JPH06247935A - ６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オール類、その製造法及び該化合物を用いた６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類の製造法 - Google Patents

６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オール類、その製造法及び該化合物を用いた６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類の製造法

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JPH06247935A
JPH06247935A JP5060846A JP6084693A JPH06247935A JP H06247935 A JPH06247935 A JP H06247935A JP 5060846 A JP5060846 A JP 5060846A JP 6084693 A JP6084693 A JP 6084693A JP H06247935 A JPH06247935 A JP H06247935A
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Kiyobumi Ishikawa
清文 石川
Takashi Hayama
俊 端山
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 ビシュラー・ナピエルスキー反応（Ｂｉｓｃ
ｈｌｅｒ−Ｎａｐｉｅｒａｌｓｋｉ ｒｅａｃｔｉｏ
ｎ）による６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイ
ソキノリン−８−オール類の位置選択的高収率な合成法
及び該化合物を用いる６，７−ジアルコキシ−１，２，
３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類の合
成法を提供する。 【構成】 式Ｉの化合物又はその塩および式IIの化合物
を環化して式Ｉの化合物（但しＲ３はＲ31となる）を合
成し、更に該化合物を還元して式IIIの６，７−ジアル
コキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−
８−オール類を得る合成法。 〔式中、Ｒ１，Ｒ２は低級アレキル基、ベンジル基を示
すか、一緒になってメチレン基を示し；Ｒ３あるいはＲ
31は水素原子、低級アルキル基、（置換）ベンジル基等
を示す〕

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬の分野において、
抗癌剤の抗腫瘍効果増強剤として有用な、イソキノリン
骨格の８位に水酸基又は低級アルコキシ基を有するイソ
キノリン類（ＰＣＴ／ＪＰ８９／００８２５，ＷＯ９０
／０２１１９参照）合成の中間原料として有用な６，７
−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−
オール類及び６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−
テトラヒドロイソキノリン−８−オール類（例えばｄｌ
−コーパバリン、アンハラミン等）の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４
−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類の製造法の
一例として、ビシュラー・ナピエルスキー反応（Ｂｉｓ
ｃｈｌｅｒ−Ｎａｐｉｅｒａｌｓｋｉ ｒｅａｃｔｉｏ
ｎ）による合成法が知られている。この合成法を用い
て、例えばｄｌ−コーパバリンの合成する場合には、以
下の反応式Ａに示す様に環化反応後位置異性体の混合物
として得られる３，４−ジヒドロイソキノリンを、異性
体の分離を含む数工程を経て目的物を得る経路が報告さ
れている（ケミカル・アンド・ファーマシューティカル
・ブルチン（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，１
５，８７９，１９６７））。
【０００３】
【化９】 また位置選択的な合成例としては、以下の反応式Ｂに示
す様にポメランツ・フリッシュ反応（Ｐｏｍｅｒａｎｚ
−Ｆｒｉｔｓｃｈ ｒｅａｃｔｉｏｎ）を用いる経路が
公知である（ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエ
ティー（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），７１５，１
９６６））。
【０００４】
【化１０】 更には、１位に置換基を有するテトラヒドロイソキノリ
ン−８−オールの製造法として、反応式Ｃに示す様に２
−メチル−３，４−ジヒドロイソキノリウムブロミドを
原料にグリニアール反応（Ｇｒｉｇｎａｒｄ ｒｅａｃ
ｔｉｏｎ）を用いた経路も報告されている（Ｈｅｌｖ．
Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，４９，１７５７，１９６６）。
【０００５】
【化１１】 また、従来３位にフェノール性水酸基を有するフェネチ
ルアミド誘導体を原料にしてビシュラー・ナピエルスキ
ー反応（Ｂｉｓｃｈｌｅｒ−Ｎａｐｉｅｒａｌｓｋｉ
ｒｅａｃｔｉｏｎ）を行い、フェノール性水酸基のオル
ト位選択的に環化させた例としては、反応式Ｄに示す様
に環化に関与するベンゼン環上にブロモ基を導入するこ
とで環化の方向を一方向に制御した例が報告されている
（ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティー
（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，（Ｃ），１７９６，１９７
１））。
【０００６】
【化１２】 しかしながら、本発明の一般式［ＩＩ］で表される３位
にフェノール性水酸基、４，５位にジアルコキシ基を有
するフェネチルアミド誘導体を用いてビシュラー・ナピ
エルスキー反応（Ｂｉｓｃｈｌｅｒ−Ｎａｐｉｅｒａｌ
ｓｋｉ ｒｅａｃｔｉｏｎ）を行なった反応は新規で、
文献に未記載であり、かつフェノール性水酸基のオルト
位選択的に環化して一般式［Ｉ］で表される６，７−ジ
アルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オー
ル類が収率良く得られることは、開示も示唆もされてい
ない。
【０００７】
【本発明が解決しようとする課題】６，７−ジアルコキ
シ−１，２，３，４−テトラヒドロキイソキノリン−８
−オールを公知方法で得ようとする場合、ビシュラー・
ナピエルスキー反応（Ｂｉｓｃｈｌｅｒ−Ｎａｐｉｅｒ
ａｌｓｋｉ ｒｅａｃｔｉｏｎ）を用いて合成する経路
は反応式Ａに示した様に環化方向が二方向ありかつその
環化方向が目的とする方向に選択的に制御できないた
め、不必要な位置異性体を与え、そのため低収率となる
ばかりでなく、異性体混合物の分離が困難であるため
に、この方法は、大量合成に適用することができない。
【０００８】また反応式Ｂで示すポメランツ・フリッシ
ュ反応（Ｐｏｍｅｒａｎｚ−Ｆｒｉｔｓｃｈ ｒｅａｃ
ｔｉｏｎ）を用いて合成する経路は、原料合成が容易で
なくかつ収率が低いという問題があり、これも大量合成
に適用することができない。
【０００９】反応式Ｃで示す１位置換テトラヒドロイソ
キノリン−８−オールの製法も原料である２−メチル−
３，４−ジヒドロイソキノリウムブロミドの合成が容易
ではなく短工程で目的物を大量合成するのに適さない。
【００１０】このように、従来の方法によれば、工業的
に大量に製造することは困難であり、６，７−ジアルコ
キシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８
−オール類の工業的に良好な製造法が求められている。
【００１１】
【問題点を解決するための手段】本発明者らは、６，７
−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−
オール類が従来効率的製造法が知られていない新規化合
物である点に着目し、ビシュラー・ナピエルスキー反応
（Ｂｉｓｃｈｌｅｒ−Ｎａｐｉｅｒａｌｓｋｉｒｅａｃ
ｔｉｏｎ）を応用して、原料であるフェネチルアミド誘
導体を位置選択的環化反応に付し、短工程かつ高収率で
６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ
イソキノリン−８−オール類を製造するための優れた前
駆体である６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロキ
シイソキノリン−８−オール類の製造方法を鋭意検討
し、ビシュラー・ナピエルスキー反応（Ｂｉｓｃｈｌｅ
ｒ−Ｎａｐｉｅｒａｌｓｋｉ ｒｅａｃｔｉｏｎ）にお
ける環化反応の方向性を制御するために原料として用い
るフェネチルアミド誘導体及び高選択的な環化の条件を
見出し本発明を完成した。
【００１２】すなわち、本発明は、一般式
【００１３】
【化１３】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
チレン基を示し、Ｒ3は水素原子もしくは低級アルキル
基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
（但し、Ｒ3がメチル基の場合、Ｒ1及びＲ2が同時にメ
チル基である化合物を除く。）又はその塩、一般式
【００１４】
【化１４】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
チレン基を示し、Ｒ31は水素原子もしくは低級アルキル
基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
をリン酸のハロゲン化物の存在下、フェノール性水酸基
のオルト位選択的に環化させて、一般式
【００１５】
【化１５】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
される化合物又はその塩とし、更に該化合物又はその塩
を還元することを特徴とする、一般式
【００１６】
【化１６】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
される化合物又はその塩の製造法、一般式
【００１７】
【化１７】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
チレン基を示し、Ｒ31は水素原子もしくは低級アルキル
基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
をリン酸のハロゲン化物の存在下、フェノール性水酸基
のオルト位選択的に環化させることを特徴とする、一般
式
【００１８】
【化１８】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
される化合物又はその塩の製造法及び一般式
【００１９】
【化１９】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
チレン基を示し、Ｒ31は水素原子もしくは低級アルキル
基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
又はその塩を還元することを特徴とする、一般式
【００２０】
【化２０】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
される化合物又はその塩の製造法に関する。
【００２１】次に、この明細書の記載において言及さ
れ、本発明の範囲内に包含される各種用語の定義の具体
例について説明する。
【００２２】「低級」なる語は、特に断わらない限りこ
の語で修飾される基が炭素数６個以下であることを意味
する。従って、「低級アルキル基」とは、炭素数１ない
し６の直鎖又は分枝状のアルキル基を意味し、具体的に
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基等が
挙げられ、中でも炭素数１ないし４のアルキル基が好ま
しい。
【００２３】「低級アルコキシ基」とは、前記の低級ア
ルキル基が水酸基に置換したアルキルオキシ基を意味
し、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ
−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等
が挙げられ、中でも炭素数１ないし４のアルコキシ基が
好ましく、特にメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキ
シ基等が好適である。
【００２４】「低級アルコキシカルボニルメチル基」と
は、前記の低級アルキル基がヒドロキシカルボニルメチ
ル基の水酸基に置換したアルコキシカルボニルメチル基
を意味し、例えばメトキシカルボニルメチル基、エトキ
シカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル
基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカル
ボニルメチル基等が挙げられ、中でも炭素数２ないし６
のアルコキシカルボニルメチル基が好ましく、特にメト
キシカルボニルメチル基が好ましい。
【００２５】「ハロゲン原子」としては、例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２６】「ヘテロアリールメチル基」とは、ヘテロ
アリール基で置換されたメチル基を意味する。該ヘテロ
アリール基とは芳香族複素環基を意味し、例えば２−ピ
リジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、４−メチ
ル−２−ピリジル基、４−メトキシ−２−ピリジル基、
６−メチル−３−ピリジル基、４−メトキシ−３−ピリ
ジル基、３−メトキシ−４−ピリジル基、２−チエニル
基、３−チエニル基、２−ピロリル基、３−ピロリル
基、１−メチル−２−ピロリル基、１−メチル−３−ピ
ロリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−
チアゾリル基、４−メチル−２−チアゾリル基、２−メ
チル−４−チアゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イ
ミダゾリル基、１−メチル−２−イミダゾリル基、２−
オキサゾール基、４−オキサゾール基、５−オキサゾー
ル基、２−インドリル基、３−インドリル基、５−メチ
ル−３−インドリル基、２−メチル−３−インドリル
基、５−メトキシ−３−インドリル基、５−ブロモ−３
−インドリル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４
−キノリル基、３−メチル−４−キノリル基、１−イソ
キノリル基、３−イソキノリル基、１−メチル−４−イ
ソキノリル基、４−メトキシ−１−イソキノリル基等が
挙げられる。
【００２７】「ヘテロアリールエチル基」とは、前記の
ヘテロアリール基で置換されたエチル基を意味する。
【００２８】「リン酸のハロゲン化物」としては、例え
ばオキシ塩化リン、五塩化リン等が挙げられる。
【００２９】Ｒ1、Ｒ2の好適な低級アルキル基とは、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基
等が挙げられ、特にメチル基が好ましい。
【００３０】Ｒ3の好適な低級アルキル基とは、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
【００３１】Ｒ3として好適である、１ないし３個の低
級アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニ
トロ基及び低級アルコキシカルボニルメチル基の群から
選ばれる置換基でベンゼン環上の水素原子が置換されて
いてもよいベンジル基としては、例えば２−メトキシベ
ンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、２，３−ジメトキシベンジル基、３，４−ジメ
トキシベンジル基、２，５−ジメトキシベンジル基、
３，５−ジメトキシベンジル基、３，４，５−トリメト
キシベンジル基、２−ベンジルオキシベンジル基、３−
ベンジルオキシベンジル基、４−ベンジルオキシベンジ
ル基、３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンジル基、
４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル基、４−エ
トキシベンジル基、４−プロポキシベンジル基、２−ク
ロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、２−ブロモベンジル基、３−ブロモベンジル
基、４−ブロモベンジル基、２−フルオロベンジル基、
３−フルオロベンジル基、４−フルオロベンジル基、４
−ベンジルオキシ−３−ブロモベンジル基、３−ブロモ
−４−メトキシベンジル基、３−ベンジルオキシ−４−
ブロモベンジル基、４−ブロモ−３−メトキシベンジル
基、２−ニトロベンジル基、３−ニトロベンジル基、４
−ニトロベンジル基、２−メトキシカルボニルメチルベ
ンジル基、３−メトキシカルボニルメチルベンジル基、
４−メトキシカルボニルメチルベンジル基等が挙げられ
る。
【００３２】Ｒ3として好適である低級アルコキシ基も
しくはベンジルオキシ基でベンゼン環上の水素原子が置
換されていてもよいフェネチル基としては、例えば２−
メトキシフェネチル基、３−メトキシフェネチル基、４
−メトキシフェネチル基、２−ベンジルオキシフェネチ
ル基、３−ベンジルオキシフェネチル基、４−ベンジル
オキシフェネチル基等が挙げられる。
【００３３】次に、本発明の一般式［Ｉ］の化合物につ
いて具体的に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
【００３６】
【表３】
【００３７】
【表４】 なお、上記の略号は、以下の意味を有する。
【００３８】Ｍｅ：メチル基 Ｅｔ：エチル基 Ｐｒ：プロピル基 Ｂｕ：ブチル基 Ｂｎ：ベンジル基 Ｐｙ：ピリジル基 ４−ＭｅＯＣ6Ｈ4：４−メトキシフェニル基 次に、本発明の第２の発明である、一般式［ＩＩＩ ］
の化合物の製造法について説明する。
【００３９】一般式［ＩＩＩ］の化合物は、以下の製造
法Ａ及び製造法Ｂのいずれによっても製造することがで
きる。
【００４０】
【化２１】 本製造法は、一般式［ＩＩ］で表される化合物をリン化
合物の存在下に、フェノール性水酸基のオルト位におい
て、選択的に環化させて、一般式［Ｉ−ａ］で表される
化合物又はその塩とし（第１工程）、更に一般式［Ｉ−
ａ］で表される化合物又はその塩を還元する（第２工
程）ことを特徴とする。
【００４１】第一工程での反応は、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン系極性溶媒中、一般式［ＩＩ］
の化合物１モルに対して、リン酸のハロゲン化物を１な
いし１００倍モル、好ましくは１ないし３倍モル使用
し、反応温度は、室温から溶媒の沸点、好ましくは、室
温ないし６０℃であり、本反応は、１ないし３６時間で
完結する。
【００４２】リン酸のハロゲン化物としては、例えばオ
キシ塩化リン、五塩化リン等を挙げることができる。
【００４３】反応終了後、減圧下に溶媒を留去すると、
粗製の一般式［Ｉ−ａ］の化合物の塩酸塩が得られる。
一般式［Ｉ−ａ］の化合物又はその塩は、そのまま次工
程に使用することもできるが、好適には、例えば、再結
晶、カラムクロマトによる通常の精製とすることが、収
率をあげるために有用である。
【００４４】又、一般式［Ｉ−ａ］の化合物又はその塩
は、通常の方法により、各種の塩とすることができる。
【００４５】当該塩としては、例えば塩酸塩、臭素酸塩
等が挙げられ、中でも、塩酸塩が好適である。
【００４６】第二工程での反応は、例えばメタノール、
エタノール等のアルコール溶媒中、一般式［Ｉ−ａ］の
化合物又はその塩１モルに対して、還元剤を１ないし５
モル、好ましくは１ないし２モル使用し、反応温度は、
０℃ないし室温であり、本発明は、１０分ないし１時間
で完結する。
【００４７】使用する還元剤としては、例えば水素化ホ
ウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等が挙
げられる。
【００４８】反応終了後、減圧下に溶媒を留去して、得
られる残渣を再結晶等により製造することにより、一般
式［ＩＩＩ ］の化合物又はその塩が挙げられる。
【００４９】又、一般式［ＩＩＩ ］の化合物又はその
塩は、通常の方法により、各種の塩とすることができ
る。
【００５０】当該塩としては、例えば塩酸塩、臭素酸
塩、シュウ酸塩、酒石酸塩等が挙げられ、中でも、塩酸
塩が好適である。
【００５１】この様にして得られた一般式［ＩＩＩ ］
の化合物が８位にフェノール性水酸基を有することは、
実施例及び参考例に示した様に既知化合物（例えばｄｌ
−コーパバリン、アンハラミン等）に誘くことで確認す
るとともに、 1 Ｈ−ＮＭＲにおいてＨｅｔｅｒｏｎｕ
ｃｌｅａｒ Ｍｕｌｔｉ Ｂｏｎｄ Ｃｏｎｎｅｃｔｉ
ｖｉｔｙ（ＨＭＢＣ）を測定し確認した。
【００５２】
【化２２】 本製造法は、一般式［Ｉ−ａ］で表される化合物又はそ
の塩を還元することにより、一般式［ＩＩＩ ］の化合
物又はその塩とすることを特徴とする。
【００５３】本工程は、製造法Ａの第２工程と同様に行
うことができる。
【００５４】次に本発明の第３の発明である、一般式
［Ｉ−ａ］の化合物の製造法について説明する。
【００５５】一般式［Ｉ−ａ］の化合物は、以下の製造
法Ｃにより製造することができる。
【００５６】
【化２３】 本製造法は、一般式［ＩＩ］で表される化合物をリン酸
のハロゲン化物の存在下に、フェノール性水酸基のオル
ト位において、選択的に環化させて、一般式［Ｉ−ａ］
で表される化合物又はその塩とすることを特徴とするも
のである。
【００５７】本工程は、製造法Ａの第１工程と同様に行
うことができる。
【００５８】原料である一般式［ＩＩ］で示されるフェ
ネチルアミド誘導体は、公知の方法［例えば、ケミカル
・アンド・ファーマシューティカル・ブルチン（Ｃｈｅ
ｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ），１５（６），８７９，１
９６７参照］に従い製造される。すなわち、一般式
【００５９】
【化２４】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は前記の意味を有する］で表される
フェネチルアミン誘導体と、一般式 Ｒ31ＣＯ2Ｘ ［Ｖ］ ［式中、Ｒ31は前記の意味を有し、Ｘはハロゲン原子、
水酸基又は低級アルキルオキシ基を示す］で表される化
合物とを縮合させることで製造することができる。
【００６０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、もとより本発明はこれらの実施例のみに限
定されるものではない。 実施例１１−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキン−１
−（４−メトキシベンジル）イソキノリン−８−オール
・塩酸塩 Ｎ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシフェネチ
ル）−４−メトキシフェニルアセトアミド（６．７１
ｇ、１９．４ミリモル）のクロロホルム溶液（１００ｍ
ｌ）にオキシ塩化リン（５．４２ｍｌ、５８．１ミリモ
ル）を室温にて加え、窒素雰囲気下５５℃にて１６時間
撹拌した。減圧下溶媒及び過剰のオキシ塩化リンを除去
し、得られた残渣をメタノール−エーテルより再結晶し
て表題化合物を無色針状晶として６．０５ｇ（収率：８
６％）得た。
【００６１】融点：２１４−２１６℃（ｄｅｃ） 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ19Ｈ21ＮＯ4＋
Ｈ）+として）： 計算値 ３２８．１５４９ 測定値 ３２８．１５２６1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．７３（３
Ｈ，ｓ），３．８２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），
３．９１（３Ｈ，ｓ），３．９４（３Ｈ，ｓ），４．７
８（２Ｈ，ｓ），６．３８（１Ｈ，ｓ），６．７６（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ）１−２） ６，７−ジメトキシ−１−（４−メトキシベ
ンジル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン
−８−オール １−１で得られた化合物（２．１０ｇ、５．７７ミリモ
ル）のメタノール溶液（４０ｍｌ）に氷冷下水素化ホウ
素ナトリウム（２９２ｍｇ、７．７２ミリモル）を加え
４０分撹拌した。減圧下溶媒を留去して得られた残渣に
飽和食塩水（２００ｍｌ）を加え、クロロホルム（１０
０ｍｌ）で３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧下溶媒を留去して表題化合物を無色固体
として１．８２ｇ（収率：９６％）得た。
【００６２】高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ19Ｈ
23ＮＯ4＋Ｈ）+として）： 計算値 ３３０．１７０６ 測定値 ３３０．１７３６1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．６２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，４．２Ｈ
ｚ，１５．９Ｈｚ），２．８０−２．９２（１Ｈ，
ｍ），２．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１
３．９Ｈｚ），２．９８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．０Ｈ
ｚ，５．８Ｈｚ，１２．１Ｈｚ），３．２１（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１０．８Ｈｚ，１２．１Ｈ
ｚ），３．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１３．
９Ｈｚ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，
ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），４．２９（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．９Ｈｚ，１０．０Ｈｚ），６．２３（１Ｈ，
ｓ），６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．２
０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ） 以下の実施例２〜１４では実施例１と同様の操作を行な
い、各々表題化合物を得た。 実施例２２−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシイソ
キノリン−８−オール・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）ホルムアミド（２．４０ｇ、１０．７ミリ
モル）を用い、表題化合物を無色針状晶として１．７８
ｇ（収率：６９％）得た。
【００６３】融点：２２６−２２８℃（ｄｅｃ）1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
３．０９（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，８．０Ｈ
ｚ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｄｔ，
Ｊ＝１．１Ｈｚ，８．０Ｈｚ），４．００（３Ｈ，
ｓ），６．６７（１Ｈ，ｓ），８．９０（１Ｈ，ｓ）２−２） ６，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テト
ラヒドロイソキノリン−８−オール（アンハラミン） 原料として２−１）で得られた化合物（１．１０ｇ、
４．５１ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体とし
て０．９４ｇ（収率：９９％）得た。
【００６４】融点：１８６−１８８℃ 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ11Ｈ15ＮＯ3＋
Ｈ）+として）： 計算値 ２１０．１１３０ 測定値 ２１０．１１１９1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 −ＣＤ30Ｄ，δ
ｐｐｍ）：２．７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），３．
０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），３．８４（６Ｈ，
ｓ），３．９０（２Ｈ，ｓ），６．２２（１Ｈ，ｓ） 実施例３３−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（３−メトキシベンジル）イソキノリン−８−オール
・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−３−メトキシフェニルアセトアミド
（２．２７ｇ、６．５７ミリモル）を用い、表題化合物
を無色針状晶として１．７８ｇ（収率：７５％）得た。
【００６５】融点：１６２−１６９℃ 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ19Ｈ21ＮＯ4＋
Ｈ）+として）： 計算値 ３２８．１５４９ 測定値 ３２８．１５２９1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．８７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．７８（３
Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），
３．９１（３Ｈ，ｓ），３．９４（３Ｈ，ｓ），４．８
３（２Ｈ，ｓ），６．３９（１Ｈ，ｓ），６．７４（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，７．９Ｈｚ）７．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，７．９Ｈｚ），７．０８
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１４（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．９Ｈｚ）３−２） ６，７−ジメトキシ−１−（３−メトキシベ
ンジル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン
−８−オール 原料として３−１で得られた化合物１．７０ｇ（４．６
７ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として１．
５３ｇ（収率：９９％）得た。 融点：１５３．５−１５５．５℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ19Ｈ23ＮＯ４＋Ｈ）+とし
て：３３０）1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．６０（１Ｈ，ｔｄｌｉｋｅ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１
９．５Ｈｚ）、２．７７−２．８７（２Ｈ，ｍ），２．
９４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，５．９Ｈｚ，１
２．１Ｈｚ），３．１８−３．２９（２Ｈ，ｍ），３．
８１（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），３．８７
（３Ｈ，ｓ），４．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈ
ｚ，１０．４Ｈｚ），６．２３（１Ｈ，ｓ），６．７７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，７．１Ｈｚ），６．８
４−６．８７（１Ｈ，ｍ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ） 実施例４４−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（２−メトキシベンジル）イソキノリン−８−オール
・塩酸塩） 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−２−メトキシフェニルアセトアミド（６
０１ｍｇ、１．７４ミリモル）を用い、表題化合物を無
色針状晶として４９８ｍｇ（収率：７９％）得た。
【００６６】融点：１４７−１５０℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ19Ｈ21ＮＯ4＋Ｈ）+とし
て）：３２８1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３．８７（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．８１（３Ｈ，ｓ），
３．８３（３Ｈ，ｓ），３．９４（３Ｈ，ｓ），４．７
０（２Ｈ，ｓ），６．４１（１Ｈ，ｓ），６．７７−
６．８４（２Ｈ，ｍ），７．１３−７．２１（２Ｈ，
ｍ）４−２） ６，７−ジメトキシ−１−（２−メトキシベ
ンジル）−１，２，３，４，−テトラヒドロイソキノリ
ン−８−オール 原料として４−１で得られた化合物（３００ｍｇ、０．
８２４ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として
２４５ｍｇ（収率：９０％）得た。
【００６７】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ19Ｈ23ＮＯ4
＋Ｈ）+として）：３３０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．５８−２．６５（１Ｈ，ｍ），２．８０−３．００
（２Ｈ，ｍ），２．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈ
ｚ，１４．０Ｈｚ），３．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．
７Ｈｚ，１３．７Ｈｚ），３．３１（１Ｈ，ｍ），３．
８４（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），３．８７
（３Ｈ，ｓ），４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ，１０．４Ｈｚ），６．２４（１Ｈ，ｓ），６．９０
−６．９７（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．２３（２Ｈ，
ｍ） 実施例５５−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（３，４−ジメトキシベンジル）イソキノリン−８−
オール・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−３，４−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド（７７１ｍｇ、２．０５ミリモル）を用い、表題化合
物を無色針状晶として６４２ｍｇ（収率：７９％）得
た。
【００６８】融点：２１７−２２０℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ23ＮＯ5＋Ｈ）+とし
て）：３５８1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
２．９７−３．０１（２Ｈ，ｍ），３．６８−３．８０
（２Ｈ，ｍ），３．７６（３Ｈ，ｓ），３．８０（３
Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．９６（３Ｈ，
ｓ），４．５６（２Ｈ，ｓ），６．６７（１Ｈ，ｓ），
６．８２−６．９４（３Ｈ，ｍ）５−２） ６，７−ジメトキシ−１−（３，４−ジメト
キシベンジル）１，２，３，４−テトラヒドロイソキノ
リン−８−オール 原料として５−１で得られた化合物（２９８ｍｇ、０．
７５６ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として
２５５ｍｇ（収率：９４％）得た。
【００６９】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ25ＮＯ5
＋Ｈ）+として）：３６０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．５６−２．６２（１Ｈ，ｍ），２．７４−２．８５
（２Ｈ，ｍ），２．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．０Ｈ
ｚ，１３．６Ｈｚ），２．８９−２．９７（１Ｈ，
ｍ），３．１７−３．２６（１Ｈ，ｍ），３．２２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１３．７Ｈｚ），３．８４
（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），３．８７（３
Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），４．２７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ， Ｈｚ），６．３３（１
Ｈ，ｓ），６．７９−６．８４（３Ｈ，ｍ） 実施例６６−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（３，５−ジメトキシベンジル）イソキノリン−８−
オール・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−３，５−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド（６０７ｍｇ、１．６２ミリモル）を用い、表題化合
物を無色針状晶として４４３ｍｇ（収率：７０％）得
た。
【００７０】融点：１９２−１９４℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ23ＮＯ5＋Ｈ）+とし
て）：３５８1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．８７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．７６（６
Ｈ，ｓ），３．７７−３．８８（２Ｈ，ｍ），３．９１
（３Ｈ，ｓ），３．９５（３Ｈ，ｓ），４．７９（２
Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），
６．４０（１Ｈ，ｓ），６．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
１Ｈｚ）６−２） ６，７−ジメトキシ−１−（３，５−ジメト
キシベンジル−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノ
リン−８−オール 原料として６−１で得られた化合物（１０１ｍｇ、０．
２５６ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として
９０ｍｇ（収率：９８％）得た。
【００７１】融点：１３９−１４２℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ25ＮＯ5＋Ｈ）+とし
て）：３６０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．５８−２．６５（１Ｈ，ｍ），２．７９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ，１３．６Ｈｚ），２．７６−
２．９７（２Ｈ，ｍ），３．１７−３．２３（１Ｈ，
ｍ），３．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１３．６Ｈ
ｚ），３．８０（６Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．７Ｈｚ，１０．３Ｈｚ），６．２３（１Ｈ，ｓ），
６．３５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．４０（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ） 実施例７７−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（２，５−ジメトキシベンジル）イソキノリン−８−
オール・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒロドキシ
フェネチル−２，５−ジメトキシフェニルアセトアミド
（６５９ｍｇ、１．７５ミリモル）を用い、表題化合物
を無色針状晶として５５３ｍｇ（収率：８０％）得た。
【００７２】融点：２０５．０−２０７．５℃（ｄｅ
ｃ） 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ23ＮＯ5＋
Ｈ）+として 計算値 ３５８．１６５５ 測定値 ３５８．１６２６1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．６８（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．７４（３Ｈ，ｓ），
３．７５（３Ｈ，ｓ），３．９７（３Ｈ，ｓ），４．５
１（２Ｈ，ｓ），６．６７（１Ｈ，ｓ），６．８３−
７．０２（３Ｈ，ｍ）７−２） ６，７−ジメトキシ−１−（２，５−ジメト
キシベンジル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキ
ノリン−８−オール 原料として７−１で得られた化合物（３００ｍｇ、０．
７２６ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として
２７２ｍｇ（収率：９９％）得た。
【００７３】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ25ＮＯ5
＋Ｈ）+として）：３６０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．５６−２．６７（１Ｈ，ｍ），２．７７−３．０２
（３Ｈ，ｍ），３．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈ
ｚ，１３．７Ｈｚ），３．２９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１１．９Ｈｚ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．
８４（６Ｈ，ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），４．３１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１０．２Ｈｚ），６．
２４（１Ｈ，ｓ），６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９
Ｈｚ，８．７Ｈｚ），６．８０−６．８９（２Ｈ，ｍ） 実施例８８−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（３，４，５−トリメトキシベンジル）イソキノリン
−８−オール・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−３，４，５−トリメトキシフェニルアセ
トアミド（７００ｍｇ、１．７３ミリモル）を用い、表
題化合物を無色針状晶として４５０ｍｇ（収率：６１
％）得た。
【００７４】融点：２０６−２１２℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ21Ｈ25ＮＯ6＋Ｈ）+とし
て）：３８８1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．８０−２．９１（２Ｈ，ｍ），３．７８（３Ｈ，
ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），
３．９３（３Ｈ，ｓ），３．９６（３Ｈ，ｓ），３．７
５−３．８８（２Ｈ，ｍ），４．７９（２Ｈ，ｓ），
６．４１（１Ｈ，ｓ），６．８６（２Ｈ，ｓ）８−２） ６，７−ジメトキシ−１−（３，４，５−ト
リメトキシベンジル）−１，２，３，４−テトラヒドロ
イソキノリン−８−オール 原料として８−１で得られた化合物（４７ｍｇ、０．１
１ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として４３
ｍｇ（収率：１００％）得た。
【００７５】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ21Ｈ27ＮＯ6
＋Ｈ）+として）：３９０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．６０（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１６．１Ｈ
ｚ），２．７４−２．８８（１Ｈ，ｍ），２．８１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１４．０Ｈｚ），２．９
０−３．００（１Ｈ，ｍ），３．１５−３．２０（１
Ｈ，ｍ），３．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１
０．０Ｈｚ），３．８４（６Ｈ，ｓ），３．８６（６
Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），４．３０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１０．０Ｈｚ），６．２４（１
Ｈ，ｓ），６．４９（２Ｈ，ｓ） 実施例９９−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−１
−（４−ニトロベンジル）イソキノリン−８−オール・
塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−４−ニトロフェニルアセトアミド（４９
５ｍｇ、１．３７ミリモル）を用い、表題化合物を無色
針状晶として４２５ｍｇ（収率：８２％）得た。
【００７６】融点：１２９−１３１℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ5＋Ｈ）＋ と
して）：３４３1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
３．０８（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．８１
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９７（３Ｈ，
ｓ），４．７０（２Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｓ），
７．５２−７．５５（２Ｈ，ｍ），８．１９−８．２２
（２Ｈ，ｍ）９−２） ６，７−ジメトキシ−１−（４−ニトロベン
ジル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−
８−オール 原料として９−１で得られた化合物（６１ｍｇ、０．１
６ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として４９
ｍｇ（収率：８９％）得た。
【００７７】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ18Ｈ20Ｎ2Ｏ5
＋Ｈ）+として）：３４５1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δｐｐ
ｍ）：２．４５−２．５８（２Ｈ，ｍ），２．８０−
２．９２（１Ｈ，ｍ），３．０６−３．１４（１Ｈ，
ｍ），３．２６−３．４５（２Ｈ，ｍ），３．６５（３
Ｈ，ａ），３．７３（３Ｈ，ｓ），３．７６（１Ｈ，ｂ
ｒｓ），４．００−４．０８（１Ｈ，ｍ），６．２３
（１Ｈ，ｓ），７．４９−７．５４（２Ｈ，ｍ），８．
１４−８．２１（２Ｈ，ｍ），８．９５（１Ｈ，ｓ） 実施例１０１０−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−
１−（３−ニトロベンジル）イソキノリン−８−オール
・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−３−ニトロフェニルアセトアミド（４８
１ｍｇ、１．３４ミリモル）を用い、表題化合物を無色
針状晶として４３１ｍｇ（収率：８５％）得た。
【００７８】融点：１２４−１２７．５℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ5＋Ｈ）+とし
て）：３４３1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
３．０３−３．０８（２Ｈ，ｍ），３．７２（３Ｈ，
ｓ），３．７７−３．８２（２Ｈ，ｍ），３．９６（３
Ｈ，ｓ），４．７２（２Ｈ，ｓ），７．５９（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），８．１６−８．１９（１
Ｈ，ｍ），８．２３−８．２４（１Ｈ，ｍ）１０−２） ６，７−ジメトキシ−１−（３−ニトロベ
ンジル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン
−８−オール 原料として１０−１で得られた化合物（６１ｍｇ、０．
１６ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体として５
１ｍｇ（収率：９２％）得た。
【００７９】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ18Ｈ20Ｎ2Ｏ5
＋Ｈ）＋ として）：３４５1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 −ＣＤ3ＯＤ，
δｐｐｍ）：２．６３−２．９５（４Ｈ，ｍ），３．０
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１３．８Ｈｚ），
３．１３−３．２６（１Ｈ，ｍ），３．７７（３Ｈ，
ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．３１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．９Ｈｚ，９．５Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，
ｓ），７．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．６
８−７．７３（１Ｈ，ｍ），８．０６−８．１２（１
Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ） 実施例１１１１−１） ２−｛（３，４−ジヒドロ−６，７−ジメ
トキシ−８−ヒドロキシイソキノリル）メチル｝フェニ
ル酢酸メチルエステル・塩酸塩 原料として２−［２−［｛２−（３，４−ジメトキシ−
５−ヒドロキシフェニル）エチル｝アミノ］−２−オキ
ソエチル］フェニル酢酸メチルエステル（１．０９ｇ、
２．８２ミリモル）を用い、表題化合物を無色針状晶と
して７３１ｍｇ（収率：６４％）得た。
【００８０】融点：１１２−１１５℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ21Ｈ23ＮＯ5＋Ｈ）+とし
て）：３７０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．９６−３．０７（２Ｈ，ｍ），３．７４（３Ｈ，
ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｓ），
３．８７−３．９４（２Ｈ，ｍ），３．９６（３Ｈ，
ｓ），４．８１（２Ｈ，ｓ），６．４５（１Ｈ，ｓ），
６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０８（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．１５−
７．２４（２Ｈ，ｍ）１１−２） ２−｛（６，７−ジメトキシ−８−ヒドロ
キシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリル）メ
チル｝フェニル酢酸メチルエステル 原料として１１−１で得られた化合物（３０３ｍｇ、
０．７４５ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体と
して２５３ｍｇ（収率：９２％）得た。 融点：１４４−１４７℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ21Ｈ25ＮＯ5＋Ｈ）+とし
て）：３７２1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．６０−２．７０（１Ｈ，ｍ），２．８４（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，１４．２Ｈｚ），２．８０−
２．９０（１Ｈ，ｍ），２．９９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝
２．４Ｈｚ，５．８Ｈｚ，１１．９Ｈｚ），３．２６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１１．０Ｈｚ），３．
３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１３．９Ｈｚ），
３．６８（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．８
９（３Ｈ，ｓ），３．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈ
ｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ），４．
２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１１．０Ｈｚ），
６．２５（１Ｈ，ｓ），７．１９−７．３０（４Ｈ，
ｍ） 実施例１２１２−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−
１−（３−ピリジルメチル）イソキノリン−８−オール
・２塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）−３−ピリジルアセトアミド（１．２２
ｇ、３．８７ミリモル）を用い、表題化合物を無色針状
晶として１．１７ｇ（収率８２％）得た。
【００８１】高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ17Ｈ
18Ｎ2Ｏ3＋Ｈ）+として）： 計算値 ２９９．１３９６ 測定値 ２９９．１４０１1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
３．１３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．７３（３
Ｈ，ｓ），３．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
３．９９（３Ｈ，ｓ），４．８１（２Ｈ，ｓ），６．７
５（１Ｈ，ｓ），８．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈ
ｚ，８．３Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），８．９
３（１Ｈ，ｓ）１２−２） ６，７−ジメトキシ−１−（３−ピリジル
メチル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン
−８−オール 原料として１２−１で得られた化合物（１．０６ｇ、
２，８６ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体とし
て７１６ｍｇ（収率：８３％）得た。
【００８２】融点１９０−１９１．５℃ 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ17Ｈ20Ｎ2Ｏ3＋
Ｈ）+として）： 計算値 ３０１．１５５２ 測定値 ３０１．１５３４1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
２．６８（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１７．０Ｈ
ｚ），２．８１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１
０．１Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），２．９０−３．００（１
Ｈ，ｍ），２．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１
４．５Ｈｚ），３．１５−３．３５（２Ｈ，ｍ），３．
７７（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．３６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，９．２Ｈｚ），６．３
０（１Ｈ，ｓ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ，７．８Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ），８．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，４．９
Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ） 実施例１３１３−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−
１−プロピルイソキノリン−８−オール・塩酸塩 原料としてＮ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシ
フェネチル）ブタンアミド（４３０ｍｇ、１．６１ミリ
モル）を用い、表題化合物を無色針状晶として３３２ｍ
ｇ（収率：７２％）得た。
【００８３】融点１８７−１９１℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ14Ｈ19ＮＯ3＋Ｈ）＋ と
して）：２５０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．６７（２
Ｈ，ｓｅｘ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．９２（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．０９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ），３．５５−３．６７（２Ｈ，ｍ），３．７１（３
Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ），６．６１（１Ｈ，
ｓ）１３−２） ６，７−ジメトキシ−１−プロピル−１，
２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール 原料として１３−１で得られた化合物（２２０ｍｇ、
０．７７０ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体と
して１９１ｍｇ（収率：９９％）得た。
【００８４】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ14Ｈ21ＮＯ3
＋Ｈ）+として）：２５２ 実施例１４１４−１） ３，４−ジヒドロ−６，７−ジメトキシ−
１−（４−メトキシフェネチル）イソキノリン−８−オ
ール・塩酸塩 原料化合物として、Ｎ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒ
ドロキシフェネチル）−２−（４−メトキシフェニル）
プロパンアミド（６４０ｍｇ、１．７８ミリモル）を用
い、表題化合物を無色針状晶として４７８ｍｇ（収率：
７１％）得た。
【００８５】融点：１９１．５−１９３．０℃ 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ23ＮＯ4＋
Ｈ）＋ として）： 計算値 ３４２．１７０６ 測定値 ３４２．１７１０1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．９８（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．７Ｈｚ），３．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），
４．００（３Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．８
３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）１４−２） ６，７−ジメトキシ−１−（４−メトキシ
フェネチル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノ
リン−８−オール 原料として１４−１で得られた化合物（３００ｍｇ、
０．７９４ミリモル）を用い、表題化合物を無色固体と
して２８０ｍｇ（収率１００％）を得た。
【００８６】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ25ＮＯ4
＋Ｈ）+として）：３４４1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
１．８５−２．００（１Ｈ，ｍ），２．１０−２．２２
（１Ｈ，ｍ），２．５４−２．８９（４Ｈ，ｍ），２．
９４−３．０４（１Ｈ，ｍ），３．０８−３．２１（１
Ｈ，ｍ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，
ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．０７（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．４Ｈｚ，１０．０Ｈｚ），６．１９（１Ｈ，
ｓ），６．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１
７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ） 実施例１５６，７−ジメトキシ−１−（４−フルオロベンジル）−
１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オー
ル Ｎ−（４，５−ジメトキシ−３−ヒドロキシフェネチ
ル）−４−フルオロフェニルアセトアミド（４３７ｍ
ｇ、１．３１ミリモル）のクロロホルム溶液（６ｍｌ）
にオキシ塩化リン（３７０μｌ、３．９７ミリモル）を
室温にて加え、窒素雰囲気下５５℃にて８時間撹拌し
た。減圧下溶媒及び過剰のオキシ塩化リンを除去し得ら
れた残渣をメタノール（２５ｍｌ）に溶解した。このメ
タノール溶液に氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（６５ｍ
ｇ、１．７２ミリモル）を加え１時間撹拌した。減圧下
溶媒を留去して得られた残渣に飽和食塩水（５０ｍｌ）
を加え、クロロホルム（３０ｍｌ）で３回抽出した。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去し
て得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結して表
題化合物を無色固体として１９９ｍｇ（収率：４８％）
得た。
【００８７】融点：１９５−２００℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ18Ｈ20ＮＯ3Ｆ＋Ｈ）+とし
て）：３１８1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ，δｐｐｍ）：
２．９７−３．０８（３Ｈ，ｍ），３．２２−３．３４
（１Ｈ，ｍ），３．４６−３．５５（２Ｈ，ｍ），３．
７８（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．７８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１０．０Ｈｚ），６．
４１（１Ｈ，ｓ），７．０７−７．１３（２Ｈ，ｍ），
７．３４−７．３８（２Ｈ，ｍ） 以下の実施例１６〜１７では実施例１５と同様の操作を
行ない，各々表題化合物を得た。 実施例１６６，７−ジイソプロポキシ−１−（４−メトキシベンジ
ル）−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８
−オール 原料としてＮ−（４，５−ジイソプロポキシ−３−ヒド
ロキシフェネチル）−４−メトキシフェニルアセトアミ
ド（１．５６ｇ、３．８９ミリモル）を用い、表題化合
物を無色固体として１．００ｇ（収率：６７％）得た。
【００８８】融点：１１５−１２０℃ 高分解能ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ23Ｈ31ＮＯ4＋
Ｈ）+として）： 計算値 ３８６．２３３２ 測定値 ３８６．２３３２1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
１．２８−１．３５（１２Ｈ，ｍ），２．５８（１Ｈ，
ｔｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１５．９Ｈｚ），２．７７−
３．００（３Ｈ，ｍ），３．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．８Ｈｚ，１３．５Ｈｚ），３．８０（３Ｈ，ｓ），
４．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１０．１Ｈ
ｚ），４．５０（１Ｈ，ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），
４．５６（１Ｈ，ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），６．２１
（１Ｈ，ｓ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） 実施例１７１−（３−メトキシベンジル）−６，７−メチレンジオ
キシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８
−オール 原料としてＮ−（４，５−メチレンジオキシ−３−ヒド
ロキシフェネチル）−３−メトキシフェニルアセトアミ
ド（７３０ｍｇ、２．２２ミリモル）を用い、表題化合
物を無色固体として３０６ｍｇ（収率：４４％）得た。
【００８９】ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ18Ｈ19ＮＯ4
＋Ｈ）+として）：３１４1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 −ＣＤ3ＯＤ，
δｐｐｍ）：２．６０−２．７２（１Ｈ，ｍ），２．８
０−３．０６（３Ｈ，ｍ），３．１６−３．２７（１
Ｈ，ｍ），３．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１
３．９Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈ
ｚ，１０．３Ｈｚ），５．８１−５．８８（２Ｈ，
ｍ），６．２３（１Ｈ，ｓ），６．７７−６．９２（３
Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ） 参考例１６，７−ジメトキシ−１−（４−メトキシベンジル）−
２−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリ
ン−８−オール（ｄｌ−コ−パバリン）の合成 実施例１−２で得られた６，７−ジメトキシ−１−（４
−メトキシベンジル）−１，２，３，４−テトラヒドロ
イソキノリン−８−オール（２．５５ｇ、７．７４ミリ
モル）をクロロホルム−メタノール（１：１）１００ｍ
ｌに溶解し、３５％ホルマリン（３．６ｍｌ、４５．３
ミリモル）を加え室温にて２時間撹拌した。氷冷下水素
化ホウ素ナトリウム（３．４０ｇ、８９．８ミリモル）
を加え室温にて２時間撹拌した。溶媒を減圧留去して得
られた残渣に水２００ｍｌを加え、１Ｎ塩酸で中和後ク
ロロホルム（１００ｍｌ×３）で抽出した。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノー
ル）で精製し、表題化合物を淡黄色粉末として２．０９
ｇ（収率：７９％）得た。
【００９０】融点：１１２−１１４℃ ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ，（Ｃ20Ｈ25ＮＯ4＋Ｈ）+とし
て）：３４４1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）：
２．３５（３Ｈ，ｓ），２．３５−２．４５（１Ｈ，
ｍ），２．７３−２．８７（２Ｈ，ｍ），２．９８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１４．２Ｈｚ），３．２０
−３．３２（１Ｈ，ｍ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．
８３（３Ｈ，ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），３．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），６．２０
（１Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００９１】
【発明の効果】本発明方法によれば従来合成が困難であ
った６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒ
ドロイソキノリン−８−オール類を６，７−ジアルコキ
シ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オール類を経
由して高収率で得ることができる。
【００９２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ０７Ｄ 491/056 221:00 317:00） (54)【発明の名称】 ６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オール類、その製造法及び該化合 物を用いた６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類 の製造法

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
    もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
    チレン基を示し、Ｒ3は水素原子もしくは低級アルキル
    基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
    コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
    ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
    基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
    基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
    ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
    くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
    （但し、Ｒ3がメチル基の場合、Ｒ1及びＲ2が同時にメ
    チル基である化合物を除く。）又はその塩。
  2. 【請求項２】 一般式 【化２】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
    もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
    チレン基を示し、Ｒ31は水素原子もしくは低級アルキル
    基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
    コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
    ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
    基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
    基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
    ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
    くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
    をリン酸のハロゲン化物の存在下、フェノール性水酸基
    のオルト位選択的に環化させて、一般式 【化３】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
    される化合物又はその塩とし、更に該化合物又はその塩
    を還元することを特徴とする、一般式 【化４】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
    される化合物又はその塩の製造法。
  3. 【請求項３】 一般式 【化５】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
    もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
    チレン基を示し、Ｒ31は水素原子もしくは低級アルキル
    基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
    コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
    ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
    基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
    基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
    ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
    くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
    をリン酸のハロゲン化物の存在下、フェノール性水酸基
    のオルト位選択的に環化させることを特徴とする、一般
    式 【化６】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
    される化合物又はその塩の製造法。
  4. 【請求項４】 一般式 【化７】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して低級アルキル基
    もしくはベンジル基を示すか、又は共に一緒になってメ
    チレン基を示し、Ｒ31は水素原子もしくは低級アルキル
    基を示すか、又は１ないし３個の低級アルコキシ基、ベ
    ンジルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基及び低級アル
    コキシカルボニルメチル基の群から選ばれる置換基でベ
    ンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいベンジル
    基を示すか、低級アルコキシ基もしくはベンジルオキシ
    基でベンゼン環上の水素原子が置換されていてもよいフ
    ェネチル基を示すか、又はヘテロアリールメチル基もし
    くはヘテロアリールエチル基を示す］で表される化合物
    又はその塩を還元することを特徴とする、一般式 【化８】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ31は前記の意味を有する］で表
    される化合物又はその塩の製造法。
JP5060846A 1993-02-25 1993-02-25 ６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オール類、その製造法及び該化合物を用いた６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類の製造法 Pending JPH06247935A (ja)

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JP5060846A JPH06247935A (ja) 1993-02-25 1993-02-25 ６，７−ジアルコキシ−３，４−ジヒドロイソキノリン−８−オール類、その製造法及び該化合物を用いた６，７−ジアルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−８−オール類の製造法
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