JPH0625188A - スルホニル尿素の製造法 - Google Patents

スルホニル尿素の製造法

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JPH0625188A
JPH0625188A JP5067323A JP6732393A JPH0625188A JP H0625188 A JPH0625188 A JP H0625188A JP 5067323 A JP5067323 A JP 5067323A JP 6732393 A JP6732393 A JP 6732393A JP H0625188 A JPH0625188 A JP H0625188A
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JP
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halogen
formula
alkyl
methyl
alkoxy
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JP5067323A
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Klaus-Helmut Mueller
クラウス−ヘルムート・ミユラー
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Bayer AG
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Bayer AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D521/00Heterocyclic compounds containing unspecified hetero rings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 除草剤として有用なスルホニル尿素塩の新規
で且つ高収率な製法の提供。 【構成】 式(I) 【化1】 のスルホニル尿素塩を製造するに当つて、一般式(I
I) 【化2】R1−SO2−NH2 (II) のスルホンアミドをアルカリ金属水酸化物又はアルコレ
ートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレー
トと−20〜+150℃の温度で反応させ(工程1)、
次いでこのように製造した一般式(IIa) 【化3】R1−SO2−NH−M+ (IIa) のスルホンアミド塩を、一般式(III) 【化4】 のウレタン(カーバメート)と−20〜+150℃の温
度で反応させ(工程2)、そして式(I)の生成物を常
法によつて単離する製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は除草剤として使用しうるスルホニ
ル尿素塩の新規な製造法に関する。スルホニル尿素塩
は、スルホニル尿素のハロゲン化炭化水素中溶液をアル
カリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物と反応
させ、随時濾過後に溶媒を留去することによつて得られ
ることは公知である(ヨーロツパ特許第304,282
号)。
【0002】生成物の溶液からの結晶化は一般にこの方
法の場合起こらないから、エネルギーを消費する溶媒の
蒸留が必要であり、これでは精製効率を達成する機会は
殆んどない。
【0003】更にスルホニル尿素塩は、スルホニル尿素
を、希釈剤としての炭化水素の存在下にアルカリ金属水
酸化物と又は塩基性有機窒素化合物と反応させることに
よつて良好な収率で及び高純度で得られることが知られ
ている。
【0004】今回一般式(I)
【0005】
【化8】
【0006】[式中、M+はアルカリ金属イオン又はア
ルカリ土類金属イオン同等物を表わし、R1はそれぞれ
の場合随時置換されたアリール、アラルキル又はヘテロ
アリールを表わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随
時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又はア
ラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞ
れの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを
表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表わ
し、そしてZは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わ
す]のスルホニル尿素塩は、式(II)
【0007】
【化9】R1−SO2−NH2 (II) [式中、R1は上述した意味を有する]のスルホンアミ
ドを、随時希釈剤の存在下にアルカリ金属水酸化物又は
アルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はア
ルコレートと−20〜+150℃の温度で反応させ(工
程1)、次いでこのように製造した一般式(IIa)
【0008】
【化10】R1−SO2−NH−M+ (IIa) [式中、M+及びR1は上述した意味を有する]のスルホ
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に一般式(III)
【0009】
【化11】
【0010】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有し、そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリ
ールを表わす]のウレタン(カーバメート)と−20〜
+150℃の温度で反応させ(工程2)、そして式
(I)の生成物を常法によつて単離する場合に非常に良
好な収率で及び高純度で得られることが発見された。
【0011】スルホニル尿素塩の製造が、式(II)の
スルホンアミド及び式(III)のウレタンを出発物質
とし、対応する遊離のスルホニル尿素を中間で単離しな
いで、且つ使用しうる希釈剤に関する保存性が克服され
て、非常に良好な収率で及び高純度で進行するというこ
とは驚くべきことと見なすことができる(参照、ヨーロ
ツパ特許第433,779号)。
【0012】本発明による方法は好ましくはM+がリチ
ウム、ナトリウム又はカリウムイオン或いはマグネシウ
ム又はカルシウムイオンを表わし、R1がそれぞれの場
合随時置換されたフエニル、ナフチル、ベンジル、ピリ
ジル、チエニル又はピラゾリルを表わし、但し可能な置
換基は好ましくはハロゲン、カルボキシル、シアノ、カ
ルバモイル、ニトロ、アミノ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ−C1〜C
4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノア
ルコキシ、C1〜C4アルコキシ−C1〜C4アルコキシ、
1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフイニ
ル、C1〜C4アルキルスルホニル、ジ−(C1〜C4アル
キル)−アミノ−スルホニル、N−C1〜C4アルコキシ
−N−C1〜C4アルキル−アミノ−スルホニル、フエニ
ル、フエノキシ、C1〜C4アルコキシ−カルボニル、C
1〜C4ハロゲノアルコキシ−カルボニル、C1〜C2アル
コキシ−C1〜C2アルコキシ−カルボニル、ジ−(C1
〜C4アルキル)−アミノ−カルボニルの系列から選択
され、R2がハロゲン、(随時弗素、シアノ、C1〜C4
アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオで置換された)C
1〜C6アルキル、(随時弗素又は塩素で置換された)C
3〜C6アルケニル及びC3〜C6アルキニル、或いは(随
時フエニル残基が弗素、塩素、ニトロ、シアノ、メチ
ル、メトキシ又はC1〜C2アルコキシカルボニルで置換
された)フエニル−C1〜C2アルキルを表わし、Xが水
素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン又は
1〜C4アルコキシで置換されたC1〜C4アルキル、C
1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ又はC1〜C4
アルキルアミノを表わし、Yが水素、ハロゲン、或いは
それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたC1〜C4アル
キル又はC1〜C4アルコキシを表わし、Zが窒素又はC
H基を表わす、式(I)のスルホニル尿素塩の製造に関
する。
【0013】本発明による方法は特にM+がナトリウム
イオン又はカリウムイオンを表わし、R1がそれぞれの
場合オルト位が弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、ト
リフルオルメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメ
トキシ、トリフルオルメトキシ、クロルエトキシ、メト
キシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチオ、エチル
チオ、プロピルチオ、メチルスルフイニル、エチルスル
フイニル、プロピルスルフイニル、メチルスルホニル、
エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ジメチルアミ
ノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、N−メトキ
シ−N−メチル−アミノスルホニル、フエニル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、クロルエトキシカル
ボニル、メトキシエトキシカルボニル、ジメチルアミノ
カルボニル又はジエチルアミノカルボニルで及び随時更
なる位置がハロゲンで置換されたフエニル又はベンジル
を表わし、或いは3−ジメチルアミノカルボニル−ピリ
ジン−2−イル又は3−エチルスルホニル−ピリジン−
2−イル、2−メトキシカルボニル−チオフエン−3−
イル又は1−メチル−4−メトキシカルボニル−ピラゾ
ル−5−イル、1−メチル−4−メトキシカルボニル−
ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−エトキシカルボ
ニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−3−クロル−
4−メトキシカルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メ
チル−3−クロル−4−エトキシカルボニル−ピラゾル
−5−イル、又は1−ピリジル−4−メトキシカルボニ
ル−ピラゾル−5−イルを表わし、R2が水素又はメチ
ルを表わし、Xが水素、塩素、メチル、エチル、トリク
ロルメチル、トリフルオルメチル、メトキシメチル、メ
トキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、フルオルエト
キシ、ジフルオルエトキシ、トリフルオルエトキシ、メ
トキシエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルアミ
ノ又はエチルアミノを表わし、Yが水素、塩素、メチ
ル、エチル、トリフルオルメチル、メトキシ、エトキシ
又はジフルオルメトキシを表わし、そしてZが窒素又は
CH基を表わす、式(I)のスルホニル尿素塩の製造に
関する。
【0014】例えば2−ジフルオルメトキシ−ベンゼン
スルホンアミド及びナトリウムメチレートを出発物質と
して用い且つ生成したナトリウム塩をN−メチル−N−
(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イ
ル)−カルバミン酸フエニルと反応させる場合、本発明
の方法の反応過程は次の反応式で慨述できる:
【0015】
【化12】
【0016】本発明の方法の出発物質として使用すべき
スルホンアミドは、一般に式(II)で定義される。式
(II)において、R1は好ましくは又は特に、本発明
に従つて製造しうる式(I)の化合物の記述と関連し
て、特にR1に対する好適なものとしてすでに上述した
意味を有する。
【0017】言及しうる式(II)の出発物質の例は次
の通りである:2−フルオル−、2−クロル−、2−ブ
ロム、2,5−ジクロル−、2,6−ジクロル−、2−ニ
トロ−、2−シアノ−、2−メチル−、2−トリフルオ
ルメチル−、2−メトキシ−、2−ジフルオルメトキシ
−、2−トリフルオルメトキシ−、2−メチルチオ−、
2−エチルチオ−、2−(2−クロルエトキシ)−、2
−(2−メトキシエトキシ)−、2−ジメチルアミノス
ルホニル−、2−フエニル−、2−メトキシカルボニル
−、2−エトキシカルボニル−及び2−プロポキシカル
ボニル−ベンゼンスルホンアミド、(2−クロル−フエ
ニル)−、(2−ジフルオルメトキシ−フエニル)−及
び(2−エトキシカルボニル−フエニル)−メタンスル
ホンアミド、3−ジメチルアミノカルボニル−ピリジン
−2−スルホンアミド、3−エチルスルホニル−ピリジ
ン−2−スルホンアミド、2−メトキシカルボニル−チ
オフエン−3−スルホンアミド、1−メチル−4−メト
キシカルボニル−、1−メチル−4−エトキシカルボニ
ル−、1−メチル−3−クロル−4−メトキシカルボニ
ル−、1−メチル−3−クロル−4−エトキシカルボニ
ル−及び1−ピリジル−4−メトキシカルボニル−ピラ
ゾル−5−スルホンアミド。
【0018】式(II)のスルホンアミドは、公知であ
り及び/又は公知の方法に従つて製造することができる
[参照、J.オルグ・ケム(Org. Chem.)25,182
4(1960)及び33,2104(1968);独国
特許公報第2308262号;ヨーロツパ特許第231
40号、第23141号、第23422号、第3589
3号、第48143号、第51466号、第64322
号、第70041号、第44808号、及び第4480
9号;米国特許第2929820号、第4282242
号、第4348220号、第4372778号及び第4
806147号]。
【0019】本発明の式(I)の化合物の製造法におい
て、更なる出発物質として使用すべきウレタンは、一般
に式(III)によつて定義される。
【0020】式(III)において、R2、X、Y及び
Zは好ましくは又は特に本発明の方法で製造しうる式
(I)の化合物の記述と関連して且つR2、X、Y及び
Zに対する好適な又は特に好適なものとしてすでに上述
した意味を有し、そしてR3は好ましくはメチル、エチ
ル、ベンジル又はフエニル、特にフエニルを表わす。
【0021】言及しうる式(III)の出発物質の例は
次の通りである:N−(4,6−ジメチル−ピリミジン
−2−イル)−、N−(4−メトキシ−6−メチル−ピ
リジン−2−イル)−、N−(4,6−ジメトキシ−ピ
リミジン−2−イル)−、N−(4,6−ジメチル−s
−トリアジン−2−イル)−、N−(4−メトキシ−6
−メチル−s−トリアジン−2−イル)−及びN−
(4,6−ジメトキシ−s−トリアジン−2−イル)−
N−メチル−o−メチルウレタン、−N−メチル−o−
エチル−ウレタン、−N−メチル−o−ベンジル−ウレ
タン及び−N−メチル−o−フエニル−ウレタン。
【0022】式(III)の出発物質は公知であり及び
/又は公知の方法に従つて製造しうる[参照、ヨーロツ
パ特許第101670号;米国特許第4683000
号、第4678500号及び第4786311号]。
【0023】式(III)のウレタンは、新規な及び本
発明の方法に従つて、一般式(IV)
【0024】
【化13】
【0025】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有する]のアミンを、随時酸受容体例えば炭酸(水
素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウム、又はカリウム
tert−ブチレートの存在下に及び随時希釈剤例えば
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、メ
チルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、グリコールジメチルエーテル、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メ
チル、エチル、プロピル又はブチル、アセトニトリル又
はプロピオニトリルの存在下に式(V)
【0026】
【化14】R3−O−CO−Cl (V) [式中、R3は上述した意味を有する]のクロルぎ酸エ
ステルと0〜150℃の温度で反応させる場合に得られ
る(参照、製造例)。
【0027】本発明の方法はアルカリ金属水酸化物又は
アルコレート或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアル
コレートを用いることによつて行われる。好適なもの
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及
びカルシウム水酸化物、ナトリウム、カリウム、及びマ
グネシウムメチレート及びエチレート、ナトリウム及び
カリウムプロピレート、イソプロピレート、ブチレー
ト、イソブチレート、sec−ブチレート、及びter
t−ブチレートである。
【0028】特に好適なものは、ナトリウム及びカリウ
ムメチレート、ナトリウム及びカリウムエチレート、及
び更にナトリウム及びカリウム水酸化物である。
【0029】本発明による式(IIa)のスルホンアミ
ド塩の製造工程は好ましくは希釈剤の存在下に行われ
る。この関連において適当な希釈剤は特に有機溶媒であ
る。これらは好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロ
ゲン化された炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロル
ベンゼン及びo−ジクロルベンゼン、エーテル、例えば
ジエチル及びジブチルエーテル、グリコールジメチルエ
ーテル及びジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン及びジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチ
ルイソブチルケトン、エステル、例えば酢酸メチル及び
エチル、ニトリル、例えばアセトニトリル及びプロピオ
ニトリル、アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、並びにア
ルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、
sec−ブタノール及びtert−ブタノール並びに水
を含む。この関連において水及びアルコール例えばメタ
ノール及びエタノールは非常に特に好適である。
【0030】本発明の方法における式(IIa)のスル
ホンアミド塩を製造する際の反応温度は広い範囲にわた
つて変えることができる。一般に−20〜+150℃、
好ましくは0〜120℃の温度が使用される。
【0031】本発明の方法の最終工程、即ち式(II
a)のスルホンアミド塩の、式(III)のウレタンと
の反応は、好ましくは希釈剤の存在下に行われる。この
関連において、適当な希釈剤は特に中性の有機溶媒であ
る。これらは好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロ
ゲン化された炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロル
ベンゼン及びo−ジクロルベンゼン、エーテル、例えば
ジエチル及びジブチルエーテル、グリコールジメチルエ
ーテル及びジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン及びジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチ
ルイソブチルケトン、エステル、例えば酢酸メチル及び
エチル、ニトリル、例えばアセトニトリル及びプロピオ
ニトリル、アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、並びにジ
メチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキ
サメチル燐酸トリアミドを含む。
【0032】この関連において、ケトン例えばメチルイ
ソブチルケトン及びニトリル例えばアセトニトリルは非
常に特に好適である。
【0033】本発明の方法の最終工程において、反応温
度は広い範囲にわたつて変えることができる。一般に−
20〜+150℃、好ましくは0〜100℃の温度が使
用される。
【0034】本発明の方法は一般に大気圧で行われる。
しかしながら、それは昇圧又は減圧下に、一般に0.1
〜10バール下に行うことができる。
【0035】本発明の方法を行うためには、式(II)
のスルホンアミド1モルに対して、一般に0.9〜1.
5、好ましくは0.95〜1.20モル又はモル当量のア
ルカリ金属水酸化物又はアルコレート或いはアルカリ土
類金属水酸化物又はアルコレート及び0.9〜1.2、好
ましくは0.95〜1.10モルの式(III)のウレタ
ンが用いられる。
【0036】本発明の方法の好適な具体例においては、
式(II)のスルホンアミドを有機希釈剤中に導入し、
そしてこれにアルカリ金属水酸化物又はアルコレート或
いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートを撹拌
しながら秤入する。次いで混合物をある期間撹拌し、減
圧下に濃縮する。続いて本質的に式(IIa)のスルホ
ンアミド塩を含有する残渣を適当な希釈剤中に入れ、式
(III)のウレタンを撹拌しながら添加する。
【0037】本発明の方法の更に好適な具体例において
は、式(II)のスルホンアミドを、それが実質的に完
全に溶解するまで当量のアルカリ金属又はアルカリ土類
金属水酸化物の水溶液と撹拌する。次いで未溶解の成分
を随時濾別し、この溶液に有機溶媒、好ましくはメチル
イソブチルケトン又はトルエンを添加する。次いで水を
共沸蒸留によつて除去する。更に式(III)のウレタ
ンを、好ましくは60〜90℃の温度において残りの溶
液に添加し、そして反応混合物を反応が完結するまで撹
拌する。
【0038】反応が完了した後は、常法に従つて処理を
行う(参照、製造例)。
【0039】本発明の方法で製造しうる式(I)のスル
ホニル尿素塩は選択的除草剤として使用しうる(参照、
ヨーロツパ特許第251,079号及び第433,779
号)。
【0040】
【実施例】製造例 実施例1
【0041】
【化15】
【0042】2−トリフルオルメトキシ−ベンゼンスル
ホンアミド12.1g(50.2ミリモル)をメタノール
50ml中に入れ、次いでメタノール中ナトリウムメチ
レートの30%溶液9.1g(NaOCH3 50.6ミリ
モル)を撹拌しながら20℃で添加した。この混合物を
更に2時間20℃で撹拌し、続いて水流ポンプで濃縮し
た。残渣をトルエン中に入れ、再びもう1度濃縮した。
次いで残渣をアセトニトリル100ml中に入れ、N−
メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル14.5g
(45.8ミリモル)を撹拌しながら20℃で添加し
た。ある期間の後、懸濁液から明黄色の殆んど透明な溶
液を得、この溶液から無色の固体を除々に沈殿させた。
12時間後、生成物を吸引濾過により単離した。
【0043】融点224℃の3−(4,6−ジメトキシ
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−トリフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素の
ナトリウム塩19.9g(理論量の93%)(HPLC
による純度98.3%)を得た。
【0044】実施例1と同様に且つ本発明の方法の一般
的な記述に対応して、例えば下表1に示す式(I)の化
合物も製造した。
【0045】
【化16】
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】
【0048】
【表3】
【0049】実施例1に従つて得られる化合物は、例え
ば以下の如くしても製造できた。
【0050】実施例1a
【0051】
【化17】
【0052】2−トリフルオルメトキシ−ベンゼンスル
ホンアミド14.4g(60ミリモル)を、溶液が実質
的に完成するまで水50ml中水酸化ナトリウム2.4
g(60ミリモル)の溶液と共に20℃で撹拌した。濾
過後、この透明な溶液にメチルイソブチルケトン150
mlを添加し、水を共沸蒸留で除去した。続いて残りの
溶液に、N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,
3,5−s−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フ
エニル18.8g(60.6ミリモル)を70〜90℃で
添加した。透明な溶液が得られ、これから短期間の後
に、生成物がかさばつて沈殿した。より簡単に撹拌しう
るために溶液を(メチルイソブチルケトンで)500m
lまで希釈し、混合物を20℃で12時間撹拌した。次
いで生成物を吸引濾過により単離した。
【0053】融点224℃の3−(4,6−ジメトキシ
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−トリフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素の
ナトリウム塩24g(HPLCによる純度96.7%)
を得た。
【0054】実施例2として表1に示した化合物は例え
ば以下の如くしても製造できた。
【0055】実施例2a
【0056】
【化18】
【0057】2−ジフルオルメトキシ−ベンゼンスルホ
ンアミド6.7g(30ミリモル)を、溶液が実質的に
完成するまで水30ml中水酸化ナトリウム1.2g
(30ミリモル)の溶液と共に撹拌した。濾過後、この
透明な溶液にメチルイソブチルケトン300mlを添加
し、水を共沸蒸留で除去した。続いて残りの溶液に、N
−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−s−
トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル9.3
g(30ミリモル)を70〜80℃で添加した。反応混
合物を更に12時間20℃で撹拌し、得られる結晶生成
物を吸引濾過により単離した。
【0058】融点201℃の3−(4,6−ジメトキシ
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−ジフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素のナ
トリウム塩11.4g(理論量の77%)(HPLCに
よる純度88.9%)を得た。 式(III)の出発物質 実施例(III−1)
【0059】
【化19】
【0060】テトラヒドロフラン100ml中2−メチ
ルアミノ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン
5.0g(0.0294モル)に、カリウムt−ブチレー
ト3.7g(0.033モル)を添加した。完全に撹拌し
ながら、クロルぎ酸フエニル5.1g(0.0326モ
ル)を迅速に滴下した。この期間中、反応混合物を冷却
によつて約25℃に保つた。20℃で12時間後、混合
物を真空下に濃縮し、塩化メチレン中に入れ、中性にな
るまで水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥後、混合物を
濃縮し、残渣をエーテル/石油エーテル(1:1)と共
に撹拌した。沈殿した結晶生成物を吸引濾別し、乾燥し
た。収量:N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,
3,5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニ
ル(融点90℃)6.6g(理論量の73%)。
【0061】実施例(III−2)
【0062】
【化20】
【0063】シクロヘキサン100ml中2−メチルア
ミノ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン5.0
g(0.0294モル)及び炭酸水素ナトリウム5.5g
(0.0655モル)の混合物に、クロルぎ酸フエニル
10.2g(0.0651モル)を80℃で撹拌しながら
1.5時間以内に滴下した。混合物を水流アスピレータ
ー下に12時間還流温度に加熱し、冷却し、濃縮した。
残渣を塩化メチレン中に入れ、中性になるまで水洗し、
乾燥し、濃縮した。エーテル/塩化メチレン(1:1)
と共に撹拌した後、融点90℃を有する白色の結晶のN
−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリ
アジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル5.3g
(理論量の59%)を得た。
【0064】下表2に示す式(III)の化合物も、例
えば同様の方法で製造することができた:
【0065】
【化21】
【0066】
【表4】
【0067】実施例(III−2)に従つて得た化合物
は、例えば次の如くしても製造できた。
【0068】実施例(III−2a)
【0069】
【化22】
【0070】2−メチルアミノ−4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン89.6g(0.52モル)、炭酸
水素ナトリウム84g(1.0モル)、及び酢酸ブチル
800mlの混合物を水流アスピレーター下に還流する
まで加熱し、酢酸ブチル500ml中クロルぎ酸フエニ
ル102g(0.65モル)の溶液を8時間かけて滴下
した。更に1時間還流させた後、混合物を冷却し、反応
溶液を水洗した。洗浄水を2N塩酸で中和し、酢酸ブチ
ルで再び抽出した。一緒にした有機溶液を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過した。この濾液を濃縮し、油状残渣を
メチルシクロヘキサン中に入れ、激しく撹拌した。これ
から得られる結晶生成物を吸引濾別した。融点90℃を
有するN−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,
5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル1
32g(理論量の80%)を得た。
【0071】実施例(III−2b)
【0072】
【化23】
【0073】2−メチルアミノ−4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン17g(0.1モル)、炭酸水素
ナトリウム12.5g(0.15モル)及びメチルイソブ
チルケトン125mlの混合物を水流アスピレーター下
に還流温度に加熱し、メチルイソブチルケトン25ml
中クロルぎ酸フエニル23.5g(0.15モル)を滴下
した。更に還流下に2.5時間後、混合物を30℃まで
冷却し、1%炭酸ナトリウム溶液で洗浄した。水性相を
メチルイソブチルケトンで再び抽出した。一緒にした有
機溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を濃
縮し、得られた残渣をシクロヘキサンから再結晶させ
た。
【0074】融点90℃のN−メチル−N−(4,6−
ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−カル
バミン酸フエニル21.8g(理論量の72%)を得
た。
【0075】実施例(III−2c)
【0076】
【化24】
【0077】2−メチルアミノ−4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン172g(1.0モル)及び炭酸
水素ナトリウム168g(2.0モル)を水流アスピレ
ーター下にトルエン中で還流するまで加熱した。クロル
ぎ酸フエニル235g(1.5モル)を5時間にわたつ
て滴下し、完全な反応混合物を更に1時間還流下に撹拌
した。40℃まで冷却後、混合物を濾過し、溶媒を濾液
から注意深く真空下に留去した。
【0078】N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエ
ニル348g(理論量の91%)を黄色がかつた固体と
して得た。
【0079】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る: 1.一般式(I)
【0080】
【化25】
【0081】[式中、M+はアルカリ金属イオン又はア
ルカリ土類金属イオン均等物を表わし、R1はそれぞれ
の場合随時置換されたアリール、アラルキル又はヘテロ
アリールを表わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随
時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又はア
ラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞ
れの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを
表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表わ
し、そしてZは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わ
す]のスルホニル尿素塩を製造するに際して、最初に一
般式(II)
【0082】
【化26】R1−SO2−NH2 (II) [式中、R1は上述した意味を有する]のスルホンアミ
ドを、随時希釈剤の存在下にアルカリ金属水酸化物又は
アルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はア
ルコレートと−20〜+150℃の温度で反応させ(工
程1)、次いでこのように製造した一般式(IIa)
【0083】
【化27】R1−SO2−NH−M+ (IIa) [式中、M+及びR1は上述した意味を有する]のスルホ
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に一般式(III)
【0084】
【化28】
【0085】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有し、そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリ
ールを表わす]のウレタン(カーバメート)と−20〜
+150℃の温度で反応させ(工程2)、そして式
(I)の生成物を常法によつて単離する、一般式(I)
のスルホニル尿素の製造法。
【0086】2.式(I)において、M+がリチウム、
ナトリウム又はカリウムイオン或いはマグネシウム又は
カルシウムイオン均等物を表わし、R1がそれぞれの場
合随時置換されたフエニル、ナフチル、ベンジル、ピリ
ジル、チエニル又はピラゾリルを表わし、但し可能な置
換基は好ましくはハロゲン、カルボキシル、シアノ、カ
ルバモイル、ニトロ、アミノ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ−C1〜C
4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノア
ルコキシ、C1〜C4アルコキシ−C1〜C4アルコキシ、
1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフイニ
ル、C1〜C4アルキルスルホニル、ジ−(C1〜C4アル
キル)−アミノ−スルホニル、N−C1〜C4アルコキシ
−N−C1〜C4アルキル−アミノ−スルホニル、フエニ
ル、フエノキシ、C1〜C4アルコキシ−カルボニル、C
1〜C4ハロゲノアルコキシ−カルボニル、C1〜C2アル
コキシ−C1〜C2アルコキシ−カルボニル、ジ−(C1
〜C4アルキル)−アミノ−カルボニルの系列から選択
され、R2が水素、(随時弗素、シアノ、C1〜C4アル
コキシ又はC1〜C4アルキルチオで置換された)C1
6アルキル、(随時弗素又は塩素で置換された)C3
6アルケニル及びC3〜C6アルキニル、或いは(随時
フエニル残基が弗素、塩素、ニトロ、シアノ、メチル、
メトキシ又はC1〜C2アルコキシカルボニルで置換され
た)フエニル−C1〜C2アルキルを表わし、Xが水素、
ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン又はC1
〜C4アルコキシで置換されたC1〜C4アルキル、C1
4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ又はC1〜C4
ルキルアミノを表わし、Yが水素、ハロゲン、或いはそ
れぞれの場合随時ハロゲンで置換されたC1〜C4アルキ
ル又はC1〜C4アルコキシを表わし、Zが窒素又はCH
基を表わす、上記1の式(I)の化合物の製造法。
【0087】3.式(I)の化合物において、M+がナ
トリウムイオン又はカリウムイオンを表わし、R1がそ
れぞれの場合オルト位が弗素、塩素、臭素、メチル、エ
チル、トリフルオルメチル、メトキシ、エトキシ、ジフ
ルオルメトキシ、トリフルオルメトキシ、クロルエトキ
シ、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、メチルスルフイニル、
エチルスルフイニル、プロピルスルフイニル、メチルス
ルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ジ
メチルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、
N−メトキシ−N−メチル−アミノスルホニル、フエニ
ル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、クロルエ
トキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、ジメ
チルアミノカルボニル又はジエチルアミノカルボニルで
及び随時更なる位置がハロゲンで置換されたフエニル又
はベンジルを表わし、或いは、3−ジメチルアミノカル
ボニル−ピリジン−2−イル又は3−エチルスルホニル
−ピリジン−2−イル、2−メトキシカルボニル−チオ
フエン−3−イル又はメチル−1−4−メトキシカルボ
ニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−メトキシ
カルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−エ
トキシカルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−
3−クロル−4−メトキシカルボニル−ピラゾル−5−
イル、1−メチル−3−クロル−4−エトキシカルボニ
ル−ピラゾル−5−イル、又は1−ピリジル−4−メト
キシカルボニル−ピラゾル−5−イルを表わし、R2
水素又はメチルを表わし、Xが水素、塩素、メチル、エ
チル、トリクロルメチル、トリフルオルメチル、メトキ
シメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、
フルオルエトキシ、ジフルオルエトキシ、トリフルオル
エトキシ、メトキシエトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、メチルアミノ又はエチルアミノを表わし、Yが水
素、塩素、メチル、エチル、トリフルオルメチル、メト
キシ、エトキシ又はジフルオルメトキシを表わし、そし
てZが窒素又はCH基を表わす、上記1の式(I)の化
合物の製造法。
【0088】4.第1工程を0〜120℃の温度で行う
上記1の方法。
【0089】5.第2工程を0〜100℃の温度で行う
上記1の方法。
【0090】6.第1工程において、水又はアルコー
ル、好ましくはメタノール及びエタノールを希釈剤とし
て用いる上記1の方法。
【0091】7.第2工程において、ケトン又はニトリ
ル、好ましくはメチルイソブチルケトン又はアセトニト
リルを希釈剤として用いる上記1の方法。
【0092】8.式(II)のスルホンアミドを有機希
釈剤中に導入し、アルカリ金属水酸化物又はアルコレー
ト或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートを
撹拌しながら秤入し、次いで混合物をある期間撹拌しそ
して減圧下に濃縮し、最後に本質的に式(IIa)のス
ルホンアミド塩を含む残渣を適当な希釈剤に捕捉させ、
次いで式(III)のウレタンを撹拌しながら添加す
る、上記1の方法。
【0093】9.一般式(III)
【0094】
【化29】
【0095】[式中、R2は水素或いはそれぞれの場合
随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又は
アラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれ
ぞれの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノ
を表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合
随時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表
わし、Zは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わし、
そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリールを表わ
す]のウレタンの製造に際して、一般式(IV)
【0096】
【化30】
【0097】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有する]のアミンを、随時酸受容体[好ましくは炭
酸(水素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウム又はカリ
ウムtert−ブチレート]の存在下に及び随時希釈剤
[好ましくはシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチル
エーテル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、グリコールジメチルエーテ
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸メチル、エチル、プロピルもしくはブチ
ル、アセトニトリル或いはプロピオニトリル]の存在下
に、一般式(V)
【0098】
【化31】R3−O−CO−Cl (V) [式中、R3は上述した意味を有する]のクロルぎ酸エ
ステルと0〜150℃の温度で反応させる、式(II
I)のウレタンの製造法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 401/12 8829−4C 401/14 8829−4C 403/12 8829−4C 409/12 8829−4C

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、M+はアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金
    属イオン均等物を表わし、R1はそれぞれの場合随時置
    換されたアリール、アラルキル又はヘテロアリールを表
    わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随時置換された
    アルキル、アルケニル、アルキニル又はアラルキルを表
    わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時
    ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを表わし、Yは
    水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲンで
    置換されたアルキル又はアルコキシを表わし、そしてZ
    は窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わす]のスルホ
    ニル尿素塩を製造するに際して、最初に一般式(II) 【化2】R1−SO2−NH2 (II) [式中、R1は上述した意味を有する]のスルホンアミ
    ドを、随時希釈剤の存在下に、アルカリ金属水酸化物も
    しくはアルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物
    もしくはアルコレートと−20〜+150℃の温度で反
    応させ(工程1)、次いでこのように製造した一般式
    (IIa) 【化3】R1−SO2−NH−M+ (IIa) [式中、M+及びR1は上述した意味を有する]のスルホ
    ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に、一般式(II
    I) 【化4】 [式中、R2、X、Y及びZは上述した意味を有し、そ
    してR3はアルキル、アラルキル又はアリールを表わ
    す]のウレタン(カーバメート)と−20〜+150℃
    の温度で反応させ(工程2)、そして式(I)の生成物
    を常法によつて単離する、一般式(I)のスルホニル尿
    素の製造法。
  2. 【請求項2】 一般式(III) 【化5】 [式中、R2は水素或いはそれぞれの場合随時置換され
    たアルキル、アルケニル、アルキニル又はアラルキルを
    表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
    時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アル
    コキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを表わし、Y
    は水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン
    で置換されたアルキル又はアルコキシを表わし、Zは窒
    素、CH基又はC−ハロゲン基を表わし、そしてR3
    アルキル、アラルキル又はアリールを表わす]のウレタ
    ンの製造に際して、一般式(IV) 【化6】 [式中、R2、X、Y及びZは上述した意味を有する]
    のアミンを、随時酸受容体[好ましくは炭酸(水素)ナ
    トリウム、炭酸(水素)カリウム又はカリウムtert
    −ブチレート]の存在下に及び随時希釈剤[好ましくは
    シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
    ルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイソプロピルエ
    ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、メ
    チルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、
    ジオキサン、グリコールジメチルエーテル、アセトン、
    メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メ
    チル、エチル、プロピル又はブチル、アセトニトリル或
    いはプロピオニトリル]の存在下に、一般式(V) 【化7】R3−O−CO−Cl (V) [式中、R3は上述した意味を有する]のクロルぎ酸エ
    ステルと0〜150℃の温度で反応させる、式(II
    I)のウレタンの製造法。
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