KR101021876B1 - 액정표시소자 제조장치의 샤워헤드 - Google Patents
액정표시소자 제조장치의 샤워헤드 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101021876B1 KR101021876B1 KR1020040003869A KR20040003869A KR101021876B1 KR 101021876 B1 KR101021876 B1 KR 101021876B1 KR 1020040003869 A KR1020040003869 A KR 1020040003869A KR 20040003869 A KR20040003869 A KR 20040003869A KR 101021876 B1 KR101021876 B1 KR 101021876B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- body portion
- shower head
- manufacturing apparatus
- susceptor
- showerhead
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E03—WATER SUPPLY; SEWERAGE
- E03D—WATER-CLOSETS OR URINALS WITH FLUSHING DEVICES; FLUSHING VALVES THEREFOR
- E03D1/00—Water flushing devices with cisterns ; Setting up a range of flushing devices or water-closets; Combinations of several flushing devices
- E03D1/02—High-level flushing systems
- E03D1/14—Cisterns discharging variable quantities of water also cisterns with bell siphons in combination with flushing valves
- E03D1/142—Cisterns discharging variable quantities of water also cisterns with bell siphons in combination with flushing valves in cisterns with flushing valves
- E03D1/145—Cisterns discharging variable quantities of water also cisterns with bell siphons in combination with flushing valves in cisterns with flushing valves having multiple flush outlets
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K13/00—Thermometers specially adapted for specific purposes
- G01K13/02—Thermometers specially adapted for specific purposes for measuring temperature of moving fluids or granular materials capable of flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K13/00—Thermometers specially adapted for specific purposes
- G01K13/02—Thermometers specially adapted for specific purposes for measuring temperature of moving fluids or granular materials capable of flow
- G01K13/026—Thermometers specially adapted for specific purposes for measuring temperature of moving fluids or granular materials capable of flow of moving liquids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61H—PHYSICAL THERAPY APPARATUS, e.g. DEVICES FOR LOCATING OR STIMULATING REFLEX POINTS IN THE BODY; ARTIFICIAL RESPIRATION; MASSAGE; BATHING DEVICES FOR SPECIAL THERAPEUTIC OR HYGIENIC PURPOSES OR SPECIFIC PARTS OF THE BODY
- A61H33/00—Bathing devices for special therapeutic or hygienic purposes
- A61H33/06—Artificial hot-air or cold-air baths; Steam or gas baths or douches, e.g. sauna or Finnish baths
- A61H2033/068—Steam baths
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Public Health (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
Claims (6)
- 평판 형상의 몸체부;상기 몸체부를 상하로 관통하여 형성되는 다수의 분사구;상기 몸체부의 저면에서 상기 몸체부의 외곽에서 중심방향으로 다단으로 형성되는 오목부;를 포함하고,상기 몸체부의 자중에 의해 상기 몸체부의 저면이 수평을 유지하고, 상기 오목부는 상기 몸체부의 중심을 지나는 수평선을 기준으로 대칭적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 LCD 제조장치의 샤워헤드.
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 오목부는 0.1mm 내지 5mm의 깊이로 형성되는 것을 특징으로 하는 LCD 제조장치의 샤워헤드.
- 제1항에 있어서,상기 오목부는 상기 몸체부 두께의 3% 이상 15%이내의 깊이로 형성되는 것을 특징으로 하는 LCD 제조장치의 샤워헤드.
- 공정챔버;상기 공정챔버 내부에 설치되고 기판이 안치되는 서셉터;상기 서셉터와 대향하며 평판 형상의 몸체부, 상기 몸체부를 상하로 관통하여 형성되는 다수의 분사구, 상기 몸체부의 저면에 형성되는 오목부를 포함하는 샤워헤드;를 포함하고,상기 몸체부의 자중에 의해 상기 몸체부의 저면이 수평을 유지하며, 상기 샤워헤드의 저면과 상기 서셉터 사이가 등간격을 유지하는 것을 특징으로 하는 LCD 제조장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040003869A KR101021876B1 (ko) | 2004-01-19 | 2004-01-19 | 액정표시소자 제조장치의 샤워헤드 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040003869A KR101021876B1 (ko) | 2004-01-19 | 2004-01-19 | 액정표시소자 제조장치의 샤워헤드 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050076070A KR20050076070A (ko) | 2005-07-26 |
KR101021876B1 true KR101021876B1 (ko) | 2011-03-17 |
Family
ID=37264050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040003869A KR101021876B1 (ko) | 2004-01-19 | 2004-01-19 | 액정표시소자 제조장치의 샤워헤드 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101021876B1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8083853B2 (en) | 2004-05-12 | 2011-12-27 | Applied Materials, Inc. | Plasma uniformity control by gas diffuser hole design |
KR100943431B1 (ko) * | 2006-04-13 | 2010-02-19 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 플라즈마 처리장치 |
KR100829925B1 (ko) * | 2007-03-02 | 2008-05-16 | 세메스 주식회사 | 기판을 처리하는 장치 및 방법 |
US8142606B2 (en) | 2007-06-07 | 2012-03-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for depositing a uniform silicon film and methods for manufacturing the same |
KR102215639B1 (ko) * | 2014-03-05 | 2021-02-16 | 주성엔지니어링(주) | 가스 분배 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1064831A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-06 | Fujitsu Ltd | 気相成長装置 |
KR20000062949A (ko) * | 1999-03-18 | 2000-10-25 | 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤 | 플라즈마 cvd 막 형성장치 |
-
2004
- 2004-01-19 KR KR1020040003869A patent/KR101021876B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1064831A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-06 | Fujitsu Ltd | 気相成長装置 |
KR20000062949A (ko) * | 1999-03-18 | 2000-10-25 | 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤 | 플라즈마 cvd 막 형성장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050076070A (ko) | 2005-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4710020B2 (ja) | 真空処理装置およびそれを用いた処理方法 | |
KR101451244B1 (ko) | 라이너 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 | |
US20140138030A1 (en) | Capacitively coupled plasma equipment with uniform plasma density | |
KR101420709B1 (ko) | 기판 지지 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 | |
JP3210277U (ja) | 非一様なガス流クリアランスを備えた基板支持アセンブリ | |
WO2014172112A1 (en) | Capacitively coupled plasma equipment with uniform plasma density | |
KR102180119B1 (ko) | 기판처리장치 | |
KR101021876B1 (ko) | 액정표시소자 제조장치의 샤워헤드 | |
KR102224586B1 (ko) | 처리 챔버들을 위한 코팅 재료 | |
TWI455653B (zh) | 用於處理基板之電漿反應器 | |
KR101362892B1 (ko) | 돔이 형성된 디퓨저커버를 포함하는 기판처리장치 | |
KR101039524B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
KR101253332B1 (ko) | 균일한 가스분사를 위한 가스분배판 | |
JP2008205279A (ja) | シリコン系薄膜の成膜方法及びその成膜装置 | |
KR20090013958A (ko) | 가스분배판 고정용 결합부재 및 이를 포함하는박막처리장치 | |
KR101196198B1 (ko) | 에지프레임 | |
KR101065747B1 (ko) | 균일한 가스 공급수단을 구비하는 플라즈마 장치 | |
KR20090102955A (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
KR101030926B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR100981039B1 (ko) | 가스 공급 어셈블리 | |
KR101062682B1 (ko) | 공정챔버의 측벽을 통하여 공정가스를 분사하고 배출하는 플라즈마 공정장비 및 이를 이용한 기판의 처리방법 | |
KR100734774B1 (ko) | 진공챔버의 구조 | |
KR20190122577A (ko) | 기판처리장치 | |
US20070202636A1 (en) | Method of controlling the film thickness uniformity of PECVD-deposited silicon-comprising thin films | |
KR101440788B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
B701 | Decision to grant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131204 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150204 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160303 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170102 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180102 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190104 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200102 Year of fee payment: 10 |