JPH06236742A

JPH06236742A - 放射線像増強管

Info

Publication number: JPH06236742A
Application number: JP4290502A
Authority: JP
Inventors: Yvan Raverdy; イバン、ラベルディ; Christian Marillat; クリスチャン、マリラ; Daniel Gally; ダニエル、ガリ
Original assignee: Thomson Tubes Electroniques
Current assignee: Thales Electron Devices SA
Priority date: 1991-10-31
Filing date: 1992-10-28
Publication date: 1994-08-23
Anticipated expiration: 2017-09-09
Also published as: EP0540391A1; JP3323252B2; DE69201183T2; DE69201183D1; US5315103A; FR2683388A1; EP0540391B1

Abstract

(57)【要約】【目的】像の解像度を改良するための放射線像増強管
の提供。【構成】この発明は放射線像増強管１に関し、特にこ
れらの像解像度の改良及び／または出力部で輝度曲線を
修正するための手段に関する。像増強管１は、アルミニ
ウム基板によって形成されるシンチレータ１６を有する
入力スクリーン１５を有する。アルミナの多孔性層２０
がシンチレータ１６と基板１７との間に挿入される。ア
ルミナ層２０は、基板１７に向かってシンチレータ１６
によって放出された光を吸収するようにダイ加工され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、放射線像増強管に関
し、特にこれらの管の像の解像度を改良するための手段
に関する。

【０００２】

【従来の技術】像増強管は、管の前に配置された入射ス
クリーンと、電気光学システムと、この管の出力ウイン
ドウと同じ側の管の後ろに配置された目視可能な像の観
察用のスクリーンとを有する真空管である。Ｘ線または
放射線像増強管において、入力スクリーンは、さらに入
射Ｘ光子を可視光子に変換するシンチレータスクリーン
を有する。

【０００３】図１はこのようなタイプの放射線像の増強
管の断面図である。この放射線像増強管１はガラス製の
エンベロープ２と、管の前方でその一端がＸ光子放射に
さらされる入力スクリーン３とを有する。

【０００４】管の後方を形成するエンベロープの第２の
端部は光を通過させる出力ウインドウ４によって閉鎖さ
れている。

【０００５】Ｘ線はシンチレータスクリーン５によって
光線に変換される。この光線は応答して電子を生じるフ
ォトカソード６を励磁する。

【０００６】フォトカソード５によって生じる電子は、
管の長手方向の軸線１３に沿って配置され、電子光学シ
ステムを形成する異なる電極７及びアノード８によって
出力ウインドウ４に向かって加速される。

【０００７】出力ウインドウ４は、例えばルミノホール
（ｌｕｍｉｎｏｐｈｏｒｅｓ）で形成されたカソードル
ミネセントスクリーンまたは出力スクリーン１０に当た
る、図示したような透明なガラス部分によって形成され
る。

【０００８】カソードルミネセントスクリーン、すなわ
ち出力スクリーン１０上の電子の衝撃は最初にフォトカ
ソード６の表面上に形成された（輝度が増幅された）像
を再び構成することを可能にする。

【０００９】出力スクリーン１０によって表示される像
は、出力ウインドウ４を構成するガラス部分を通して見
ることができる。通常、光学センサ装置（図示せず）が
出力ウインドウ４の近傍の管の外側に配置され、この像
をウインドウ４を通してピックアップし、それを観察で
きるようにする。

【００１０】最も最近の例において、入力スクリーン９
は、シンチレータ５によってカバーされたアルミニウム
基板を有し、シンチレータ５は、例えば、酸化インジウ
ムでつくられた電気的に導体の透明な層１１によってそ
れ自身がカバーされている。

【００１１】Ｘ線はアルミニウム基板側の入力スクリー
ンに当たる。それらは、この基板を通過し、シンチレー
タを形成する材料に到達する。

【００１２】シンチレータによって生じる光子はすべて
の方向に放射される。しかしながら、管の解像度を増加
させるために、選択されたシンチレータ材料は、それら
が積層される面に垂直な結晶の形態で成長する適性を有
するヨウ化セシウムのような物質である。このように積
層された針の結晶は、高い解像度をつくる表面にたいし
て垂直方向に光を案内する傾向がある。

【００１３】１９８８年７月２２日のフランス国特許出
願第８８．０９９３８号は、シンチレータを成長させる
層の表面の状態によって、シンチレータの針状結晶の中
間の断面を減ずる。シンチレータで発生した光子がＸ線
が到達する側に向かってスタートするから解像度の質が
低下する。これらの光子はランダムな入射角によってア
ルミニウム基板を打つ。それらはアルミニウム基板の前
側でフォトカソードに向かって反射されるが、これらの
光子の通路は、結果が解像度の損失であるようであり、
電子が要求されたものと異なるフォトカソード内の点で
つくられる状態まで到達することが可能である。

【００１４】図２は入力スクリーン９の詳細図であり、
フォトカソードの異なる点での電子の形成の結果生じ
る、シンチレータ５上のＸ光子の衝撃からでる２つの光
子ＰＬ１、ＰＬ２の異なる通路を並べて示すことによっ
て解像度のロスを示す。Ｘ線が到達する入力ウインドウ
３はヨウ化セシウムシンチレータ５に当たるアルミニウ
ム基板を構成し、その結晶５ａは表面に垂直であり、光
子の方向を決定づける。参照符号１１の透明な導体のサ
ブ層はシンチレータ５とフォトカソード６との間に配置
されている。

【００１５】図２に示す例において、光子ＰＬ２は後
方、すなわち基板３に向かって進み、フォトカソード６
に向かうように、基板３によって反射され、シンチレー
タ５内の通路は異なる針の結晶の一方から発生するよう
に放射され、この事実は解像度のロスを示す。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は後ろ側に放射さ
れた後、反射された光子の量を減少させることによって
解像度の改良を提供する。

【００１７】この目的のために、本発明は、アルミニウ
ム基板とシンチレータとの間にシンチレータ内に生じた
光を少なくとも部分的に吸収するスクリーンを挿入する
方法を示す。

【００１８】本発明によれば、入力スクリーンが、シン
チレータとこのシンチレータに当たる基板との間にアル
ミナ層を有し、このアルミナ層は、基板に向かってシン
チレータによって放射された光子の少なくとも一部分が
このダイ加工されたアルミナ層内に吸収されるようにシ
ンチレータによって放射された波長で吸収性をもつ基板
によって「色づけ（ｔｉｎｔｅｄ）」され、または「ダ
イ加工された」アルミナ層を有する放射線像増強管をつ
くるために提供される。

【００１９】後方に放射された光子の少なくとも一部を
吸収する場合、この減少は、基板によって反射した後、
前方に放射され同じＸ線によって発生する光子に当たる
ものと異なる点でフォトカソードに当たるこれらの光子
の比率によって達成される。

【００２０】「シンチレータによって放射される波長で
吸収基板によってダイ加工された」という表現はそれを
含み、それを含浸させ、アルミナを不透明化することが
できる、すなわち、少なくともシンチレータによって放
射された波長において、その伝達を減少させることがで
きる部材を定義するために使用される。結果として、用
語の「ダイド（ｄｙｅｄ）」は広い範囲の波長を吸収す
ることができる中性またはグレイカラーまたは色合いに
適用することができる。

【００２１】最も普通の例において、基板はアルミニウ
ムでつくられ、シンチレータはイオン化されたセシウム
でつくられ、さらにダイ加工された層はシンチレータの
アルミニウム基板への接着を促進する非常に大きな利点
を有する。

【００２２】さらに、このような方法の利点は、それが
シンチレータの針結晶と交換可能のままであることであ
る。

【００２３】ダイ加工されたアルミナ層は、いくつかの
方法によって作られる。例えば、それ自身が従来の技術
である真空蒸着の方法、または基板の陽極化である。基
板の陽極化はアルミナ層を多孔性にするために適用され
る方法によって行われ、陽極化はシンチレータによって
放射された波長を吸収する物質で孔を満たすためのステ
ップが続く。

【００２４】この吸収物質は、シンチレータによって生
じる光を吸収するために適した色を与えるために適当な
溶液を使用する含浸被覆方法によって孔の内壁上に堆積
される。

【００２５】アルミナ層に与えられる吸収係数は、例え
ば、色付けられる製品内の溶液の濃度及び／またはアル
ミナ層の多孔性の度合いによって制御される。

【００２６】さらに、その縁部と中央部との間の、ダイ
加工されたアルミナ層の吸収係数を変更することによっ
て、例えば、放射線像増強管の輝度曲線を修正するため
に適した規則に対応する吸収係数の変化をつくることが
可能になる。

【００２７】また、アルミナ層の多孔性の度合いを制御
することによって、シンチレータ層に当たるために適し
ており、それ自身及びシンチレータ層の間の熱膨張係数
の差異の作用に耐える構造を得ることができる。

【００２８】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳
細に説明する。図１と同様な図３は、本発明による入力
スクリーン１５を有する放射性像増幅器を示し、放射性
像増強管は、図１に示すものと同様である。

【００２９】入力スクリーン１５は、サポートまたは基
板１７によって支持されるシンチレータ層１６を有す
る。基板１７は、好ましくは、アルミニウムフォイルに
よって製造されるが、アルミニウムを基板にした合金で
あってもよい。（例えば１ミリメートルの半分の）その
厚さは、Ｘ線に対して適当な透過性を与える。

【００３０】シンチレータ層１６は、それ自身標準的な
ものであり、例えば（４００ミクロンのオーダーの）数
百ミクロンの厚さのヨウ化セシウムからつくられる。こ
のヨウ化セシウムは、それが約４３００オングストロー
ム（青色）の波長で、ヨウ素のドーピングによって変化
する波長で放出するように、例えばナトリウムでドープ
される。図３をさらに明瞭にするために、異なるエレメ
ントの直径の間の比率はこの図面では維持されないこと
に留意すべきである。

【００３１】さらに、入力スクリーン１５は、従来のよ
うに、基板１７と反対のシンチレータ層１６、並びにフ
ォトカソード６を形成し、電気的に導体の透明な層１１
を含む。

【００３２】本発明の１つの特徴によれば、入力スクリ
ーン１５は、シンチレータ層１６と基板１７との間に挿
入されたダイ加工されたアルミナ層２０を有する。

【００３３】ダイ加工されたアルミナ層２０はシンチレ
ータ１６によって後方に、基板１７に向かって放射され
た光子を少なくとも部分的に吸収するためにシンチレー
タ１６によって放射された波長を吸収するスクリーンを
構成する。これを行うために、アルミナ層２０は、少な
くともシンチレータ１６によって放射された光、すなわ
ちこの例において青色を吸収することができる基板がダ
イ加工されたものである。

【００３４】シンチレータ１６によって放射された波長
でアルミナ層２０による吸収係数または逆にこの層の伝
達係数はこのアルミナ層に含まれる吸収基板の品質及び
濃度に依存する。標準的な方法において、アルミナ層２
０によって生じる吸収は、一方で（シンチレータ１６に
よって生じた光）光エネルギーの観点での受け入れがた
いロス従って感度と、他方で像解像度の所望の水準と妥
協である。

【００３５】本発明の他の特徴によれば、ダイ加工され
たアルミナ層２０の（シンチレータ１６によって放出さ
れる波長での）吸収係数は、この層の中央領域２０と外
方縁２１と、即ち、この層２０に共通の直径Ｄ１及び全
体のスクリーン１５との間で変化する。

【００３６】アルミナ層２０に縁部２１から中央部２２
へ増加する吸収係数を与えることによって、このアルミ
ナ層２０によって、像の解像度の改良と、放射線像増強
管の出力管１０の直径Ｄ（図１参照）に沿って測定され
た輝度曲線の補償との双方が同時に得られる。輝度曲線
は出力スクリーンの直径の各点での光の強度を表す。

【００３７】電子光学的な理由によって、放射線の増強
像の入力スクリーンの表面は平坦ではなく、丸い。それ
は、また（大きなサイズのスクリーンにおいて）放物線
または双曲線またはさらに球状のキャップのような形状
である。

【００３８】このスクリーンのこの曲率の結果、入力ス
クリーンがＸ線の一様なビーム形状によって照射される
ならば、スクリーンによって発生される電子濃度は一様
ではない。輝度曲線が出力スクリーン１０の直径Ｄに沿
って測定されるならば（図１参照）、この曲線は水平で
はなく、中心が平坦であり、ほぼ円弧のような形状であ
り、出力スクリーンの輝度は中心に向かって最大である
が、縁部に達するに従って、次第に減少する。例えば
（１５ｃｍの直径の入力スクリーンのような小さいサイ
ズの管において）中心に関する縁部での輝度の減少は２
５％のオーダーである。（例えば直径が３０センチメー
タの）大きいサイズのスクリーンにおいては、減少は３
５％に達する。

【００３９】本発明による入力スクリーン１５は、図３
に示すように、シンチレータによって放射された波長
の、ダイ加工されたアルミナ層２０によって達成された
吸収に対して非均一な吸収に対して与えた輝度の非均一
性を改良することができる。

【００４０】図４は出力スクリーンの直径に沿ってプロ
ットされた放射線像増強管の第１及び第２の曲線３０，
４０を示す。それらは、入力スクリーンの照度が一様で
あるとした場合にスクリーンの中央からこれらの点の距
離の関数として出力スクリーン上の目視可能な像の点の
線の輝度を表す。

【００４１】このようにして、中央からの半径方向の距
離は、ｘ軸線上に示され、可視できる出力像の輝度はｙ
軸上に示される。

【００４２】点線で図示したこの第１の輝度曲線３０は
標準の放射線像増強管で得られる標準の輝度曲線であ
る。

【００４３】第１の輝度曲線３０は、水平直線、すなわ
ち、ほとんど論理的に望ましい水平曲線ではないことが
わかる。それは、中心に向かう一種の平坦な円弧であ
る。中心及び縁部の間の輝度の差は管のタイプ及びそれ
らの直径によって２５％から３５％の範囲である。事
実、輝度におけるある程度の差異は、これが余り大きく
ない限り望ましい。

【００４４】第２の輝度曲線４０は（図３に示すよう
に）基板１７及びシンチレータ層１６の間に挟まれたダ
イ加工されたアルミナ層２０によって得られる。層２０
による吸収は縁部２１に向かうより中心に向かう方が大
きいから、この層によって中心及び縁部の差異が約１０
％に制限されるさらに平坦な輝度曲線を得ることが可能
であることがわかる。

【００４５】ダイ加工されたアルミナ層２０に適当な吸
収プロフィールを与えることによって、所望のプロフィ
ールを有する輝度曲線を得ることが可能になることは明
らかである。

【００４６】しかしながら、ダイ加工されたアルミナ層
２０による吸収、すなわち、このアルミナ層２０によっ
て達成された青色の伝達における減衰は、図２に示すよ
うな光子ＰＬ２のような後ろ側に放射される光が、基板
に到達する第１回目とそれらが前方に再びスタートする
ときの第２回目におけるように、この減衰を２倍にする
事実を計算に入れるべきである。

【００４７】さらに、像解像度の改良において特に好ま
しい効果は、基板に当たり、シンチレータに戻る光子が
基板に入射する点への垂線に関して傾斜するこれらのす
べての光子より大きい２倍の減衰が行われる。なぜなら
ば、それらは減衰媒体において大きな距離を走行するか
らである。

【００４８】この像の解像度を改良するために、ダイ加
工されたアルミナ層２０による吸収または減衰はその直
径Ｄ１に沿って一様である。しかしながら、最も良好な
解像度を探索する像の領域は、解像度の改良及び輝度曲
線の保証が同じアルミナ層２０によって同時に得られる
ような中央の領域である。

【００４９】ダイ加工されたアルミナ層２０は異なる方
法でつくられる。例えば、いわゆる真空蒸着方法によっ
てつくられる。この方法において、第１に（アルミナ層
を形成するための）アルミナの蒸着、第２にアルミナ層
を「ダイ加工する」ように設計された透明化製品の蒸着
の同時に真空蒸着が同時に行われ、すなわち、シンチレ
ータ１６によって放射された波長に関して吸収力を与え
る。

【００５０】青のレンジで放射するシンチレータ１６の
場合において、不透明化製品は例えばクロミウムのよう
な金属要素または一酸化シリコンのような化合物であ
る。

【００５１】真空蒸着の技術は標準的な技術である。そ
れは合成材料、例えば、電気または電気光学特性を有す
るセラミック材料の薄いまたは厚い層をつくるために使
用されることに留意すべきである。

【００５２】この方法の欠点は層の表面状態にわたって
容易な制御を行なわないことを含む。

【００５３】本発明の好ましい実施例によれば、ダイ加
工されたアルミナ層２０は、多孔性の層であり、その孔
はシンチレータ１６によって放射される波長を吸収する
物質を含む。ダイ加工されたアルミナ層２０は（１ミク
ロン以下の厚さを有する）厚い及び緻密な層に対して
（例えば、１から１５ミクロンの範囲の厚さを有する）
いわゆる「厚い」層である。

【００５４】多孔のアルミナ層２０は適当な酸媒体中で
アルミニウム基板１７の内側の面３０を陽極化すること
によって容易に得ることができる。この段階において、
アルミナ層２０は多孔性であり、実際には透明であり、
それが「吸収」特性を得られるように透明な物質によっ
て「ダイ加工」しなければならない。

【００５５】図５はスクリーン１５の一部概略断面図で
あり、特に、それ自体が標準である方法によって酸媒体
中で基板１７の陽極化によって得られるアルミナ層を示
す。この段階において、シンチレータ層はアルミナ層２
０上に積層されていない。

【００５６】この酸媒体は、例えば、重量で約１５％の
比率の硝酸の溶液か、重量で５％の比率のリン酸の溶液
か、重量が２％の比率の蓚酸の溶液である。

【００５７】多孔アルミナ層２０の厚さＥ１は従来のよ
うにアノードの電流の大きさ、酸漕の温度及び操作の期
間に非常に依存する。

【００５８】陽極の電流の大きさは、例えば、ｄｍ2 当
たり１及び２アンペアの間で変化する。これらの操作
は、通常大気温度で操作される。

【００５９】これらの状態のもとで、図５に示すような
アルミナ層２０をつくることは容易である。アルミナ層
２０はアルミニウム基板１７の内面上に形成され、（図
５には示さない）シンチレータを形成する層１６はアル
ミナ層２０上に積層される。

【００６０】アルミナ層２０は、チャンネルを形成する
孔３２を有し、その一般的な方向は基板１７に実質的に
垂直である。これらの孔３２またはチャンネルは（シン
チレータ１６を受けるように設計された側で）層２０の
面から始まり、それらはアルミナ層２０の平均の厚さＥ
１よりわずかに小さい平均の深さＰ１を有し、例えば、
１０ミクロンのオーダーの平均の深さＥ１及び０，０５
ミクロンのオーダーの平均の直径Ｄ２において７．５ミ
クロンのオーダーの平均の深さＰ１である。

【００６１】アルミナ層２０の多孔性の程度、主に孔３
２の数したがってこれらの孔のピッチＰａは異なる方法
で、主にアノードの電流の大きさによって制御される。
上述した例の場合において、平均の厚さＰ１が７．５ミ
クロンのオーダーであり、平均の厚さが１０ミクロンの
オーダーであるときに、２から３ミクロンのオーダーの
２つの孔の間の平均距離が得られる。これは、多孔性は
電流の大きさで増加するから、例えば、電流の大きさを
調整することによって行われる。通常、多孔性（孔の数
及び直径）の特性は使用する酸の性質及び濃度によって
制御される。

【００６２】また、アルミナ層２０の表面３３の状態を
制御し、それにシンチレータ層１６を十分に把持し、こ
の層を解像度を改良するような断面に形成する針状結晶
を成長させる程度の粗さを与える。例えば、これは陽極
化の状態またはアルミニウムの最初の面の状態を調整す
ることによって得られる。

【００６３】多孔性アルミナ層２０はアルミニウムの装
飾において使用されるような標準の方法によって、例え
ば、孔３２の壁上に、層３５の形態の例で示す吸収物質
の配置に関するディップコーティング（ｄｉｐ−ｃｏａ
ｔｉｎｇ）法によって容易に「ダイ加工」される。

【００６４】ａ）ディップコーティング法は、例えば、
重量が２０％の比率において、蓚酸第２鉄の溶液中のア
ルミナ層２０の処理からなる。この処理は、シンチレー
タ１６によって生成された光を吸収する例において可能
なイェロウオレンジ色を与える。

【００６５】ｂ）アルミニウム装飾の分野においてよく
知られた他の方法は、約５０°で１リッター毎に約２０
グラムのコバルトアセテート溶液によって処理すること
からなる。この処理の後に、１リッター毎に約２０グラ
ムの割合で過マンガン酸カリウムの溶液による第２の処
理が行われ、青銅色が得られる。

【００６６】孔３２のカラー化はイオン交換機構によっ
て孔３２の壁上に酸化金属の微粒子を固定する現象によ
って行われる。孔の直径及び深さのようなパラメータは
カラー化の強さに直接影響を与え、カラー化の振幅は、
孔３２の数が増加したとき及びまたは層の厚さＥ１が増
加するときに増大する。

【００６７】カラー化の他の方法を使用してもよい。例
えば、これらの方法は、電解質の媒体における陽極化の
積層からなる。このカラー化は使用される陽イオンに特
定され、得られるカラー化は酸化金属または積層される
金属に依存する。

【００６８】ある場合において、（必須ではないが）ダ
イ加工されたアルミナ層２０の孔３２を閉鎖、すなわち
詰めることは有利である。これは、例えば、化学アタッ
クよりさらに有効にカラー化を行うために行われる。

【００６９】図６は、図４と同様な図面であり、孔３２
の詰めまたは「ふさぎ」を示し、この「ふさぎ」は、孔
のカラー化が行われた後に追加の処理によって得られ
る。この「ふさぎ」処理は、例えば、沸点（９８°Ｃ）
に近い高度に希釈されたニッケル塩とコバルト中で含浸
被覆することからなる。この孔３２は、表面上の追加の
アルミナ層３７の成長によって「閉鎖」される。上述し
たように、多孔性の度合いは、陽極電流の大きさによっ
て制御され、この電流出で増加する。この特性は、上述
したような輝度曲線を修正するために適用されるプロフ
ィールをアルミナ層２０による吸収に与えるためにダイ
化されたアルミナ層２０に縁部より中央領域に大きな特
性を与えるために使用される。吸収物質は孔３２内に積
層されるから、アルミナ層２０の中央領域のこれらの孔
３２の量が増加すれば、中央領域は縁部より大きな吸収
係数が与えられる。

【００７０】図７は非制限的な例として、適当な形状の
電解漕を使用してダイ加工されたアルミナ層２０の縁部
より中央領域２２内で大きな特性を得る方法を示した概
略図である。

【００７１】図７は、図３のアルミニウム基板と同様の
アルミニウム基板１７の断面図を示す。この基板１７は
上述したように電解溶液４０内に沈められ、多孔性アル
ミナ層２０の形成を行うために上昇されることができ
る。この基板は電源４１の陽極「＋」に接続され、その
結果、電気化学的な陽極化システムの正の電極を形成す
る。この電源４１の陰極「−」は、基板１７を構成する
陽極の寸法より小さい寸法を有する陰極を形成する他の
電極４２に接続されている。陰極４２は基板１７の内面
３０に面して電解漕４０内に配置され、（基板１７の外
面５０は、例えば、ワニスで一時的に保護される。）縁
部２１より中央２２で大きな多孔性を有する多孔性アル
ミナ層２０を得るために、陰極４２は、縁部２１より中
央２０に接近するように配置される。これらの状況の下
に、電流の強さは、陽極４２と縁部２１との間より中央
部２２と陽極４２との間の方が大きい。その結果、縁部
２１から中央部２０に向かう方向の多孔性が増大し、中
央部２２に向かう吸収物質を把持するための多数の場所
が増大する。

【００７２】吸収物質によるアルミナ層２０のカラー化
が陰極操作によって得られるならば、等価のセル形状
は、輝度曲線を修正するために図面の中央で吸収物質を
さらに積層するために使用されるが、（この場合基板１
７は陽極を形成する）ことに留意すべきである。

【図面の簡単な説明】

【図１】標準的な像増強管の概略断面図。

【図２】図１に示す入力スクリーンの詳細断面図。

【図３】本発明による放射像増強管の入力スクリーンの
概略断面図。

【図４】放射性像増幅器の出力で測定された輝度曲線を
示すグラフ。

【図５】図３に示すアルミナ層の一部の詳細断面図。

【図６】図３に示すアルミナ層の他の実施例の詳細断面
図。

【図７】図３に示すアルミナ層の多孔性の勾配をどのよ
うに得るかを示す概略図。

【符号の説明】

１像増強管２ガラスエンベロープ３入力スクリーン４出力ウインドウ５シンチレータスクリーン６フォトカソード７電極８陽極１０出力スクリーン１５入力スクリーン１６シンチレータ層１７基板２０アルミナ層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ダニエル、ガリフランス国グルノーブル、ギャルリー、デ、３、カルティエ、38

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】入力ウインドウと、基板により形成される
シンチレータ層を有する入力スクリーンとを有する放射
線タイプの像増強管であって、アルミナ層が基板とシン
チレータとの間に挿入され、アルミナ層は、シンチレー
タ層によって基板に向かって放射された光子の少なくと
も一部分がダイ加工されたアルミナ層に吸収されるよう
に、少なくともシンチレータ層によって放射された波長
を吸収する物質によって「ダイ加工」されるか「色づ
け」される放射線像増強管。
【請求項２】基板はアルミニウムでつくられている請求
項１に記載の像増強管。
【請求項３】「ダイ加工」されたアルミナ層は多孔性で
ある請求項１に記載の像増強管。
【請求項４】吸収物質はダイ加工されたアルミナ層の少
なくとも一部の孔に含まれる請求項３に記載の像増強
管。
【請求項５】アルミナ層はその縁部及びその中央部の間
の実質的に一様な吸収を達成するために「ダイ加工」さ
れている請求項３または４に記載の像増強管。
【請求項６】アルミナ層はその縁部とその中央部との間
に実質的に一様な多孔性を有する請求項３または４に記
載の像増強管。
【請求項７】アルミナ層は縁部より中央部で吸収するよ
うに「ダイ加工」される請求項１から４のいずれか１項
に記載の像増強管。
【請求項８】「ダイ加工」されたアルミナ層はその縁部
よりその中央部で大きな多孔性を有する請求項３または
４のいずれかに記載の像増強管。
【請求項９】シンチレータ層はイオン化されたセシウム
でつくられている請求項１から８のいずれか１項に記載
の像増強管。
【請求項１０】基板はアルミニウムでつくられ、前記方
法は基板を電気化学的に陽極化するための方法によって
基板上にアルミナ層をつくることからなる請求項１から
９のいずれか１項に記載の像増強管を製造する方法。
【請求項１１】陽極化のために使用する電気化学的な溶
液はアルミナ層の多孔性を得るために選択された酸溶液
である請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】アルミナ層はその縁部よりその中央部で
大きな多孔性が与えられる請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】基板の陽極化は基板の縁部よりも中央部
近くに配置された陰極によって行われる請求項１２に記
載の方法。
【請求項１４】アルミナ層は酸化金属によって「ダイ加
工」されている請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】「含浸被覆」方法はアルミナ層を「ダイ
加工」するために使用される請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】電解媒体中の陰極積層の方法はアルミナ
層を「ダイ加工」するために使用される請求項１４に記
載の方法。