする、式（3)： 【化９】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）で示される
（−）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールの製造方法。 - 【請求項４】 次式（2)： 【化１０】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）で表される
（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロ
アルケノールにリパーゼ、エステルを作用し次式（3)で
示される（−）−アルコール： 【化１１】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）および次式
（4)で示される、対掌体の（＋）−エステル： 【化１２】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１から10のアルキ
ル基を示す。）の混合物としたのち、この混合物にアゾ
ジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフォスフィン、
酸を作用し、前記式（4)で示される（＋）−エステルと
することを特徴とする（＋）−２−トリアルキルシリル
エチニル−２−シクロアルケノールの製造方法。 - 【請求項５】 次式（6)： 【化１３】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１から10のアルキ
ル基を示す。）で表される（±）−３−アルカノイルオ
キシ−２−トリアルキルシリルエチニルシクロアルケン
にリパーゼ、緩衝溶液を作用し次式（5)で示される
（＋）−アルコール： 【化１４】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４のアルキル基を示す。）および次式
（7)で示される、対掌体の（−）−エステル： 【化１５】 （ただし上式において、ｎは１から４を、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3 は炭素数１から４の、Ｒ4 は炭素数１から10のアルキ
ル基を示す。）の混合物としたのち、この混合物にアゾ
ジカルボン酸ジアルキル、トリフェニルフォスフィン、
酸を作用し、前記式（7)で示される（−）−エステルと
することを特徴とする（−）−２−トリアルキルシリル
エチニル−２−シクロアルケノールの製造方法。 - 【請求項６】 次式（2)： 【化１６】 で表される（±）−２−トリアルキルシリルエチニル−
２−シクロアルケノールにリパーゼ、エステルを作用し
次式（3)で示される（−）−アルコール： 【化１７】 および次式（4)で示される、対掌体の（＋）−エステ
ル： 【化１８】 とすることを特徴とする光学活性２−トリアルキルシリ
ルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法。 - 【請求項７】 次式（6)： 【化１９】 で表される（±）−３−アルカノイルオキシ−２−トリ
アルキルシリルエチニルシクロアルケンにリパーゼ、緩
衝溶液を作用し次式（5)で示される（＋）−アルコー
ル： 【化２０】 および次式（7)で示される対掌体の（−）−エステル： 【化２１】 とすることを特徴とする光学活性２−トリアルキルシリ
ルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法。 - 【請求項８】 光学活性２−トリアルキルシリルエチニ
ル−２−シクロアルケノールにアゾジカルボン酸ジアル
キル、トリフェニルフォスフィン、酸を作用しエステル
化することを特徴とする光学活性２−トリアルキルシリ
ルエチニル−２−シクロアルケノールの立体配置の反転
方法。 - 【請求項９】 光学活性２−トリアルキルシリルエチニ
ル−２−シクロアルケノールを出発物質に用いることを
特徴とする次式（8)： 【化２２】 で示されるビンカミンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5077469A JPH06261788A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5077469A JPH06261788A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06261788A true JPH06261788A (ja) | 1994-09-20 |
Family
ID=13634853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5077469A Pending JPH06261788A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 光学活性２−トリアルキルシリルエチニル−２−シクロアルケノールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06261788A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009232735A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Tadakatsu Bandai | （１ｒ，２ｒ）−１−アシロキシ−３−シクロアルケン又は（１ｓ，２ｓ）−３−シクロアルケン−１−オールの製造方法 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP5077469A patent/JPH06261788A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009232735A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Tadakatsu Bandai | （１ｒ，２ｒ）−１−アシロキシ−３−シクロアルケン又は（１ｓ，２ｓ）−３−シクロアルケン−１−オールの製造方法 |
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