JPH06219976A - フッ化エタン系化合物の製造方法 - Google Patents

フッ化エタン系化合物の製造方法

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JPH06219976A
JPH06219976A JP5207620A JP20762093A JPH06219976A JP H06219976 A JPH06219976 A JP H06219976A JP 5207620 A JP5207620 A JP 5207620A JP 20762093 A JP20762093 A JP 20762093A JP H06219976 A JPH06219976 A JP H06219976A
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JP
Japan
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ethylene
uranium hexafluoride
compound
based compound
halogenated
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JP5207620A
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English (en)
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Valentin Vasilievich Shatalov
ヴァレンチン・ヴァシリエヴィッチ・シャタロフ
Valentin Timofeevich Orekhov
オレコフ ヴァレンチン・ティモフィーヴィッチ
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INTERNATL CHEM TECHNOL CO Ltd
KOKUSAI KAGAKU GIJUTSU KK
Original Assignee
INTERNATL CHEM TECHNOL CO Ltd
KOKUSAI KAGAKU GIJUTSU KK
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/013Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens
    • C07C17/04Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens to unsaturated halogenated hydrocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G43/00Compounds of uranium
    • C01G43/04Halides of uranium
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C17/013Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 六フッ化ウラン1モルに対しエチレン又はハ
ロゲン化エチレン系化合物1〜1.2モルの割合で、8
0〜400℃にて反応させるフッ化エタン系化合物の製
造方法。 【効果】 分子式中、2個の炭素原子全てにフッ素原子
を有するフッ化エタン系有機化合物を高収率で製造し得
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン含有有機化合
物の製造方法に関し、更に詳しくは、オゾン層の破壊を
防止するフッ化エタン系化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】フッ化エタン系化合物の製造には多数の
触媒方式が知られている。地球のオゾン層を破壊するフ
レオンを、オゾン−セーフ代替物質で置き換える計画案
として(Proceedings of All-Union Conference on Ref
rigerating and Ozone-Safe Freons, Leningrad, Ozone
-Safe, 1989 )、五塩化アンチモンを液相における触媒
として用いる接触的フッ化水素化によるフッ化エタン系
化合物の製造方法が提案されている。この方法は130
〜160℃の温度範囲及び6〜8kg/cm2G の圧力下で行
われる。気相においては、このフッ化水素化法は触媒を
用いて150〜350℃の温度範囲で行われる。
【0003】従来のフッ化エタン系化合物の製法は一般
的に塩素原子をフッ素原子で置き換える反応に基づいて
いる。例えば、米国特許第3,235,608号明細書
には、六フッ化ウランにより炭素数1〜12の塩化又は
塩化フッ化炭化水素をフッ素化させる方法が記載されて
いる。このフッ素化方法は70〜600℃の温度範囲
で、流動床において、無機フッ化物触媒として、例え
ば、ナトリウム、カリウム又はカルシウムなどのフッ化
物が用いられる。この方法はフッ化物触媒と過剰量の六
フッ化ウランを必要とするので経済的でない。
【0004】更に、米国特許第3,382,049号明
細書にはトリクロロエチレンを六フッ化ウランでフッ素
化する方法が記載されている。しかしながら、この方法
のフッ素化工程の主目的は四フッ化ウランを得るための
もので、反応器内の六フッ化ウランの量が多すぎると、
生成したHCFC−122a(CHCIF−CCl
2F)が更に反応してCFC−113(CCl2 F−C
ClF2 )となることが示されているが、有機生成物の
組成に関しては詳しい情報が示されていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の問題
点を解消し、地球のオゾン層を保護できるクロロフルオ
ロカーボン代替物質を開発するために、エチレン系化合
物と六フッ化ウランを出発原料として、オゾン層に害の
少ないフッ化エタン系化合物を製造することを目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このため
鋭意研究した結果、六フッ化ウランに対するエチレン又
はハロゲン化エチレンの過剰量を低く調整して反応させ
ることによってフッ化エタン系化合物の製造が容易にで
きることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は六フッ化ウラン1モルに対しエチレン又は
ハロゲン化エチレン系化合物を1〜1.2モルの割合で
反応させることを特徴とするフッ化エタン系化合物の製
造方法である。
【0007】本発明は、次の反応式(I)のように不飽
和エチレン系化合物を六フッ化ウランでフッ素化してフ
ッ化エタン系化合物を製造する。
【0008】
【化1】
【0009】本発明で用いるハロゲン化エチレン系化合
物の具体例としては、トリクロロエチレン(CHCl=
CCl2 )、塩化ビニリデン(CH2 =CCl2 )、塩
化ビニル(CH2 =CHCl)、フッ化ビニリデン(C
2 =CF2 )などが挙げられる。
【0010】安定な有機化合物を、安定した反応で得る
ために、フッ素化反応において六フッ化ウランを不活性
希釈ガスを用いて20〜100容量%の濃度となるよう
に希釈する。不活性希釈ガスの例としては窒素、ネオン
又はアルゴンが挙げられ、また反応系から再循環される
フッ素含有有機ガスなどを希釈剤として用いることもで
きる。
【0011】エチレン又はハロゲン化エチレン系化合物
と六フッ化ウランとのモル比を、六フッ化ウラン1モル
に対しエチレン又はハロゲン化エチレン系化合物を1〜
1.2モルの割合と限定する理由は、六フッ化ウランが
前記上限より過剰に供給されると生成された目的生成物
が過剰の六フッ化ウランとの相互反応により劣化又は分
解される。また六フッ化ウランが前記下限より少なく供
給されるとエチレン又はハロゲン化エチレン系化合物が
無駄に消費され、有機フッ素化生成物の全体的損失を招
くためである。
【0012】エチレン又はハロゲン化エチレン系化合物
は、反応効率を改善し、また所望のフッ素化反応を得る
ために分散された形態で、反応器に供給されることが好
ましい。したがって、エチレン又はハロゲン化エチレン
系化合物と六フッ化ウランとの反応は各成分を反応器内
に噴霧して、互に混合・接触させるようにする。フッ素
化反応は80〜400℃、好ましくは100〜350℃
に加熱し、かつ大気圧より僅か低い圧力、好ましくは−
20mmAqG の圧力の下で行う。本発明によって得たフッ
化エタン系化合物は、その化学式における炭素原子の位
置番号の1と2の両位置にフッ素原子を有する。
【0013】このように得られた化合物の定性及び定量
分析は、ガスクロマトグラフィー法、赤外線(IR法)
分光分析法、H及びF19を用いたNMR法などによって
行うことができる。
【0014】
【実施例】下記の実施例は、本発明を更に詳しく具体的
に説明するもので、本発明を限定するものではない。
【0015】実施例1 フッ素化剤として六フッ化ウランガスを2.0kg/hr
(5.682モル/hr )の流量で、連続的に噴霧ノズル
を通して反応器に供給し、同時に窒素ガスを不活性希釈
ガスとして318.1Nl/hr (14.2モル/hr )の流
量で反応器に供給した。またトリクロロエチレンを別の
噴霧ノズルを通して、六フッ化ウランに対するトリクロ
ロエチレンのモル比を1.08に保持しながら反応器に
供給した。フッ素化反応は次式のように進行した。
【0016】CHCl=CCl2 +UF6 →CHClF
−CCl2 F+UF4(HCFC−122a)
【0017】前記フッ素化反応は温度200℃及び−2
0mmAqG の圧力の下で行った。反応生成物を多孔性ニッ
ケルのフィルターを通して四フッ化ウラン粉末を除き、
通過した気体を液体窒素により冷却したトラップで凝縮
液化させた。分析の結果、有機生成物中、1,2−ジフ
ルオロトリクロロエタンの含量が88.7重量%であ
り、1,1−ジフルオロトリクロロエタンは1重量%以
下であった。
【0018】実施例2 六フッ化ウランに対するトリクロロエチレンのモル比を
1.07に保持した以外は、実施例1と同様に実施し
た。分析の結果、有機生成物中、1,2−ジフルオロト
リクロロエタンの含量が85重量%であり、1,1−ジ
フルオロトリクロロエタンは1重量%以下であった。
【0019】実施例3 六フッ化ウランに対するトリクロロエチレンのモル比を
1.01に保持した以外は、実施例1と同様に実施し
た。分析の結果、有機生成物中、1,2−ジフルオロト
リクロロエタンの含量が81重量%であり、1,1−ジ
フルオロトリクロロエタンは1重量%以下であった。
【0020】実施例4 出発物質として塩化ビニリデンを用い、六フッ化ウラン
に対する塩化ビニリデンのモル比を1.07に保持し、
フッ素化反応を温度50℃及び−20mmAqG の圧力の下
で行った以外は、実施例1と同様に実施した。フッ素化
反応は次式のように進行した。
【0021】CH2 =CCl2 +UF6 →CH2 F−C
Cl2 F+UF(HCFC−132c)
【0022】分析の結果、有機生成物中、1,2−ジフ
ルオロジクロロエタンの含量が65重量%であり、1,
1−ジフルオロジクロロエタンは1重量%以下であっ
た。
【0023】実施例5 出発物質として塩化ビニルを用い、六フッ化ウランに対
する塩化ビニルのモル比を1.06に保持し、フッ素化
反応を温度120℃及び−20mmAqG の圧力の下
で行った以外は、実施例1と同様に実施した。フッ素化
反応は次式のように進行した。
【0024】CH2 =CHCl+UF6 →CH2 F−C
HClF+UF4(HCFC−142a)
【0025】分析の結果、有機生成物中、1,2−ジフ
ルオロクロロエタンの含量が63重量%であり、1,1
−ジフルオロクロロエタンは1重量%以下であった。
【0026】実施例6 出発物質としてエチレンを用い、六フッ化ウランに対す
るエチレンのモル比を1.08に保持し、フッ素化反応
を温度100℃及び−20mmAqG の圧力の下で行った以
外は、実施例1と同様に実施した。フッ素化反応は次式
のように進行した。
【0027】CH2 =CH2 +UF6 →CH2 F−CH
2 F+UF4(HFC−152)
【0028】分析の結果、有機生成物中、1,2−ジフ
ルオロエタンの含量が54重量%であり、1,1−ジフ
ルオロエタンは1重量%以下であった。
【0029】実施例7 出発物質としてフッ化ビニリデンを用い、六フッ化ウラ
ンに対するフッ化ビニリデンのモル比を1.06に保持
し、フッ素化反応を温度350℃及び−20mmAqG の圧
力の下で行った以外は、実施例1と同様に行った。フッ
素化反応は次式のように進行した。
【0030】CH2 =CF2 +UF6 →CH2 F−CF
3 +UF4(HFC−134a)
【0031】分析の結果、有機生成物中、1,1,1,
2−テトラフルオロエタンの含量が47重量%であり、
1,1,2,2−テトラフルオロエタンは1重量%以下
であった。
【0032】
【発明の効果】上記の実施例から明らかなように、本発
明によると、その化学式中、炭素原子の位置番号の1と
2の両位置全てにフッ素原子を有するフッ化エタン系化
合物を高収率で製造することができ、これは今までは不
可能なものであった。本発明の方法は非常に有用な技法
で、得られたフッ化エタン系化合物は他の異性体などよ
り小さい極性を持つため、脂肪、油などに対してより大
きい溶解度を有するのみならず、要すれば四フッ化ウラ
ンを得ることができる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 六フッ化ウラン1モルに対しエチレン又
    はハロゲン化エチレン系化合物を1〜1.2モルの割合
    で反応させることを特徴とするフッ化エタン系化合物の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 六フッ化ウランとエチレン又はハロゲン
    化エチレン系化合物とを80〜400℃にて反応させる
    請求項1の製造方法。
  3. 【請求項3】 六フッ化ウランを不活性ガスにより20
    〜100容量%の濃度にして希釈して反応させる請求項
    1の製造方法。
  4. 【請求項4】 不活性ガスが窒素、ネオン、アルゴン及
    び反応系から再循環されるフッ素含有有機ガスからなる
    群から選択される請求項3の製造方法。
  5. 【請求項5】 ハロゲン化エチレン系化合物がトリクロ
    ロエチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル及びフッ化ビ
    ニリデンからなる群から選択される請求項1の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 六フッ化ウランとエチレン又はハロゲン
    化エチレン系化合物とを気体状態で反応器内に噴霧・混
    合・接触させることにより反応させる請求項1の製造方
    法。
JP5207620A 1992-08-25 1993-08-23 フッ化エタン系化合物の製造方法 Pending JPH06219976A (ja)

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FR (1) FR2695123B1 (ja)
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GB9317591D0 (en) 1993-10-06
ITMI931843A0 (it) 1993-08-24
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