JPH06256754A - 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 溶剤溶解性の良い赤外吸収化合物及びそれを
用いた耐光性、耐熱性の良好な光記録媒体を提供する。 【構成】 式［Ｉ］［II］等で表わされるトリアリール
アミン系アミニウム塩、ジイモニウム塩化合物及びそれ
を含有する光記録媒体。 （Ｒ₁ 〜Ｒ₆ はＨ、一価の有機残基を示し、それぞれ同
じであっても異っていてもよい。また、少なくとも１つ
は、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ の組み合わせ
でＮとともに（置換）５員環、（置換）６員環、（置
換）７員環を形成する。Ｒ₇ 〜Ｒ₉ およびＲ₁₇〜Ｒ₁₉は
Ｈ，ハロゲン基，低級アルキル基，低級アルコキシ基，
ＣＮ，ＯＨを示す。Ｘ^- は陰イオンを示す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は赤外吸収化合物及びそれ
を利用した光記録媒体に関し、特に光ディスクまたは光
カードにおいて、耐光性および耐熱性を向上させる赤外
吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光ディスクおよび光カードは、
基体の上に設けた薄い記録層に形成された光学的に検出
可能な小さな（例えば、約１μｍ）ピツトをらせん状又
は円形および直線状のトラック形態にして高密度情報を
記憶することができる。この様なデイスクに情報を書き
込むには、レーザ感応層の表面に集束したレーザを走査
し、このレーザ光線が照射された表面のみにピツトを形
成し、このピツトをらせん状又は円形および直線状トラ
ツクの形態で形成する。レーザ感応層は、レーザ・エネ
ルギーを吸収して光学的に検出可能なピツトを形成でき
る。例えば、ヒートモード記録方式では、レーザ感応層
は熱エネルギーを吸収し、その個所に蒸発又は融解によ
り小さな凹部（ピツト）を形成できる。また、別のヒー
トモード記録方式では、照射されたレーザ・エネルギー
の吸収により、その個所に光学的に検出可能な濃度差を
有するピツトを形成できる。

【０００３】ここで、反射率の高い記録層として有機色
素薄膜を用いることにより、記録ピツトの光学的コント
ラストを高く設定することができる。例えば、有機色素
薄膜として、レーザ光に対する光吸収の大きいポリメチ
ン系色素，アズレン系色素，シアニン系色素，ピリリウ
ム系色素等を用いると、金属光沢（反射１０〜５０％）
を示す光吸収反射膜が得られ、レーザ記録が可能で、反
射読み出しが可能な光学記録媒体になる。

【０００４】特にレーザ光源として発振波長５００〜９
００ｎｍの半導体レーザを用いると、装置の小型化、低
コスト化が可能となる利点を有している。しかしなが
ら、有機色素薄膜は、一般に熱および光に対して、物質
変化しやすい等の原因から、記録再生特性および保存安
定性が低下するという問題があった。

【０００５】このような有機色素の熱及び光安定性を改
良するため、従来、金属錯体クエンチャーが精力的に研
究されてきた。（例えば、特開昭６３−１５９４号公
報，特開昭６３−９５７６号公報，特開昭６３−３１７
９２号公報，特開昭６３−６７１８７号公報，特開昭６
３−７８７９４号公報，特開昭６３−８２７８９号公報
等）ところが、この系統の化合物の最大の欠点はプラス
チック基板をおさかない汎用有機溶剤への溶解性が低い
ことである。

【０００６】そこで、この金属錯体クエンチャーの有機
溶剤への溶解性を向上させる試みが種々なされている
が、満足な結果が得られているものは極くわずかであ
る。また、トリアリルアミン系のアミニウム塩・ジイモ
ニウム塩系化合物も色素の熱及び光安定化剤として精力
的に検討されてきた。（例えば、特開昭６０−２３６１
３１号公報，特開平１−３８４９０号公報，特開平１−
３１６９３号公報，特開平１−１１３４８２号公報な
ど）

【０００７】これらのアミニウム塩・ジイモニウム塩系
化合物は、金属錯体クエンチャーに比較すると溶剤溶解
性は向上しているが、生産性の向上、特に塗布方式で光
記録媒体を製造する場合の塗布インキのポットライフを
伸ばすという点で、より一層の溶解性の向上が求められ
ていた。

【０００８】また、光記録媒体、特に光カードは携帯性
に優れているので、使用場所はより広範囲でいろいろな
環境条件に耐え得るものが要求されている。例えば、車
で運搬あるいは車内で放置される場合は、高温になる危
険性が大きい。そのため、光カードの記録層の高温度に
おける、より一層の熱安定性の向上が望まれていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の従来の技術の欠点を解決するものであり、著しく溶剤
溶解性の良い赤外吸収化合物及びそれを用いた耐光性お
よび耐熱性に優れた光記録媒体を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式［Ｉ］または［ＩＩ］で表わされる赤外吸収化合物
である。

【００１１】

【化３】

【００１２】（式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₆ は水素原子または一価
の有機残基を示し、それぞれ同じであっても異っていて
もよい。また、少なくとも１つは、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ と
Ｒ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ の組み合わせでＮとともに置換もしく
は末置換の５員環、置換もしくは末置換の６員環、置換
もしくは末置換の７員環を形成する。Ｒ₇ 〜Ｒ₉ は水素
原子，ハロゲン基，低級アルキル基，低級アルコキシ
基，シアノ基または水酸基を示す。Ｘ^- は陰イオンを示
す。）

【００１３】また、本発明は、有機色素薄膜中に、上記
の一般式［Ｉ］または［ＩＩ］で表わされる赤外吸収化
合物を含有することを特徴とする光記録媒体である。

【００１４】さらに、本発明は、下記一般式［ＩＩＩ］
または［ＩＶ］で表わされる赤外吸収化合物である。

【００１５】

【化４】

【００１６】（式中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は水素原子または一価
の有機残基を示し、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆の少なくとも１つは、置
換もしくは末置換のアルコキシアルキル基、置換もしく
は末置換のアルケニル基、置換もしくは末置換のアルキ
ニル基、置換もしくは末置換のシクロアルキル基を示
す。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は各々同じであっても異っていてもよ
い。Ｒ₁₇〜Ｒ₁₉は水素原子，ハロゲン基，低級アルキル
基，低級アルコキシ基，シアノ基または水酸基を示す。
Ｘ^- は陰イオンを示す。）

【００１７】また、本発明は、有機色素薄膜中に、上記
の一般式［ＩＩＩ］または［ＩＶ］で表わされる赤外吸
収化合物を含有することを特徴とする光記録媒体であ
る。

【００１８】以下、本発明を詳細に説明する。まず、本
発明の下記一般式［Ｉ］または［ＩＩ］で示される赤外
吸収化合物について説明する。

【００１９】

【化５】

【００２０】上記一般式［Ｉ］および［ＩＩ］におい
て、Ｒ₁ 〜Ｒ₆ は水素原子または一価の有機残基を示
す。１価の有機残基としては、例えばアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキ
シル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基などを示し、
さらに他のアルキル基、例えば置換アルキル基として
は、例えば２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプ
ロピル，４−ヒドロキシブチル基などのヒドロキシアル
キル基、２−アセトキシエチル基、２−アセトキシプロ
ル基などのアセトキシアルキル基、カルボキシメチル
基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル
基などのカルボキシアルキル基、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル
基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプ
ロピル基、エトキシブチル基、プロポキシメチル基など
のアルコキシアルキル基などを示し、アルケニル基とし
ては、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基など、アラルキル基としては、例えばベンジル基、ｐ
−クロロベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、２−フェ
ニルメチル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニル
プロピル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルエチ
ル基など、アルキニル基としては、例えば、プロパギル
基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基など、シ
クロアルキル基としては、例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基などが好ましい。

【００２１】Ｒ₁ 〜Ｒ₆ は各々異なっていても又は同じ
であってもよい。

【００２２】また、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ
₆ の組み合せでＮとともに置換もしくは末置換の５員
環、置換もしくは末置換の６員環、置換もしくは末置換
の７員環を形成してもよい。置換もしくは末置換の５員
環としてはピロリジン環、置換もしくは末置換の６員環
としてはピペリジン環，モルホリン環，テトラヒドロピ
リジン環，置換もしくは末置換の７員環としてはシクロ
ヘキシアミン環などである。これらの環は、同じであっ
てもまたは異っていてもよい。

【００２３】Ｒ₇ 〜Ｒ₉ は水素原子，ハロゲン基，低級
アルキル基，低級アルコキシ基，シアノ基または水酸基
を示す。Ｒ_７ 〜Ｒ_９ は各々異なっていても又は同じ
であってもよい。

【００２４】Ｘ^- は、塩素イオン，臭素イオン，ヨウ素
イオン，過塩素酸塩イオン，硝酸塩イオン，ベンゼンス
ルホン酸塩イオン，ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン，
メチル硫酸塩イオン，エチル硫酸塩イオン，プロピル硫
酸塩イオン，テトラフルオロホウ酸塩イオン，テトラフ
エニルホウ酸塩イオン，ヘキサフルオロリン酸塩イオ
ン，ベンゼンスルフイン塩酸イオン，酢酸塩イオン，ト
リフルオロ酢塩イオン，プロピオン酢酸塩イオン，安息
香酸塩イオン，シユウ酸塩イオン，コハク酸塩イオン，
マロン酸塩イオン，オレイン酸塩イオン，ステアリン酸
塩イオン，クエン酸塩イオン，一水素二リン酸塩イオ
ン，二水素一リン酸塩イオン，ペンタクロロスズ酸塩イ
オン，クロロスルホン酸塩イオン，フルオロスルホン酸
塩イオン，トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン，ヘ
キサフルオロヒ酸塩イオン，ヘキサフルオロアンチモン
酸塩イオン，モリブテン酸塩イオン，タングステン酸塩
イオン，チタン酸塩イオン，ジルコン酸塩イオンなどの
陰イオンを表わす。

【００２５】本発明の一般式［Ｉ］または［ＩＩ］で示
される赤外吸収化合物の製造方法は、Ｃｈｅｍｉｓｃｈ
ｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ９２巻，２４５頁（１９５９
年）に記載されている様な方法で、該当するトリアリー
ルアミンを過塩素酸銀、ヘキサフルオロアンチモン銀等
で酸化処理することによって容易に得ることができる。
例えば、次の過程により製造することができる。

【００２６】

【化６】

【００２７】上記還元反応により得たアミノ体を選択的
置換化によりアルキル化，アルケニル化，アラルキル
化，アルキニル化，環化などにより置換して最終生成物
を得ることが出来る。Ｒ₁ からＲ₆ が非対称となる場合
には、このアルキル化を多段階的に行う必要があり、コ
スト的にはＲ₁ からＲ₆ が同一の場合が好ましい。

【００２８】次に、本発明による一般式［Ｉ］および
［ＩＩ］の化合物の具体例を挙げるが、これらに限定さ
れるものではない。簡略化のために、Ｘ，（Ｒ₁ Ｒ₂ ）
（Ｒ₃Ｒ₄ ）（Ｒ₅ Ｒ₆ ）（Ｒ₇ Ｒ₈ Ｒ₉ ）と表記す
る。例えば、［Ｉ］式で、Ｘ^- がＣｌＯ₄ ^-で、Ｒ₁ とＲ
₂ 、Ｒ₃ とＲ₄ 、Ｒ₅ とＲ₆ の組み合せでＮとともに５
員環を形成して、Ｒ₇ からＲ₉ が水素原子である場合、

【００２９】

【化７】 ＣｌＯ₄ （ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₃ （Ｈ，Ｈ，Ｈ） と表わす。

【００３０】

【化８】

【００３１】

【化９】

【００３２】

【化１０】

【００３３】

【化１１】

【００３４】

【化１２】

【００３５】次に、本発明の下記一般式［ＩＩＩ］また
は［ＩＶ］で示される赤外吸収化合物について説明す
る。

【００３６】

【化１３】

【００３７】上記一般式［ＩＩＩ］および［ＩＶ］にお
いて、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は水素原子または一価の有機残基を示
す。１価の有機残基としては、例えばアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキ
シル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基などを示し、
さらに他のアルキル基、例えば置換アルキル基として
は、例えば２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプ
ロピル，４−ヒドロキシブチル基などのヒドロキシアル
キル基、２−アセトキシエチル基、２−アセトキシプロ
ル基などのアセトキシアルキル基、カルボキシメチル
基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル
基などのカルボキシアルキル基、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル
基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプ
ロピル基、エトキシブチル基、プロポキシメチル基など
のアルコキシアルキル基などを示し、アルケニル基とし
ては、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基など、アラルキル基としては、例えばベンジル基、ｐ
−クロロベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、２−フェ
ニルメチル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニル
プロピル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルエチ
ル基など、アルキニル基としては、例えば、プロパギル
基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基など、シ
クロアルキル基としては、例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基などが好ましい。

【００３８】Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は各々異なっていても又は同じ
であってもよい。

【００３９】Ｒ₁₇〜Ｒ₁₉は水素原子，ハロゲン基，低級
アルキル基，低級アルコキシ基，シアノ基または水酸基
を示す。

【００４０】Ｘ^- は、塩素イオン，臭素イオン，ヨウ素
イオン，過塩素酸塩イオン，硝酸塩イオン，ベンゼンス
ルホン酸塩イオン，ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン，
メチル硫酸塩イオン，エチル硫酸塩イオン，プロピル硫
酸塩イオン，テトラフルオロホウ酸塩イオン，テトラフ
エニルホウ酸塩イオン，ヘキサフルオロリン酸塩イオ
ン，ベンゼンスルフイン塩酸イオン，酢酸塩イオン，ト
リフルオロ酢塩イオン，プロピオン酢酸塩イオン，安息
香酸塩イオン，シユウ酸塩イオン，コハク酸塩イオン，
マロン酸塩イオン，オレイン酸塩イオン，ステアリン酸
塩イオン，クエン酸塩イオン，一水素二リン酸塩イオ
ン，二水素一リン酸塩イオン，ペンタクロロスズ酸塩イ
オン，クロロスルホン酸塩イオン，フルオロスルホン酸
塩イオン，トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン，ヘ
キサフルオロヒ酸塩イオン，ヘキサフルオロアンチモン
酸塩イオン，モリブテン酸塩イオン，タングステン酸塩
イオン，チタン酸塩イオン，ジルコン酸塩イオンなどの
陰イオンを表わす。

【００４１】本発明の一般式［ＩＩＩ］または［ＩＶ］
で示される赤外吸収化合物の製造方法は、Ｃｈｅｍｉｓ
ｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ９２巻，２４５頁（１９５
９年）に記載されている様な方法で、該当するトリアリ
ールアミンを過塩素酸銀、ヘキサフルオロアンチモン銀
等で酸化処理することによって容易に得ることができ
る。例えば、次の過程により製造することができる。

【００４２】

【化１４】

【００４３】上記還元反応により得たアミノ体を選択的
置換化によりアルキル化，アルケニル化，アラルキル
化，アルキニル化などにより置換して最終生成物を得る
ことが出来る。Ｒ₁₁からＲ₁₆が非対称となる場合には、
このアルキル化を多段階的に行う必要があり、コスト的
にはＲ₁₁からＲ₁₆が同一の場合が好ましい。

【００４４】次に、本発明による一般式［ＩＩＩ］およ
び［ＩＶ］の化合物の具体例を挙げるが、これらに限定
されるものではない。簡略化のために、Ｘ，（Ｒ
₁₁Ｒ₁₂）（Ｒ₁₃Ｒ₁₄）（Ｒ₁₅Ｒ₁₆）（Ｒ₁₇Ｒ₁₈Ｒ₁₉）と
表記する。例えば、［ＩＩＩ］式で、Ｘ^- がＣｌＯ
₄ ^-で、Ｒ₁₁からＲ₁₆がメトキシエチル基で、Ｒ₁₇からＲ
₁₉が水素原子である場合、

【００４５】

【化１５】 ＣｌＯ₄ （Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＣＨ₃ ，Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＣＨ₃ ）₃ （Ｈ，Ｈ，Ｈ） と表わす。

【００４６】

【化１６】

【００４７】

【化１７】

【００４８】

【化１８】

【００４９】

【化１９】

【００５０】上記の一般式［Ｉ］〜［ＩＶ］で表わされ
るアミニウム塩化合物またはジイモニウム塩化合物は、
極大吸収波長が９００ｎｍ以上にあり、吸光係数も数万
から十数万程度と大きい吸収ピークを持つ。また、この
ような化合物は光記録媒体の材料としての用途以外に断
熱フイルム，サングラスなどに使われる。

【００５１】本発明の光記録媒体は、図１に示す様に、
基板１の上に前記一般式［Ｉ］〜［ＩＶ］で表わされる
トリアリールアミン系アミニウム塩・ジイモニウム塩化
合物を含有する記録層２を設けることにより形成するこ
とができる。

【００５２】基板としては、ポリカーボネート、ポリエ
ステル、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなどの
プラスチック、ガラスあるいは金属類などを用いること
ができる。

【００５３】記録層として、前記一般式［Ｉ］〜［Ｉ
Ｖ］で表わされるトリアリールアミン系アミニウム塩・
ジイモニウム塩化合物と併用される有機色素薄膜を形成
する近赤外吸収色素としては、一般的に知られている色
素が用いられ、例えばシアニン系色素，メロシアニン系
色素，クロコニウム系色素，スクアリウム系色素，アズ
レニウム系色素，ポリメチン系色素，ナフトキノン系色
素，ピリリウム系色素，フタロシアニン系色素，トリフ
ェニルメタン系色素，キサンテン系色素，アントラキノ
ン系色素，ジオキサジン系色素，テトラヒドロコリン系
色素，トリフェノチアジン系色素，フェナンスレン系色
素、ナフタロシアニン系色素，ナフトラクタム系色素，
アミニウム塩・ジイモニウム塩系色素，金属キレート錯
体系染料などがある。あるいは金属および金属化合物な
ど、例えばＡｌ，Ｔｅ，Ｂｉ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｓｅ，Ｓｎ
Ｏ，ＴｅＯ₂ ，Ａｓ，Ｃｄなど、あるいは紫外線吸収剤
などと混合分散あるいは積層してもよい。

【００５４】記録層２は塗布法あるいは蒸着法等の種々
の方法により基板１上に形成される。塗布法を用いる場
合には、トリアリールアミン系アミニウム塩・ジイモニ
ウム塩化合物を有機溶媒中に溶解あるいは分散した溶液
を基板１上に塗布することによって形成することができ
る。また、必要に応じて成膜性および塗膜安定性を考慮
してバインダーを記録層中に混合して成膜することもで
きる。

【００５５】塗布の際に使用できる有機溶媒は、前述の
トリアリールアミン系アミニウム塩・ジイモニウム塩化
合物を分散状態とするか、或いは溶解状態とするかによ
って異なるが、一般にはアルコール系、ケトン系、アミ
ド系、エーテル系、エステル系、脂肪族ハロゲン化炭化
水素系、芳香族系、脂肪族炭化水素系などの溶媒を用い
ることができる。

【００５６】また、バインダーとしては、例えばニトロ
セルロース，エチルセルロース，ポリスチレン，ポリビ
ニルピロリドン，ポリメチルメタクリレート，ポリアミ
ドなどが挙げられる。また、必要により、ワックス、高
級脂肪酸、アミド類（例えば、オレイルアミド）を添加
剤として用いる。

【００５７】以上のバインダーにジオクチルフタレー
ト，ジブチルフタレート，トリクレジルフォスフェート
等の可塑剤、鉱油，植物油等の油剤、更にアルキルベン
ゼンスルホン酸ソーダ，ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル等の分散剤及びその他の添加剤を適宜混
合させ記録層の成膜性，塗膜安定性を高めることができ
る。

【００５８】塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコ
ーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコー
ティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコ
ーティング法、ローラーコーティング法、グラビアコー
ティング法などのコーティング法を用いて行うことがで
きる。

【００５９】記録層２中の前記一般式［Ｉ］〜［ＩＶ］
で表わされるトリアリールアミン系アミニウム塩・ジイ
モニウム塩化合物の含有量は通常５〜７０重量％、好ま
しくは１０〜５０重量％が望ましい。５重量％未満では
光劣化抑制効果が不十分であり、７０重量％をこえると
有機色素の量が少なくなり、十分な光吸収性とレーザ光
に対して十分な光反射率を得ることができない。

【００６０】また、記録層２の膜厚は１００Å〜２０μ
ｍ、好ましくは２００Å〜１μｍが適当である。

【００６１】さらに、本発明の光記録媒体は、図２に示
すように、記録層２上に記録及び再生レーザー光に対し
て透明な保護層３を設けることができる。該保護層３
は、基板１側から光を照射する場合は不透明でも差支え
ない。

【００６２】また、図３に示すように、基板１と記録層
２の間に下引層４を設けても良い。また、図４に示す様
に、保護層３及び下引層４を共に用いることも可能であ
る。

【００６３】下引き層は（ａ）接着性の向上、（ｂ）水
またはガスなどのバリヤー、（ｃ）記録層の保存安定性
の向上、（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板の
保護および（ｆ）プレグルーブの形成などを目的として
設けられる。（ａ）の目的に対しては高分子材料、例え
ばアイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹
脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材
料もしくはシランカップリング剤などの種々の物質を用
いることができ、（ｂ），（ｃ）の目的に対しては上記
高分子材料以外に無機化合物、例えばＳｉＯ₂ ，ＭｇＦ
₂ ，ＳｉＯ，ＴｉＯ₂ ，ＺｎＯ，ＴｉＮ，ＳｉＮなど、
金属または半金属、例えばＺｎ，Ｃｕ，Ｓ，Ｎｉ，Ｃ
ｒ，Ｇｅ，Ｓｅ，Ｃｄ，Ａｇ，Ａｌなどを用いることが
できる。（ｄ）の目的に対しては金属、例えばＡｌ，Ａ
ｇなど、または金属光沢を有する有機薄膜、例えばシア
ニン染料、ポリメチン染料、アズレン系染料などを用い
ることができる。そして（ｅ），（ｆ）の目的に対して
は紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを
用いることができる。下引き層の膜厚は５０Å〜１００
μｍ、好ましくは２００Å〜３０μｍが適当である。

【００６４】また、保護層は、キズ、ホコリ、汚れなど
からの保護および記録層の保存安定性の向上および反射
率の向上を目的として設けられ、その材料としては下引
き層と同じ材料を使用することができる。保護層の膜厚
は１００Å以上、好ましくは１０００Å以上が適当であ
る。

【００６５】この際、下引層および／または保護層中に
は本発明の一般式［Ｉ］〜［ＩＶ］のトリアリールアミ
ン系アミニウム塩・ジイモニウム塩化合物が含有されて
いてもよい。また、下引き層または保護層には安定剤、
分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑
剤などが含有されていてもよい。

【００６６】さらに、本発明による光学記録媒体の別の
構成としては、図１から図４に示した同一構成の２枚の
記録媒体（場合によりその１枚を基板のみとして）を用
い記録層２を内側に配置して密封したいわゆるエアーサ
ンドイッチ構造にしてもよいし、保護層３を介して接着
したいわゆる密着構造（貼り合せ構造）にしてもよい。
密着構造の場合には、その接着層中に本発明の一般式
［Ｉ］〜［ＩＶ］で表わされるトリアリールアミン系ア
ミニウム塩・ジイモニウム塩化合物が含有されていても
よい。

【００６７】以上の様に、本発明においては、有機色素
薄膜、下引層、記録補助層、保護層または接着剤層の少
なくとも１つに、一般式［Ｉ］〜［ＩＶ］で表わされる
トリアリールアミン系アミニウム塩・ジイモニウム塩化
合物が含有されてもよいが、その含有量は１〜７０重量
％、好ましくは１０〜５０重量％の範囲が好ましい。

【００６８】本発明の光記録媒体は、ヘリウム−ネオン
レーザ（発振波長６３３ｎｍ) などのガスレーザの照射
によって記録することも可能であるが、好ましくは７５
０ｎｍ以上の波長を有するレーザ、特にガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザ（発振波長８３０ｎｍ) な
どの近赤外あるいは赤外領域に発振波長を有するレーザ
光線の照射によって記録する方法が適している。また、
読み出しのためには、前述のレーザ光線を用いることが
できる。この際、書込みと読み出しを同一波長のレーザ
で行なうことができ、また異なる波長のレーザで行なう
こともできる。

【００６９】

【実施例】次に、本発明を実施例に従って詳細に説明す
るが、これらに限定されるものではない。但し、特に説
明のないかぎり部は重量部を示す。

【００７０】○一般式［Ｉ］または［ＩＩ］で表わされ
る赤外吸収化合物に係る実施例 合成例１ ２５０ｍl のオートクレーブにトリス（４−ニトロフェ
ニル）アミン１５．８部、５％パラジウム−カーボン水
添触媒１．５部、エタノール１００ｍl を入れ、水素ガ
スを圧力５．０ｋｇ／ｃｍ² ，９０℃で理論量吸収まで
攪拌させた。反応終了後、エタノール３００ｍl を加え
て熱濾過し、触媒を除いた。母液を溶媒留去し、７．９
部のトリス（４−アミノフェニル）アミンを得た。高速
液クロ分析により純度は９９．５％であった。

【００７１】ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ）分析により、δ
４．２０〜５．０２ｐｐｍに６Ｈ分のアミノ基の吸収、
δ６．０９〜６．８０ｐｐｍにブロードなダブレットの
１２Ｈ分の芳香族環の吸収を測定した。

【００７２】＜［Ｉ］−（２）の合成＞上記アミノ体２
部をジメチルホルムアミド１６部、無水炭酸水素ナトリ
ウム０．６部、２，５−ジブロモペンタン１．８部とと
もに、１００〜１３０℃で加熱攪拌をした。３５時間反
応後、反応液を氷水２００部にあけ、酢酸エチルで抽出
した。乾燥後、シリカゲルカラムで精製した。取得量
２．２部、赤外吸光分析によりアミノ基のＮＨ伸縮振動
による吸収の消失を確認した。

【００７３】この化合物１部をアセトン２０部中に分散
させ、攪拌下、当モルの過塩素酸銀を加えた。室温下１
時間反応させたのち、析出した銀をロ別し、ロ液をイソ
プロピルエーテルで希釈し放置し、析出結晶をロ取し
た。取得量１．３部。

【００７４】このようにして合成した［Ｉ］−（２）
は、吸収極大波長が９８０．８ｎｍの赤外部に大きな吸
収をもつ化合物であった。 元素分析 Ｃ₃₃Ｈ₄₂Ｎ₄ Ｏ₄ Ｃｌとして 計算値 ； Ｃ：６６．７１， Ｈ：７．１２ Ｎ：
９．４３ 実測値 ； Ｃ：６６．５２， Ｈ：７．３５ Ｎ：
９．３７

【００７５】＜［ＩＩ］−（２）の合成＞［Ｉ］−
（２）の合成に使ったトリス（４−（２−メチル−１−
ピロリジニル）フェニル）アミン１部をアセトン１８部
中に分散させ、攪拌下２倍モルのヘキサフルオロアンチ
モン酸銀を加えた。室温下１時間反応させたのち、析出
した銀をロ別しロ液をイソプロピルエーテルで希釈し
た。０．５８部の析出結晶を濾取した。このようにして
合成した［ＩＩ］−（２）は、吸収極大波長が９８２ｎ
ｍの赤外部に大きな吸収をもつ化合物であった。

【００７６】以上説明した例はアニオンが過塩素酸およ
びヘキサフルオロアンチモン酸銀の場合であるが、他の
アニオンにする場合は、それに相当する銀塩を用いるこ
とにより容易に目的とする化合物を得ることが出来る。
例えば、ＡｇＢＦ₄ ，ＡｇＳＯ₄ ，ＡｇＮＯ₃ ，ＡｇＳ
Ｏ₃ Ｃ₆ Ｈ₄ ＣＨ₃ ，ＡｇＳＯ₃ ＣＦ₃ などの銀塩を用
いることが出来る。また、この他に、電解酸化により得
ることも出来る。

【００７７】次に一般式［Ｉ］および［ＩＩ］で表され
る赤外吸収化合物を光記録材料として利用した実施例に
ついて述べる。

【００７８】実施例１ ウォーレットサイズの厚さ０．４ｍｍのポリカーボネー
ト（以下「ＰＣ」と略記する）基板上に熱プレス法によ
りプレグループを設け、その上にポリメチン系色素とし
てＩＲ−８２０（日本化薬製）と前記赤外吸収化合物
［Ｉ］−（２）の混合物（重量比８０：２０）３重量部
を、ジアセントアルコール９７重量部に溶解させた液を
バーコート法により塗布した後、乾燥して９５０Åの記
録層を得た。

【００７９】さらにその上に、アクリル酸エステル−エ
チレン共重合体ドライフィルムを介して、ウォーレット
サイズの厚さ０．３ｍｍのＰＣ基板と熱ロール法により
密着構造の光記録媒体を作製した。

【００８０】こうして作製した本実施例の光記録媒体を
Ｘ−Ｙ方向に駆動するステージ上に取り付け、発振波長
８３０ｎｍの半導体レーザを用いて厚さ０．４ｍｍのＰ
Ｃ基板側より有機薄膜記録層に、記録パワー３．５ｍＷ
で記録パルス８０μｓｅｃでＹ軸方向に情報を書き込
み、読み出しパワー０．４ｍＷで再生し、そのコントラ
スト比

【００８１】

【数１】 を測定した。

【００８２】さらに、前記条件で作製した同一記録媒体
を８５℃ドライ（ｄｒｙ）の条件下に１０００時間放置
して環境保存安定性試験を行った後の反射率（８３０ｎ
ｍ測定）およびコントラスト比をキヤノン内製評価機を
用いて測定した。また、同一の記録媒体に１ＫＷ／ｍ²
のキセノンランプ光を１００時間照射し耐光安定性試験
を行い、反射率およびコンラスト比を測定した。結果を
表−１に示す。

【００８３】

【表１】

【００８４】実施例２〜８ 実施例１で用いたポリメチン系色素と赤外吸収化合物を
下記表−２，表−３に示したポリメチン色素または他の
色素と赤外吸収化合物との組合せにかえて実施例１と同
様の方法で記録媒体を作製し、それぞれ実施例２〜８の
光記録媒体とした。上記実施例２〜８の光記録媒体を実
施例１と同様の方法で測定し、その結果を表−４に示
す。

【００８５】比較例１，２ 実施例２および６で用いた赤外吸収化合物それぞれＮ
ｏ．［Ｉ］−（１６）および［ＩＩ］−（４）を除いた
以外は、実施例１と同様の方法で光記録媒体を作製し、
評価した。その結果を表−４に示す 比較例３ 実施例６で用いた赤外吸収化合物Ｎｏ．［ＩＩ］−
（４）を下記化合物に変えた以外は、実施例１と同様の
方法で光記録媒体を作製し、評価した。その結果を表−
４に示す。

【００８６】

【化２０】

【００８７】

【表２】

【００８８】

【表３】

【００８９】

【表４】

【００９０】実施例９〜１３ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのインジェクション
成形によりプレグルーブを設けたＰＣ基板上に、下記表
−５に示す有機色素と前記赤外吸収化合物の混合物６重
量部をジアセトンアルコール９４重量部に溶解させた液
をスピン塗布により厚さ１０００Åの記録層を設けた。
このようにして得た媒体の内周側と外周側に０．３ｍｍ
のスペーサーをはさみ、紫外線硬化型接着剤で他のＰＣ
基板と貼合せエアーサンドイッチ構造の光記録媒体を得
た。

【００９１】こうして作成した光学的記録媒体をターン
テーブル上に取り付け、ターンテーブルをモータで１８
００ｒｐｍに回転させて、発振波長８３０ｎｍの半導体
レーザを用いて、基板側より有機薄膜記録層に、記録パ
ワー８ｍＷで記録周波数３ＭＨｚで情報を書込み、読み
出しパワー０．８ｍＷで再生し、その再生波形をスペク
トル解析（スキヤニングフイルター、バンド幅３０ＫＨ
ｚ）してＣ／Ｎ比（キヤリヤ／ノイズ比）を測定した。

【００９２】次に、同じ記録媒体を前記測定条件で記録
した部分を繰り返し１０⁵ 回読み出し後のＣ／Ｎ比を測
定した。こうして作成した光記録媒体を実施例１と同様
の条件の環境保存安定性試験および耐光安定性試験を行
い、その後の反射率およびＣ／Ｎ比を測定した。その結
果を表−６に示す。

【００９３】比較例４、５ 実施例１０および１３で用いた赤外吸収化合物Ｎｏ．
［ＩＩ］−（２）および［Ｉ］−（２５）を除いた以外
は、実施例１０および１３と同様の方法で光記録媒体を
作製し、評価した。その結果を表−６に示す。

【００９４】

【表５】

【００９５】

【表６】

【００９６】実施例１４、１５ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのポリメチルメタク
リレート（以下「ＰＭＭＡ」と略記する）基板上に、エ
ポキシ−アクリレート系紫外線硬化樹脂を用いて２Ｐ法
（フォト・ポリマー法）で厚さ３０μのプレグルーブを
設けた。その基板上に、下記表−７に示す有機色素と赤
外吸収化合物の組み合せの混合物２重量部を１，２−ジ
クロルエタン９８重量部に溶解させた液をスピナー塗布
法により塗布し、乾燥膜厚９００Åの有機薄膜記録層を
得た。こうして作成した光記録媒体を実施例９〜１３と
同様の方法で測定し、評価した。その結果を表−８に示
す。

【００９７】実施例１６、１７ 下記表−７に示す有機色素と赤外吸収化合物の組み合せ
の混合物４重量部とニトロセルロース樹脂（オーハレス
ラツカー，ダイセル化学（株）製）１重量部をジアセト
ンアルコール９５重量部に混合させた液をスピナー塗布
法により、プレグルーブを設けた直径１３０ｍｍφ、厚
さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に塗布し、乾燥
膜厚９５０Åの有機薄膜記録層を得た。こうして作成し
た光学記録媒体を実施例９〜１３と同様の方法で測定し
た。その結果を表−８に示す。

【００９８】

【表７】

【００９９】

【表８】

【０１００】実施例１８ 前記実施例１の有機色素と前記赤外吸収化合物Ｎｏ．
［Ｉ］−（５）の混合物（重量比８０：２０）３重量部
をジアセトンアルコール９７重量部に溶解させた液を、
実施例１で用いたウォーレットサイズのプレグルーブ付
きの０．４ｍｍ厚ＰＣ基板に、ロールコート法により、
乾燥膜厚１０００Åの記録層を作成した。この様にし
て、２００枚のＰＣ基板に連続的に記録層を作製した。

【０１０１】その後、記録層上に実施例１と同様の方法
で、密着構造の光記録媒体を作製した。１枚目、１０枚
目、５０枚目、１００枚目、２００枚目に作製した光記
録媒体について、Ｘ−Ｙ方向に駆動するステージ上に取
り付け、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザを用いて、
厚さ０．４ｍｍのＰＣ基板側より、スポットサイズ３μ
ｍφ、記録パワー１０ｍＷ、記録周波数１５０ＫＨｚで
Ｙ軸方向に情報を記録し、読み出しパワー０．５ｍＷで
再生し、その再生波形をスペクトル解析（スキャンニン
グフィルター、バンド幅１ＫＨｚ）してＣ／Ｎ比を測定
した。その結果を表−９に示す。

【０１０２】比較例６ 実施例１８で用いた赤外吸収化合物Ｎｏ．［Ｉ］−
（５）を下記の赤外吸収化合物に変えた以外は実施例１
８と同様の方法で光記録媒体を作製し、実施例１８と同
様の方法で、Ｃ／Ｎ比を測定した。結果を表−９に示
す。

【０１０３】

【化２１】

【０１０４】

【表９】

【０１０５】比較例６においては、枚数が増えるにつれ
て、ノイズレベルが上がり、Ｃ／Ｎ比が低下した。これ
は、比較例６で用いた赤外吸収化合物の溶剤溶解性が十
分でなく、複数枚の基板に塗布した時におこる塗布溶液
のわずかな濃度変化によっても容易に固形物、例えば微
結晶の析出が生じ、これがノイズの原因になったと考え
られる。これに対し、本発明の一般式［Ｉ］または［Ｉ
Ｉ］で表わされるトリアリールアミン系アミニウム塩・
ジイモニウム塩化合物は、プラスチックをおかさない溶
剤への溶解性が高く、塗布工程における多少の濃度変化
によっても結晶が生じにくいため、記録層中に結晶が混
入することがなくノイズレベルの低い光記録媒体を得る
ことができると考えられる。

【０１０６】○一般式［ＩＩＩ］または［ＩＶ］で表わ
される赤外吸収化合物に係る実施例 合成例２ ２５０ｍl のオートクレーブにトリス（４−ニトロフェ
ニル）アミン１５．０部、５％パラジウム−カーボン水
添触媒１．５部、エタノール１００ｍl を入れ、水素ガ
スを圧力５．０ｋｇ／ｃｍ² ，９０℃で理論量吸収まで
攪拌させた。反応終了後、エタノール３００ｍl を加え
て熱濾過し、触媒を除いた。母液を溶媒留去し、７．９
部のトリス（４−アミノフェニル）アミンを得た。高速
液クロ分析により純度は９９．４％であった。

【０１０７】ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ）分析により、δ
４．２０〜５．０１ｐｐｍに６Ｈ分のアミノ基の吸収、
δ６．０７〜６．８０ｐｐｍにブロードなダブレットの
１２Ｈ分の芳香族環の吸収を測定した。

【０１０８】＜［ＩＩＩ］−（１）の合成＞上記アミノ
体２部をジメチルホルムアミド１５部、無水炭酸水素ナ
トリウム０．６部、メトキシエチルヨーダイド４．２部
とともに、１００〜１３０℃で加熱攪拌をした。３６時
間反応後、反応液を氷水２００部にあけ、酢酸エチルで
抽出した。乾燥後、シリカゲルカラムで精製した。取得
量２．１部、赤外吸光分析によりアミノ基のＮＨ伸縮振
動による吸収の消失を確認した。

【０１０９】この化合物１部をアセトン１９部中に分散
させ、攪拌下、当モルの過塩素酸銀を加えた。室温下１
時間反応させたのち、析出した銀をロ別し、ロ液をイソ
プロピルエーテルで希釈し放置し、析出結晶をロ取し
た。取得量０．５部。

【０１１０】このようにして合成した［ＩＩＩ］−
（１）は、吸収極大波長が９７６ｎｍの赤外部に大きな
吸収をもつ化合物であった。 元素分析 Ｃ₃₆Ｈ₅₄Ｏ₁₀Ｎ₄ Ｃｌとして 計算値 ； Ｃ：５８．５７， Ｈ：７．３７ Ｎ：
７．５９ 実測値 ； Ｃ：５８．４２， Ｈ：７．５１ Ｎ：
７．５７

【０１１１】＜［ＩＶ］−（１）の合成＞［ＩＩＩ］−
（１）の合成に使ったトリス（４−ジメトキシエチルア
ミノフェニル）アミン１部をアセトン２２部中に分散さ
せ、攪拌下２倍モルの六フッ化アンチモン酸銀を加え
た。室温下１時間反応させたのち、析出した銀をロ別し
ロ液をイソプロピルエーテルで希釈した。０．６１部の
析出結晶を濾取した。このようにして合成した［ＩＶ］
−（１）は、吸収極大波長が９８０ｎｍの赤外部に大き
な吸収をもつ化合物であった。

【０１１２】以上説明した例はアニオンが過塩素酸およ
び六フッ化アンチモン酸銀の場合であるが、他のアニオ
ンにする場合は、それに相当する銀塩を用いることによ
り容易に目的とする化合物を得ることが出来る。例え
ば、ＡｇＢＦ₄ ，ＡｇＳＯ₄ ，ＡｇＮＯ₃ ，ＡｇＳＯ₃
Ｃ₆ Ｈ₄ ＣＨ₃ ，ＡｇＳＯ₃ ＣＦ₃ などの銀塩を用いる
ことが出来る。また、この他に、電解酸化により得るこ
とも出来る。

【０１１３】次に一般式［ＩＩＩ］および［ＩＶ］で表
される赤外吸収化合物を光記録材料として利用した実施
例について述べる。

【０１１４】実施例１９ ウォーレットサイズの厚さ０．４ｍｍのポリカーボネー
ト（以下「ＰＣ」と略記する）基板上に熱プレス法によ
りプレグループを設け、その上にポリメチン系色素とし
てＩＲ−８２０（日本化薬製）と前記赤外吸収化合物
［ＩＩＩ］−（１）の混合物（重量比７５：２５）３重
量部を、ジアセントアルコール９７重量部に溶解させた
液をバーコート法により塗布した後、乾燥して９００Å
の記録層を得た。

【０１１５】さらにその上に、アクリル酸エステル−エ
チレン共重合体ドライフィルムを介して、ウォーレット
サイズの厚さ０．３ｍｍのＰＣ基板と熱ロール法により
密着構造の光記録媒体を作製した。

【０１１６】こうして作製した本実施例の光記録媒体を
Ｘ−Ｙ方向に駆動するステージ上に取り付け、発振波長
８３０ｎｍの半導体レーザを用いて厚さ０．４ｍｍのＰ
Ｃ基板側より有機薄膜記録層に、記録パワー３．５ｍＷ
で記録パルス８０μｓｅｃでＹ軸方向に情報を書き込
み、読み出しパワー０．４ｍＷで再生し、そのコントラ
スト比

【０１１７】

【数２】 を測定した。

【０１１８】さらに、前記条件で作製した同一記録媒体
を６５℃，８５％ＲＨの条件下に１０００時間放置して
環境保存安定性試験を行った後の反射率（８３０ｎｍ測
定）およびコントラスト比をキヤノン製評価機を用いて
測定した。また、同一の記録媒体に１ＫＷ／ｍ² のキセ
ノンランプ光を１００時間照射し耐光安定性試験を行
い、反射率およびコンラスト比を測定した。結果を表−
１０に示す。

【０１１９】

【表１０】

【０１２０】実施例２０〜２６ 実施例１９で用いたポリメチン系色素と赤外吸収化合物
を下記表−１１，表−１２に示したポリメチン色素また
は他の色素と赤外吸収化合物との組合せにかえて実施例
１９と同様の方法で記録媒体を作製し、それぞれ実施例
２０〜２６の光記録媒体とした。上記実施例２０〜２６
の光記録媒体を実施例１９と同様の方法で測定し、その
結果を表−１３に示す。

【０１２１】比較例７，８ 実施例２０および２４で用いた赤外吸収化合物それぞれ
Ｎｏ．［ＩＩＩ］−（２）および［ＩＶ］−（３５）を
除いた以外は、実施例１９と同様の方法で光記録媒体を
作製し、評価した。その結果を表−１３に示す 比較例９ 実施例２４で用いた赤外吸収化合物Ｎｏ．［ＩＩＩ］−
（３５）を下記化合物に変えた以外は、実施例１９と同
様の方法で光記録媒体を作製し、評価した。その結果を
表−１３に示す。

【０１２２】

【化２２】

【０１２３】

【表１１】

【０１２４】

【表１２】

【０１２５】

【表１３】

【０１２６】実施例２７〜３１ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのインジェクション
成形によりプレグルーブを設けたＰＣ基板上に、下記表
−１４に示す有機色素と前記赤外吸収化合物の混合物６
重量部をジアセトンアルコール９４重量部に溶解させた
液をスピン塗布により厚さ９５０Åの記録層を設けた。
このようにして得た媒体の内周側と外周側に０．３ｍｍ
のスペーサーをはさみ、紫外線硬化型接着剤で他のＰＣ
基板と貼合せエアーサンドイッチ構造の光記録媒体を得
た。

【０１２７】こうして作成した光学的記録媒体をターン
テーブル上に取り付け、ターンテーブルをモータで１８
００ｒｐｍに回転させて、発振波長８３０ｎｍの半導体
レーザを用いて、基板側より有機薄膜記録層に、記録パ
ワー８ｍＷで記録周波数３ＭＨｚで情報を書込み、読み
出しパワー０．８ｍＷで再生し、その再生波形をスペク
トル解析（スキヤニングフイルター、バンド幅３０ＫＨ
ｚ）してＣ／Ｎ比（キヤリヤ／ノイズ比）を測定した。

【０１２８】次に、同じ記録媒体を前記測定条件で記録
した部分を繰り返し１０⁵ 回読み出し後のＣ／Ｎ比を測
定した。こうして作成した光記録媒体を実施例１９と同
様の条件の環境保存安定性試験および耐光安定性試験を
行い、その後の反射率およびＣ／Ｎ比を測定した。その
結果を表−１５に示す。

【０１２９】比較例１０、１１ 実施例２９および３１で用いた赤外吸収化合物Ｎｏ．
［ＩＶ］−（１）および［ＩＩＩ］−（１０）を除いた
以外は、実施例２９および３１と同様の方法で光記録媒
体を作製し、評価した。その結果を表−１５に示す。

【０１３０】

【表１４】

【０１３１】

【表１５】

【０１３２】実施例３２、３３ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのポリメチルメタク
リレート（以下「ＰＭＭＡ」と略記する）基板上に、エ
ポキシ−アクリレート系紫外線硬化樹脂を用いて２Ｐ法
（フォト・ポリマー法）で厚さ３０μのプレグルーブを
設けた。その基板上に、下記表−１６に示す有機色素と
赤外吸収化合物の組み合せの混合物２重量部を１，２−
ジクロルエタン９８重量部に溶解させた液をスピナー塗
布法により塗布し、乾燥膜厚８００Åの有機薄膜記録層
を得た。こうして作成した光記録媒体を実施例２７〜３
１と同様の方法で測定し、評価した。その結果を表−１
７に示す。

【０１３３】実施例３４、３５ 下記表−１７に示す有機色素と赤外吸収化合物の組み合
せの混合物４重量部とニトロセルロース樹脂（オーハレ
スラツカー，ダイセル化学（株）製）１重量部をジアセ
トンアルコール９５重量部に混合させた液をスピナー塗
布法により、プレグルーブを設けた直径１３０ｍｍφ、
厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に塗布し、乾
燥膜厚９００Åの有機薄膜記録層を得た。こうして作成
した光学記録媒体を実施例２７〜３１と同様の方法で測
定した。その結果を表−１７に示す。

【０１３４】

【表１６】

【０１３５】

【表１７】

【０１３６】実施例３６ 前記実施例１９の有機色素と前記赤外吸収化合物Ｎｏ．
［ＩＩＩ］−（４１）の混合物（重量比８０：２０）３
重量部をジアセトンアルコール９７重量部に溶解させた
液を、実施例１９で用いたウォーレットサイズのプレグ
ルーブ付きの０．４ｍｍ厚ＰＣ基板に、ロールコート法
により、乾燥膜厚１０００Åの記録層を作成した。この
様にして、２００枚のＰＣ基板に連続的に記録層を作製
した。

【０１３７】その後、記録層上に実施例１９と同様の方
法で、密着構造の光記録媒体を作製した。１枚目、１０
枚目、５０枚目、１００枚目、２００枚目に作製した光
記録媒体について、Ｘ−Ｙ方向に駆動するステージ上に
取り付け、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザを用い
て、厚さ０．４ｍｍのＰＣ基板側より、スポットサイズ
３μｍφ、記録パワー１０ｍＷ、記録周波数１５０ＫＨ
ｚでＹ軸方向に情報を記録し、読み出しパワー０．５ｍ
Ｗで再生し、その再生波形をスペクトル解析（スキャン
ニングフィルター、バンド幅１ＫＨｚ）してＣ／Ｎ比を
測定した。その結果を表−１８に示す。

【０１３８】比較例１２ 実施例３６で用いた赤外吸収化合物Ｎｏ．［ＩＩＩ］−
（４１）を下記の赤外吸収化合物に変えた以外は実施例
３６と同様の方法で光記録媒体を作製し、実施例３６と
同様の方法で、Ｃ／Ｎ比を測定した。結果を表−１８に
示す。

【０１３９】

【化２２】

【０１４０】

【表１８】

【０１４１】比較例１２においては、枚数が増えるにつ
れて、ノイズレベルが上がり、Ｃ／Ｎ比が低下した。こ
れは、比較例１２で用いた赤外吸収化合物の溶剤溶解性
が十分でなく、複数枚の基板に塗布した時におこる塗布
溶液のわずかな濃度変化によっても容易に固形物、例え
ば微結晶の析出が生じ、これがノイズの原因になったと
考えられる。これに対し、本発明の一般式［ＩＩＩ］ま
たは［ＩＶ］で表わされるトリアリールアミン系アミニ
ウム塩・ジイモニウム塩化合物は、プラスチックをおか
さない溶剤への溶解性が高く、塗布工程における多少の
濃度変化によっても結晶が生じにくいため、記録層中に
結晶が混入することがなくノイズレベルの低い光記録媒
体を得ることができると考えられる。

【０１４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の一般式
［Ｉ］〜［ＩＶ］で示される赤外吸収化合物およびそれ
を用いて光記録媒体とすることにより、 赤外吸収化合物がプラスチックをおかさない汎用有機
溶剤に対する溶解性が著しくよいため、光記録媒体の生
産性が大幅に向上する。 耐光性が良く、再生劣化の少ない光記録媒体が得られ
る。 耐熱性が良く、光記録媒体の保存安定性が著しく向上
する。 等の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の一実施態様を示す断面図
である。

【図２】本発明の光記録媒体の他の実施態様を示す断面
図である。

【図３】本発明の光記録媒体の他の実施態様を示す断面
図である。

【図４】本発明の光記録媒体の他の実施態様を示す断面
図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 記録層 ３ 保護層 ４ 下引層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式［Ｉ］または［ＩＩ］で表わ
   される赤外吸収化合物。 【化１】 （式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₆ は水素原子または一価の有機残基を
   示し、それぞれ同じであっても異っていてもよい。ま
   た、少なくとも１つは、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅
   とＲ₆ の組み合わせでＮとともに置換もしくは末置換の
   ５員環、置換もしくは末置換の６員環、置換もしくは末
   置換の７員環を形成する。Ｒ₇ 〜Ｒ₉ は水素原子，ハロ
   ゲン基，低級アルキル基，低級アルコキシ基，シアノ基
   または水酸基を示す。Ｘ^- は陰イオンを示す。）
2. 【請求項２】 有機色素薄膜中に、請求項１記載の一般
   式［Ｉ］または［ＩＩ］で表わされる赤外吸収化合物を
   含有することを特徴とする光記録媒体。
3. 【請求項３】 下記一般式［ＩＩＩ］または［ＩＶ］で
   表わされる赤外吸収化合物。 【化２】 （式中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は水素原子または一価の有機残基を
   示し、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆の少なくとも１つは、置換もしくは末
   置換のアルコキシアルキル基、置換もしくは末置換のア
   ルケニル基、置換もしくは末置換のアルキニル基、置換
   もしくは末置換のシクロアルキル基を示す。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆
   は各々同じであっても異っていてもよい。Ｒ₁₇〜Ｒ₁₉は
   水素原子，ハロゲン基，低級アルキル基，低級アルコキ
   シ基，シアノ基または水酸基を示す。Ｘ^- は陰イオンを
   示す。）
4. 【請求項４】 有機色素薄膜中に、請求項１記載の一般
   式［ＩＩＩ］または［ＩＶ］で表わされる赤外吸収化合
   物を含有することを特徴とする光記録媒体。