JP2809689B2 - Ｘ線像増倍管用入力面の製造方法 - Google Patents
Ｘ線像増倍管用入力面の製造方法Info
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- JP2809689B2 JP2809689B2 JP10905289A JP10905289A JP2809689B2 JP 2809689 B2 JP2809689 B2 JP 2809689B2 JP 10905289 A JP10905289 A JP 10905289A JP 10905289 A JP10905289 A JP 10905289A JP 2809689 B2 JP2809689 B2 JP 2809689B2
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- input surface
- ray image
- image intensifier
- transparent conductive
- conductive film
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は、Ｘ線像増倍管用入力面の製造方法に関す
る。
る。
（従来の技術） 一般にＸ線像増倍管は第２図に示すように構成され、
主としてガラスよりなる真空外囲器１の入力側内部に
は、入力面２が配設されている。一方、真空外囲器１の
出力側内部には、陽極３が配設されると共に、出力面４
が配設されている。更に、真空外囲器１内の側壁に沿っ
て集束電極５が配設されている。
主としてガラスよりなる真空外囲器１の入力側内部に
は、入力面２が配設されている。一方、真空外囲器１の
出力側内部には、陽極３が配設されると共に、出力面４
が配設されている。更に、真空外囲器１内の側壁に沿っ
て集束電極５が配設されている。
動作時には、Ｘ線源から放射されたＸ線は被写体を透
過後、Ｘ線蛍光増倍管の入力面２に入射する。すると入
力面２の基板を透過後、蛍光体層を発光させ、光に変換
される。この光は保護層を通過後、光電面により光電子
に変換される。この光電子像は陽極３と集束電極５によ
り加速・集束され、出力面４に入射して出力蛍光像に変
換される。
過後、Ｘ線蛍光増倍管の入力面２に入射する。すると入
力面２の基板を透過後、蛍光体層を発光させ、光に変換
される。この光は保護層を通過後、光電面により光電子
に変換される。この光電子像は陽極３と集束電極５によ
り加速・集束され、出力面４に入射して出力蛍光像に変
換される。
ところで、上記入力面２は第１図に示すように構成さ
れ、表面が平坦な凸形アルミ製の基板６上に真空蒸着に
より蛍光体層７が形成され、この蛍光体層７上には後述
の光電面に電子を供給するための電極として、又、光電
面と蛍光体層７との化学的反応を防止するための保護層
としての透明導電膜８が形成され、更にこの透明導電膜
８上には光電子を放出する光電面９が形成されている。
れ、表面が平坦な凸形アルミ製の基板６上に真空蒸着に
より蛍光体層７が形成され、この蛍光体層７上には後述
の光電面に電子を供給するための電極として、又、光電
面と蛍光体層７との化学的反応を防止するための保護層
としての透明導電膜８が形成され、更にこの透明導電膜
８上には光電子を放出する光電面９が形成されている。
上記の透明導電膜８の形成方法として、 金属インジウムを抵抗加熱によって微量酸素雰囲気
中で反応させながら真空蒸着する方法、 酸化インジウムを電子ビームによって微量酸素雰囲
気中で反応させながら真空蒸着する方法、 酸化インジウムの焼結体をスパッターリングする方
法、 などが提案されているが、光透過率が高く、膜抵抗が低
い、再現性が良いなどの安定した膜特性が得られるとの
ことから、の酸化インジウムの焼結体をスパッターリ
ングする方法が採用されている。
中で反応させながら真空蒸着する方法、 酸化インジウムを電子ビームによって微量酸素雰囲
気中で反応させながら真空蒸着する方法、 酸化インジウムの焼結体をスパッターリングする方
法、 などが提案されているが、光透過率が高く、膜抵抗が低
い、再現性が良いなどの安定した膜特性が得られるとの
ことから、の酸化インジウムの焼結体をスパッターリ
ングする方法が採用されている。
このスパッターリングによる従来の透明導電膜８の形
成方法について述べると、先ずSnO2を５重量％含んだIn
2O3の粉末を焼結密度50％程度になるように適当な形状
に焼結されたターゲツトを用意し、酸素分圧0.3〜1.2×
10-4Toor例えば0.6×10-4Toor、アルゴンガス分圧３〜
８×10-3Toor例えば５×10-3Toorの真空度で出力300W、
40Å／分のスパッターレートの条件で、膜厚800Å〜300
0Å例えば1400Åの透明導電膜８を蛍光体層７の上に形
成する。
成方法について述べると、先ずSnO2を５重量％含んだIn
2O3の粉末を焼結密度50％程度になるように適当な形状
に焼結されたターゲツトを用意し、酸素分圧0.3〜1.2×
10-4Toor例えば0.6×10-4Toor、アルゴンガス分圧３〜
８×10-3Toor例えば５×10-3Toorの真空度で出力300W、
40Å／分のスパッターレートの条件で、膜厚800Å〜300
0Å例えば1400Åの透明導電膜８を蛍光体層７の上に形
成する。
このようにして得られた入力面を使用したＸ線像増倍
管の感度は、第３図に示すように250cd/m2/mR/secの感
度が得られている。
管の感度は、第３図に示すように250cd/m2/mR/secの感
度が得られている。
（発明が解決しようとする課題） 最近のＸ線像増倍管は、大形化に伴いより高感度な特
性が要求されており、このため入力面でも色々改善さ
れ、提案されている。
性が要求されており、このため入力面でも色々改善さ
れ、提案されている。
例えば、蛍光体層７を厚膜化してＸ線吸収効率を改善
して高感度化する方法、又、真空蒸着した際に生じる蛍
光体層７表面の凹凸を平滑化し、光電面９の光電子放出
効率を高めて高感度化する方法などが提案されている。
して高感度化する方法、又、真空蒸着した際に生じる蛍
光体層７表面の凹凸を平滑化し、光電面９の光電子放出
効率を高めて高感度化する方法などが提案されている。
しかしながら、前者は他の特性と相反したり、又、後
者は設備が大掛かりになったりして、製造上効率が良く
ない。
者は設備が大掛かりになったりして、製造上効率が良く
ない。
この発明は、透明導電膜の形成方法を改善するだけ
で、簡単にして而も効率良く高感度な入力面を得ること
が出来るＸ線像増倍管用入力面の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
で、簡単にして而も効率良く高感度な入力面を得ること
が出来るＸ線像増倍管用入力面の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） この発明は、基板上に蛍光体層、透明導電膜及び光電
面を順次積層して形成するＸ線像増倍管用入力面の製造
方法において、上記透明導電膜は、SnO2を１〜15重量％
含んだIn2O3を主体とした高密度の焼結体からなるスパ
ッターターゲツトを用いてスパッターリング法により形
成するＸ線像増倍管用入力面の製造方法である。
面を順次積層して形成するＸ線像増倍管用入力面の製造
方法において、上記透明導電膜は、SnO2を１〜15重量％
含んだIn2O3を主体とした高密度の焼結体からなるスパ
ッターターゲツトを用いてスパッターリング法により形
成するＸ線像増倍管用入力面の製造方法である。
（作用） この発明によれば、蛍光体層の表面の角錐状の凹凸や
粒子と粒子との間に僅かな隙間をも十分カバー出来るほ
どのスパッター粒子の密度が得られ、膜質も密となる。
この結果、簡単にして而も効率良く高感度な入力面を得
ることが出来る。
粒子と粒子との間に僅かな隙間をも十分カバー出来るほ
どのスパッター粒子の密度が得られ、膜質も密となる。
この結果、簡単にして而も効率良く高感度な入力面を得
ることが出来る。
（実施例） 以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に
説明する。
説明する。
発明者は、更に感度を改善するために、スパッタータ
ーゲツトのSnO2を５重量％含んだIn2O3の粉末の焼結密
度を変えて実験したところ、焼結密度と感度に相関関係
があることが判明し、焼結密度を高感度化することによ
り感度が第３図に示すように増加することが判った。
ーゲツトのSnO2を５重量％含んだIn2O3の粉末の焼結密
度を変えて実験したところ、焼結密度と感度に相関関係
があることが判明し、焼結密度を高感度化することによ
り感度が第３図に示すように増加することが判った。
そこで、この発明によるＸ線像増倍管用入力面の製造
方法は、次のように構成されている。
方法は、次のように構成されている。
即ち、第１図を参照しながら説明すると、先ず表面の
平坦な板厚0.5mmの凸形アルミ製の基板６を洗浄処理
し、その内面上にCsIを主成分とした蛍光体層７を真空
蒸着により形成する。
平坦な板厚0.5mmの凸形アルミ製の基板６を洗浄処理
し、その内面上にCsIを主成分とした蛍光体層７を真空
蒸着により形成する。
次に、この蛍光体層７上に、SnO2を１〜15重量％含む
例えば５重量％含んだIn2O3の粉末の焼結密度が6y〜80
％からなるスパッターターゲツトを用いて、酸素分圧0.
6×10-4Toor、アルゴンガス分圧５×10-3Toorの真空度
で出力300W、40Å／分のスパッターレートの条件で、膜
厚1400Åの透明導電膜８を形成する。
例えば５重量％含んだIn2O3の粉末の焼結密度が6y〜80
％からなるスパッターターゲツトを用いて、酸素分圧0.
6×10-4Toor、アルゴンガス分圧５×10-3Toorの真空度
で出力300W、40Å／分のスパッターレートの条件で、膜
厚1400Åの透明導電膜８を形成する。
次に、この透明導電膜８上に、光電面９を真空中にて
形成する。
形成する。
このようにして製造された入力面を使用したＸ線像増
倍管の感度は、従来に比べて1.2〜1.5倍の高感度とな
る。
倍管の感度は、従来に比べて1.2〜1.5倍の高感度とな
る。
即ち、一般にＸ線像増倍管の入力面は、ライトガイド
効果を持たせるため膜厚が250〜400μｍで粒径が10〜20
μｍの柱状結晶構造をなしており、その表面は角錐状の
凹凸を呈している。又、粒子と粒子との間に僅かな隙間
が存在している。
効果を持たせるため膜厚が250〜400μｍで粒径が10〜20
μｍの柱状結晶構造をなしており、その表面は角錐状の
凹凸を呈している。又、粒子と粒子との間に僅かな隙間
が存在している。
このため、従来の焼結密度が50％程度の低密度ターゲ
ツトを用いてスパッターした場合、そのスパッター粒子
の密度が小さく、形成される透明導電膜の膜質も疎とな
り、十分な電子の供給が出来ない膜が形成される。
ツトを用いてスパッターした場合、そのスパッター粒子
の密度が小さく、形成される透明導電膜の膜質も疎とな
り、十分な電子の供給が出来ない膜が形成される。
しかし、この発明のように、60％以上の高密度のター
ゲツトを用いた場合、表面の角錐状の凹凸や粒子と粒子
との間に僅かな隙間をも十分カバー出来るほどのスパッ
ター粒子の密度が得られ、膜質も密となり、この結果、
光電面への電子供給が十分に行なわれることになり、高
い感度が得られる。
ゲツトを用いた場合、表面の角錐状の凹凸や粒子と粒子
との間に僅かな隙間をも十分カバー出来るほどのスパッ
ター粒子の密度が得られ、膜質も密となり、この結果、
光電面への電子供給が十分に行なわれることになり、高
い感度が得られる。
［発明の効果］ 以上説明したように、この発明の製造方法によれば、
60〜80％の高感度の焼結体からなるターゲツトを用いて
透明導電膜を形成しているので、蛍光体層の表面の角錐
状の凹凸や粒子と粒子との間に僅かな隙間をも十分カバ
ー出来るほどのスパッター粒子の密度が得られ、膜質も
密となる。この結果、光電面への電子供給が十分に行わ
れることになり、高い感度が得られる。
60〜80％の高感度の焼結体からなるターゲツトを用いて
透明導電膜を形成しているので、蛍光体層の表面の角錐
状の凹凸や粒子と粒子との間に僅かな隙間をも十分カバ
ー出来るほどのスパッター粒子の密度が得られ、膜質も
密となる。この結果、光電面への電子供給が十分に行わ
れることになり、高い感度が得られる。
第１図はこの発明の一実施例に係る製造方法を説明する
ために用いるＸ線像増倍管用入力面を示す断面図、第２
図はＸ線像増倍管の全体を示す断面図、第３図は従来と
この発明におけるスパッターターゲツトの密度と感度と
の関係を示す特性曲線図である。 ６……基板、７……蛍光体層、８……透明導電膜、９…
…光電面。
ために用いるＸ線像増倍管用入力面を示す断面図、第２
図はＸ線像増倍管の全体を示す断面図、第３図は従来と
この発明におけるスパッターターゲツトの密度と感度と
の関係を示す特性曲線図である。 ６……基板、７……蛍光体層、８……透明導電膜、９…
…光電面。
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に蛍光体層、透明導電膜及び光電面
を順次積層して形成するＸ線像増倍管用入力面の製造方
法において、 上記透明導電膜は、SnO2を含んだIn2O3を主体とした焼
結体でその焼結密度が60〜80％からなるスパッターター
ゲツトを用いてスパッターリング法により形成すること
を特徴とするＸ線像増倍管用入力面の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10905289A JP2809689B2 (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | Ｘ線像増倍管用入力面の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10905289A JP2809689B2 (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | Ｘ線像増倍管用入力面の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02291638A JPH02291638A (ja) | 1990-12-03 |
| JP2809689B2 true JP2809689B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=14500389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10905289A Expired - Lifetime JP2809689B2 (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | Ｘ線像増倍管用入力面の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2809689B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-01 JP JP10905289A patent/JP2809689B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02291638A (ja) | 1990-12-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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