JPH06224112A - 荷電粒子ビーム露光装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム露光装置Info
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- JPH06224112A JPH06224112A JP1256593A JP1256593A JPH06224112A JP H06224112 A JPH06224112 A JP H06224112A JP 1256593 A JP1256593 A JP 1256593A JP 1256593 A JP1256593 A JP 1256593A JP H06224112 A JPH06224112 A JP H06224112A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ＢＡＡ板（ブランキング・アパーチャ・アレイ
板）を備えて構成される電子ビーム露光装置に関し、動
作クロックを停止させることなく所望のパターンを形成
できるようにし、マークディテクション等を行う場合に
おける露光制御の簡易化を図る。 【構成】マークディテクション等を行う場合、ＢＡＡパ
ターン情報発生部１３からＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオ
フ状態とするためのパターン情報を発生させると共に、
所望パターン情報保持部１５から使用する所望パターン
のパターン情報を一括して読み出し、露光用ＢＡＡコン
トローラ１４において、ＢＡＡパターン情報発生部１３
から発生されるパターン情報と、所望パターン情報保持
部１５から読み出された所望パターン情報との論理を取
り、露光を行う。
板）を備えて構成される電子ビーム露光装置に関し、動
作クロックを停止させることなく所望のパターンを形成
できるようにし、マークディテクション等を行う場合に
おける露光制御の簡易化を図る。 【構成】マークディテクション等を行う場合、ＢＡＡパ
ターン情報発生部１３からＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオ
フ状態とするためのパターン情報を発生させると共に、
所望パターン情報保持部１５から使用する所望パターン
のパターン情報を一括して読み出し、露光用ＢＡＡコン
トローラ１４において、ＢＡＡパターン情報発生部１３
から発生されるパターン情報と、所望パターン情報保持
部１５から読み出された所望パターン情報との論理を取
り、露光を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、荷電粒子ビームの通過
を制御するブランキング電極を備えてなる複数のブラン
キング・アパーチャ（以下、ＢＡという）を二次元的に
配列してなるブランキング・アパーチャ・アレイ（以
下、ＢＡＡという）板を備えて構成される荷電粒子ビー
ム露光装置に関する。
を制御するブランキング電極を備えてなる複数のブラン
キング・アパーチャ（以下、ＢＡという）を二次元的に
配列してなるブランキング・アパーチャ・アレイ（以
下、ＢＡＡという）板を備えて構成される荷電粒子ビー
ム露光装置に関する。
【０００２】近年、ＩＣ（集積回路）は、ますます、そ
の集積度・機能を向上させており、電子計算機、通信、
機械制御等、広く産業全般に亘る技術進歩の核技術とし
ての役割を期待されている。
の集積度・機能を向上させており、電子計算機、通信、
機械制御等、広く産業全般に亘る技術進歩の核技術とし
ての役割を期待されている。
【０００３】ここに、ＩＣは、２年から３年で、４倍の
高集積化を達成しており、例えば、ＤＲＡＭでは、１
Ｍ、４Ｍ、１６Ｍ、６４Ｍ、２５６Ｍ、１Ｇと、その集
積化が進んでいるが、これは、専ら、微細加工技術の進
歩によるものである。
高集積化を達成しており、例えば、ＤＲＡＭでは、１
Ｍ、４Ｍ、１６Ｍ、６４Ｍ、２５６Ｍ、１Ｇと、その集
積化が進んでいるが、これは、専ら、微細加工技術の進
歩によるものである。
【０００４】ところで、荷電粒子ビーム露光装置のう
ち、例えば、電子ビーム露光装置は、０.０５μｍ以下
の微細加工を０.０２μｍ以下の位置合わせ精度で実現
することができるが、これまで、スループットが低く、
ＩＣの量産には使用できないであろうと考えられてい
た。
ち、例えば、電子ビーム露光装置は、０.０５μｍ以下
の微細加工を０.０２μｍ以下の位置合わせ精度で実現
することができるが、これまで、スループットが低く、
ＩＣの量産には使用できないであろうと考えられてい
た。
【０００５】しかし、これは、ポイント・ビーム型の電
子ビーム露光装置や可変矩形ビーム型の電子ビーム露光
装置等、いわゆる一筆書きの露光を行う電子ビーム露光
装置についての議論であり、物理的・技術的なネックに
視点をあてて、スループットが低い原因を解明し、真剣
に検討した結果ではなく、単に現在の市販装置の生産性
に鑑みて判断されているにすぎなかった。
子ビーム露光装置や可変矩形ビーム型の電子ビーム露光
装置等、いわゆる一筆書きの露光を行う電子ビーム露光
装置についての議論であり、物理的・技術的なネックに
視点をあてて、スループットが低い原因を解明し、真剣
に検討した結果ではなく、単に現在の市販装置の生産性
に鑑みて判断されているにすぎなかった。
【０００６】ここに、近年、ブロックマスク（ステンシ
ルマスク）を備えてなる電子ビーム露光装置や、ＢＡＡ
板を備えてなる電子ビーム露光装置に関する本発明者等
による発明によって、１cm2／１sec程度のスループット
が期待できるようになった。
ルマスク）を備えてなる電子ビーム露光装置や、ＢＡＡ
板を備えてなる電子ビーム露光装置に関する本発明者等
による発明によって、１cm2／１sec程度のスループット
が期待できるようになった。
【０００７】これらは、形成し得るパターンの微細さ、
位置合わせ精度、クイック・ターン・アラウンド、信頼
性のどれをとっても、他のリソグラフィ装置よりも優れ
ているが、特に、ＢＡＡ板を備えてなる電子ビーム露光
装置は、ブロックマスクを備えてなる電子ビーム露光装
置が不得意とするランダムなパターンに対しても、高速
露光を行うことができるので、その開発が注目されてい
る。
位置合わせ精度、クイック・ターン・アラウンド、信頼
性のどれをとっても、他のリソグラフィ装置よりも優れ
ているが、特に、ＢＡＡ板を備えてなる電子ビーム露光
装置は、ブロックマスクを備えてなる電子ビーム露光装
置が不得意とするランダムなパターンに対しても、高速
露光を行うことができるので、その開発が注目されてい
る。
【０００８】
【従来の技術】従来、ＢＡＡ板を備えてなる電子ビーム
露光装置として、図３にその要部を示すようなものが知
られている。
露光装置として、図３にその要部を示すようなものが知
られている。
【０００９】図中、１は外部メモリからのパターン情報
（露光データ）の転送等を制御するＣＰＵ（central pr
ocessing unit）、２はバス線、３はＣＰＵ１の指示に
よりバス線２を介して供給されるパターン情報に基づい
てＢＡＡ板に必要なパターン情報を発生するＢＡＡパタ
ーン情報発生部である。
（露光データ）の転送等を制御するＣＰＵ（central pr
ocessing unit）、２はバス線、３はＣＰＵ１の指示に
よりバス線２を介して供給されるパターン情報に基づい
てＢＡＡ板に必要なパターン情報を発生するＢＡＡパタ
ーン情報発生部である。
【００１０】また、４はＢＡＡパターン情報発生部３か
ら発生されるＢＡＡパターン情報に基づいてＢＡＡ板の
ＢＡのオン、オフ動作を制御する露光用ＢＡＡコントロ
ーラ、５はＢＡＡ板、６はＢＡである。
ら発生されるＢＡＡパターン情報に基づいてＢＡＡ板の
ＢＡのオン、オフ動作を制御する露光用ＢＡＡコントロ
ーラ、５はＢＡＡ板、６はＢＡである。
【００１１】ＢＡＡ板５は、具体的には、図４にその平
面図を示すように構成されている。即ち、ＢＡ６は矩形
に形成され、Ｙ軸方向において対向する壁面にブランキ
ング電極７、８が形成されている。
面図を示すように構成されている。即ち、ＢＡ６は矩形
に形成され、Ｙ軸方向において対向する壁面にブランキ
ング電極７、８が形成されている。
【００１２】そして、ブランキング電極７は接地線９及
び共通接地線１０を介して接地されるように構成され、
ブランキング電極８には、露光用ＢＡＡコントローラ４
から信号線１１を介してオン・オフ動作を制御するオン
・オフ信号が供給されるように構成されている。
び共通接地線１０を介して接地されるように構成され、
ブランキング電極８には、露光用ＢＡＡコントローラ４
から信号線１１を介してオン・オフ動作を制御するオン
・オフ信号が供給されるように構成されている。
【００１３】この電子ビーム露光装置においては、ＢＡ
Ａ板５に対して上流側から照射される電子ビームはＢＡ
６ごとの電子ビームに細分化されるが、ブランキング電
極８にオフ信号が印加されたＢＡ６を通過した電子ビー
ム（オフ・ビーム）は偏向されて被露光体に照射され
ず、ブランキング電極８にオン信号が印加されたＢＡ６
を通過した電子ビーム（オン・ビーム）のみが、偏向さ
れず、被露光体に照射される。
Ａ板５に対して上流側から照射される電子ビームはＢＡ
６ごとの電子ビームに細分化されるが、ブランキング電
極８にオフ信号が印加されたＢＡ６を通過した電子ビー
ム（オフ・ビーム）は偏向されて被露光体に照射され
ず、ブランキング電極８にオン信号が印加されたＢＡ６
を通過した電子ビーム（オン・ビーム）のみが、偏向さ
れず、被露光体に照射される。
【００１４】なお、この電子ビーム露光装置において
は、露光領域面上、所定の長さの各露光列の露光情報に
対応したオン・オフ信号が、各露光列ごとにＢＡＡ板５
のＸ軸方向の１列目のＢＡ６、２列目のＢＡ６の順に、
これらＸ軸方向の１列目、２列目のＢＡ６に供給され、
このオン・オフ信号が動作クロックに同期してＹ軸方向
の対応するＢＡ６に順に伝達されると共に、オン・ビー
ムが走査されることにより、露光が行われる。
は、露光領域面上、所定の長さの各露光列の露光情報に
対応したオン・オフ信号が、各露光列ごとにＢＡＡ板５
のＸ軸方向の１列目のＢＡ６、２列目のＢＡ６の順に、
これらＸ軸方向の１列目、２列目のＢＡ６に供給され、
このオン・オフ信号が動作クロックに同期してＹ軸方向
の対応するＢＡ６に順に伝達されると共に、オン・ビー
ムが走査されることにより、露光が行われる。
【００１５】この結果、この電子ビーム露光装置におい
ては、ＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、オフ状態は、動作ク
ロックに同期して時間的に変化することになるが、特
に、ＢＡ６のＹ軸方向のオン、オフ状態は、Ｘ軸方向の
１列目、２列目のＢＡ６のオン、オフ状態が動作クロッ
クに同期して伝達されて変化することになる。
ては、ＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、オフ状態は、動作ク
ロックに同期して時間的に変化することになるが、特
に、ＢＡ６のＹ軸方向のオン、オフ状態は、Ｘ軸方向の
１列目、２列目のＢＡ６のオン、オフ状態が動作クロッ
クに同期して伝達されて変化することになる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子ビーム
露光装置においては、マークディテクションを行う場
合、リフォーカスフライバックによる電子ビームの位置
ずれの調整を行う場合、縮小率の調整を行う場合、ＢＡ
６の不良を検証する場合、ＳＥＭ（走査形顕微鏡）観察
を行う場合には、それぞれに適応したパターンを形成す
る必要がある。
露光装置においては、マークディテクションを行う場
合、リフォーカスフライバックによる電子ビームの位置
ずれの調整を行う場合、縮小率の調整を行う場合、ＢＡ
６の不良を検証する場合、ＳＥＭ（走査形顕微鏡）観察
を行う場合には、それぞれに適応したパターンを形成す
る必要がある。
【００１７】例えば、図５はマークディテクションを行
う場合に必要なパターンの一例、図６はリフォーカスフ
ライバックによる電子ビームの位置ずれの調整を行う場
合に必要なパターンの一例、図７は縮小率の調整を行う
場合に必要なパターンの一例、図８はＢＡ６の不良の検
証を行う場合に必要なパターンの一例、図９はＳＥＭ観
察を行う場合に必要なパターンの一例を示している。
う場合に必要なパターンの一例、図６はリフォーカスフ
ライバックによる電子ビームの位置ずれの調整を行う場
合に必要なパターンの一例、図７は縮小率の調整を行う
場合に必要なパターンの一例、図８はＢＡ６の不良の検
証を行う場合に必要なパターンの一例、図９はＳＥＭ観
察を行う場合に必要なパターンの一例を示している。
【００１８】このように、マークディテクション等の必
要性から所望のパターンを形成する場合、従来の電子ビ
ーム露光装置では、ＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、オフの
状態は、動作クロックに同期して時間的に変化するた
め、所望のパターンが得られた状態で動作クロックを停
止する必要があり、その分、露光制御が複雑になってし
まうという問題点があった。
要性から所望のパターンを形成する場合、従来の電子ビ
ーム露光装置では、ＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、オフの
状態は、動作クロックに同期して時間的に変化するた
め、所望のパターンが得られた状態で動作クロックを停
止する必要があり、その分、露光制御が複雑になってし
まうという問題点があった。
【００１９】本発明は、かかる点に鑑み、荷電粒子ビー
ムの通過を制御するブランキング電極を備えてなる複数
のＢＡを２次元的に配列してなるＢＡＡ板を備えて構成
される荷電粒子ビーム露光装置であって、動作クロック
を停止させることなく所望のパターンを形成でき、マー
クディテクション等を行う場合の露光制御を簡易化でき
るようにした荷電粒子ビーム露光装置を提供することを
目的とする。
ムの通過を制御するブランキング電極を備えてなる複数
のＢＡを２次元的に配列してなるＢＡＡ板を備えて構成
される荷電粒子ビーム露光装置であって、動作クロック
を停止させることなく所望のパターンを形成でき、マー
クディテクション等を行う場合の露光制御を簡易化でき
るようにした荷電粒子ビーム露光装置を提供することを
目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明による荷電粒子ビ
ーム露光装置は、ＢＡＡ板に２次元的に配列されている
複数のＢＡのうち、所望のＢＡを一括してオン状態、残
りのＢＡを一括してオフ状態とすることができるＢＡＡ
制御手段を備えて構成される。
ーム露光装置は、ＢＡＡ板に２次元的に配列されている
複数のＢＡのうち、所望のＢＡを一括してオン状態、残
りのＢＡを一括してオフ状態とすることができるＢＡＡ
制御手段を備えて構成される。
【００２１】
【作用】本発明では、ＢＡＡ板に２次元的に配列されて
いる複数のＢＡのうち、所望のＢＡを一括してオン状
態、残りのＢＡを一括してオフ状態とすることができる
ＢＡＡ制御手段を備えているので、マークディテクショ
ン等の必要性から所望のパターンを形成する場合、動作
クロックを停止させることなく所望のパターンを形成す
ることができる。
いる複数のＢＡのうち、所望のＢＡを一括してオン状
態、残りのＢＡを一括してオフ状態とすることができる
ＢＡＡ制御手段を備えているので、マークディテクショ
ン等の必要性から所望のパターンを形成する場合、動作
クロックを停止させることなく所望のパターンを形成す
ることができる。
【００２２】
【実施例】以下、図１、図２を参照して、本発明の一実
施例につき、本発明を電子ビーム露光装置に適用した場
合を例にして説明する。なお、図１において、図３に対
応する部分には同一符号を付し、その重複説明は省略す
る。
施例につき、本発明を電子ビーム露光装置に適用した場
合を例にして説明する。なお、図１において、図３に対
応する部分には同一符号を付し、その重複説明は省略す
る。
【００２３】図１は本発明の一実施例の要部を示す図で
あり、１３は通常露光時にはＣＰＵ１の指示によりバス
線２を介して供給されるパターン情報に基づいてＢＡＡ
板５に必要なパターン情報を発生し、マークディテクシ
ョン等を行う場合には、後述する所望パターン形成用コ
ントローラの指示によりＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ
状態とするためのパターン情報を発生するＢＡＡパター
ン情報発生部である。
あり、１３は通常露光時にはＣＰＵ１の指示によりバス
線２を介して供給されるパターン情報に基づいてＢＡＡ
板５に必要なパターン情報を発生し、マークディテクシ
ョン等を行う場合には、後述する所望パターン形成用コ
ントローラの指示によりＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ
状態とするためのパターン情報を発生するＢＡＡパター
ン情報発生部である。
【００２４】また、１４は通常露光時にはＢＡＡパター
ン情報発生部１３から発生されるパターン情報に基づい
てＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、オフ動作を制御し、マー
クディテクション等を行う場合には、ＢＡＡパターン情
報発生部１３から発生されるパターン情報と後述する所
望パターン形成用コントローラから供給される所望パタ
ーンのＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させた二次元的なパタ
ーン情報との論理を取り、ＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、
オフ動作を制御する露光用ＢＡＡコントローラである。
ン情報発生部１３から発生されるパターン情報に基づい
てＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、オフ動作を制御し、マー
クディテクション等を行う場合には、ＢＡＡパターン情
報発生部１３から発生されるパターン情報と後述する所
望パターン形成用コントローラから供給される所望パタ
ーンのＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させた二次元的なパタ
ーン情報との論理を取り、ＢＡＡ板５のＢＡ６のオン、
オフ動作を制御する露光用ＢＡＡコントローラである。
【００２５】また、１５はマークディテクション等を行
う場合に使用する所望のパターン、例えば、図５〜図９
に示すようなパターンに対応したパターン情報を、マー
クディテクション等を行う場合にはＢＡＡパターン情報
発生部１３からＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とす
るためのパターン情報が発生されることを前提として、
ＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させて二次元的に保持する所
望パターン情報保持部である。
う場合に使用する所望のパターン、例えば、図５〜図９
に示すようなパターンに対応したパターン情報を、マー
クディテクション等を行う場合にはＢＡＡパターン情報
発生部１３からＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とす
るためのパターン情報が発生されることを前提として、
ＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させて二次元的に保持する所
望パターン情報保持部である。
【００２６】また、１６は所望パターン情報保持部１５
からの所望のパターン情報の読出し、読出した所望のパ
ターン情報の露光用ＢＡＡコントローラ１４への供給、
及び、ＢＡＡパターン情報発生部１３の制御を行う所望
パターン形成用コントローラである。
からの所望のパターン情報の読出し、読出した所望のパ
ターン情報の露光用ＢＡＡコントローラ１４への供給、
及び、ＢＡＡパターン情報発生部１３の制御を行う所望
パターン形成用コントローラである。
【００２７】このように構成された本実施例において
は、通常露光時は、ＣＰＵ１の指示によりバス線２を介
して供給されるパターン情報に基づいてＢＡＡパターン
情報発生部１３からＢＡＡ板５に必要なパターン情報が
発生され、これが露光用ＢＡＡコントローラ１４に供給
され、図３に示す従来の電子ビーム露光装置の動作と同
様の動作による露光が行われる。
は、通常露光時は、ＣＰＵ１の指示によりバス線２を介
して供給されるパターン情報に基づいてＢＡＡパターン
情報発生部１３からＢＡＡ板５に必要なパターン情報が
発生され、これが露光用ＢＡＡコントローラ１４に供給
され、図３に示す従来の電子ビーム露光装置の動作と同
様の動作による露光が行われる。
【００２８】これに対して、マークディテクション等を
行う場合には、所望パターン形成用コントローラ１６の
指示により、ＢＡＡパターン情報発生部１３は、ＢＡＡ
板５のＢＡ６を全てオフ状態とするためのパターン情報
を出力し、これが露光用ＢＡＡコントローラ１４に供給
される。
行う場合には、所望パターン形成用コントローラ１６の
指示により、ＢＡＡパターン情報発生部１３は、ＢＡＡ
板５のＢＡ６を全てオフ状態とするためのパターン情報
を出力し、これが露光用ＢＡＡコントローラ１４に供給
される。
【００２９】また、所望パターン形成用コントローラ１
６により、所望パターン情報保持部１５から、使用する
所望のパターンについて、ＢＡＡ板５のＢＡ６に対応さ
せて二次元的に保持されているパターン情報が一括して
読み出され、これが露光用ＢＡＡコントローラ１４に供
給される。
６により、所望パターン情報保持部１５から、使用する
所望のパターンについて、ＢＡＡ板５のＢＡ６に対応さ
せて二次元的に保持されているパターン情報が一括して
読み出され、これが露光用ＢＡＡコントローラ１４に供
給される。
【００３０】ここに、露光用ＢＡＡコントローラ１４に
おいては、ＢＡＡパターン情報発生部１３から供給され
るＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とするパターン情
報と、所望パターン形成用コントローラ１６から供給さ
れるＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させた二次元的な所望パ
ターン情報との論理が取られ、所望パターン情報に対応
したオン、オフ信号がＢＡＡ板５のＢＡ６に供給され、
所望パターン情報に対応した所望パターンが形成され
る。
おいては、ＢＡＡパターン情報発生部１３から供給され
るＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とするパターン情
報と、所望パターン形成用コントローラ１６から供給さ
れるＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させた二次元的な所望パ
ターン情報との論理が取られ、所望パターン情報に対応
したオン、オフ信号がＢＡＡ板５のＢＡ６に供給され、
所望パターン情報に対応した所望パターンが形成され
る。
【００３１】このように、本実施例においては、マーク
ディテクション等を行う場合には、ＢＡＡパターン情報
発生部１３は、ＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とす
るためのパターン情報を出力し、これを露光用ＢＡＡコ
ントローラ１４に供給するようにされているので、ＢＡ
Ａ板５のＢＡ６のオフ状態は動作クロックに関係なく保
持されることになる。
ディテクション等を行う場合には、ＢＡＡパターン情報
発生部１３は、ＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とす
るためのパターン情報を出力し、これを露光用ＢＡＡコ
ントローラ１４に供給するようにされているので、ＢＡ
Ａ板５のＢＡ６のオフ状態は動作クロックに関係なく保
持されることになる。
【００３２】また、露光用ＢＡＡコントローラ１４にお
いては、ＢＡＡパターン情報発生部１３から供給される
ＢＡＡ板５のＢＡ６の全てをオフ状態とするパターン情
報と、所望パターン形成用コントローラ１６から供給さ
れるＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させた二次元的な所望パ
ターン情報との論理が取られるので、ＢＡＡ板５のＢＡ
６のオン状態も動作クロックに関係なく保持されること
になる。
いては、ＢＡＡパターン情報発生部１３から供給される
ＢＡＡ板５のＢＡ６の全てをオフ状態とするパターン情
報と、所望パターン形成用コントローラ１６から供給さ
れるＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させた二次元的な所望パ
ターン情報との論理が取られるので、ＢＡＡ板５のＢＡ
６のオン状態も動作クロックに関係なく保持されること
になる。
【００３３】即ち、本実施例によれば、マークディテク
ション等の必要性から所望のパターンを形成する場合、
動作クロックを停止させることなく所望のパターンを形
成でき、マークディテクション等を行う場合における露
光制御を簡易化できる。
ション等の必要性から所望のパターンを形成する場合、
動作クロックを停止させることなく所望のパターンを形
成でき、マークディテクション等を行う場合における露
光制御を簡易化できる。
【００３４】なお、本実施例では、マークディテクショ
ン等を行う場合、ＢＡＡパターン情報発生部１３からは
ＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とするためのパター
ン情報を発生させるようにした場合について説明した
が、この代わりに、ＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオン状態
とするためのパターン情報を発生させるようにしても良
い。
ン等を行う場合、ＢＡＡパターン情報発生部１３からは
ＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオフ状態とするためのパター
ン情報を発生させるようにした場合について説明した
が、この代わりに、ＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオン状態
とするためのパターン情報を発生させるようにしても良
い。
【００３５】但し、この場合、ＢＡＡパターン情報発生
部１３からはＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオン状態とする
ためのパターン情報が発生されることを前提として、所
望パターン情報保持部１５に所望のパターンに対応した
パターン情報をＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させて二次元
的に保持する必要がある。
部１３からはＢＡＡ板５のＢＡ６を全てオン状態とする
ためのパターン情報が発生されることを前提として、所
望パターン情報保持部１５に所望のパターンに対応した
パターン情報をＢＡＡ板５のＢＡ６に対応させて二次元
的に保持する必要がある。
【００３６】また、本実施例は、具体的には、図２に示
すように構成することができる。図中、１７は鏡筒、１
８は電子銃、１９は電子ビーム、２０〜２４は電磁レン
ズ、２５はＢＡＡ板、２６はブランキング電極、２７は
ラウンドアパーチャ、２８はメインデフレクタ、２９は
サブデフレクタ、３０は被露光体、３１はステージであ
る。
すように構成することができる。図中、１７は鏡筒、１
８は電子銃、１９は電子ビーム、２０〜２４は電磁レン
ズ、２５はＢＡＡ板、２６はブランキング電極、２７は
ラウンドアパーチャ、２８はメインデフレクタ、２９は
サブデフレクタ、３０は被露光体、３１はステージであ
る。
【００３７】また、３２は外部メモリからの露光データ
の転送等を制御するＣＰＵ、３３は露光に必要なシーケ
ンス・コントロールを行うシーケンス・コントローラ、
３４はＣＰＵ３２の指示により外部メモリから転送され
てくる露光データを格納するバッファメモリ、３５は露
光データの展開を行うデータ展開回路、３６はデータ展
開された露光データを一時格納するキャンパスメモリで
ある。
の転送等を制御するＣＰＵ、３３は露光に必要なシーケ
ンス・コントロールを行うシーケンス・コントローラ、
３４はＣＰＵ３２の指示により外部メモリから転送され
てくる露光データを格納するバッファメモリ、３５は露
光データの展開を行うデータ展開回路、３６はデータ展
開された露光データを一時格納するキャンパスメモリで
ある。
【００３８】また、３７はリフォーカスデータ作成回路
及び並べ替え・転送回路、３８はＢＡＡ板２５に必要な
パターン・データを格納し、射出するデータ記憶回路及
びデータ射出回路、３９はＢＡＡ板２５のＢＡのオン、
オフを制御するブランキング回路である。
及び並べ替え・転送回路、３８はＢＡＡ板２５に必要な
パターン・データを格納し、射出するデータ記憶回路及
びデータ射出回路、３９はＢＡＡ板２５のＢＡのオン、
オフを制御するブランキング回路である。
【００３９】また、４０は所望のパターンのパターン情
報を格納する所望パターン情報レジスタ、４１は所望パ
ターン情報レジスタ４０からの所望のパターン情報の読
出し、読出した所望のパターン情報のブランキング回路
３９への供給、及び、データ記憶回路及びデータ射出回
路３８の制御を行い、所望パターンの形成制御を行う所
望パターン形成用コントローラである。
報を格納する所望パターン情報レジスタ、４１は所望パ
ターン情報レジスタ４０からの所望のパターン情報の読
出し、読出した所望のパターン情報のブランキング回路
３９への供給、及び、データ記憶回路及びデータ射出回
路３８の制御を行い、所望パターンの形成制御を行う所
望パターン形成用コントローラである。
【００４０】また、４２はメインデフレクタ２８を制御
するメインデフ走査セットリング回路、４３はサブデフ
レクタ２９を制御するサブデフ走査回路、４４はステー
ジ３１を制御するステージ制御回路、４５はオートロー
ダを制御するオートローダ制御回路である。
するメインデフ走査セットリング回路、４３はサブデフ
レクタ２９を制御するサブデフ走査回路、４４はステー
ジ３１を制御するステージ制御回路、４５はオートロー
ダを制御するオートローダ制御回路である。
【００４１】
【発明の効果】本発明によれば、ＢＡＡ板に２次元的に
配列されている複数のＢＡのうち、所望のＢＡを一括し
てオン状態、残りのＢＡを一括してオフ状態とすること
ができるＢＡＡ制御手段を備えるとしたことにより、動
作クロックを停止させることなく所望のパターンを形成
することができるので、マークディテクション等を行う
場合における露光制御を簡易化することができる。
配列されている複数のＢＡのうち、所望のＢＡを一括し
てオン状態、残りのＢＡを一括してオフ状態とすること
ができるＢＡＡ制御手段を備えるとしたことにより、動
作クロックを停止させることなく所望のパターンを形成
することができるので、マークディテクション等を行う
場合における露光制御を簡易化することができる。
【図１】本発明の一実施例の要部を示す図である。
【図２】本発明の一実施例を具体例に示す図である。
【図３】ブランキング・アパーチャ・アレイ板（ＢＡＡ
板）を備えて構成される従来の電子ビーム露光装置の一
例の要部を示す図である。
板）を備えて構成される従来の電子ビーム露光装置の一
例の要部を示す図である。
【図４】ブランキング・アパーチャ・アレイ板を示す平
面図である。
面図である。
【図５】マークディテクションを行う場合に必要なパタ
ーンの一例を示す図である。
ーンの一例を示す図である。
【図６】リフォーカスフライバックによる電子ビームの
位置ずれの調整を行う場合に必要なパターンの一例を示
す図である。
位置ずれの調整を行う場合に必要なパターンの一例を示
す図である。
【図７】縮小率の調整を行う場合に必要なパターンの一
例を示す図である。
例を示す図である。
【図８】ＢＡ６の不良の検証を行う場合に必要なパター
ンの一例を示す図である。
ンの一例を示す図である。
【図９】ＳＥＭ観察を行う場合に必要なパターンの一例
を示す図である。
を示す図である。
１ ＣＰＵ ２ バス線 ５ ブランキング・アパーチャ・アレイ板（ＢＡＡ板） ６ ブランキング・アパーチャ（ＢＡ） １３ ＢＡＡパターン情報発生部 １４ 露光用ＢＡＡコントローラ １５ 所望パターン情報保持部 １６ 所望パターン形成用コントローラ
Claims (2)
- 【請求項１】荷電粒子ビームの通過を制御するブランキ
ング電極を備えてなる複数のブランキング・アパーチャ
を二次元的に配列してなるブランキング・アパーチャ・
アレイ板と、前記複数のブランキング・アパーチャのう
ち、所望のブランキング・アパーチャを一括してオン状
態、残りのブランキング・アパーチャを一括してオフ状
態とすることができるブランキング・アパーチャ・アレ
イ制御手段とを備えて構成されていることを特徴とする
荷電粒子ビーム露光装置。 - 【請求項２】前記ブランキング・アパーチャ・アレイ制
御手段は、所望のパターンを発生させるに必要なパター
ン情報を保持するパターン情報保持部を備え、前記所望
のパターンを発生させる場合、通常の露光時には外部メ
モリから供給されるパターン情報に基づいて前記ブラン
キング・アパーチャ・アレイ板に必要なパターン情報を
発生するパターン情報発生部から前記複数のブランキン
グ・アパーチャを全てオン状態又はオフ状態とすべきパ
ターン情報を発生させ、このパターン情報と、前記パタ
ーン情報保持部から読み出されたパターン情報との論理
を取ることにより、前記複数のブランキング・アパーチ
ャのうち、所望のブランキング・アパーチャを一括して
オン状態、残りのブランキング・アパーチャを一括して
オフ状態とするように構成されていることを特徴とする
請求項１記載の荷電粒子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1256593A JPH06224112A (ja) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | 荷電粒子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1256593A JPH06224112A (ja) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | 荷電粒子ビーム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06224112A true JPH06224112A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=11808881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1256593A Pending JPH06224112A (ja) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | 荷電粒子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06224112A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10475621B2 (en) | 2017-05-30 | 2019-11-12 | Nuflare Technology, Inc. | Drawing device and drawing method |
-
1993
- 1993-01-28 JP JP1256593A patent/JPH06224112A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10475621B2 (en) | 2017-05-30 | 2019-11-12 | Nuflare Technology, Inc. | Drawing device and drawing method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20011002 |