JPH06239782A - α，ω−アルカンジフェノール - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 新規α，ω−アルカンジフェノール、酸化、
熱もしくは光学線による分解に対して該化合物により安
定化された有機材料、および安定剤としての該化合物の
使用を提供する。 【構成】 熱、酸化および／もしくは光学線による分解
に対して感受性である有機材料、および少なくとも１個
の次式Ｉで表わされる化合物： 【化１】 （式中 Ｚ₁ ，Ｚ₂ ：炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、フェ
ニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基
または炭素原子数１ないし４のアルキル基、ｐ：４ない
し１８の数、但しＺ₁ およびＺ₂ は同時に第三アルキル
基を表さない。）からなる組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規α，ω−アルカン
ジフェノール、該化合物により、もし適当ならば、ω−
ヒドロキシアルキルフェノールまたはそのエステルとの
混合物として、熱、酸化および化学線による分解に対し
て安定化された有機材料、および安定剤としての該新規
化合物の使用に関する。

【０００２】

【従来の技術】フェノール基がカルボキシアルキレン基
を介して結合しているジ−第三−ブチル−置換ビスフェ
ノール化合物は、特に、米国特許第３７１１５５４号に
開示されている。化合物はポリオレフィンの安定剤とし
て使用される。

【０００３】２，６−ジ−第三−アルキル−置換フェノ
ールのα，ω−アルカンジオールよるアルキル化の方法
が米国特許第４２６０８３２号に開示されている。ＯＨ
末端アルカン鎖により置換されたフェノールはこの方法
により製造される。相当するビス（３’，５’−ジ−第
三−アルキル−４’−ヒドロキシフェニル）アルカン化
合物が副生成物として得られる。１，４−ビス（２，６
−ジメチルフェノキシ）−シス−および−トランス−２
−ブテンのクライゼン転移がＣｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎ
ｄ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ １９６７，４０１−２に記載さ
れている。１，４−ビス（２，６−ジメチルフェニル）
ブタンが形成されるフェノールの水素添加により得られ
る。Ｂｕｌｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＳＲ Ｄｉｖ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．（Ｅｎｇｌｉｓｈ ｔｒａｎｓｌａ
ｔｉｏｎ）２２，（１９７３），８１９−２２，Ｌ．
Ｇ．Ｐｌｅｋｈａｎｏｖａ ｅｔ ａｌ．に２，６−ジ
−第三−ブチルシクロヘキサンジエノン−カルベンの反
応についての研究に関連して、ジ−第三−ブチル置換フ
ェノールのキノイド誘導体の形成が記載されている。
１，４−ジ（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−第三
−ブチルフェニル）ブタンおよび１，８−ジ（４’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−第三−ブチルフェニル）オ
クタンの化合物がキノンの水素添加により得られる。
１，４−ジ（４’−ヒドロキシ−３’−ジ−第三−ブチ
ル−５’−メチルフェニル）ブタンがＣｈｅｍｉｃａｌ
Ａｂｓｔｒａｃｔｓ ｕｎｄｅｒ Ｒｅｇｉｓｔｒｙ
Ｎｕｍｂｅｒ ２５５９８−１９−０に記載されてい
る。特に、ジ−第三−ブチル−置換ビスフェノールが特
に、酸化防止剤としてＤＥ２００９５０４に開示されて
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明により特に良好
な安定特性を有するいくつかの新規α，ω−アルカンジ
フェノールが見出された。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、熱、酸化およ
び／もしくは化学線による分解に対して感受性である有
機材料、及び）少なくとも１個の次式Ｉ：

【化７】 （式中 Ｚ₁ およびＺ₂ が各々独立して炭素原子数１な
いし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロ
アルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１ない
し４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のアル
キルフェニル基を表し、またｐが４ないし１８の数を表
す、但しＺ₁ およびＺ₂ が同時に第三アルキル基を表す
ことはない。）で表わされる化合物からなる組成物に関
する。

【０００６】本発明は、またＺ₁ およびＺ₂ が各々独立
して炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数
５ないし８のシクロアルキル基、フェニル基、フェニル
−炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数
７ないし１０のアルキルフェニル基を表し、またｐが４
ないし１８の数を表す、但しＺ₁ およびＺ₂ の二つの基
が炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表す場合、一
方の基が枝別れ炭素原子数１ないし１８のアルキル基を
表し、Ｚ₁ およびＺ₂ の二つの基が同時に第三アルキル
基を表すことはなく、また化合物１，４−ビス（３’−
第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ブタンを含まない式Ｉの化合物に関する。

【０００７】炭素原子数１ないし１８のアルキル基Ｚ₁
およびＺ₂ は枝別れまたは枝別れのない基である。枝別
れ炭素原子数１ないし１８のアルキル基は第二級炭素原
子および第三級炭素原子を持つ両基を意味すると理解す
べきである。枝別れおよび枝別れのない炭素原子数１な
いし１８のアルキル基の例はメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二−ブチル
基、イソブチル基、第三−ブチル基、２−エチルブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペン
チル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、
１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル
基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチ
ルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル
基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘ
キシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデ
シル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペ
ンダデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基または
オクタデシル基であり、メチル基および第三−ブチルが
特に好ましい。

【０００８】炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基
Ｚ₁ およびＺ₂ はシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基であり、
シクロペンチル基およびシクロヘキシル基が好ましい。

【０００９】フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基Ｚ₁ およびＺ₂ はフェニル基に置換された線状また
は枝別れ炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、例
えばベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、４−フェニルブチル基、α−メチルベンジル基また
はα，α−ジメチルベンジル基を表し、好ましくはベン
ジル基、α−メチルベンジル基またはα，α−ジメチル
ベンジル基を表し、特にはベンジル基を表す。

【００１０】炭素原子数７ないし１０のアルキルフェニ
ル基Ｚ₁ およびＺ₂ は直鎖または枝別れ炭素原子数１な
いし４のアルキル基に置換されたフェニル基を表す。こ
こでいうフェニル環はモノ−またはポリ置換、特にはモ
ノ−からトリ置換、特にはモノ、またはジ置換、好まし
くはモノ置換され得る。該基の例は、トリル基、メジチ
ル基、キシリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニ
ル基、ジエチルフェニル基、エチルメチルフェニル基ま
たはブチルフェニル基である。

【００１１】本発明の式Ｉの化合物および本発明の組成
物に使用される式Ｉの化合物の例は以下に示される １，４−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，５−ビス
（３’−第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン、１，６−ビス（３’−第三−ブ
チル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘキ
サン、１，７−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチ
ル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，８−ビ
ス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロ
キシフェニル）オクタン、１，９−ビス（３’−第三−
ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ノ
ナン、１，１０−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メ
チル−４’−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１１−
ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒド
ロキシフェニル）ウンデカン、１，１２−ビス（３’−
第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ドデカン、１，４−ビス（３’−第三−ブチル−
５’−イソプロピル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、１，５−ビス（３’−第三−ブチル−５’−イソプ
ロピル−４’−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，６
−ビス（３’−第三−ブチル−５’−イソプロピル−
４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，７−ビス
（３’−第三−ブチル−５’−イソプロピル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ヘプタン、１，８−ビス（３’−第
三−ブチル−５’−イソプロピル−４’−ヒドロキシフ
ェニル）オクタン、１，９−ビス（３’−第三−ブチル
−５’−イソプロピル−４’−ヒドロキシフェニル）ノ
ナン、１，１０−ビス（３’−第三−ブチル−５’−イ
ソプロピル−４’−ヒドロキシフェニル）デカン、１，
１１−ビス（３’−第三−ブチル−５’−イソプロピル
−４’−ヒドロキシフェニル）ウンデカン、１，１２−
ビス（３’−第三−ブチル−５’−イソプロピル−４’
−ヒドロキシフェニル）ドデカン、１，４−ビス（３’
−第三−ブチル−５’−シクロヘキシル−４’−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、１，５−ビス（３’−第三−ブ
チル−５’−シクロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ペンタン、１，６−ビス（３’−第三−ブチル−
５’−シクロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘ
キサン、１，７−ビス（３’−第三−ブチル−５’−シ
クロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、
１，８−ビス（３’−第三−ブチル−５’−シクロヘキ
シル−４’−ヒドロキシフェニル）オクタン、１，９−
ビス（３’−第三−ブチル−５’−シクロヘキシル−
４’−ヒドロキシフェニル）ノナン、１，１０−ビス
（３’−第三−ブチル−５’−シクロヘキシル−４’−
ヒドロキシフェニル）デカン、１，１１−ビス（３’−
第三−ブチル−５’−シクロヘキシル−４’−ヒドロキ
シフェニル）ウンデカン、１，１２−ビス（３’−第三
−ブチル−５’−シクロヘキシル−４’−ヒドロキシフ
ェニル）ドデカン、

【００１２】１，４−ビス（３’−イソプロピル−５’
−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，５
−ビス（３’−イソプロピル−５’−メチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ペンタン、１，６−ビス（３’−イ
ソプロピル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサン、１，７−ビス（３’−イソプロピル−
５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、
１，８−ビス（３’−イソプロピル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）オクタン、１，９−ビス
（３’−イソプロピル−５’−メチル−４’−ヒドロキ
シフェニル）ノナン、１，１０−ビス（３’−イソプロ
ピル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）デカ
ン、１，１１−ビス（３’−イソプロピル−５’−メチ
ル−４’−ヒドロキシフェニル）ウンデカン、１，１２
−ビス（３’−イソプロピル−５’−メチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ドデカン、１，４−ビス（３’，
５’−ジシクロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）
ブタン、１，５−ビス（３’，５’−ジシクロヘキシル
−４’−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，６−ビス
（３’，５’−ジシクロヘキシル−４’−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサン、１，７−ビス（３’，５’−ジシク
ロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、
１，８−ビス（３’，５’−ジシクロヘキシル−４’−
ヒドロキシフェニル）オクタン、１，９−ビス（３’，
５’−ジシクロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）
ノナン、１，１０−ビス（３’，５’−ジシクロヘキシ
ル−４’−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１１−ビ
ス（３’，５’−ジシクロヘキシル−４’−ヒドロキシ
フェニル）ウンデカン、１，１２−ビス（３’，５’−
ジシクロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）ドデカ
ン、１，４−ビス（３’，５’−ジフェニル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、１，５−ビス（３’，５’
−ジフェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ペンタン、
１，６−ビス（３’，５’−ジフェニル−４’−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサン、１，７−ビス（３’，５’−
ジフェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、
１，８−ビス（３’，５’−ジフェニル−４’−ヒドロ
キシフェニル）オクタン、１，９−ビス（３’，５’−
ジフェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ノナン、１，
１０−ビス（３’，５’−ジフェニル−４’−ヒドロキ
シフェニル）デカン、１，１１−ビス（３’，５’−ジ
フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ウンデカン、
１，１２−ビス（３’，５’−ジフェニル−４’−ヒド
ロキシフェニル）ドデカン、

【００１３】１，４−ビス（３’−第三−アミル−５’
−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，５
−ビス（３’−第三−アミル−５’−メチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ペンタン、１，６−ビス（３’−第
三−アミル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサン、１，７−ビス（３’−第三−アミル−
５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、
１，８−ビス（３’−第三−アミル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）オクタン、１，９−ビス
（３’−第三−アミル−５’−メチル−４’−ヒドロキ
シフェニル）ノナン、１，１０−ビス（３’−第三−ア
ミル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）デカ
ン、１，１１−ビス（３’−第三−アミル−５’−メチ
ル−４’−ヒドロキシフェニル）ウンデカン、１，１２
−ビス（３’−第三−アミル−５’−メチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ドデカン、１，４−ビス（３’−シ
クロヘキシル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、１，５−ビス（３’−シクロヘキシル−
５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ペンタン、
１，６−ビス（３’−シクロヘキシル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，７−ビス
（３’−シクロヘキシル−５’−メチル−４’−ヒドロ
キシフェニル）ヘプタン、１，８−ビス（３’−シクロ
ヘキシル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）
オクタン、１，９−ビス（３’−シクロヘキシル−５’
−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ノナン、１，１
０−ビス（３’−シクロヘキシル−５’−メチル−４’
−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１１−ビス（３’
−シクロヘキシル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフ
ェニル）ウンデカン、１，１２−ビス（３’−シクロヘ
キシル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ド
デカン、

【００１４】１，４−ビス（３’−メチル−５’−フェ
ニル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，５−ビ
ス（３’−メチル−５’−フェニル−４’−ヒドロキシ
フェニル）ペンタン、１，６−ビス（３’−メチル−
５’−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
ン、１，７−ビス（３’−メチル−５’−フェニル−
４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，８−ビス
（３’−メチル−５’−フェニル−４’−ヒドロキシフ
ェニル）オクタン、１，９−ビス（３’−メチル−５’
−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ノナン、１，
１０−ビス（３’−メチル−５’−フェニル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）デカン、１，１１−ビス（３’−メ
チル−５’−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ウ
ンデカン、１，１２−ビス（３’−メチル−５’−フェ
ニル−４’−ヒドロキシフェニル）ドデカン、１，４−
ビス（３’−イソプロピル−５’−フェニル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、１，５−ビス（３’−イソ
プロピル−５’−フェニル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ペンタン、１，６−ビス（３’−イソプロピル−
５’−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
ン、１，７−ビス（３’−イソプロピル−５’−フェニ
ル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，８−ビ
ス（３’−イソプロピル−５’−フェニル−４’−ヒド
ロキシフェニル）オクタン、１，９−ビス（３’−イソ
プロピル−５’−フェニル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ノナン、１，１０−ビス（３’−イソプロピル−
５’−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）デカン、
１，１１−ビス（３’−イソプロピル−５’−フェニル
−４’−ヒドロキシフェニル）ウンデカン、１，１２−
ビス（３’−イソプロピル−５’−フェニル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）ドデカン、

【００１５】１，４−ビス（３’−第二−ブチル−５’
−第三−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、１，５−ビス（３’−第二−ブチル−５’−第三−
フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，
６−ビス（３’−第二−ブチル−５’−第三−フェニル
−４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，７−ビス
（３’−第二−ブチル−５’−第三−フェニル−４’−
ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，８−ビス（３’−
第二−ブチル−５’−第三−フェニル−４’−ヒドロキ
シフェニル）オクタン、１，９−ビス（３’−第二−ブ
チル−５’−第三−フェニル−４’−ヒドロキシフェニ
ル）ノナン、１，１０−ビス（３’−第二−ブチル−
５’−第三−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）デ
カン、１，１１−ビス（３’−第二−ブチル−５’−第
三−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ウンデカ
ン、１，１２−ビス（３’−第二−ブチル−５’−第三
−フェニル−４’−ヒドロキシフェニル）ドデカン、

【００１６】使用される特に好ましい式Ｉの化合物は、
１，６−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサンおよび１，４−ビ
ス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロ
キシフェニル）ブチルである。

【００１７】好ましい組成物は、Ｚ₁ およびＺ₂ が各々
独立して炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原
子数５ないし８のシクロアルキル基、フェニル基、ベン
ジル基、α−メチルベンジル基またはα，α−ジメチル
ベンジル基を表し、およびｐが４ないし１２の数を表す
式１の化合物からなる組成物である。

【００１８】他の興味ある組成物は、Ｚ₁ およびＺ₂ が
各々独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェニル基、ベ
ンジル基、α−メチルベンジル基またはα，α−ジメチ
ルベンジル基を表す式Ｉの化合物からなる組成物であ
る。

【００１９】重要な組成物は、Ｚ₁ およびＺ₂ が各々独
立して、メチル基、第三−ブチル基、シクロヘキシル
基、フェニル基またはα，α−ジメチルベンジル基を表
し、またｐが４ないし１０の数を表し、特にＺ₁ が第三
−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基またはα，
α−ジメチルベンジル基を表し、またＺ₂ がメチル基を
表す式Ｉの化合物からなる組成物である。

【００２０】更に好ましい組成物は、Ｚ₁ またはＺ₂ 基
の一方が第三−ブチル基を表す式Ｉの化合物からなる組
成物である。

【００２１】特に興味ある組成物は、Ｚ₁ が第三−ブチ
ル基を表し、またＺ₂ がメチル基を表す式Ｉの化合物か
らなる組成物である。

【００２２】式Ｉの好ましい化合物は、ｐが４ないし１
２、特には４ないし１０、例えば５ないし１０、例えば
６ないし８または８ないし１０の数を表す化合物であ
る。

【００２３】同様にして製造される組成物は、もしＺ₁
およびＺ₂ の２つの基がアルキル基を表す場合、その基
の内の一つが枝別れアルキル基を表す。

【００２４】様々な方法が、式Ｉの化合物の製造に使用
される。

【００２５】以下の式Ｉ−Ｖに与えられたＺ₁ 、Ｚ₂ お
よびｐの記号は式Ｉに於いて定義されたものである。

【００２６】Ａ）本発明のビスフェノールが、例えば、
次式（ＩＩ）：

【化８】 で表わされるフェノールをアルキル化する米国特許第４
２６０８３２号に類似した方法により製造される。

【００２７】本発明の化合物の製造のための製造パラメ
ーターが、前記米国特許に開示されている。形成された
ω−ヒドロキシフェニルアルカノールが蒸留された後
に、ビスフェノールが都合良くは蒸留残渣から分離され
る。例えば、これは、通常の方法、例えば前記特許明細
書の実施例１に記載されているような結晶化、またはク
ロマトグラフィーによりもたされる。

【００２８】Ｂ）式Ｉの化合物が、例えば、フェノール
（ＩＩ）とビス−塩化クロライドのフリーデルクラフト
パラ−アシル化と、続く得られた次式（ＩＩＩ）

【化９】 で表わされるビスケトンの水素添加によりまた製造され
る。

【００２９】アシル化反応がそれ自身公知の方法、都合
良くは２つの遊離体の内の１つを２つ目の遊離体に添加
し、そして２つの反応混合物を好ましくは酸素の除去を
しながら混合することにより実施される。反応は都合良
くは溶媒、例えば塩化水素、塩化メチレン、または芳香
族炭化水素、例えばトルエンの存在下で実施される。ア
クリル化反応のために、触媒として塩化アルミニュウム
が都合良くは添加される。温度は融点および反応混合物
の沸点の間、例えば−７０℃および１００℃の間、好ま
しくは−６５℃および０℃の間である。得られた生成物
は公知の方法、例えば水／ＨＣＬによる洗浄、有機溶媒
による抽出、結晶化および／またはクロマトグラフィー
により精製される。クロマトグラフィー精製操作のため
の好ましい溶媒は、ヘキサン、エチルアセテートまたは
その混合物である。

【００３０】水素添加は、例えば有機化学についての数
多くの教科書および普通の製品、例えばＨｏｕｂｅｎ−
Ｗｅｙｌ Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓ
ｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ（Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｏｒ
ｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ），Ｖｏｌｕｍｅ Ｖ
／１ａ，２４４等．，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅ
ｒｌａｇ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ（１９７０）に記載され
ている当業者に慣用の方法により実施される。従って、
ケト化合物は相当するアルカン化合物に、例えば接触水
素添加、Ｚｎ（Ｈｇ）／塩酸とのクレンメンゼン還元ま
たはヒドラジンとのボルフ−キシュネール（Ｗａｌｆｆ
−Ｋｉｓｈｎｅｒ）還元および続くヒドラゾンとアルカ
リの反応により転化される。

【００３１】接触水素添加が特に適している。水素添加
反応は都合良くは攪拌または振動により実施され、適し
た溶媒中で触媒と水素添加される。化合物が液体の場
合、反応はまた溶媒なしで実施される。水素原子の消費
が測定できる装置内で水素雰囲気下で、反応が実施され
る。例えば、オートクレープが都合良い。使用される触
媒は、例えば金属としてまたは炭素支持体上の白金およ
びパラジウム、またはラニーニッケル触媒、特にはラニ
ーニッケル触媒、しかし特にはＰｄ／Ｃである。水素添
加の条件は使用される触媒条件に依存する。白金および
パラジウム触媒上に於いて水素添加が、例えば、大気圧
下で、または僅かに上昇した圧力下で、例えば２０−５
０℃の温度に於いて実施される。反応速度を増加するた
めに、酸溶融体中で、反応を実施することが都合良い。
このために、無機酸、例えばスルホン酸、の触媒量が都
合良くは使用される。水素添加に使用される溶媒は、ア
ルコール、例えばメタノールまたはエタノール、または
脂肪族炭化水素、例えばペンタンまたはヘキサン、氷酢
酸またはエチルアセテートである。触媒がろ過された後
に、当業者に慣用である方法により、本発明の化合物
が、例えば蒸留、結晶化、またはクロマトグラフィーに
より分離される。

【００３２】Ｃ）１，４−ジ（２，６−ジ−置換−フェ
ノキシ）−ブテ−２−エン（ＩＶ）のクライセン／コー
プ転移反応と続く得られた１，４−ジ（３’，５’−ジ
−置換−６’−ヒドロキシフェニル）−ブテ−２−エン
（Ｖ）との水素添加がまた、例えば、更に式Ｉ

【化１０】 （式中 ｐは４を表す。）で表わされる化合物の製造方
法として適している。

【００３３】転移反応は通常専門家に公知であり、その
メカニズムは多くの有機化学の教科書に記載されている
（例えば、Ｈ．Ｊ．Ｓｈｉｎｅ， Ｒｅａｃｔｉｏｎ
Ｍｅｃｈａｎｉｓｍｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ，Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ ６，Ｅｌｓｅｖｉ
ｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ａｍｓ
ｔｅｒｄａｍ，Ｌｏｎｄｏｎ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９
６７，ページ８２等、またはＨｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，
Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ
Ｃｈｅｍｉｅ（Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ），Ｖｏｌｕｍｅ ＶＩ／１ｃ，
Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔｕｔｔ
ｇａｒｔ，１９７６）。それらは、化合物を加熱するこ
とにより開始される。これに適した温度は、特定の化合
物に依存する、たとえ１６０−２１０℃の範囲内であ
る。反応は都合良くは、高沸点の溶媒、例えばエチルジ
グリシジルまたはＮ−ジエチルアニリン中で実施され
る。化合物は通常の方法、例えば蒸留、結晶化またはク
ロマトグラフィーにより分離される。

【００３４】フェニルアルケンの相当するフェニルアル
カンへの還元が前記されたような当業者に公知の方法、
例えば多くの教科書および標準的な有機化学の研究、例
えばＯｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ（Ｍｅｔｈ
ｏｄｓ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ），Ｖｏｌｕｍｅ Ｖ／１ａ，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅ
ｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ，１９７
０），４０５等に記載された方法により実施される。

【００３５】接触水素添加が特に好ましい。前記Ｂに記
載されたように実施されることが都合良い。

【００３６】前記された反応のための抽出物は通常公知
であり、そして当業者に公知の方法により製造される。
ビス−エーテル（ＩＶ）が、例えば１，４−ジクロロブ
テ−２−エンと、相当するＺ₁ ，Ｚ₂ −二置換フェノー
ル２ｍｏｌの反応により得られる。

【００３７】式Ｉおよび次式ＶＩ：

【化１１】 （式中 Ｒ¹ およびＲ¹ ’が各々独立して炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシク
ロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１な
いし４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のア
ルキルフェニル基を表し、またｎが４ないし１８の数を
表す。）で表わされる化合物の混合物はまた、安定剤と
して都合良くは使用される。したがって本発明は、ａ）
酸化、熱および／もしくは化学線による分解に対して感
受性である有機材料、ｂ）請求項１記載の式Ｉの化合
物、および（ｃ）式ＶＩの化合物からなる組成物に関す
る。

【００３８】ａ）酸化、熱および／もしくは化学線によ
る分解に対して感受性である有機材料 ｂ）請求項１記載の式Ｉの化合物、および ｃ）次式ＶＩＩ：

【化１２】 （式中 ｎが４ないし１８の範囲の整数を表し、および
ｍが１ないし４の範囲の整数を表し；ｍが１を表す場
合、Ａが未置換または炭素原子数５ないし８のシクロア
ルキル基により置換された炭素原子数１ないし２５のア
ルキル基を表し；または炭素原子数５ないし８のシクロ
アルキル基または一個以上の−Ｓ−，−Ｏ−および／ま
たは−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数２ないし
２５のアルキル基を表し；またはｍが１を表す場合、Ａ
が未置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基ま
たは炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置換
された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基を表
し；未置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基
または炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置
換された炭素原子数６ないし８のシクロアルキル基を表
し；未置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基
または炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置
換されたフェニル基を表し；未置換または炭素原子数１
ないし１２のアルキル基または炭素原子数２ないし１２
のアルケニル基により置換されたナフチル基を表し；未
置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基または
炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置換され
たビフェニル基を表し；または炭素原子数２ないし２５
のアルケニル基；炭素原子数６ないし１０のビシクロア
ルケニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアルケ
ニル基；炭素原子数８ないし１２のフェニルアルキル
基；炭素原子数１１ないし１６のナフチルアルキル基；
炭素原子数１２ないし１６のナフチルアルケニル基；炭
素原子数１３ないし１８のビフェニルアルキル基；炭素
原子数１４ないし１８のビフェニルアルケニル基；また
は次式

【化１３】 で表わされる基を表し；ｍが２を表す場合、Ａが直接結
合；炭素原子数１ないし１２のアルキレン基；炭素原子
数２ないし１２のアルケニレン基；未置換または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数２ない
し１２のアルケニル基により置換された炭素原子数５な
いし８のシクロアルキレン基；未置換または炭素原子数
１ないし１２のアルキル基または炭素原子数２ないし１
２のアルケニル基により置換された炭素原子数６ないし
８のシクロアルケニレン基；炭素原子数６ないし１０の
ビシクロアルケニレン基；フェニレン基、ナフチレン
基；窒素原子上で水素原子または置換基−Ｒ² により飽
和された、フラン、チオフェンおよびピロールからなる
群からの二価の複素環基を表し；またはｍが２を表す場
合、Ａが炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基ま
たはフェニレン基もしくは少なくとも１個の−Ｓ−，−
Ｏ−または−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数２
ないし３６のアルキレン基を表し；ｍが３を表す場合、
Ａが炭素原子数１ないし８のアルカントリイル基；炭素
原子数２ないし８のアルケントリイル基；ベンゼントリ
イル基；ナフタレントリイル基；次式

【化１４】 で表わされる三価基；または少なくとも１個の−Ｓ−，
−Ｏ−または−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数
２ないし１８のアルカントリイル基を表し；ｍが４を表
す場合、Ａがベンゼン基、ナフチル基、テトラヒドロフ
リル基または４自由原子価を有するシクロヘキシル基を
表し；Ｒ¹ およびＲ¹ ’が各々独立して、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシク
ロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１な
いし４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のア
ルキルフェニル基を表し；Ｒ² がＨまたは炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表し；Ｒ³ およびＲ⁴ が各々独
立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；また
Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ が各々独立して炭素原子数１ない
し３のアルキレン基を表す。）で表わされる化合物から
なる組成物に関する。

【００３９】従って、本発明は式Ｉおよび式ＶＩの化合
物の混合物の使用、式Ｉおよび式ＶＩＩの化合物の混合
物の使用、および酸化、熱もしくは化学線による分解に
対して感受性である有機材料の安定化のための式Ｉ、Ｖ
ＩおよびＶＩＩの化合物の混合物の使用に関する。これ
は、式Ｉおよび式ＶＩの化合物の混合物の使用および／
または式ＶＩＩの化合物の混合物を有機材料に添加する
ことからなる、酸化、熱もしくは化学線による分解に対
して感受性である有機材料を安定化する方法を含む。

【００４０】式ＶＩおよびＶＩＩの化合物中のＲ¹ ，Ｒ
¹ ’およびｎは好ましくは、式Ｉの化合物中のＺ₁ およ
びＺ₂ 基およびｐの数を表す。

【００４１】式ＶＩＩの化合物中、ｍが好ましくは１ま
たは２、特には２を表す。

【００４２】式ＶＩおよび／またはＶＩＩの化合物から
なる組成物中の好ましい式Ｉの化合物は、式ＶＩおよび
／またはＶＩＩの化合物を除いた組成物と同じである。
例として、新規組成物は式Ｉ（成分ｂ）の化合物の１部
分当たりの式ＶＩおよび／またはＶＩＩの化合物の重量
当たり０ないし１００部を含む。成分（ｂ）の９５−５
部当たり成分（ｃ）の重量当たり５−９５部を含有する
組成物が好ましい；特には、成分（ｂ）の７０−３０部
当たり成分（ｃ）の重量当たり３０−７０部を含有する
組成物が好ましい。

【００４３】ａ）酸化、熱および／もしくは化学線によ
る分解に対して感受性である有機材料 ｂ）請求項１記載の式Ｉの化合物、および ｃ）次式ＶＩＩ：

【化１５】 （式中 ｍが１を表す場合、Ａが未置換または炭素原子
数５ないし８のシクロアルキル基により置換された炭素
原子数１ないし２５のアルキル基を表し；または炭素原
子数５ないし８のシクロアルキル基または一個以上の−
Ｓ−，−Ｏ−および／または−ＮＲ² −基により中断さ
れた炭素原子数２ないし２５のアルキル基を表し；また
はｍが１を表す場合、Ａが未置換または炭素原子数１な
いし１２のアルキル基により置換された炭素原子数５な
いし８のシクロアルキル基を表し；未置換または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基により置換された炭素原
子数６ないし８のシクロアルケニル基を表し；未置換ま
たは炭素原子数１ないし１２のアルキル基により置換さ
れたフェニル基を表し；または炭素原子数２ないし２５
のアルケニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルア
ルケニル基；または次式

【化１６】 で表わされる基を表し；ｍが２を表す場合、Ａが直接結
合；炭素原子数１ないし１２のアルキレン基；炭素原子
数２ないし１２のアルキレン基；未置換または炭素原子
数１ないし１２のアルキル基により置換された炭素原子
数５ないし８のシクロアルキレン基；未置換または炭素
原子数１ないし１２のアルキル基により置換された炭素
原子数６ないし８のシクロアルケニレン基；フェニレン
基；窒素原子上で水素原子または置換基−Ｒ² により飽
和された、フラン、チオフェンおよびピロールからなる
群の二価の複素環基を表し；またはｍが２を表す場合、
Ａが炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基または
フェニレン基もしくは少なくとも１個の−Ｓ−，−Ｏ−
または−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数２ない
し１８のアルキレン基を表し；およびｍが３を表す場
合、Ａが炭素原子数１ないし８のアルカントリイル基；
炭素原子数２ないし８のアルケントリイル基；ベンゼン
トリイル基；次式

【化１７】 で表わされる三価基；または少なくとも１個の−Ｓ−，
−Ｏ−または−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数
２ないし１８のアルカントリイル基を表し；ｍが４を表
す場合、Ａがベンゼン基、または４自由原子価を有する
シクロヘキシル基を表す。）で表わされる化合物からな
る組成物に関する。

【００４４】これら組成物中の成分（ｃ）として特に重
要な式ＶＩＩの化合物は、Ｒ¹ ’が第三−ブチル基また
はシクロヘキシル基およびＲ¹ はメチル基、第三−ブチ
ル基またはシクロヘキシル基を表し；ｎが４ないし８の
範囲の数を表し；およびｍが１を表す場合、Ａが炭素原
子数６ないし１８のアルキル基または炭素原子数２ない
し１２のアルケニル基を表し；ｍが２を表す場合、Ａが
直接結合；炭素原子数１ないし１２のアルキレン基；フ
ェニレン基；次式

【化１７】で表わされる基；または１ないし５の酸素原
子または硫黄原子により中断された炭素原子数２ないし
３６のアルキレン基を表し；ｍが３を表す場合、Ａがベ
ンゼントリイル基または次式

【化１８】 で表わされる３価基を表し；およびｍが４を表す場合、
Ａが４原子価を有するベンゼン基を表し；特には以下の
化合物（ａ）ないし（ｌ） ａ）６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）ヘキシルステアレート； ｂ）６−（３，５−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキシルステアレート； ｃ）ビス〔６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ヘキシル〕サクシネート； ｄ）ビス〔６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ヘキシル〕アジペート； ｅ）ビス〔６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ヘキシル〕サベレート； ｆ）ビス〔６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ヘキシル〕イソフタレート； ｇ）ビス〔６−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキシル〕イソフタレート； ｈ）トリス〔６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）ヘキシル〕トリメリテート； ｊ）トリス〔６−（３，５−第三−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキシル〕トリメリテート； ｋ）トリス〔６−（３−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）ヘキシル〕トリメセテート；ま
たは ｌ）トリス〔６−（３，５−第三−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキシル〕トリメセートの内の一つを表
す。

【００４５】式ＶＩおよび式ＶＩＩの化合物は安定剤と
して公知であり、またその製造および使用は例えば英国
特許２２６４７０８号に開示されている。

【００４６】式Ｉの化合物および式Ｉおよび式ＶＩまた
はＶＩＩの化合物の混合物が、熱、酸化および化学線に
よる分解に対して感受性である有機材料の安定化に適し
ている。有機材料を安定化する酸化防止剤としての優れ
た硬化が特に注目される。

【００４７】それらの材料の例は以下のものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー；および更にポリエチレン（所望により架橋結合でき
る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度
ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰ
Ｅ）。ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示とし
て言及したようなモノオレフィンのポリマー、特にポリ
エチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以下
の方法により製造できる： ａ）ラジカル重合（通常、高圧および高温においての） ｂ）普通表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１
個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は
通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能
な、典型的には酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、
エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルお
よび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持
つ。これら金属錯体は遊離であるか典型的には活性化塩
化マグネシウム、塩化チタン（III ）、酸化アルミニウ
ムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよ
い。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であっ
てよい。触媒はそれ自体重合において活性化でき、また
は、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アル
キルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキル
オキサンで、該金属は周期表のIa、IIa および／または
IIIa属の元素であるような別の活性剤が使用できる。活
性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンも
しくはシリルエーテル基により改良され得る。これら触
媒系は通常フィリップス(Phillips)、スタンダードオイ
ルインディアナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−
ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(D
upont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳ
Ｃ）と称されるものである。 ２． １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプ
ロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレ
ンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、
ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異なるタイプの
混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合
物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレ
ン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エ
ンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレ
ン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコ
ポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン
／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコ
ポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマ
ー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エ
チレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポ
リマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アク
リル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）
およびエチレンとプロピレンと例えばヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンの
ようなジエンとのターポリマー；ならびに前記コポリマ
ー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン−エチレン／プロピレン−コ
ポリマー、ＬＤＰＥ−エチレン／ビニルアセテートコポ
リマー、ＬＤＰＥ−エチレン／アクリル酸コポリマー、
ＬＬＤＰＥ−エチレン／ビニルアセテートコポリマー、
ＬＬＤＰＥ−エチレン／アクリル酸コポリマーおよび交
互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリ
マー；ならびに他のポリマーとこれらの混合物、例えば
ポリアミド。

【００４８】４. それらの水素化変性物（例えば、粘着
付与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含
む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。 ５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／
アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アル
キルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルア
クリレートおよびメタクリレート、スチレン／無水マレ
イン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレ
ート；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；お
よびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン−ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン−プロピレン／スチレン。 ７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジ
エン／スチレンまたはポリブタジエン／アクリロニトリ
ルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレンお
よびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリ
ル）；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミ
ド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジ
エンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル；
ポリアルキルアクリレートまたはポリアクリルメタクリ
レートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレー
ト／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、並びにこれらと６）に列挙したコポリマーとの
混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳポ
リマーとして知られているコポリマー混合物。 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エ
ピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフ
ッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

【００４９】９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。 10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアル
キルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ハロ
ゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル／アル
キルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。 11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートおよびポリアリルメラミン；ならびにそれ
らと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。 12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシ
ジルエーテルとのコポリマー。 13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよび
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭ
ＢＳで変性させたポリアセタール。 14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならび
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリア
ミドとの混合物。 15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタンならびにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。 16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／
１２、４／６または１２／１２、ポリアミド１１、およ
びポリアミド１２、ｍ−キシレン、ジアミン、およびア
ジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘ
キサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または／およ
びテレフタル酸および変性剤としてのエラストマーから
製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４（トリ
メチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−
ｍ−フェニレンイソフタルアミド；更に、前記ポリアミ
ドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノ
マーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマ
ーとのブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテ
ル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポ
リマー。ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミド
またはコポリアミド；加工の間に縮合されたポリアミド
（ＲＩＭ−ポリアミド系）。

【００５０】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンジミダゾール。 18. ジカルボン酸およびアルコールおよび/ またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロ
ール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリヒド
ロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含有す
るポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテ
ル−エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢ
Ｓにより改良されたポリエステル。 19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト。 20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。 21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、
尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例え
ばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムア
ルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。 22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。 23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低い
それらのハロゲン含有変成物。 24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アク
リレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂により架橋されたアルキッド樹脂、ポリ
エステル樹脂およびアクリレート樹脂。 26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルか
ら、または環状脂肪族ジエポキシドから誘導された架橋
エポキシ樹脂。 27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびそれらを化学変成した同族誘導体、例えば酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロ
ース、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロ
ース；同様にロジンおよびそれらの誘導体。

【００５１】28．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。 29．純粋なモノマー化合物またはそれらの化合物の混合
物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物
または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エス
テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワ
ックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または紡糸
製剤油として用いられているいかなる重量比での合成エ
ステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エ
マルジョン。 30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天
然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン−ブタジ
エンコポリマーのラテックス。

【００５２】本発明はまた、酸化、熱もしくは化学線に
よる誘発される分解を受けやすい有機材料、を安定化す
るための式Ｉの化合物の使用、および少なくとも１個の
式Ｉの化合物をこの材料に添加することからなる熱、酸
化および／または化学線による誘発される分解を受けや
すい有機材料を安定化する方法に関する。

【００５３】合成有機ポリマー中で、酸化防止剤として
式Ｉの化合物を使用することが特に興味ある。

【００５４】好ましい有機材料はポリマー、例えば合成
ポリマー、特には熱可塑性ポリマーである。特に好まし
い有機材料はポリオレフィンおよびスチレンコポリマ
ー、例えば１ないし３および５および６に於いて前記し
た、特にはポリエチレンおよびポリプロピレン、同様に
ＡＢＳおよびスチレン／ブタジエンコポリマーである。
従って、本発明は好ましくは有機材料が合成有機ポリマ
ーまたは該ポリマーの混合物、特にはポリオレフィンま
たはスチレンコポリマーである組成物に関する。

【００５５】式Ｉの化合物または式Ｉおよび式ＶＩまた
はＶＩＩの化合物の混合物が一般に、安定化される材料
の総重量に基づいて０．０１ないし１０％、好ましくは
０．０１ないし５％、特には０．０１ないし２％添加さ
れる。０．０１ないし０．５％、特には０．０５ないし
０．３％の本発明の化合物の使用が特に好ましい。

【００５６】本発明の組成物は式Ｉ、ＶＩおよび／また
はＶＩＩの化合物に加えて、既存の安定剤を補助的に含
む、例を以下に示す。１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール、 例えば２，４
−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノー
ル、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェ
ノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチル
フェノール、および２，６−ジ−ドデシルチオメチル−
４−ノニルフェノール。１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン 、例え
ば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ
−第三−アミル−ハイドロキノン、２，６−ジフェニル
−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニルステアレート、およびビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。１．４ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノ
ール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メ
チルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチ
ル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス
（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−
ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
ジスルフィド。

【００５７】１．５ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。１．６． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、 例え
ば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′
−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプト
アセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチ
オテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、およびイソオク
チル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル−メルカプトアセテート。１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート、 例えばジオ
クタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデ
シル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプト
エチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−マロネート、およびジ−［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−マロネート。

【００５８】１．８． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、および２，４，６−トリス（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノー
ル。１．９． トリアジン化合物、 例えば、２，４−ビス−
オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブ
チル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−
イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，
３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）
−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、および１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。１．１０． べンジルホスホネート、 例えばジメチル−
２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチ
ルエステルのカルシウム塩。１．１１． アシルアミノフェノール 、例えばラウリン
酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−ヒドロキ
シアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエステル。１．１２． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価
アルコールとのエステル、 例えば、メタノール、エタノ
ール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
［２．２．２］オクタン。

【００５９】１．１３． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または
多価アルコールとのエステル、 例えばメタノール、エタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、および４−ヒド
ロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサ
ビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１５． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエ
ステル、 例えば、メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、および４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。１．１６． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオン酸のアミド 、例えばＮ，
Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００６０】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチ
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド
ロキシ−５’−（２’−オクチルオキシルボニルエチ
ル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第
三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）
カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロ
キシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、お
よび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’
−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニ
ルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエス
テル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ（Ｃ
Ｈ₂ ）₃ −］₂ −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−
イル−フェニルである。）。２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン 、例えば４
−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、
４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベン
ジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステ
ル 、例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベン
ゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オク
タデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト。

【００６１】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。２．５． ニッケル化合物 ，例えば２，２′−チオビス
−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フ
ェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２
錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタ
ノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノ
ールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジ
ブチルジチオカルバメート、例えば４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルも
しくはエチルエステルのニッケル塩のようなモノアルキ
ルエステル、例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フ
ェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシム錯体ニ
ッケル錯体、所望により他の配位子を伴う１−フェニル
−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケ
ル錯体。２．６． 立体障害アミン 、例えばビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合
生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，
１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，
５−テトラメチルピペラジノン），４−ベンゾイル−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステア
リルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オ
クチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−
トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネ
ート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モ
ルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−
ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリ
アジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−
７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ
スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシ
ル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１
−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−ピロリジン−２，５−ジオン。

【００６２】２．７． 蓚酸ジアミド例えば４，４′−
ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ−オク
チルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，
２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキ
サニリド、２−エトキシ−２′−エトキサニリド、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミ
ド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−
５，４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物，および
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物
およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの
混合物。２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，
５−トリアジン 、例えば２，４，６−トリス（２−ヒド
ロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−
トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキ
シフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２
−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン。２−［２−ヒドロ
キシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロ
ピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキ
シ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロ
ピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チル）−１，３，５−トリアジン。３． 金属不活性化剤 ，例えばＮ，Ｎ′−ジフェニルオ
キサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロ
イルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジ
リデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソ
フタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアミンジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ビス−（サリチロイル）−シュウ酸ジヒドラ
ジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−（サリチロイル）−チオプロピ
オン酸ジヒドラジド。４． ホスフィットおよびホスホナイト 、例えばトリフ
ェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィッ
ト、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニル
フェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェ
ニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−イ
ソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４，６−トリス−第三ブチルフェニル）−ペンタ
エリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビ
トールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナ
イト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テ
トラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，
３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，
８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベン
ズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチル
ホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）エチルホスフィット。

【００６３】５． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。６． ポリアミド安定剤 、例えばヨウ化物および／また
はリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの
塩。 ７． 塩基性補助安定剤 、例えばメラミン、ポリビニル
ピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩および
アルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシュウム
塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸マグネシュウム塩、
ステアリン酸マグネシュウム塩、リシノール酸ナトリウ
ム塩およびパルミチン酸カルシュウム塩、カテコールア
ンチモン塩およびカテコール錫塩。８． 核剤 、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸、ジフェニル酢酸。９． 充填剤および強化剤 、例えば炭酸カルシウム、ケ
イ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、
雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カー
ボンブラック、グラファイト。10. その他の添加剤 、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、
顔料、光沢剤、増白剤、難燃剤、静電防止剤および液体
発泡剤。11. ベンゾフラノンまたはインドリノン 、例えば米国特
許第４３２５８６３号、米国特許第４３３８２４４号ま
たは米国特許第５１７５３１２号、もしくは3-[4-(2-ア
セトキシエトキシ) フェニル]-5,7-ジ- 第三ブチル- ベ
ンゾフラン-2- オン5,7-ジ- 第三ブチル-[4-(2- ステア
ロイルオキシエトキシ) フェニル] ベンゾフラン-2- オ
ン、3,3'- ビス[5,7- ジ- 第三ブチル-3-(4[2-ヒドロキ
シエトキシ] フェニル) ベンゾフラン-2- オン] 、5,7-
ジ-第三ブチル-3-(4-エトキシフェニル) ベンゾフラン-
2- オン、 3-(4-アセトキシ-3,5- ジメチルフェニル)-
5,7-ジ- 第三ブチル- ベンゾフラン-2- オン、3-(3,5-
ジメチル-4- ピバロキシフェニル)-5,7-ジ- 第三ブチル
- ベンゾフラン-2- オン。

【００６４】通常の添加剤が、例えば、安定化される材
料の総重量に対して、０．０１ないし１０％の濃度で添
加される。

【００６５】式Ｉの化合物およびもし適当ならば他の補
助剤が通常有機材料に公知の方法により混入される。材
料への混入が例えば、式Ｉの化合物およびもし適当なら
ば他の添加剤の混合により、または当業者に公知の方法
により行なわれる。材料がポリマー、特には合成ポリマ
ーの場合、混入が成形の前または最中に実施され、また
はポリマーに溶解または分散した化合物の使用により、
適当ならば続いて溶媒の蒸留により実施される。エラス
トマーの場合、これらはラテックスとしてまた安定化さ
れる。式Ｉの化合物をポリマーに混入する他の可能性
は、相当するモノマーの重合の前、最中またはその直後
もしくは架橋の前に添加することからなる。式Ｉの化合
物がまた添加される、または封入の形態（例えば、ワッ
クス、オイルまたはポリマー）で転化される。重合の前
または最中の場合、式Ｉの化合物がまたポリマーの鎖長
の調節剤として働く。

【００６６】式Ｉの化合物がまた材料に添加され、例え
ば２．５ないし２５重量％の濃度のこれらの化合物から
なるマスターバッチの形態で安定化される。

【００６７】従って、材料が幅広い形態で、例えば、フ
ィルム、繊維、テープ、成形材料、形材としてまたはペ
イントのバインダー、接着材またはセメントとして使用
される。

【００６８】式Ｉの化合物（成分ｂ）および式ＶＩの化
合物または式ＶＩＩの化合物（成分ｃ）からなる本発明
の組成物が前記の方法により製造される。しかしなが
ら、好ましくは成分（ｂ）および（ｃ）の混合物が最初
に製造され、そして前記のように安定化される有機材料
に混入される。式Ｉおよび式ＶＩの化合物の本発明に使
用される混合物が都合良くは米国特許第４２６０８３２
号に開示された方法製造方法（Ａ）により直接製造され
る、過剰のアルカンジオールが都合良くは取り除かれ、
そして混合物がもし適当ならば、混合物の混入前に更に
精製される、。

【００６９】式Ｉの化合物の他に混合物からなる式ＶＩ
の化合物は都合良くは、式ＶＩＩＩ

【化１９】 で表わされる有機カルボン酸または該カルボン酸の誘導
体により、エステル化またはエステル交換により式ＶＩ
Ｉのエステルに変換される。これは都合良くは過剰のア
ルカンジオールの除去の後にもたらされる；更に精製操
作操作は必要でない。反応は英国特許２２６４７０８号
に開示された反応条件下で、そこに記載されたカルボン
酸ＶＩＩＩの誘導体を使用することにより起きる。安定
剤として働く式ＩおよびＶＩＩの化合物の混合物は、こ
の方法により直接的に得られる。

【００７０】次の実施例がより詳細に本発明を示す。記
載が無い限り部もしくは％は重量部を示す。実施例で使
用される略語は以下の意味を持つ。 ＮＭＲ：核磁気共鳴 ＨＰＬＣ：高圧液体クロマトグラフィー ＹＩ：ＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０による黄色度指数 ＤＬＴＤＰ：ジラウリルチオジプロピオネート ＳＢＲ：スチレン／ブタジエンコポリマー

【００７１】実施例１：１，６−ビス（３’−第三−ブ
チル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘキ
サンの製造（製造方法Ａ） ２−第三−ブチル−６−メチルフェノール１６４．７ｇ
（１ｍｏｌ）が１００℃に於いて１，６−ヘキサンジオ
ール５９６．７ｇ（５．０５ｍｏｌ）と窒素下に於い
て、水分離器のついたスルホン化フラスコ中で加熱され
る。水酸化カリウム３６．６ｇ（０．６６ｍｏｌ）の添
加後、反応混合物は２４０℃に於いて、１１時間保たれ
る。水４３ｍｌが分離される。そして、反応混合物が５
０℃に冷却され２Ｎの塩酸２８０ｍｌが添加される。相
が分離され、そして水槽はトルエン２００ｍｌにより抽
出される。得られた有機相がロータリーエバポレーター
上で濃縮され、そして油性残基が真空中で蒸留される。
６−（３’−第三−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ヘキサノール１６７ｇがこの方法によ
り蒸留される。蒸留残渣（シリカゲル）のクロマトグラ
フィーから融点４７−４８℃の表題生成物４０g(理論値
の１０％）が得られる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８１．９０％ 実験値： Ｃ：８１．９０％ Ｈ：１０．３１％ Ｈ：１０．４０％¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトラム（３００ ＭＨｚ／ＣＤＣｌ
₃ ）の典型的なシグナル：Ａｒ−ＣＨ₂ −（ＣＨ₂ ）₄
−ＣＨ₂ −Ａｒ δ＝２．４８ｐｐｍ，トリプル，Ｊ＝
７．５６Ｈｚ

【００７２】実施例２：１，５−ビス（３’−第三−ブ
チル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ペン
タンの製造（製造方法Ｂ） １）フリーデル−クラフトアシル化 塩化アルミニュウム２７ｇ（２００ｍｍｏｌ）、塩化グ
ルタル酸６．５ｍｏｌ（５０ｍｍｏｌ）および塩化メチ
レン２５０ｍｌが初めに、５００ｍｌの３口丸底フラス
コに導入される。懸濁液が−６０℃に冷却されそして塩
化メチレン３０ｍｌ中の２−第三−ブチル−６−メチル
フェノール１８ｇ（１１０ｍｍｏｌ）の溶液が約３０−
４０分に渡って滴下される。発生する塩化水素ガスが水
中に集められる。反応混合物が−５０℃に於いて３０分
間攪拌され、そして氷に注入される。濃縮塩酸２０ｍｌ
の添加後、混合物が約１０分間攪拌される。相が分離さ
れ、そして有機相がナトリウムサルフェート上で乾燥さ
れる、そしてロータリーエバポレータ上で溶媒が取り除
かれる。得られた粗生成物の２０ｇがカラムクロマトグ
ラフィー（ＳｉＯ₂ ，トルエン／エチルアセテート １
９：１）により精製される。融点が１５６−１５８℃で
ある１，５−ジ（３’−第三−ブチル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）−１，５−ペンタンジオン
が１２ｇ（理論値の５６％）得られる。赤外スペクトル
中のＣＯ基の振動帯は１６６３．７ｃｍ^-1である。 ２）接触水素添加 エチルアセテート８０ｍｌ中の１，５−ジ（３’−第三
−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）
−１，５−ペンタンジオンの８．１７ｇ（１９ｍｍｏ
ｌ）と濃縮スルホン酸の３−５滴が大気圧中の室温に於
いて、Ｐｄ／Ｃ（５％）の１．６ｇ上に於いて水素添加
される。１２時間後、水素原子の消費が終了する。触媒
がゼオライト上でろ過され、そして得られる無色の溶液
がロータリーエバポレーター上で濃縮される。液体残渣
（ＳｉＯ₂ ，ヘキサン／エチルアセテート １９：１）
のクロマトグラフィーから、粘性オイルとして１，５−
ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒド
ロキシフェニル）ペンタン５．１３ｇ（理論値の６７
％）が得られる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８１．７７％ 実験値： Ｃ：８１．９９％ Ｈ：１０．１７％ Ｈ：１０．３２％¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトラム（３００ ＭＨｚ／ＣＤＣｌ
₃ ）の典型的なシグナル：Ａｒ−ＣＨ₂ −（ＣＨ₂ ）₃
−ＣＨ₂ −Ａｒ δ＝２．４９ｐｐｍ，トリプル，Ｊ＝
７．６Ｈｚ

【００７３】実施例３：１，１０−ビス（３’−第三−
ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）デ
カンの製造（製造方法Ｂ） １）フリーデル−クラフトアシル化 塩化アルミニュウム２７．５ｇ（２００ｍｍｏｌ）の存
在下に於いて、２−第三−ブチル−６−メチルフェノー
ル１８ｇ（１１０ｍｍｏｌ）と塩化デカンジオン酸１
０．７ｇ（５０ｍｍｏｌ）が実施例２に記載された方法
により反応され、相当する、１，１０−ジ（３’−第三
−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）
−１，１０−デカンジオンを得る。融点が１６５−１６
８℃である生成物の１９．２ｇ（理論値の７８％）が得
られる。赤外スペクトル中のＣＯ基の振動帯は１６６０
ｃｍ^-1である。 ２）接触水素添加 １，１０−ジケトン７．２ｇ（１３ｍｍｏｌ）が大気圧
下、室温に於いて９時間、実施例２に於いて記載された
方法により水素添加される。融点が９６−９８℃である
１，１０−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）デカン３．１４ｇ（理論値
の５７％）が得られる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８２．８５％ 実験値： Ｃ：８２．７４％ Ｈ：１１．３４％ Ｈ：１１．７６％¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトラム（３００ ＭＨｚ／ＣＤＣｌ
₃ ）の典型的なシグナル：Ａｒ−ＣＨ₂ −（ＣＨ₂ ）₈
−ＣＨ₂ −Ａｒ δ＝２．５０ｐｐｍ，トリプル，Ｊ＝
７．５Ｈｚ

【００７４】実施例４：１，４−ビス（３’−第三−ブ
チル−５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタ
ンの製造（製造方法Ｃ） 第一操作：１，４−ビス（２’−第三−ブチル−６’−
メチルフェノキシ）ブテ−２−エンの製造（製造方法
Ｃ） ２−第三−ブチル−６−メチルフェノール３２ｇ（２０
０ｍｍｏｌ）、トランス−１，４−ジクロロブテ−２−
エン１０．５ｍｌ（１００ｍｍｏｌ）、炭酸カルシウム
４１．４ｇ（３００ｍｍｏｌ）およびジメチルフォルム
アミド２５０ｍｌの混合物が９０℃に於いて７５０ｍｌ
スルホン化フラスコ中で４時間攪拌される。反応混合物
が室温に冷却された後に、ゼライト上でろ過され、その
ろ過物が飽和した塩化アンモニウム水溶液に流し込ま
れ、そして混合物がエチルアセテートにより処理され
る。有機相がスルホン化ナトリウムにより乾燥され、ス
ルホン化ナトリウムがろ過された後に、ろ過物がロータ
リーエバポレーター上で濃縮される。得られた褐色オイ
ル（３６ｇ）のクロマトグラフィー（ＳｉＯ₂ 、ヘキサ
ン）から所望のビス−エーテルが１８ｇ（理論値の４７
％）得られる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８２．０６％ 実験値： Ｃ：８１．９０％ Ｈ： ９．５４％ Ｈ： ９．６７％ 第二操作：１，４−ビス（３’−第三−ブチル−５’−
メチル−4'- ヒドロキシフェニル）ブテ−２−エンの製
造 エチレンジグリコール１７０ｍｌ中の上記エーテルの２
５．６ｇ（６７ｍｍｏｌ）の溶液が１９５℃に於いて４
時間攪拌される。溶媒は蒸留され、そして残渣はクロマ
トグラフ（ＳｉＯ₂ 、ヘキサン／エチルアセテート ４
０：１）される。融点が９９−１０６℃の範囲の１，４
−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−4'- ヒド
ロキシフェニル）ブテ−２−エン８．６ｇ（理論値の３
４％）が得られる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８２．０６％ 実験値： Ｃ：８２．３０％ Ｈ： ９．５４％ Ｈ： ９．７６％ 第三操作：１，４−ビス（３’−第三−ブチル−５’−
メチル−4'- ヒドロキシフェニル）ブタンの製造 エチルアセテート１００ｍｌ中の１，４−ビス（３’−
第三−ブチル−５’−メチル−4'- ヒドロキシフェニ
ル）ブテ−２−エン８．５５ｇ（２２．５ｍｍｏｌ）が
大気圧下の室温に於いてＰｄ／Ｃ（５％）の１ｇ上で水
素添加される。３０分後、水素原子の消費が完了する。
反応混合物がセライト上でろ過され、そして得られたろ
過物が濃縮される。アセトニトリルからの粗生成物の結
晶化から融点が１０６−１０７℃である１，４−ビス
（３’−第三−ブチル−５’−メチル−４’−ヒドロキ
シフェニル）ブタン６．６ｇ（理論値の７７％）が得ら
れる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８１．６２％ 実験値： Ｃ：８１．５９％ Ｈ：１０．０１％ Ｈ：１０．５０％¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトラム（３００ ＭＨｚ／ＣＤＣｌ
₃ ）の典型的なシグナル：Ａｒ−ＣＨ₂ −（ＣＨ₂ ）₂
−ＣＨ₂ −Ａｒ δ＝２．５２ｐｐｍ，トリプル，Ｊ＝
７Ｈｚ

【００７５】実施例５：１，６−ビス（３’，５’−ジ
シクロヘキシル−４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサン
の製造（製造方法Ａ） ２，６−ジシクロヘキシルフェノール２５８ｇ（１ｍｏ
ｌ）からの６−（３’，５’−ジジクロヘキシル−４’
−ヒドロキシフェニル）ヘキサノール、および実施例１
に記載の方法による１，６−ヘキサンジオールの他に、
融点１６２−１６７℃の表題生成物２５ｇ（理論値の８
％）が得られる。 元素分析： 理論値： Ｃ：８４．２２％ 実験値： Ｃ：８３．４９％ Ｈ：１０．４３％ Ｈ：１０．５８％¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトラム（３００ ＭＨｚ／ＣＤＣｌ
₃ ）の典型的なシグナル：Ａｒ−ＣＨ₂ −（ＣＨ₂ ）₄
−ＣＨ₂ −Ａｒ δ＝２．５１ｐｐｍ，トリプル，Ｊ＝
７．４８Ｈｚ

【００７６】実施例６：α，ω−アルカンジフェノール
およびヒドロキシフェニルアルカノールエステルの混合
物の製造 １）α，ω−アルカンジフェノールおよびヒドロキシフ
ェニルアルカノールエステルの混合物の製造（製造方法
Ａ） 油状生成物が得られるまで、実施例１の操作が繰り返さ
れる。真空蒸留（１１４−１３５℃，２０００Ｐａ）に
より未反応２−第三−ブチル−６−メチルフェノール２
８ｇから取り除かれる。ＨＰＬＣによると、残渣（約２
４０ｇ）は６−（３’−第三−ブチル−４’−ヒドロキ
シ−５’−メチルフェニル）ヘキサノール７０％および
１，６−ビス（３’−第三−ブチル−５’−メチル−
４’−ヒドロキシフェニル）ヘキサンの２０％を含む。 ２）エステル化 （１）に記載された残渣１１．１ｇ（６−（３’−第三
−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）
ヘキサノール３０ｍｍｏｌ）、ジメチルアジペート３．
６６ｇ（２１ｍｍｏｌ）およびジブチルチンオキサイド
２４０ｍｇが蒸留装置が着いた丸底フラスコに混入され
る。２０−２５℃に冷却した後に、粗混合物がクロマト
グラフィー（ＳｉＯ₂ ；ヘキサン／エチルアセテート
１９／１）により生成される。ヘキサンジフェノール
（Ａ）２９％とジエーテル（Ｂ）（ＨＰＬＣ）の６２％
からなる、うすい黄色の粉末（融点５５−９３℃）の
７．８ｇ（理論値の５０％）が得られる。

【化２０】

【００７７】実施例７：アクリロニトリル／ブタジエン
／スチレンターポリマー（ＡＢＳ）の安定化 表１に記載された安定剤がヘキサンおよびイソプロパノ
ールの混合物の４０ｍｌに溶解される。溶液が水６００
ｍｌ中のＡＢＳ１００ｇの懸濁液に攪拌されながら添加
され、その後に、溶液がＡＢＳにより約１分に渡って完
全に吸収される。安定剤からなるポリマー粉末がろ過さ
れ、そして真空中４０℃に於いて、４０時間乾燥され
る。比較のために、安定剤を含まない試料の続く加工操
作がまた実施される。顔料としてのチタニウムジオキサ
イド２％、および潤滑剤としてのエチレン−ビス−ステ
アリン酸１％が乾燥粉末に添加される。そして混合物が
１８０℃に於いて４分間二本ロールミール上で配合され
る。０．８ｍｍ厚さのシートが１７５℃に於いてロール
された練生地から圧縮され、そして４５×１７ｍｍ² の
試験試料がシートから型抜きされる。添加された安定剤
の活性の試験が１８０℃に於いて空気循環炉中に於いて
加熱老化することにより実施される。４５分の試験時間
後の色の変化が基準とされる。色の純度がＡＳＴＭ Ｄ
１９２５−７０（黄色度指数）により決められる。試
験結果が表１に示される。高い数値ほどより濃い黄色の
発色を意味している。実験より黄色発色は本発明の化合
物により抑えられることがいえる。

【００７８】実施例８：Ｘ−ＳＢＲ（カルボキシル化Ｓ
ＢＲラテックス）の安定化 それぞれの場合、表２に記載された発明に関する安定剤
の重量の０．２５部は少量のメタノールに溶解されそし
て溶液はＸ−ＳＢＲラテックス（タイプＸＺ９９４６
６．００／ダウケミカル社）の１００重量部に攪拌溶解
される。前記されたラテックスの重量がペトリ皿に移さ
れそして乾燥キャビネット中で８０℃に於いて乾燥され
る。相の厚みが約０．２ｍｍの透明なフィルムが得られ
る。比較の目的で、安定剤なしの試料が調製される。添
加された安定剤の活性の試験が、空気循環炉中で１２０
℃に於いて実施される。表２に示された時間間隔の後
に、試料の変色がＡＳＴＭ Ｄ １９２５−７０（黄色
度指数〔ＹＩ〕）により測定される。試験結果が表２に
示される。高い数値ほどより濃い黄色の発色を意味して
いる。実験より黄色発色は本発明の化合物により抑えら
れることがいえる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ポール ダブ スイス，マリー 1723，ルート デュ コ ンファン 14 (72)発明者 ベルナール ジル フランス，サン ルイ ラ ショース 68300， アール．ドュ ラ プチ カマ ルグ 20

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ａ）熱、酸化および／もしくは化学線によ
   る分解に対して感受性である有機材料、およびｂ）少な
   くとも１個の次式Ｉ： 【化１】 （式中 Ｚ₁ およびＺ₂ は各々独立して炭素原子数１な
   いし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロ
   アルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１ない
   し４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のアル
   キルフェニル基を表し、またｐは４ないし１８の数を表
   す、但しＺ₁ およびＺ₂ は同時に第三アルキル基を表す
   ことはない。）で表わされる化合物からなる組成物。
2. 【請求項２】 式Ｉ中のＺ₁ およびＺ₂ が各々独立して
   炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５な
   いし８のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、
   α−メチルベンジル基またはα，α−ジメチルベンジル
   基を表し、またｐが４ないし１２の数を表す請求項１記
   載の組成物。
3. 【請求項３】 式Ｉ中のＺ₁ およびＺ₂ が各々独立して
   炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数５ない
   し６のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、α
   −メチルベンジル基またはα，α−ジメチルベンジル基
   を表す請求項１記載の組成物。
4. 【請求項４】 式Ｉ中のＺ₁ およびＺ₂ が各々独立し
   て、メチル基、第三−ブチル基、シクロヘキシル基、フ
   ェニル基またはα，α−ジメチルベンジル基を表し、ま
   たｐが４ないし１０の数を表す請求項１記載の組成物。
5. 【請求項５】 式Ｉ中のＺ₁ またはＺ₂ 基の一方が第三
   −ブチル基を表す請求項１記載の組成物。
6. 【請求項６】 式Ｉ中のＺ₁ が第三−ブチル基を表し、
   またＺ₂ がメチル基を表す請求項５記載の組成物。
7. 【請求項７】 式Ｉ中のｐが４ないし１０の数である請
   求項６記載の組成物。
8. 【請求項８】 有機材料が合成有機ポリマーまたは該ポ
   リマーの混合物である請求項１記載の組成物。
9. 【請求項９】 合成有機ポリマーがポリオレフィンまた
   はスチレンコポリマーである請求項８記載の組成物。
10. 【請求項１０】 熱、酸化および／もしくは化学線によ
    る分解に対して感受性である有機材料を安定化するため
    の請求項１記載の式Ｉの化合物の使用。
11. 【請求項１１】 式Ｉの化合物を合成有機ポリマー中の
    酸化防止剤として使用する請求項１０記載の方法。
12. 【請求項１２】 少なくとも１個の請求項１記載の式Ｉ
    の化合物を有機材料に添加することからなる、熱、酸化
    および／もしくは化学線による分解に対して感受性であ
    る該有機材料を安定化する方法。
13. 【請求項１３】 次式Ｉ： 【化２】 （式中 Ｚ₁ およびＺ₂ は各々独立して炭素原子数１な
    いし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロ
    アルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１ない
    し４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のアル
    キルフェニル基を表し、またｐは４ないし１８の数を表
    す、但しＺ₁ およびＺ₂ の２つの基が炭素原子数１ない
    し１８のアルキル基を表す場合、一方の基が枝別れ炭素
    原子数１ないし１８のアルキル基を表し、またＺ₁ およ
    びＺ₂ の二つの基が同時に第三アルキル基を表すことは
    なく、また化合物１，４−ビス（３’−第三−ブチル−
    ５’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブタンを含
    まない。）で表わされる化合物。
14. 【請求項１４】ａ）酸化、熱および／もしくは化学線に
    よる分解に対して感受性である有機材料 ｂ）請求項１記載の式Ｉの化合物、および ｃ）次式ＶＩ： 【化３】 （式中 Ｒ¹ およびＲ¹ ’は各々独立して炭素原子数１
    ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシク
    ロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１な
    いし４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のア
    ルキルフェニル基を表し、またｎは４ないし１８の整数
    を表す。）で表わされる化合物からなる組成物。
15. 【請求項１５】ａ）酸化、熱および／もしくは化学線に
    よる分解に対して感受性である有機材料 ｂ）請求項１記載の式Ｉの化合物、および ｃ）次式ＶＩＩ： 【化４】 （式中 ｎは４ないし１８の範囲の整数を表し、および
    ｍは１ないし４の範囲の整数を表し；ｍが１を表す場
    合、Ａは未置換または炭素原子数５ないし８のシクロア
    ルキル基により置換された炭素原子数１ないし２５のア
    ルキル基を表し；または炭素原子数５ないし８のシクロ
    アルキル基または一個以上の−Ｓ−，−Ｏ−および／ま
    たは−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数２ないし
    ２５のアルキル基を表し；またはｍが１を表す場合、Ａ
    は未置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基ま
    たは炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置換
    された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基を表
    し；未置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基
    または炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置
    換された炭素原子数６ないし８のシクロアルキル基を表
    し；未置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基
    または炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置
    換されたフェニル基を表し；未置換または炭素原子数１
    ないし１２のアルキル基または炭素原子数２ないし１２
    のアルケニル基により置換されたナフチル基を表し；未
    置換または炭素原子数１ないし１２のアルキル基または
    炭素原子数２ないし１２のアルケニル基により置換され
    たビフェニル基を表し；または炭素原子数２ないし２５
    のアルケニル基；炭素原子数６ないし１０のビシクロア
    ルケニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキ
    ル基；炭素原子数８ないし１２のフェニルアルキル基；
    炭素原子数１１ないし１６のナフチルアルキル基；炭素
    原子数１２ないし１６のナフチルアルケニル基；炭素原
    子数１３ないし１８のビフェニルアルキル基；炭素原子
    数１４ないし１８のビフェニルアルケニル基；または次
    式 【化５】 で表わされる基を表し；ｍが２を表す場合、Ａは直接結
    合；炭素原子数１ないし１２のアルキレン基；炭素原子
    数２ないし１２のアルケニレン基；未置換または炭素原
    子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数２ない
    し１２のアルケニル基により置換された炭素原子数５な
    いし８のシクロアルキレン基；未置換または炭素原子数
    １ないし１２のアルキル基または炭素原子数２ないし１
    ２のアルケニル基により置換された炭素原子数６ないし
    ８のシクロアルケニレン基；炭素原子数６ないし１０の
    ビシクロアルケニレン基；フェニレン基、ナフチレン
    基；窒素原子上で水素原子または置換基−Ｒ² により飽
    和された、フラン、チオフェンおよびピロールからなる
    群からの二価の複素環基を表し；またはｍが２を表す場
    合、Ａは炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基ま
    たはフェニレン基もしくは少なくとも１個の−Ｓ−，−
    Ｏ−または−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数２
    ないし３６のアルキレン基を表し；ｍが３を表す場合、
    Ａは炭素原子数１ないし８のアルカントリイル基；炭素
    原子数２ないし８のアルケントリイル基；ベンゼントリ
    イル基；ナフタレントリイル基；次式 【化６】 で表わされる三価基；または少なくとも１個の−Ｓ−，
    −Ｏ−または−ＮＲ² −基により中断された炭素原子数
    ２ないし１８のアルカントリイル基を表し；ｍが４を表
    す場合、Ａはベンゼン基、ナフチル基、テトラヒドロフ
    リル基または４自由原子価を有するシクロヘキシル基を
    表し；Ｒ¹ およびＲ¹ ’は各々独立して、炭素原子数１
    ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシク
    ロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１な
    いし４のアルキル基または炭素原子数７ないし１０のア
    ルキルフェニル基を表し；Ｒ² はＨまたは炭素原子数１
    ないし４のアルキル基を表し；Ｒ³ およびＲ⁴ は各々独
    立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；また
    Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ は各々独立して炭素原子数１ない
    し３のアルキレン基を表す。）で表わされる化合物から
    なる組成物。
16. 【請求項１６】 式Ｉの化合物と請求項１４および１５
    に記載の式ＶＩおよび／または式ＶＩＩの化合物の混合
    物を有機材料に添加することからなる、酸化、熱および
    ／もしくは化学線による分解に対して感受性である有機
    材料を安定化する方法。