JPH06232083A - プラズマエッチング用電極板 - Google Patents

プラズマエッチング用電極板

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Publication number
JPH06232083A
JPH06232083A JP3405993A JP3405993A JPH06232083A JP H06232083 A JPH06232083 A JP H06232083A JP 3405993 A JP3405993 A JP 3405993A JP 3405993 A JP3405993 A JP 3405993A JP H06232083 A JPH06232083 A JP H06232083A
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JP
Japan
Prior art keywords
electrode plate
etching
plasma etching
electrode
surface side
Prior art date
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Pending
Application number
JP3405993A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiji Minoura
誠司 箕浦
Taishin Horio
泰臣 堀尾
Masayuki Sato
正行 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プラズマエッチング用電極板の両面を使用可
能にする。 【構成】 プラズマエッチング用電極板20の周縁部に
一定間隔で8個の取り付け孔21を設ける。電極板の表
面側の取り付け孔の開口部周囲に、1個置きにネジ頭部
22aを収容する凹部21aを設ける。電極板の裏面側
の取り付け孔の内の、電極板の表面側の凹部形成位置と
重ならない取り付け孔の開口部周囲に、ネジ頭部を収容
する凹部21bを設ける。凹部21aを設けた取り付け
孔を用いて電極板を上部電極部材にボルト止めにより固
定する。電極板の表面側が磨耗して凹み、エッチングの
均一性に悪影響を与える程度になったとき、電極板を反
転させて、凹部21bを設けた取り付け孔を用いて上部
電極部材にボルト止めにより固定する。電極板を反転す
ることによっても、ボルト頭部は各凹部に収容されるの
で、電極板表面からほとんど突出することはない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマエッチング用
電極板に係り、特に同電極板の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のプラズマエッチング用電
極板(以下、エッチング用電極板と記す)は、図6に示
すように、その周縁部に所定の間隔で設けられた取り付
け孔2の一表面側の開口部の周囲にネジ頭部を収容する
凹部3を設け、同取り付け孔2にネジを挿入してプラズ
マエッチング装置のチャンバ内の上部に取り付けられた
上部電極部材にネジ止め固定されていた。そして、ネジ
の頭部を凹部3に収容することにより、エッチング用電
極板1表面からのネジの飛び出しを少なくし、ネジ頭部
を保護する被覆部材の厚みを薄くするようにして、エッ
チング用電極板部分の表面全体をできるかぎり平坦にす
るようにしていた。これにより、高周波放電の際のプラ
ズマ密度分布を均一にさせるようにしていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、エッチング
用電極板は通常高純度のカーボン等の材料を用いて製造
されているため非常に高価なものである。このエッチン
グ用電極板は、エッチングに使用されているうちに、反
応ガス雰囲気中にて高周波電圧が加えられることによ
り、表面が中央部を中心として徐々に磨耗して板厚が薄
くなる。その結果、上部電極と半導体基板を載置する下
部電極間の距離が変動し、このためエッチングにバラツ
キを生じエッチングの均一性を悪化させることになる。
このため、エッチング用電極板の表面側の磨耗が所定量
に達したときは、エッチング用電極板を新品と交換しな
ければならなかった。しかるに、表面側が磨耗しても、
裏面側は全く平坦な状態にありこの面は十分に使用する
ことが可能であった。
【0004】しかし、上記のように、エッチング用電極
板の取り付け孔の一表面側の開口部の周囲にしかネジ頭
部を収容する凹部が設けられていなかったため、エッチ
ング用電極板の裏面側を使用しようとしても、ネジ止め
によりネジの頭部が電極板から突出し、ネジ頭部を保護
する被覆部材の厚みが大きくなるため、使用することが
できなかった。本発明は、上記した問題を解決しようと
するもので、両面使用の可能なエッチング用電極板を提
供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、上記請求項1に係る発明の構成上の特徴は、円板形
状を呈し、中央部に多数の反応ガス通過孔を設けるとと
もに周縁部に所定の間隔で設けられた取り付け孔を有
し、同取り付け孔にてプラズマエッチング装置のチャン
バ内の上部に取り付けられた上部電極部材にネジ止め固
定されると共に同ネジ止め部分が被覆部材により被覆さ
れるプラズマエッチング用電極板において、取り付け孔
の開口部周囲に設けるネジ頭部を収容する凹部を、プラ
ズマエッチング用電極板の両面の所定の取り付け孔の開
口部周囲に設けたことにある。
【0006】また、上記請求項2に係る発明の構成上の
特徴は、前記請求項1に記載のプラズマエッチング用電
極板において、プラズマエッチング用電極板の表面側に
設けた凹部と、プラズマエッチング用電極板の裏面側に
設けた凹部を互いに重ならない位置に設けるようにした
ことにある。
【0007】
【発明の作用・効果】上記のように構成した請求項1に
係る発明においては、エッチング用電極板の取り付け孔
の開口部の周囲に設けられネジ頭部を収容する凹部を、
エッチング用電極板の両面に設けたことにより、エッチ
ング用電極板の使用面の磨耗が所定量に達したときは、
このエッチング用電極板を反転させて裏面を下側に向け
てプラズマエッチング装置のチャンバ内の上部に取り付
けられた上部電極部材にネジ止め固定して使用すること
ができる。即ち、エッチング用電極板の裏面側にも凹部
が設けられていることにより、エッチング用電極板面か
らネジ頭部が突出することがないので、ネジ頭部を保護
する被覆部材の厚みを薄くすることができる。このた
め、上部電極部分の表面全体を略平坦にすることがで
き、高周波放電の際のプラズマ密度分布のムラを少なく
することが出来る。その結果、エッチング特性を悪影響
を与えることなく高価なエッチング用電極板の両面を有
効に使用することができるので、エッチング用電極板の
コストを相対的に安価にすることができ、エッチング用
電極板を用いて製造される半導体装置等の製造コストを
低減させることができる。
【0008】また、上記のように構成した請求項2に係
る発明においては、上記請求項1に記載の発明の作用効
果に加えて、電極板の表面側と裏面側に設けた凹部を互
いに重ならない位置に設けるようにしたことに、凹部形
成位置の電極板の厚みが薄くなり過ぎることによるこの
部分の強度の低下を防止することができる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面により説明す
る。図1は、本発明を適用した反応イオンエッチング装
置を正面断面図により概略的に示したものである。この
反応イオンエッチング装置は、円筒形状の金属製のチャ
ンバ10を備えており、チャンバ10は円板形状の台1
1とその上に載置された円筒形のベルジャ12とを設け
ている。チャンバ10は、ベルジャ12を上方に移動さ
せることにより開放されるようになっている。台11
は、中央に設けた穴に絶縁物製の電極支持台13を取り
付けている。電極支持台13の中央部には、シリコン半
導体基板(以下、シリコン基板と記す)14aを載置す
る下部電極部材14が埋め込まれている。下部電極部材
14の下側には、電極支持台13を貫通して下部電極棒
13aが下部電極部材14に一体的に取り付けられてい
る。下部電極棒13a内には下部電極部材14の内部空
間に連通する冷却水循環経路(図示しない)が設けられ
ている。そして、下部電極棒13aにはマッチング用コ
ンデンサを介して高周波電源15が接続されており、ま
た、台11は接地されている。
【0010】ベルジャ12の上面内側には、図1に示す
ように、円筒形の上部電極部材16が取り付けられてお
り、上部電極部材16の底面には、反応ガス流通用の凹
部16aが設けられている。上部電極部材16の上側に
は、ベルジャ12を貫通して上部電極棒17が上部電極
部材16に一体的に取り付けられている。上部電極棒1
7内には上部電極部材16の凹部16aに連なり、反応
ガスを凹部16a内に供給する供給路17aが設けられ
ており、供給路17aは供給管18を介して外部ガス供
給源に接続されている。また、上部電極棒17内には上
部電極部材16の内部空間に連通する冷却水循環経路
(図示しない)が設けられている。そして、上部電極部
材16の反応ガス流通用の凹部16aを被覆するように
して、上部電極部材16の底面に円板状の電極板20が
ボルト止めされている。
【0011】エッチング用電極板(以下、電極板と記
す)20は、図2に示すように、直径約203mmφ,
厚さ3mmの円板であって、高純度黒鉛基材の表面に熱
分解炭素被膜をコーティングしたものである。電極板2
0は、中央部の円形領域Aに直径φ0.3〜1.0の反
応ガス通過孔を多数個設けており、周囲に8か所取り付
け孔21を設けている。そして、取り付け孔21の内の
交互に設けられた4個について、開口の周縁部に電極板
の厚みの約1/3の深さで取り付け孔径の約2倍の径の
凹部21aが設けられている。さらに、電極板20の裏
面には表面側の凹部形成位置と重ならない位置に同様に
凹部21bが設けられている。このように、各面におけ
る凹部21a,21bを互いに重ならないようにしたこ
とにより、電極板における凹部の強度が低下しないよう
にしている。
【0012】この電極板20は、図3に示すように、取
り付け孔21にボルト22を嵌合して、上部電極部材1
6に設けられたネジ孔16bに螺合させることにより、
上部電極部材16に固定されるようになっている。そし
て、ボルトの頭部22aは電極板の凹部20aに挿入さ
れて殆ど電極板20の表面から突出しない。このため、
図4に示すように、ボルト22を保護する被覆部材23
の厚みを薄くすることができ、従って、被覆部材23を
含む電極板20全体を平坦にすることができる。
【0013】次に、上記のように構成した反応イオンエ
ッチング装置の動作を説明する。図1に示すように、シ
リコン基板14aを下部電極14上に載置し、上部電極
部材に電極板20を取り付けて、台11上にベルジャ1
2を固定した後、真空装置により反応室内が高真空状態
にされると共にシリコン基板14a及び電極板20の温
度上昇を防ぐために冷却水が各部に導入される。その
後、ガス供給源から、所定量の反応ガスCF4 が上部電
極棒17の供給路17aを通して電極板20の反応ガス
通過孔から反応室内に供給される。そして、高周波電源
15を通電させ、上部電極部材16及び下部電極部材1
4間に高周波電圧を加えることにより、両電極部材間に
グロー放電を起こさせる。この放電により反応ガスCF
4 が電離して、電子,イオン,ラジカル等の生成物の混
在するプラズマ状態が形成される。これらイオン,ラジ
カル等がシリコン基板14aに引き寄せられ、シリコン
基板14a表面の酸化膜と反応してエッチングが開始さ
れる。
【0014】しかして、上記エッチング作業を繰り返す
ことにより、反応ガス中にて高周波放電が繰り返し行わ
れることにより、電極板20表面のカーボンが徐々に磨
耗して落下し、図4の仮想線に示すように、電極板20
の表面が陥没していく。この陥没の程度が顕著になる
と、電極板20とシリコン基板14aとの距離が均一で
なくなり放電が均一でなくなるため、両者間に発生する
プラズマ密度にムラを生じ、その結果、シリコン基板1
4aのエッチングの均一性が低下する。
【0015】以上のように電極板20表面の磨耗が所定
量に達したときは、図5に示すように、この電極板20
を上部電極部材16から取り外し、反転させて裏面を下
側に向けて上部電極部材16にネジ止め固定して使用す
ることができる。即ち、電極板20の裏面側にも凹部2
1bが設けられていることにより、電極板20面からネ
ジ頭部22aが突出することがないので、被覆部材23
を含む電極板20全体を平坦にすることができる。この
ため、高周波放電により発生するプラズマ密度分布のム
ラを抑制することができ、エッチング特性に悪影響を与
えることがない。このように、高価な電極板の両面を使
用することにより資材の有効活用を図ることができると
共に、電極板を相対的に安価にすることができるので、
電極板を用いて製造される半導体装置等の製造コストを
低減させることができる。
【0016】また、上記実施例の電極板20は、その表
面側と裏面側の凹部21a,21bを互いに重ならない
位置に設けるようにしたことに、凹部形成位置の電極板
の厚みが薄くなり過ぎることによるこの部分の強度の低
下を防止することができる。ただし、電極板の表面側と
裏面側の凹部を互いに重なる位置に設けるようにしても
よいが、この場合は、取付け面側の凹部にスペーサを挿
入することにより、凹部形成位置の電極板の薄さを補強
することが望ましい。
【0017】なお、上記実施例において、電極板として
高純度黒鉛基材の表面に熱分解炭素被膜をコーティング
したものを用いて説明しているが、これに代えて、高純
度カーボン、ガラス状カーボンあるいはこれらに窒化珪
素膜等をコーティングしたもの等を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した反応イオンエッチング装置の
概略構成を示す正面断面図である。
【図2】同実施例に係る電極板を示す正面図である。
【図3】同電極板の上部電極部材への取付け状態を示す
部分拡大断面図である。
【図4】同電極板の上部電極部材への取付け状態を概略
的に示す部分破断正面図である。
【図5】片面の磨耗した電極板を反転して上部電極部材
へ取付けた状態を概略的に示す部分破断正面図である。
【図6】従来例に係る電極板を示す正面図である。
【符号の説明】
10;反応イオンエッチング装置、11;台、12;チ
ャンバ、16;上部電極部材、20;電極板、21;取
り付け孔、21a;表面側凹部、21b;裏面側凹部、
22;ボルト、23;被覆部材。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円板形状を呈し、中央部に多数の反応ガ
    ス通過孔を設けるとともに周縁部に所定の間隔で設けら
    れた取り付け孔を有し、同取り付け孔にてプラズマエッ
    チング装置のチャンバ内の上部に取り付けられた上部電
    極部材にネジ止め固定されると共に同ネジ止め部分が被
    覆部材により被覆されるプラズマエッチング用電極板に
    おいて、 前記取り付け孔の開口部周囲に設けるネジ頭部を収容す
    る凹部を、前記プラズマエッチング用電極板の両面の所
    定の取り付け孔の開口部周囲に設けたことを特徴とする
    プラズマエッチング用電極板。
  2. 【請求項2】 前記請求項1に記載のプラズマエッチン
    グ用電極板において、同プラズマエッチング用電極板の
    表面側に設けた前記凹部と、同プラズマエッチング用電
    極板の裏面側に設けた同凹部を互いに重ならない位置に
    設けるようにしたことを特徴とするプラズマエッチング
    用電極板。
JP3405993A 1993-01-29 1993-01-29 プラズマエッチング用電極板 Pending JPH06232083A (ja)

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JP (1) JPH06232083A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4669137B2 (ja) * 2001-02-16 2011-04-13 東京エレクトロン株式会社 分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置
JP2011159638A (ja) * 2011-05-18 2011-08-18 Shimadzu Corp プラズマ処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4669137B2 (ja) * 2001-02-16 2011-04-13 東京エレクトロン株式会社 分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置
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