JPH0625544A - ジ−及びトリアリールメタン染料の製法 - Google Patents

ジ−及びトリアリールメタン染料の製法

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JPH0625544A
JPH0625544A JP5080597A JP8059793A JPH0625544A JP H0625544 A JPH0625544 A JP H0625544A JP 5080597 A JP5080597 A JP 5080597A JP 8059793 A JP8059793 A JP 8059793A JP H0625544 A JPH0625544 A JP H0625544A
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JP5080597A
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Thomas Gessner
ゲスナー トーマス
Udo Mayer
マイヤー ウド
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BASF SE
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/02Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from diarylmethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/12Amino derivatives of triarylmethanes without any OH group bound to an aryl nucleus
    • C09B11/18Preparation by oxidation

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高い収率及び純度で得られる、ジ−及びトリ
アリールメタン染料の製法。 【構成】 重金属錯イオンを含有する酸素移動触媒(oxy
gen transfer catalyst)及び希釈剤の存在下でロイコ化
合物を酸化させ、この場合、酸化剤として過酸化水素、
過酸化水素供与体化合物、有機ヒドロペルオキシド又は
ペルカルボン酸を使用し、かつ酸素移動触媒としてポル
フィリン、テトラアザ[14]アヌレン、フタロシアニ
ン又はテトラアザシクロテトラデカンの群の1つを使用
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ジ−もしくはトリアリ
ールメタン染料を希釈剤の存在下並びに重金属錯イオン
を含有する酸素移動触媒(oxygen transfer catalyst)の
存在下でのジ−もしくはトリアリールメタンの酸化によ
って製造する新規の方法に関する。
【0002】
【従来の技術】特開昭53‐74 530号公報には、
硫酸銅(II)、例えば銅塩、又は塩化銅の存在下で過
酸化水素を用いたトリアリールメタンの酸化によるトリ
アリールメタン染料の製造が開示されている。さらに、
特開昭56‐57 848号公報には、過酸化水素、ク
ロラニル及び金属化合物、例えば臭化銅(I)又は五酸
化バナジウムを用いた酸化工程の実施が記載されてい
る。
【0003】特開昭56‐57 848号公報の実施例
によれば、酸化剤として酸素を用いたフタリドへのカル
ボキシル基含有トリアリールメタンの酸化は塩化鉄(I
I)、硫酸マンガン(II)及びエチレンジアミンテト
ラ酢酸の存在下で実施される。
【0004】ドイツ連邦共和国特許出願公開第30 0
5 397号明細書には、アゾ染料のコバルト錯体の存
在下で過酸化水素を用いた相応するジアリールメタンの
酸化による3,3−ビス(4−ジメチルアミノフェニ
ル)−6−ジメチルアミノフタリドの製造が開示されて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術による方法
には依然として欠点があることが見出されていた。即
ち、上記方法は、ジ−もしくはトリアリールメタン染料
の製造に普遍的に使用できるわけでない。
【0006】本発明の課題は、相応するジ−もしくはト
リアリールメタンで開始し、かつ、重金属錯イオンを含
有する酸素移動触媒の存在下で実施する、ジ−もしくは
トリアリールメタン染料の新規の製法を提供することで
ある。新規の方法によって、目的生成物は簡単な方法で
高い収率及び純度で得られる。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題は、酸化剤とし
て過酸化水素、過酸化水素供与体化合物、有機ヒドロペ
ルオキシド又はペルカルボン酸を使用し、かつ酸素移動
触媒としてポルフィリン、テトラアザ[14]アヌレ
ン、フタロシアニン又はテトラアザシクロテトラデカン
の群の1つを使用することを特徴とする、式I:
【0008】
【化3】
【0009】〔式中、R1、R2、R3及びR4は相互に独
立して、置換されていてもよくかつ酸素原子1〜3個に
よってエーテル官能基で中断されていてもよいC1〜C8
−アルキル基、フェニル基又はC1〜C4−アルキルフェ
ニル基を表し、R5及びR6は相互に独立して水素原子又
はメチル基を表し、Xは水素原子、置換もしくは未置換
フェニル基又は置換もしくは未置換ナフチル基を表し、
An-はアニオンの等価物を表す〕で示される染料を、
希釈剤の存在下並びに重金属錯イオンを含有する酸素移
動触媒の存在下での式II:
【0010】
【化4】
【0011】〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6
びXはそれぞれ上記に定義されたとおりである〕で示さ
れるロイコ化合物の酸化によって製造する方法によって
解決されることが見出された。
【0012】
【作用】上記の式I及びII中に登場する全てのアルキ
ル基は、直鎖状であってもよいし、分枝鎖状であっても
よい。
【0013】上記の式I及びII中に登場する全ての置
換アルキル基は、置換基として例えばヒドロキシル基、
塩素原子、シアノ基、フェニル基又はヒドロキシスルホ
ニルフェニル基を有していてもよい。
【0014】上記の式I及びII中に登場する全ての置
換フェニル基は、置換基として例えばメチル基、塩素原
子、アミノ基、C1〜C4−モノ−もしくはジアルキルア
ミノ基、モノ−もしくはジフェニルアミノ基、ヒドロキ
シル基、C1〜C4−アルコキシ基又はヒドロキシスルホ
ニル基を有していてもよい。
【0015】上記の式I及びII中に登場する全ての置
換ナフチル基は、置換基として例えばアミノ基、C1
4−モノ−もしくはジアルキルアミノ基、モノ−もし
くはジフェニルアミノ基又はヒドロキシスルホニル基を
有していてもよい。
【0016】上記式中に登場する全ての置換アルキル
基、フェニル基もしくはナフチル基は通常、モノ置換、
ジ置換又はトリ置換、特にモノ置換又はジ置換されてい
る。
【0017】適当な遊離基R1、R2、R3及びR4は、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチル
ヘキシル基、2−ヒドロキシエチル基、2−もしくは3
−ヒドロキシプロピル基、2−もしくは4−ヒドロキシ
ブチル基、2−クロロエチル基、2−もしくは3−クロ
ロプロピル基、2−もしくは4−クロロブチル基、2−
シアノエチル基、2−もしくは3−シアノプロピル基、
2−もしくは4−シアノブチル基、ベンジル基、1−も
しくは2−フェニルエチル基、ヒドロキシスルホニルベ
ンジル基、ヒドロキシスルホニルフェニルエチル基、2
−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−もし
くは3−メトキシプロピル基、2−もしくは3−エトキ
シプロピル基、2−もしくは4−メトキシブチル基、2
−もしくは4−エトキシブチル基、3,6−ジオキサヘ
プチル基、3,6−ジオキサオクチル基、4,8−ジオ
キサノニル基、3,7−ジオキサオクチル基、3,7−
ジオキサノニル基、4,7−ジオキサオクチル基、4,
7−ジオキサノニル基、4,8−ジオキサデシル基、5
−ヒドロキシ−3−オキサペンチル基、5−ヒドロキシ
−1,4−ジメチル−3−オキサペンチル基、8−ヒド
ロキシ−3,6−ジオキサオクチル基又は11−ヒドロ
キシ−3,6,9−トリオキサウンデシルフェニル基、
1−、2−もしくは3−メチルフェニル基又は1−、2
−もしくは3−エチルフェニル基である。
【0018】適当なXは、例えば2−、3−もしくは4
−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2
−、3−もしくは4−クロロフェニル基、2,4−もし
くは2,6−ジクロロフェニル基、2−、3−もしくは
4−アミノフェニル基、2−、3−もしくは4−モノ−
もしくはジメチルアミノフェニル基、2−、3−もしく
は4−モノ−もしくはジフェニルアミノフェニル基、2
−、3−もしくは4−ヒドロキシフェニル基、2−、3
−もしくは4−メトキシフェニル基、2,4−ジメトキ
シフェニル基、2−、3−もしくは4−ヒドロキシスル
ホニルフェニル基、2,4−ジヒドロキシスルホニルフ
ェニル基、2,4−ジヒドロキシスルホニル−5−ヒド
ロキシフェニル基、アミノナフチル基、モノ−もしくは
ジメチルアミノナフチル基、モノ−もしくはジフェニル
アミノナフチル基又はヒドロキシスルホニルナフチル基
である。
【0019】適当なアニオンは、例えばフルオリド、ク
ロリド、ブロミド、ヨージド、硫酸水素、スルフェー
ト、テトラフルオロボレート、ホルメート、アセテー
ト、プロピオネート、モノ−、ジ−もしくはトリクロロ
アセテート、ラクテート、メトキシアセテート、シトレ
ート、スクシネート、メチルスルホネート、ベンゼンス
ルホネート及び2−もしくは4−メチルベンゼンスルホ
ネートである。
【0020】式Iの染料がヒドロキシスルホニル遊離基
を有しかつ塩の形である場合には、適当な対イオンは、
金属イオンもしくはアンモニウムイオンである。金属イ
オンは、特にリチウムイオン、ナトリウムイオンもしく
はカリウムイオンである。本発明の目的のためのアンモ
ニウムイオンは、置換もしくは未置換のアンモニウムカ
チオンである。置換アンモニウムカチオンは、例えばモ
ノアルキル−、ジアルキル−、トリアルキル−、テトラ
アルキル−もしくはベンジルトリアルキルアンモニウム
カチオン又は窒素原子含有の5員−もしくは6員飽和複
素環から誘導されたカチオン、例えばピロリジニウムカ
チオン、ピペリジニウムカチオン、モルホリニウムカチ
オン、ピペラジニウムカチオンもしくはN−アルキルピ
ペラジニウムカチオン又はこれらのN−モノアルキル−
もしくはN,N−ジアルキル置換生成物である。この場
合にはアルキル基は通常、ヒドロキシル基で置換されて
いてもよく、及び/又はエーテル官能基において酸素原
子で中断されていてもよい直鎖状もしくは分枝鎖状C1
〜C20−アルキル基のことである。
【0021】ナトリウムイオン及びカリウムイオンが有
利である。
【0022】R5及びR6がそれぞれ水素原子である式I
の染料の製法は、有利である。
【0023】さらに、R1、R2、R3及びR4がそれぞれ
置換もしくは未置換C1〜C4−アルキル基、特にヒドロ
キシル置換もしくはヒドロキシスルホニルフェニル置換
1〜C4−アルキル基である式Iの染料の製法は、有利
である。
【0024】Xが水素原子又は置換もしくは未置換フェ
ニル基、特に塩素置換もしくはヒドロキシスルホニル置
換フェニル基である式Iの染料の製法は、特に有利であ
る。
【0025】さらに、R1、R2、R3及びR4がそれぞれ
1〜C4−アルキル基、C2〜C4−ヒドロキシアルキル
基又はヒドロキシスルホニルフェニルベンジル基である
式Iの染料の製法は、特に有利である。
【0026】R1及びR3がそれぞれエチル基であり、R
2及びR4がそれぞれヒドロキシスルホニルフェニルベン
ジル基であり、R5及びR6がそれぞれ水素原子であり、
かつXがヒドロキシスルホニル置換フェニル基である式
Iの染料の製法が、特に重要である。
【0027】酸素を移動しかつ重金属錯イオンを含有す
る適当な触媒は、例えばポルフィリン、テトラアザ[1
4]アヌレン、フタロシアニン又はテトラアザシクロテ
トラデカンの群の1つである。
【0028】重金属錯イオンは、例えば鉄、マンガン、
コバルト又はクロムから誘導される。重金属イオンは通
常、二価もしくは三価である。
【0029】この種の化合物は自体公知であり、かつ、
例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第2 427 60
6号明細書、国際公開番号 WO−A−91/0198
5、Kontakte1985、38又はChem. Lett. 199
1、1217に記載されている。
【0030】上記化合物は、例えば次の式に相応する: ポルフィリン:
【0031】
【化5】
【0032】〔式中、p1は水素原子、メチル基、エチ
ル基、塩素原子又は臭素原子を表し、p2、p3、p4
5は水素原子、メチル基、ヒドロキシスルホニル基又
はC1〜C4−アルコキシ基を表し、Mは鉄、マンガン、
コバルト又はクロムを表す〕。
【0033】テトラアザ[14]アヌレン:
【0034】
【化6】
【0035】〔式中、L1は水素原子、C1〜C8−アル
キル基、塩素原子、C1〜C4−アルコキシ基、置換もし
くは未置換フェニル基、置換もしくは未置換フェニルア
ゾ基、C1〜C4−アルコキシカルボニル基或いは未置換
又はC1〜C4−アルキル置換、カルボキシル置換、C1
〜C4−アルコキシカルボニル置換もしくはカルバモイ
ル置換ピリジリウムを表し、L2、L3は水素原子、メチ
ル基を表すか又はL2及びL3はともに1つの融合ベンゼ
ン環を表し、Mは鉄、マンガン、コバルト又はクロムを
表す〕。
【0036】フタロシアニン:
【0037】
【化7】
【0038】〔式中、Q1、Q2はC1〜C4−アルキル
基、塩素原子、臭素原子、C1〜C4−アルコキシ基を表
すか又はQ1及びQ2はともに1つの融合ベンゼン環を表
し、Mは鉄、マンガン、コバルト又はクロムを表す〕。
【0039】テトラアザシクロテトラデカン:
【0040】
【化8】
【0041】〔式中、Z1
【0042】
【化9】
【0043】を表し、An-はアニオンの等価物を表
し、Mは鉄、マンガン、コバルト又はクロムを表す〕。
【0044】テトラアザ[14]アヌレン又はフタロシ
アニンの群の触媒を使用することは有利である。
【0045】さらに、鉄錯イオンを含有する触媒を使用
することは有利である。
【0046】鉄テトラアザ[14]アヌレン又は鉄フタ
ロシアニンを触媒として使用することは、特に有利であ
る。
【0047】鉄−5,14−ジヒドロジベンゾ[b,
i][5,9,14,18]テトラアザ[14]アヌレ
ン又は鉄フタロシアニンを触媒として使用することは、
殊に有利である。
【0048】触媒は均質系として使用することもできる
し、溶剤中で不均質系として使用することもできる。同
様に触媒は、担持物質、例えばシリカゲル又はイオン交
換体樹脂に固定化されていてもよい。
【0049】本発明による方法に使用される酸化剤は、
過酸化水素、過酸化水素供与体化合物、有機ヒドロペル
オキシド又はペルカルボン酸である。
【0050】適当な過酸化水素供与体化合物は、例えば
アルカリ金属過ホウ酸塩もしくはアルカリ金属過炭酸塩
である。
【0051】適当な有機ヒドロペルオキシドは、例えば
クメンヒドロペルオキシド又はアルキルヒドロペルオキ
シド、特にt−ブチルヒドロペルオキシドである。
【0052】適当なペルカルボン酸は、例えば過酢酸、
m−クロロ過安息香酸、マグネシウムビス(モノペルオ
キシフタレート)ヘキサヒドラート及び1,12−ドデ
カン二酸である。
【0053】過酸化水素、t−ブチルヒドロペルオキシ
ド又はマグネシウムビス(モノペルオキシフタレート)
ヘキサヒドラートの使用が有利である。
【0054】過酸化水素が酸化剤として使用される場合
には、通常該化合物は10〜70重量%の濃度の水溶液
の形で使用される。
【0055】有機ヒドロペルオキシドは通常、約70重
量%の濃度の水溶液の形で使用される。
【0056】マグネシウムビス(モノペルオキシフタレ
ート)ヘキサヒドラートは、固体の形で使用することも
できるし、水溶液として使用することもでき、水性懸濁
液として使用することもできる。
【0057】場合によっては、付加的に、酸化剤を安定
化させる少量(ロイコ化合物IIに対して通常2モル%
まで)の化合物、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、
ジエチレントリアミンペンタ酢酸ニトリロトリ酢酸、β
−アラニン二酢酸、イソセリン二酢酸、エチレンジアミ
ンテトラ(メチレンホスホン酸)、ヘキサメチレンジア
ミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリア
ミンペンタ(メチレンホスホン酸)又はこれらのアルカ
リ金属塩、トリメチル酢酸、p−トルエンスルホン酸、
珪酸ナトリウム、アセテート、フッ化ナトリウム、シア
ンアミド又はアスコルビン酸及び/又はN原子含有芳香
族複素環、例えばイミダゾール、N−メチルイミダゾー
ル、ピリジン、ピラゾール、ピロールもしくは1,3,
4−トリアゾールの存在下で方法を実施することは同様
に有利である。
【0058】式IIのロイコ化合物1モルにつき使用さ
れる酸化剤の量は通常、過酸化水素1〜5モル、特に
1.5〜4モル、殊に1.5〜2.5モル、有機ヒドロ
ペルオキシド0.9〜3モル、特に1〜2モル、殊に1
〜1.5モル又はペルカルボン酸0.9〜3モル、特に
1〜2モルである(それぞれの場合、ペルオキシカルボ
キシル遊離基に基づく)。
【0059】重金属錯イオンを含有する酸素移動触媒は
通常、0.1〜5モル%、特に1〜3モル%の量で使用
され、この場合、各パーセンテージはロイコ化合物II
に基づいている。
【0060】適当な希釈剤は、例えば水、氷酢酸、クロ
ロホルム、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、アルコール、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、イソブタノール、グリコール、例えばエチレ
ングリコールもしくはプロピレングリコール又はこれら
の混合物である。
【0061】水と氷酢酸、アルコールもしくはグリコー
ルとの混合物を使用することは有利である。
【0062】水を希釈剤として使用することは、特に有
利である。
【0063】例えば水及び水との混和性がほとんどない
溶剤を使用することから得られる二相系混合物は、場合
によっては相間移動触媒で得られる。適当な相間移動触
媒は、自体公知である常用の生成物、例えばハロゲン化
テトラアルキルアンモニウムもしくはハロゲン化ベンジ
ルトリアルキルアンモニウム又は硫酸水素である。
【0064】新規の方法は通常、大気圧下で20〜10
0℃、特に40〜90℃で実施される。該方法は、連続
的に実施することができるばかりではなく、回分的にも
実施することができる。
【0065】新規の方法は有利に、ロイコ化合物II及
び希釈剤を第一装入材料として、通常1:10〜2:
1、特に3:7〜3:2のロイコ化合物II:希釈剤の
重量比で導入することによって実施される。さらに触媒
が添加され、引き続き、酸化剤もしくはその水溶液が混
合物に撹拌下で計量添加される。さらに撹拌下で上記温
度で酸化が行なわれる。
【0066】酸化剤の添加の終了時に、反応は通常終了
している。反応混合物は20〜80℃にされ、引き続
き、さらに10〜120分間撹拌される。さらに目的生
成物は常法で、例えば乾燥するまでの溶剤の除去又は硫
酸ナトリウムを用いた塩析によって分離することがで
き、かつ必要に応じてもう一度、再溶解及び再沈殿させ
ることができる。
【0067】本発明による方法は簡単に実施され、かつ
該方法によって式Iの染料が高い収率及び純度で得られ
る。新規の方法のさらに有利な点は、重金属不含である
酸化剤及び短い反応時間である。
【0068】式Iの染料は、紙の着色及び、衛生上の保
護への使用に有用である。
【0069】
【実施例】次に、本発明を例につき詳説する。
【0070】例 1 4′,4″−ビス[N−エチル−N−(3−ヒドロキシ
スルホニルベンジル)アミノ]トリフェニルメタン−2
−スルホン酸、ナトリウム塩の40重量%の濃度の水溶
液96.3g(50mモル)に鉄−5,14−ジヒドロ
ジベンゾ[b,i][5,9,14,18]テトラアザ
[14]アヌレン0.34g(1mモル)、エチレンジ
アミンテトラ(メチレンホスホン酸)0.44g(1m
モル)及びN−メチルイミダゾール0.08g(1mモ
ル)を添加し、引き続き、30重量%の濃度の過酸化水
素水溶液11.4g(100mモル)を強力な撹拌下で
80℃で25分間で滴加した。反応混合物を60℃に冷
却した後に、溶液をさらに1時間撹拌し、かつ濾過し
た。濾液を水酸化ナトリウム溶液でpH4に調整した。
水の除去及びこれに続く乾燥によって染料43.5gが
残留した。
【0071】例 2 4′,4″−ビス[N−エチル−N−(3−ヒドロキシ
スルホニルベンジル)アミノ]トリフェニルメタン−2
−スルホン酸、ナトリウム塩の40重量%の濃度の水溶
液96.3g(50mモル)に鉄−5,14−ジヒドロ
ジベンゾ[b,i][5,9,14,18]テトラアザ
[14]アヌレン0.34g(1mモル)、エチレンジ
アミンテトラ酢酸0.28g(1mモル)及びN−メチ
ルイミダゾール0.08g(1mモル)を添加し、引き
続き、t−ブチルヒドロペルオキシド(70重量%の濃
度、水性)9.66g(75mモル)を強力な撹拌下で
40℃で25分間で滴加した。反応混合物を付加的に4
0℃で1時間撹拌し、かつさらに濾過した。濾液を水酸
化ナトリウム溶液でpH4に調整した。水の除去及びこ
れに続く乾燥によって染料45.3が残留した。
【0072】例 3 4′,4″−ビス[N−エチル−N−(3−ヒドロキシ
スルホニルベンジル)アミノ]トリフェニルメタン−2
−スルホン酸、ナトリウム塩の40重量%の濃度の水溶
液96.3g(50mモル)に鉄−5,14−ジヒドロ
ジベンゾ[b,i][5,9,14,18]テトラアザ
[14]アヌレン0.34g(1mモル)を添加し、引
き続き、水200ml中のマグネシウムビス(モノペル
オキシフタレート)ヘキサヒドラート(85重量%の濃
度)24.19g(45mモル)の溶液を強力な撹拌下
で90℃で25分間で滴加した。反応混合物を60℃に
冷却した後に、該混合物をさらに1時間撹拌し、かつ濾
過した。硫酸ナトリウムを添加して染料を塩析し、かつ
沈殿物を水性相から熱時に分離除去した。染料樹脂を水
に分散させた。溶液を水酸化ナトリウム溶液でpH4に
調整した。水の除去及びこれに続く乾燥によって塩含有
染料52.8gが残留した。
【0073】上記実施例の方法は、式:
【0074】
【化10】
【0075】で示されるロイコ化合物の酸化に使用する
こともできる。
【0076】
【表1】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I: 【化1】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は相互に独立して、置換
    されていてもよくかつ酸素原子1〜3個によってエーテ
    ル官能基で中断されていてもよいC1〜C8−アルキル
    基、フェニル基又はC1〜C4−アルキルフェニル基を表
    し、R5及びR6は相互に独立して水素原子又はメチル基
    を表し、Xは水素原子、置換もしくは未置換フェニル基
    又は置換もしくは未置換ナフチル基を表し、An-はア
    ニオンの等価物を表す〕で示されるジ−及びトリアリー
    ルメタン染料を、希釈剤の存在下並びに重金属錯イオン
    を含有する酸素移動触媒の存在下で式のII: 【化2】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びXはそれぞ
    れ上記に定義されたとおりである〕で示されるロイコ化
    合物の酸化によって製造する方法において、酸化剤とし
    て過酸化水素、過酸化水素供与体化合物、有機ヒドロペ
    ルオキシド又はペルカルボン酸を使用し、かつ酸素移動
    触媒としてポルフィリン、テトラアザ[14]アヌレ
    ン、フタロシアニン又はテトラアザシクロテトラデカン
    の群の1つを使用することを特徴とする、ジ−及びトリ
    アリールメタン染料の製法。
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