JPH06234776A - メチルクロルシランの製造法 - Google Patents
メチルクロルシランの製造法Info
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- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 84
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 75
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 75
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims abstract description 21
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 19
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 11
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 6
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 9
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 7
- 101001064774 Homo sapiens Peroxidasin-like protein Proteins 0.000 description 6
- 101001038163 Homo sapiens Sperm protamine P1 Proteins 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 102100031894 Peroxidasin-like protein Human genes 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100028672 C-type lectin domain family 4 member D Human genes 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 101000766905 Homo sapiens C-type lectin domain family 4 member D Proteins 0.000 description 1
- 101001090148 Homo sapiens Protamine-2 Proteins 0.000 description 1
- 101000574116 Homo sapiens Protamine-3 Proteins 0.000 description 1
- 102100034750 Protamine-2 Human genes 0.000 description 1
- 102100025801 Protamine-3 Human genes 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 1
- 238000005088 metallography Methods 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
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Abstract
製造し、かつ副生成物の発生を低く抑えた、メチルクロ
ルシランを直接合成する改善された方法の提供。 【構成】 構造特性値QFを、珪素試験体断面上で金属
間相析出物の縦長の形を有する面数Aと、円形を有する
面数Bとから決定し、望ましい構造特性値QFに基づき
選択した珪素と、クロルメタンとから、銅触媒および場
合によっては促進剤物質の存在下に、メチルクロルシラ
ンを製造する。 【効果】 最適な構造特性値を有する珪素が得られ、従
って粗製シランの最大生産率が得られた。
Description
る珪素の使用下に直接合成することによってメチルクロ
ルシランを製造する方法に関する。
合によっては促進剤の存在下に珪素とクロルメタンとか
らメチルクロルシランを直接合成する場合、メチルクロ
ルシランの混合物および僅かな量で他の副生成物が生じ
る。この機構および生成スペクトルは、例えば“M.P.Cl
arke, Journal of Organometallic Chemistry, 376(198
9)165 〜222 ”に記載されている。触媒および促進剤の
影響は、例えば“W.J.Ward他,Journal of Catalysis,
100(1986)240〜249 ”に記載されている。
で、場合によっては木片を混合しながら、木炭を用いて
二酸化珪素を還元することによって製造される。粗製生
成物は適当な精製処理によってメチルクロルシランを製
造するために必要な純度にもたらされる。次に、精製し
た珪素は常法により精製容器から鉄皿の中へ注入され、
その皿から凝固後に取り出され、かつ破砕および篩分け
によって選鉱される。直接合成の際の使用のため、約5
00μmまでの粒度に粉砕される。
布に関する珪素の要件は比較的十分に研究されており;
構造上の構成およびクロルメタンとの反応に与える影響
は、最近になって初めて科学研究の対象となった。欧州
特許出願公開第350683号明細書は、ケイ化金属を
製造する場合に冷却工程によって測定される構造が、直
接合成に影響を与えることを明らかにしたが、それとい
うのも噴射によって製造されるケイ化金属が高い生産率
を示すからである。
晶の大きさ、ならびに、製造工程中に冷却し、かつ凝固
する間に主要汚染物、例えばAl、Ca、Fe、Tiと
珪素とから析出する金属間相の組成および状態によって
測定される。この相の組成は、特に“F.Dubrous 他、El
ectric Furnace Cof. Proc.,1990, 241 〜247 頁”に記
載されており、この相の形成の影響性は“ A.Schei他、
Proc. Cof. Silicon for Chemical Industry, 1992, 11
〜23頁”に記載されている。迅速な凝固によって性質を
改善する方法は、“G.Schuessler他、Proc.-Conf. Sili
con Metal forChemical Industry, 1992, 39 〜46頁”
に記載されており、結晶構造の直接合成に与える影響は
“H.Rong 他、Proc.-Conf. Silicon Metal for Chemic
al Industry, 1992, 67 〜83頁”に記載されている。
素の構造に依存することは公知であり、この場合、構造
は珪素の凝固工程の際、および場合によっては引続く熱
処理の際の冷却条件の選択によって左右される可能性が
ある。
しいメチルクロルシランができるだけ高い生産率で製造
されることができ、かつ副生成物の発生量ができるだけ
少ないような、メチルクロルシランを直接合成する改善
された方法を提供することであった。本発明のもう1つ
の課題は、この珪素を用いて望ましいメチルクロルシラ
ン、殊にジメチルジクロルシランの最大の生産率が達成
されるような珪素を、構造特性値によって表わし、その
結果、望ましい構造を有する珪素が製造されることがで
きるようにすることであった。
り、使用した珪素の表面積に対する個々のメチルクロル
シランの生産率を珪素の構造によって制御することによ
り、銅触媒および場合によっては促進剤の存在下に珪素
およびクロルメタンからメチルクロルシランを製造する
方法において、望ましい構造を有する珪素を珪素の構造
特性値QFに基づき選択し、この場合、 a)切断面の形成下に珪素試験体を切断し、 b)切断面上では縦長の形を有する、金属間相の析出物
の面積を合計し面数Aとし、 c)切断面上では円形を有する、金属間相の析出物の面
積を合計し面数Bとし、かつ d)構造特性値QFとして表わされる商を面数Aと面数
Bとから構成する、ことによって構造特性値QFを測定
することにより特徴付けられる、メチルクロルシランの
製造法により解決される。
徴は、構造特性値QFによって記載され、この構造特性
値は、構造分析の新規方法によって得られる。種々の珪
素構造型の構造特性値QFと直接合成の際のこれらの挙
動との相関関係により、珪素における最適な構造特性が
確認されることができ、従って望ましいメチルクロルシ
ランのための選択性および収率が望ましい方向に制御さ
れることが可能である。
粒界によって分離された微結晶の形で析出する。一次珪
素以外に珪素中には金属間相の析出物、ならびに細孔お
よびスラグ含有物が形成される。金属間相の析出物は微
結晶の範囲内では有利に円形の形で生じ、かつ粒界に沿
っては有利に縦長の形で生じる。
ラグは、例えば白黒画像でグレースケールを介して区別
されることができ、金属間相は一次珪素中および粒界に
沿って例えば真円度を介して区別されることができる。
利な実施態様は、金属組織学(Metallographie)で常法
のように、約5〜25mmの直径を有する珪素試験体が
注型樹脂中に注入されることによる。粉砕および研磨
後、光学顕微鏡で倍率10〜1000倍で画像を介して
市販の画像分析装置、例えばライツ社(Fa. Leitz )の
クオンティメント500(Quantiment (登録商標) 500
)中に収束される。使用説明書に記載された方法で実
施される画像分析の結果として、縦長の金属間相の面積
分は面数Aとして明示され、円形の金属間相の面積分は
面数Bとして明示される。画像分析装置は、例えば縦長
の形と円形の形とをそれぞれの真円度に基づいて区別す
る。例えば真円度>2を有する形は縦長として分類さ
れ、および真円度≦2を有する形は円形として分類され
る。縦長または円形として区別するための真円度とし
て、有利に1.5〜2.5の数値が選択される。
で見た、研磨しかつ光沢を出した珪素試験体の断面の金
属組織が略示されている。金属間相の縦長の析出物
(1)および円形の析出物(2)は図面上で強調されて
いる。
却によって製造された場合、有利に粒界に沿って生じる
金属間相の析出物は、部分的に円形の鎖状の筋として見
える。次に、この金属間相の鎖状析出物は面積分Aに加
算される。このことは、例えば当該の金属間相が、計算
機の操作によって画像の中へ接合されている著しく細い
線によってつながれ、かつ鎖状析出物は縦長の粒子へと
変形されるというように行なわれる。
する場合に使用される元素状組成物を有するケイ化金属
(Al 0.10〜0.28重量%、Ca 0〜0.1
5重量%、Fe 0.15〜0.50重量%、Ti
0.015〜0.05重量%)については、商QF=A
/Bが凝固条件から測定され、従って構造特性値QFと
して構造特性を表わすために使用されてよいことが判明
している。
出物との区別、および面数AおよびBの決定、ならびに
構造特性値QFの計算は、任意の他の方法、例えば電子
顕微鏡の使用下に行なわれることができる。
ロルシランの空時収量を記載するための証言力のある尺
度として、珪素の表面に対する生産率:
られるのは、反応が珪素表面で進行するからである。更
に最新の直接合成法の場合、導入された珪素は、全部残
りなく消費されるのではなく、珪素、触媒および促進剤
の関係が不利であることを証明される前に、排出され
る。このように測定した生産率が、珪素の表面積と無関
係であることは特に有利である。
高い生産率で製造され得るはずであり、かつ望ましくな
い副生成物の発生は可能なかぎり少ないはずである。こ
の要件を数値的に理解するため、目的生成物の生産率
(PR)から副生成物の生産率が差し引かれる。例え
ば、ジメチルジクロルシラン(M2)が極めて少量のメ
チルトリクロルシラン(M1)の他に、0.1MPaで
75〜165℃の沸点範囲を有する高沸点物質(HS)
およびメチルジクロルシラン(HM)から製造される直
接合成法は特に望ましく、それというのもM1、HSお
よびHMは前記した量に限定した利用性に基づけば、同
等の経済的価値を表わさないからである。
合成法はできるだけ高い生産率PRM2−(PRM1+
PRHS+PRHM)を有すべきであり、この場合PR
M2はM2の生産率を意味する。この高い生産率は、本
発明による方法で構造特性値QF18〜60、殊に25
〜35を有する珪素が使用され、この場合、構造特性値
を測定するため、真円度>2を有する、金属間相の縦長
の形を有する析出物の面積を合計し面数Aとし、かつ真
円度≦2を有する、金属間相の円形の析出物の面積を合
計し面数Bとする場合に、可能である。
の化学的組成および一定した反応条件、例えば圧力、温
度、クロルメタン量、触媒量および珪素の粒度で、メチ
ルクロルシランを合成する場合、構造体の1つの機能で
ある。構造体は凝固工程の際に冷却率から測定される。
QFをまねき、迅速な冷却は高い数値をまねく。冷却の
ための多数の自体公知方法は、所望の構造特性値の調節
に適当である。例えば頻繁に実施される凝固工程の場
合、液体珪素は鋳鉄性の鋳型に充填され、その鋳型の中
でこの液体珪素は凝固する。珪素粉塵を用いて鋳型を外
側と絶縁し、かつ珪素を鋳型の中にある珪素粉塵層上に
注入することによって、例えば前記の有利な実施態様に
より測定可能な、0.05〜0.25の構造特性値QF
が達成される。
特性値QFは約7にまで達する。鋳型の冷却によって
か、複数の層での薄層の注入によってか、または珪素顆
粒上への連続的な注入によって、数値は約11までに保
たれる。水中の珪素を注入することによって18〜60
の構造特性値QFが達成され、この場合、例えば湿式造
粒された珪素の粒度を変化させることによって構造特性
値QFは25〜35の範囲内で調節されることができ
る。例えば“G.Schuessler他、Proc.-Conf. Silicon Me
tal for Chemical Industry, 1992, 39 〜46頁”に記載
の方法により空気中に噴射することによって得られた珪
素は、60を上回る構造特性値QFを有する。
素種は約2〜5の構造特性値QFを有する。構造特性値
QF0.1〜2を有する珪素の場合、著しく長い冷却範
囲内で、金属間相の拡散および新形成を用いた熱処理効
果は凝固工程を重ねて行なわれる。これによって粗製シ
ランの生産率は上昇する。同様に粗製シランの生産率は
迅速に冷却する場合に増大する。噴射した珪素は粗製シ
ランの最大の公知生産率をもたらす。しかし最大生産率
PRM2−(PRM1+PRHS+PRHM)は、本発
明による方法を使用することによって初めて達成され、
それというのもこれによって最適な構造特性値を有する
珪素が達成され使用されるからである。
限り、 a)全ての量記載は重量に関し; b)全ての圧力は0.10MPa(絶対)を表わし; c)全ての温度は20℃を表わし、かつ d)次の省略:QF は構造特性値QFを表わす。
を制御する工業的方法を表わし、その構造特性値QFを
調べ、かつ直接合成法によりクロルメタンと反応させる
ため規格化された実験室試験で生産性を調べた。
ウムおよび鉄の汚染物含量、前記した有利な実施態様に
より測定した構造特性値QF、およびそれぞれ選択した
珪素構造タイプの凝固条件をまとめた。
鋳鉄の鋳型に充填し、その中で凝固した。鋳造型を部分
的に珪素粉塵を用いて外側と絶縁した。部分的に、鋳型
の底部および壁面にある珪素粉塵層上に珪素を注入し
た。薄い珪素粉塵層は約2〜5mmであり、厚い珪素粉
塵層は約10〜20mmであった。珪素タイプNo. 11
および12の場合、液体珪素を水中に注入する。珪素タ
イプNo. 13の場合、“G.Schuessler他、Proc.-Conf.
Silicon Metal for Chemical Industry, 1992, 39 〜46
頁”に記載の方法により液体珪素を空気中に噴霧した。
媒の存在下に珪素とクロルメタンとをメチルクロルシラ
ンに直接合成するために使用した:加熱コイル、ガス分
布用ガラス半融体、ゾル冷却を用いた蒸留用橋渡し管お
よび目盛りのある受器を備えた実験室用流動層反応器中
で、70〜250μmの公知の比表面の珪素粉末120
gを、酸化第二銅6g、酸化錫1gと錫粉末6mgとか
らなる触媒混合物と混合し、装入した。350℃に加熱
後、塩化メチル40l/hを導入した。粗製シラン形成
が24〜37分後に開始した。最初の粗製シラン50m
lを受け集め、かつ廃棄した。次に粗製シラン30ml
を受け集め、かつこの量を生成する時間を測定した。粗
製シラン組成物を、ガスクロマトグラフィーを用いて重
量%で求めた。
を分で表わし、9〜14%のSi変換間隔での粗製シラ
ンの生産率をRRR:
粗製シランの組成物メチルジクロルシラン(HM)、メ
チルトリクロルシラン(M1)、トリメチルクロルシラ
ン(M3)、ジメチルジクロルシラン(M2)および高
沸点物質(HS)を重量%で記載した。75〜165℃
の沸点範囲内の成分は高沸点物質と呼ばれる。
ている。横座標には使用した珪素のタイプの構造特性値
QFが表わされている。左の縦座標には一つには粗製シ
ランの生産率RRRがmg/m2 ×分でプロットされ、
また一つには開始時間Tが分でプロットされている。右
の縦座標には異なったシランの含分が重量%でプロット
されている。
分M2、M1、HS、M3およびHMの重量部から主要
成分PRM2、PRM1、PRM3およびPRHMの生
産率をmg/m2 ×分で測定し、かつ第3表にまとめ
た。
ている。横座標には使用した珪素タイプの構造特性値Q
Fが示されている。縦座標には種々のシランの粗製シラ
ンの生産率がmg/m2 ×分でプロットされている。
M2−(PRM1+PRHS+PRHM)を有する。こ
の場合構造特性値QF18〜60、殊に25〜35を有
する珪素は最適であることが判明する。湿式造粒した珪
素タイプNo.11および12は最適な範囲内にある。
造特性値QFが示されている。縦座標には生産率PRM
2−(PRM1+PRHS+PRHM)がmg/m2×
分でプロットされている。
図。
HM)の際に使用した珪素タイプの構造的特性値QFを
示す線図。
Claims (3)
- 【請求項1】 使用した珪素の表面に対する個々のメチ
ルクロルシランの生産率を珪素の構造によって制御する
ことにより、銅触媒および場合によっては促進剤の存在
下に珪素およびクロルメタンからメチルクロルシランを
製造する方法において、望ましい構造を有する珪素を珪
素の構造特性値QFに基づき選択し、この場合 a)切断面の形成下に珪素試験体を切断し、 b)切断面上では縦長の形を有する、金属間相の析出物
の面積を合計し面数Aとし、 c)切断面上では円形を有する、金属間相の析出物の面
積を合計し面数Bとし、かつ d)構造特性値QFとして表わされる商を面数Aと面数
Bとから構成することによって構造特性値QFを測定す
ることを特徴とする、メチルクロルシランの製造法。 - 【請求項2】 構造特性値QF18〜60を有する珪素
を使用し、この場合、構造特性値を測定するため、縦長
の形を有し、真円度>2を有する金属間相の析出物の面
積を合計し面数Aとし、かつ円形を有し、真円度≦2を
有する金属間相の析出物の面積を合計し面数Bとする、
請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 湿式造粒した珪素を使用する、請求項1
または2記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4303766.6 | 1993-02-09 | ||
DE4303766A DE4303766A1 (de) | 1993-02-09 | 1993-02-09 | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06234776A true JPH06234776A (ja) | 1994-08-23 |
JP2525555B2 JP2525555B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=6479999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6015256A Expired - Fee Related JP2525555B2 (ja) | 1993-02-09 | 1994-02-09 | メチルクロルシランの製造法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5334738A (ja) |
EP (1) | EP0610807B1 (ja) |
JP (1) | JP2525555B2 (ja) |
CN (1) | CN1039912C (ja) |
DE (2) | DE4303766A1 (ja) |
ES (1) | ES2076841T3 (ja) |
RU (1) | RU2062779C1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6218562B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-04-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for preparing organohalosilanes |
US6239304B1 (en) | 1999-05-24 | 2001-05-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for preparing organohalosilanes |
JP2016525497A (ja) * | 2013-07-31 | 2016-08-25 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | トリクロロシランの製造 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2707619B1 (fr) * | 1993-07-01 | 1995-09-01 | Pechiney Electrometallurgie | Silicium métallurgique contenant du phosphore et destiné à la préparation des alkyl ou aryl halogénosilanes. |
DE19532315C1 (de) * | 1995-09-01 | 1997-02-06 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen |
FR2746785B1 (fr) * | 1996-04-02 | 1998-05-22 | Pechiney Electrometallurgie | Silicium metallurgique a structure controlee destine a la synthese des halogenosilanes |
DE19645359A1 (de) * | 1996-11-04 | 1998-05-07 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen |
US5880307A (en) * | 1998-02-17 | 1999-03-09 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of alkylhalosilanes |
US6433205B1 (en) | 2002-01-15 | 2002-08-13 | Dow Corning Corporation | Magnetic separation for silicon-containing materials |
US7652164B2 (en) * | 2005-09-13 | 2010-01-26 | Momentive Performance Materials Inc. | Process for the direct synthesis of trialkoxysilane |
US7429672B2 (en) | 2006-06-09 | 2008-09-30 | Momentive Performance Materials Inc. | Process for the direct synthesis of trialkoxysilane |
DE102009027241A1 (de) | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Oligohalogensilanen |
DE102011006869A1 (de) | 2011-04-06 | 2012-10-11 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung einer Kontaktmasse |
US8697324B2 (en) | 2011-04-26 | 2014-04-15 | Xerox Corporation | Toner compositions and processes |
JP2022534930A (ja) | 2019-05-29 | 2022-08-04 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 構造最適化シリコン粒子を有するトリクロロシランを生成するための方法 |
JP7374228B2 (ja) | 2019-06-14 | 2023-11-06 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 構造最適化シリコン粒子を用いたメチルクロロシランの調製方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3536743A (en) * | 1968-01-17 | 1970-10-27 | Nuenchritz Chemie | Process for producing methylchlorosilanes |
US3560545A (en) * | 1968-05-31 | 1971-02-02 | Nuenchritz Chemie | Process for preparing methyl or phenylchlorosilanes |
US4281149A (en) * | 1980-03-24 | 1981-07-28 | General Electric Company | Process for treating silicon particles within a silicone reactor system |
US4450282A (en) * | 1981-07-29 | 1984-05-22 | General Electric Company | Catalyst for a process for producing silicones |
NO165288C (no) * | 1988-12-08 | 1991-01-23 | Elkem As | Silisiumpulver og fremgangsmaate for fremstilling av silisiumpulver. |
DE3841417A1 (de) * | 1988-12-08 | 1990-06-13 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
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US5250716A (en) * | 1992-05-28 | 1993-10-05 | Mui Jeffrey Y P | Method for making a silicon/copper contact mass suitable for direct reaction |
US5281739A (en) * | 1992-12-23 | 1994-01-25 | Dow Corning Corporation | Process for manufacture of alkylhalosilanes |
-
1993
- 1993-02-09 DE DE4303766A patent/DE4303766A1/de not_active Withdrawn
- 1993-12-03 CN CN93120094A patent/CN1039912C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-20 US US08/169,699 patent/US5334738A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-02-03 EP EP94101623A patent/EP0610807B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-02-03 DE DE59400013T patent/DE59400013D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-02-03 ES ES94101623T patent/ES2076841T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-02-08 RU RU9494003824A patent/RU2062779C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1994-02-09 JP JP6015256A patent/JP2525555B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2525555B2 (ja) | 1996-08-21 |
RU2062779C1 (ru) | 1996-06-27 |
EP0610807A1 (de) | 1994-08-17 |
DE59400013D1 (de) | 1995-10-12 |
CN1039912C (zh) | 1998-09-23 |
ES2076841T3 (es) | 1995-11-01 |
DE4303766A1 (de) | 1994-08-11 |
US5334738A (en) | 1994-08-02 |
CN1093367A (zh) | 1994-10-12 |
EP0610807B1 (de) | 1995-09-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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