JPH06230553A - 刷版マスク作成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は刷版マスク作成装置に関し、殖版の
際の遮光マスクを能率良く形成できる刷版マスク作成装
置の提供を目的とする。 【構成】 図形処理装置で作成した図形データ及びその
配置データを入力する入力手段と、入力した図形データ
に基づき形状を外側にオフセットさせた形状オフセット
データを作成する形状オフセットデータ作成手段と、該
作成した形状オフセットデータを入力した配置データに
従って配置し、その配置状態での形状データを算出して
版画全体のマスクデータを作成するマスクデータ作成手
段とを備える。形状オフセットデータ作成手段は、入力
した図形データからマスク作成に必要な図形データを抽
出し、次いで抽出した図形データからその形状データを
算出し、次いで算出した形状データからその形状を外側
に所定量オフセットさせた形状オフセットデータを生成
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は刷版マスク作成装置に関
し、特に、刷版工程において不要部分を露光する際に、
必要部分を露光しないための刷版マスクを作成する刷版
マスク作成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、殖版機を用いて版に原稿を焼き
付ける場合は、まず配置情報に従って各一個原稿を焼付
ける。その後、その版の印刷に関係ない部分のうち未露
光部分を露光して印刷の際に不要なインキがのらないよ
うにするが、その際には、原稿を焼き付けた部分及びそ
の周辺部分については印刷に必要な部分であるため露光
してはならない。そこで、この部分を覆うような遮光マ
スクを置くことになる。

【０００３】従来は、このような遮光マスクを手作業で
作成していた。しかし、遮光マスクは原稿にそって作成
されねばならず、また配置状態によっては複雑に入り組
んだ形状となるため、その作成に相当の手間がかかって
いた。また作成効率も低く、誤りを発生する可能性もあ
った。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来は遮
光マスクの作成を手作業で行っていたので作業能率が極
めて低かった。本発明の目的は、殖版の際の遮光マスク
を能率良く形成できる刷版マスク作成装置を提供するこ
とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の刷版マスク作成装置は、図形処理装置で作成
した図形データ及びその配置データを入力する入力手段
と、前記入力した図形データに基づいてその形状を外側
にオフセットさせた形状オフセットデータを作成する形
状オフセットデータ作成手段と、該作成した形状オフセ
ットデータを前記入力した配置データに従って配置する
と共にその配置状態での形状データを算出して版画全体
のマスクデータを作成するマスクデータ作成手段とを備
える。

【０００６】好ましくは、形状オフセットデータ作成手
段は、入力した図形データからマスク作成に必要な図形
データを抽出する図形データ抽出部と、該抽出した図形
データからその形状データを算出する形状データ算出部
と、該算出した形状データからその形状を外側に所定量
オフセットさせた形状オフセットデータを生成する形状
オフセットデータ生成部とを備える。

【０００７】また好ましくは、前記作成したマスクデー
タからマスクの加工機制御情報を作成する加工機制御デ
ータ作成手段と、該作成した加工機制御情報に従って刷
版マスクを加工する加工装置とを更に備える。

【０００８】

【作用】本発明の刷版マスク作成装置においては、入力
手段はＣＡＤ等の図形処理装置で作成した一個原稿の図
形データ及びその配置データを入力する。次いで、形状
オフセットデータ作成手段は前記入力した図形データに
基づいてその形状を外側にオフセットさせた形状オフセ
ットデータを作成する。好ましくは、形状オフセットデ
ータ作成手段は、まず入力した図形データからマスク作
成に必要な図形データを抽出し、次いで該抽出した図形
データからその形状データを算出し、次いで該算出した
形状データからその形状を外側に所定量オフセットさせ
た形状オフセットデータを生成する。その後、マスクデ
ータ作成手段は、前記作成した形状オフセットデータを
前記入力した配置データに従って配置すると共にその配
置状態での形状データを算出して版画全体のマスクデー
タを作成する。そして、加工機制御データ作成手段によ
り前記作成したマスクデータからマスクの加工機制御情
報を作成し、更に加工装置により該作成した加工機制御
情報に従って刷版マスクを作成する。

【０００９】

【実施例】以下、添付図面に従って本発明による実施例
を詳細に説明する。図１は実施例の刷版マスク作成シス
テムのブロック図であり、図において１は外部に接続し
た図形作成編集装置（例えばＣＡＤ）、２は実施例の刷
版マスク作成装置、３はＣＡＤ１と刷版マスク作成装置
間を接続するインタフェース、４はＣＡＤ１で作成した
各一個原稿の図形データ及びその配置データ等を記憶す
るデータ記憶装置である。

【００１０】５は不図示のプログラムメモリとＣＰＵと
によって構成された演算装置であり、以下の各種機能ブ
ロックを実現する。即ち、６は入力手段であり、データ
記憶装置４から処理対象の図形データ及び配置データを
読み出す。７は形状オフセットデータ作成手段であり、
入力した図形データからマスク作成に必要な図形データ
を抽出する図形データ抽出部８と、該抽出した図形デー
タに対して後の形状データの算出処理を容易ならしめる
ための前処理を行う図形データ前処理部９と、該前処理
を行った図形データからその形状データを算出する形状
データ算出部１０と、該算出した形状データからその形
状を外側に所定量オフセットさせた形状オフセットデー
タを生成する形状オフセットデータ生成部１１とから成
る。更に、１２は前記生成した形状オフセットデータを
前記入力した配置データに従って配置すると共にその配
置状態での形状データを算出して版画全体のマスクデー
タを作成するマスクデータ作成手段、１３は該作成した
マスクデータから加工機制御データを作成する加工機制
御データ作成手段である。そして、１４は刷版マスクの
加工装置である。

【００１１】ＣＡＤ１は、周知の如く、線を引く、寸法
を引き出す、文字列を書き込む等の図形作成編集処理を
行う装置である。本実施例においては、版に焼き付ける
各一個原稿の図形データ及びその配置データは予めこの
ＣＡＤ１により設計されている。設計データの一例を図
３に示す。図３の（Ａ）は図形データの一例を示してお
り、この中にはマスク作成に必要な図形データと、マス
ク作成に必要でない寸法線の引出データ及び文字列デー
タ等が含まれている。また図３の（Ｂ）は配置データの
一例を示しており、この中には各一個原稿の図形データ
（配置する図形の種類、名称、数等を含む）を夫々所定
の領域内（各領域基準点からの図形基準点の位置）に所
定の態様（回転、反転等）で配置する情報が含まれてい
る。

【００１２】そして、このような図形データ及び配置デ
ータを用い、その図形データについての形状データの算
出及びその形状オフセットデータの算出を行い、更にこ
れらの形状オフセットデータの配置状態での形状データ
の算出を行い、その上で、カッティングプロッタ等の加
工機の制御用データを作成する。図２は実施例の刷版マ
スク作成処理のフローチャートである。

【００１３】ステップＳ１ではＣＡＤ１より一連の図形
データ及び配置データを入力し、これらをデータ記憶装
置４に記憶する。ステップＳ２では、入力手段６はデー
タ記憶装置４より最初の図形データ及びその配置データ
を選択して読み込む。ステップＳ３では、図形データ抽
出部８は選択した図形データからマスク加工に必要な図
形データの部分のみを抽出する。

【００１４】この抽出処理を図４の簡単な例で説明す
る。図４の（Ａ）において、入力した図形データのうち
刷版マスクの加工に必要な図形データは線分データ〜
より成っており、これに寸法引出線及び寸法データが
付随している。また図４の（Ｂ）は図４の（Ａ）の図形
データの格納例を示しており、左から、カラム１の
「Ｌ」は線分、「Ｃ」は文字、カラム２の「１」は図形
線、「２」は寸法線、カラム３の「１」は実線、「２」
は破線を夫々表している。更に、カラム４は後続のデー
タ数を表しており、例えばカラム１が線分Ｌの場合は、
後続する４つのデータは該線分の始点及び終点のＸＹ座
標を夫々表している。またカラム１が文字Ｃの場合は、
後続する８つのデータは文字の開始点のＸＹ座標、高
さ、幅、文字間スペース、回転角、文字数及び文字コー
ドを夫々表している。そこで、入力した図形データのう
ちカラム２＝１（図形線）の図形データのみを抽出する
ことで刷版マスクの加工に必要な図形データを抽出す
る。なお、更に図形の形状とは関係のないカラム３＝２
（破線）の図形データを削除しても良い。

【００１５】ステップＳ４では、図形データ前処理部９
は後述の形状データの算出を容易ならしめるために予め
前記抽出した図形データに対して必要な前処理を行う。
この前処理の幾つかの例を図５に示す。図５の（Ａ）に
おいて、例えば図形を構成する複数の線分が互いに交差
している場合は、その交点の座標を求め、該交点により
各線分を分割する。線分と曲線又は曲線同志が交差して
いる場合も同様である。こうすれば、分岐の存在を明確
化できると共に各分岐辺の始点、終点の座標を明確化で
きる。また図５の（Ｂ）において、複数の線分が重複し
ている場合は、その重複部分を分離し、該重複部分の一
方の線分を削除する。曲線同志が重複している場合も同
様である。こうすれば、図形データを後の形状データの
探査に便利なように一本化できる。図５の（Ｃ）におい
て、一端が開放になっている線分（曲線）は閉図形を構
成しないのでこれを削除する。例えば図形データＶの端
点ｖ及び図形データＷの端点ｗは他の図形によって共有
されないのでこれを削除する。こうすれば、不要な分岐
辺は削除され、形状探査の際の分岐選択の負担が軽減さ
れる。そして、図５の（Ｄ）において、分岐の無い同一
図形上の線分（曲線）同志を一個の図形データに合成す
る。但し、分岐がある場合はそのままにしておく。以上
の前処理を行うことにより図６の（Ａ）に示すような図
形データが得られる。

【００１６】ステップＳ５では、形状データ算出部１０
は前処理を行った図６の（Ａ）の図形データよりその形
状データの探査及び算出を行う。このために形状データ
算出部１０はまず形状探査の開始点及び方向を自動的に
決定する。即ち、開始点については、例えば図形データ
中のＹ座標が最小であるような頂点を開始点とする。し
かし、図示の如くこのような点が複数存在する場合に
は、更にＸ座標が最小であるような点を開始点とする。
従って図の例では開始点はＰになる。また探査方向につ
いては、例えば開始点Ｐを端点に持ち、Ｘ軸と成す角が
最大となるような辺を有する辺データの方向を探査方向
とする。これを図の例で言うと、辺ａはＸ軸と成す角が
０度であるが、辺ｂはＸ軸と成す角が９０度より大き
い。従って探査方向は矢印ｃ方向になる。なお、辺ｂが
円弧の場合は、該円弧ｂの点Ｐにおける接線方向はＸ軸
と逆方向になる。従ってＸ軸と成す角は１８０度とな
り、この場合も探査方向は矢印ｃ方向になる。

【００１７】次いで、形状データ算出部１０は図形デー
タの形状探査を行う。この形状探査は例えば開始点Ｐか
ら探査方向ｃに向かって各方向を指す辺を順にたどって
行く方法で行う。そして、分岐に遭遇した場合は、現時
点の方向を指す辺との間で成す角が最大の辺（即ち、こ
の例では常に一番左向きの辺）を選択する。なお、右回
りに探査する場合は現時点の方向を指す辺との間で成す
角が最小の辺（即ち、常に一番右向きの辺）を選択すれ
ば良い。こうして、各辺を順にたどって行き、該たどっ
た辺の図形データを順にマークし、開始点Ｐに戻ったら
探査を終了する。しかる後、前記マークしておいた各辺
の図形データを合成（接続）すると、図６の（Ｂ）に示
すような形状データが算出される。なお、マークされな
かった各辺の図形データは削除する。

【００１８】ステップＳ６では、形状オフセットデータ
生成部１１は、指定されたオフセット量ｄに従って、前
記算出した形状データの形状をその外側にｄだけオフセ
ットさせた形状オフセットデータを生成する。これを図
７に従って説明する。ところで、上記ステップＳ５で算
出した形状データは複数の辺データから成っており、各
辺データは夫々に探査方向ｃに沿って始点及び終点の情
報、直線か曲線かの情報、及び曲線の場合は該曲線を生
成する生成式並びにこれに付随する種々のパラメータ情
報を有している。従って、このような各辺データ又はそ
の生成式にオフセット量ｄを与えれば各辺データに沿っ
たオフセット辺データを容易に生成できる。

【００１９】例えば左側の垂直な線分ＬL にＸ＝±ｄの
オフセット量を与えると線分Ｌ2 ，Ｌ1 が生成される。
この場合に何れが形状オフセットデータとして使用でき
るかを判断しなくてはならない。この判断は、各辺デー
タの始点から終点に向かう方向についてそのどちら側に
オフセット線が生成されるかで容易に判断できる。この
例では、常に進行方向ｃの左側に生成される形状オフセ
ットデータを選択すれば良い。

【００２０】なお、例えば形状データの内側に任意の点
Ｑを定め、該点Ｑからの距離を比較することで判断して
も良い。この場合は線分Ｌ1 が線分Ｌより遠いから線分
Ｌ1を選択する。同様にして線分Ｌ4 は線分Ｌより遠い
から線分Ｌ4 を選択する。また、円弧Ｒの半径データに
ｒ＝±ｄのオフセット量を与えると円弧Ｒ1 ，Ｒ2 が生
成される。この場合は円弧Ｒ2 が円弧Ｒより遠いから円
弧Ｒ2 を選択する。この場合に、点ＱはＣＡＤ１より入
力した図形データの基準点を利用しても良い。

【００２１】更に、形状オフセットデータ生成部１１は
こうして生成した各オフセットデータ辺の交点を求め、
これを互いに交差する各辺データの始点、終点とする。
例えば線分Ｌ1と線分ＬSの交点を求め、これを線分Ｌ1
の終点及び線分ＬSの始点とする。このようにして、生
成した各辺の形状オフセットデータは１個図形の形状オ
フセットデータとして整えられて行く。更には、必要な
ら辺同志の交点部分の丸めの処理を行う。例えば線分Ｌ
4 と線分Ｌ6 の交点部分を半径ｄの円弧データの一部で
置き換える。特に、交点の交わり角θが鋭角となるよう
な場合は、この丸め処理を行うのが好ましい。こうして
最終的な形状オフセットデータが形成される。

【００２２】ステップＳ７では、マスクデータ作成手段
１２は、まずＣＡＤ１より入力した配置データに従って
１個図形の形状オフセットデータを所定数だけ所定の配
置領域に配置する。図８の（Ａ）は説明の簡単のため２
個の形状オフセットデータを隣接して左右に配置した場
合を示している。これを図３の（Ｂ）の場合と比較する
と、各形状オフセットデータは元の一個原稿データより
も形状が外側にｄだけオフセットしているので、図８の
（Ａ）に示すように両図形の左右に重なり部分が生じて
いる。更に、図８の（Ａ）の上下にも形状オフセットデ
ータを配置すれば、同様にして上下に重なり部分が生じ
る。

【００２３】ステップＳ８では、ステップＳ１で入力し
た全ての図形データ及びその配置データについてその形
状オフセットデータの生成及び配置が終了したか否かを
調べる。終了していなければステップＳ２に戻り、新た
な図形データ及びその配置データを選択する。また終了
していれば次の処理に進む。ステップＳ９では、マスク
データ作成手段１２は配置した状態の各形状オフセット
データに基づいて上記と同様にしてその形状データを算
出する。これにより、各形状オフセットデータの重なり
の部分が取り除かれ、図８の（Ｂ）に示すような形状デ
ータ（刷版用のマスクデータ）が得られる。

【００２４】ステップＳ１０では得られたマスクデータ
を一旦データ記憶装置４に格納する。これにより、ＣＡ
Ｄ１はデータ記憶装置４よりマスクデータを取り出し、
自己の不図示の表示部に表示することができる。そし
て、オペレータは図３の（Ｂ）に示すような焼き付け用
の原稿表示に図８の（Ｂ）に示すようなマスクデータを
重ねて表示することで、マスクデータの出来上がりを評
価できる。

【００２５】ステップＳ１１では、加工機制御データ作
成手段１３は上記得られたマスクデータに基づいてカッ
テングプロッタ等を制御するための加工機制御データを
作成する。そして、ステップＳ１２では、カッテングプ
ロッタ１４は加工機制御データに従ってマスクフィルム
等をカットする。このように、本実施例によればマスク
データ作成作業が軽減され、作業効率が向上する。しか
も、ＣＡＤ１の図形データ及び配置データはマスク作成
用に特別に作成する必要はなく、原稿設計時のデータを
そのまま利用できる。また、ＣＡＤ１の元の設計データ
には何ら手を加えないので、元の設計データには全く影
響を与えない。

【００２６】

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、ＣＡＤ
等で作成した図形データから直接に一個原稿のマスクデ
ータを作成するので、正確なマスクデータが容易に得ら
れる。またＣＡＤ等で作成した一個原稿の配置データに
従って版画全体のマスクデータを作成するので、位置合
わせも簡単に精密に行える。更に、得られたマスクデー
タに基づきフィルムカティングプロッタ等を利用しマス
クを自動的に作成するので、能率よく、高品質なマスク
が作成でき、マスク作成効率の向上、簡素化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の刷版マスク作成システムのブロック図
である。

【図２】実施例の刷版マスク作成処理のフローチャート
である。

【図３】入力の図形データ及び配置データの一例を示す
図である。

【図４】入力の図形データからマスク作成に必要な図形
データを抽出する例を説明する図である。

【図５】図形データに対する前処理の幾つかの例を説明
する図である。

【図６】図形データの形状探査処理を説明する図であ
る。

【図７】形状オフセットデータの作成処理を説明する図
である。

【図８】刷版マスクデータの作成処理を説明する図であ
る。

【符号の説明】

１ 図形作成編集装置 ２ 刷版マスク作成装置 ３ インタフェース ４ データ記憶装置 ５ 演算装置 ６ 入力手段 ７ 形状オフセットデータ作成手段 １２ マスクデータ作成手段 １３ 加工機制御データ作成手段 １４ 加工装置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 図形処理装置で作成した図形データ及び
   その配置データを入力する入力手段と、 前記入力した図形データに基づいてその形状を外側にオ
   フセットさせた形状オフセットデータを作成する形状オ
   フセットデータ作成手段と、 該作成した形状オフセットデータを前記入力した配置デ
   ータに従って配置すると共にその配置状態での形状デー
   タを算出して版画全体のマスクデータを作成するマスク
   データ作成手段とを備えることを特徴とする刷版マスク
   作成装置。
2. 【請求項２】 形状オフセットデータ作成手段は、入力
   した図形データからマスク作成に必要な図形データを抽
   出する図形データ抽出部と、該抽出した図形データから
   その形状データを算出する形状データ算出部と、該算出
   した形状データからその形状を外側に所定量オフセット
   させた形状オフセットデータを生成する形状オフセット
   データ生成部とを備えることを特徴とする請求項１の刷
   版マスク作成装置。
3. 【請求項３】 前記作成したマスクデータからマスクの
   加工機制御情報を作成する加工機制御データ作成手段
   と、該作成した加工機制御情報に従って刷版マスクを加
   工する加工装置とを備えることを特徴とする請求項１の
   刷版マスク作成装置。