JPH06218232A - 亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法 - Google Patents
亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法Info
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- JPH06218232A JPH06218232A JP5047578A JP4757893A JPH06218232A JP H06218232 A JPH06218232 A JP H06218232A JP 5047578 A JP5047578 A JP 5047578A JP 4757893 A JP4757893 A JP 4757893A JP H06218232 A JPH06218232 A JP H06218232A
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- nitrous oxide
- aqueous solution
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- gas
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Chimneys And Flues (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】還元性ガスの共存下において、ルテニウム(R
u)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、レニウ
ム(Re)、オスミウム(Os)、イリジウム(I
r)、白金(Pt)から選ばれた少なくとも1種以上の
貴金属を担持することを特徴とする触媒を用いる亜酸化
窒素分解方法。 【効果】排ガス中の亜酸化窒素を、低温度においても効
率よく接触分解することが出来る。
u)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、レニウ
ム(Re)、オスミウム(Os)、イリジウム(I
r)、白金(Pt)から選ばれた少なくとも1種以上の
貴金属を担持することを特徴とする触媒を用いる亜酸化
窒素分解方法。 【効果】排ガス中の亜酸化窒素を、低温度においても効
率よく接触分解することが出来る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガス中の窒素酸化
物、とりわけ亜酸化窒素(N2O)の分解除去用触媒に
係わり、詳しくは工場、自動車、ゴミ焼却炉、下水汚泥
焼却炉などの廃棄物処理設備などから排出される排気ガ
ス中に含まれる亜酸化窒素を分解除去する際に用いる好
適な方法に関する。
物、とりわけ亜酸化窒素(N2O)の分解除去用触媒に
係わり、詳しくは工場、自動車、ゴミ焼却炉、下水汚泥
焼却炉などの廃棄物処理設備などから排出される排気ガ
ス中に含まれる亜酸化窒素を分解除去する際に用いる好
適な方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】多種の
排ガス中の窒素酸化物(以下、NOx)は、健康に有害
であり、かつ光化学スモッグや酸性雨の発生原因ともな
りうるため、その排出は厳しく制限されており、その効
果的な除去手段の開発が望まれている。ところで、従来
排出規制が義務づけられている窒素酸化物は主として一
酸化窒素(NO)及び二酸化窒素(NO2)である。
排ガス中の窒素酸化物(以下、NOx)は、健康に有害
であり、かつ光化学スモッグや酸性雨の発生原因ともな
りうるため、その排出は厳しく制限されており、その効
果的な除去手段の開発が望まれている。ところで、従来
排出規制が義務づけられている窒素酸化物は主として一
酸化窒素(NO)及び二酸化窒素(NO2)である。
【0003】これらNOxの除去方法としては、触媒を
用いて排ガス中のNOxを低減する方法が既にいくつか
実用化されている。例えば(イ)ガソリン自動車におけ
る三元触媒法や、(ロ)ボイラー等の大型設備排出源か
らの排ガスについて、アンモニアを用いる選択的接触還
元法が挙げられる。また、最近では(ハ)炭化水素を用
いた排ガス中のNOx除去方法として、銅等の金属を担
持したゼオライト、あるいはアルミナ等の金属酸化物を
触媒として炭化水素の共存下でNOを含むガスと接触さ
せる方法などが提案されるている。ところが、こうした
方法ではいずれも、排ガス中のN2Oの処理は不可能で
はないが十分ではなく、従来これらは、前述した脱硝設
備の後流に未処理のまま排出されてきた。これは、これ
までN2Oに対する法的な規制値がなく、又、JISの
ような公的な測定方法も定められてなかったことなどと
も関連しており、実質的にはこれらの処理は、脱硝の対
象としては黙視されてきたというのが現実であった。
用いて排ガス中のNOxを低減する方法が既にいくつか
実用化されている。例えば(イ)ガソリン自動車におけ
る三元触媒法や、(ロ)ボイラー等の大型設備排出源か
らの排ガスについて、アンモニアを用いる選択的接触還
元法が挙げられる。また、最近では(ハ)炭化水素を用
いた排ガス中のNOx除去方法として、銅等の金属を担
持したゼオライト、あるいはアルミナ等の金属酸化物を
触媒として炭化水素の共存下でNOを含むガスと接触さ
せる方法などが提案されるている。ところが、こうした
方法ではいずれも、排ガス中のN2Oの処理は不可能で
はないが十分ではなく、従来これらは、前述した脱硝設
備の後流に未処理のまま排出されてきた。これは、これ
までN2Oに対する法的な規制値がなく、又、JISの
ような公的な測定方法も定められてなかったことなどと
も関連しており、実質的にはこれらの処理は、脱硝の対
象としては黙視されてきたというのが現実であった。
【0004】ところが、前述した脱硝方法においては、
その運転条件によってN2Oが生成することが認められ
ており、又、最近ではゴミ焼却炉や下水汚泥焼却炉など
からも比較的高濃度のN2Oが生成することも報告され
ている。加えて近年、N2Oは、CO2、フロン、CH
4等とともに、成層圏でのオゾン層の破壊、ないしは温
室効果による温度上昇などもたらす地球規模的汚染物質
として特に注目されてきている。
その運転条件によってN2Oが生成することが認められ
ており、又、最近ではゴミ焼却炉や下水汚泥焼却炉など
からも比較的高濃度のN2Oが生成することも報告され
ている。加えて近年、N2Oは、CO2、フロン、CH
4等とともに、成層圏でのオゾン層の破壊、ないしは温
室効果による温度上昇などもたらす地球規模的汚染物質
として特に注目されてきている。
【0005】こうした事情からN2Oの処理方法、とり
わけその分解触媒についての関心が高まっており、いく
つかの方法が提案されてきた。それらは例えば、ゼオラ
イト系の担体に各種の遷移金属を担持させたものあるい
は又、酸化マグネシウムや酸化亜鉛などの塩基性担体に
各種の遷移金属を担持させたものである。しかしながら
これらはいずれも活性を示す温度が高く、低温では充分
なる性能が得られず、又処理ガス中に水分があるとその
影響を強く受けて失活するなどの弱点を有していた。本
発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その
目的とするところは排ガス中のN2Oを効率よく分解す
ることが出来る好適な方法を提供することにある。
わけその分解触媒についての関心が高まっており、いく
つかの方法が提案されてきた。それらは例えば、ゼオラ
イト系の担体に各種の遷移金属を担持させたものあるい
は又、酸化マグネシウムや酸化亜鉛などの塩基性担体に
各種の遷移金属を担持させたものである。しかしながら
これらはいずれも活性を示す温度が高く、低温では充分
なる性能が得られず、又処理ガス中に水分があるとその
影響を強く受けて失活するなどの弱点を有していた。本
発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その
目的とするところは排ガス中のN2Oを効率よく分解す
ることが出来る好適な方法を提供することにある。
【0006】
【問題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る亜酸化窒素分解方法は、還元性ガスの共
存下において、ルテニウム(Ru)、ロジウム(R
h)、パラジウム(Pd)、レニウム(Re)、オスミ
ウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)から
選ばれた少なくとも1種以上の貴金属を担持させてな
る、又、より好ましくはこれらの方法においてこれらの
貴金属が疎水性担体、あるいはフツ素処理担体に担持さ
れている触媒を用いることを特徴としている。
の本発明に係る亜酸化窒素分解方法は、還元性ガスの共
存下において、ルテニウム(Ru)、ロジウム(R
h)、パラジウム(Pd)、レニウム(Re)、オスミ
ウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)から
選ばれた少なくとも1種以上の貴金属を担持させてな
る、又、より好ましくはこれらの方法においてこれらの
貴金属が疎水性担体、あるいはフツ素処理担体に担持さ
れている触媒を用いることを特徴としている。
【0007】本発明に係る亜酸化窒素分解用触媒は、例
えば次のようにして調製される。すなわち、本発明にお
けるフッ素処理担体とは、種々のフッ素化剤を用いて、
担体を前処理したものであり、これらフッ素化剤として
は、フッ化水素酸、フッ素カリウム、フツ化アンモニウ
ム、酸性フツ化アンモニウム、フッ化テトラアルキルア
ンモニウムなどの水溶液、あるいは又、クロロフルオロ
カーボン(CFC)、ヒドロクロロフルオロカーボン
(HCFC)、ヒドロフルオロカーボン(HFC)など
種々のフロンガスが用いられる。ただ、これらフロンガ
スは、前述したように、成層圏でのオゾン層破壊の原因
物質であるのでその取扱いには十分に注意を要する。す
なわち、CFCは容易にハロゲン化水素と二酸化炭素と
に転化するので、アルカリ水を用いて吸収、除去出来
る。又、未反応のフロンは活性炭などの吸着剤によって
固定化出来るので、これらガスの使用による還元汚染は
回避することが出来る。これらフッ素化剤によって処理
されるべき担体は、種々のゼオライト、シリカ、活性ア
ルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアなど
をあげることが出来る。これら担体は、フッ素化剤が水
溶液であればその一定濃度の水溶液に浸漬し、十分水洗
し乾燥した後、300〜600℃で焼成処理することに
よって得られ、又、フッ素化剤がフロンガスであれば、
通常の常圧気相連続流通方式で処理される。この場合に
は、温度、処理時間、反応剤の種類及び濃度などが適切
な選択されるのはもちろんである。
えば次のようにして調製される。すなわち、本発明にお
けるフッ素処理担体とは、種々のフッ素化剤を用いて、
担体を前処理したものであり、これらフッ素化剤として
は、フッ化水素酸、フッ素カリウム、フツ化アンモニウ
ム、酸性フツ化アンモニウム、フッ化テトラアルキルア
ンモニウムなどの水溶液、あるいは又、クロロフルオロ
カーボン(CFC)、ヒドロクロロフルオロカーボン
(HCFC)、ヒドロフルオロカーボン(HFC)など
種々のフロンガスが用いられる。ただ、これらフロンガ
スは、前述したように、成層圏でのオゾン層破壊の原因
物質であるのでその取扱いには十分に注意を要する。す
なわち、CFCは容易にハロゲン化水素と二酸化炭素と
に転化するので、アルカリ水を用いて吸収、除去出来
る。又、未反応のフロンは活性炭などの吸着剤によって
固定化出来るので、これらガスの使用による還元汚染は
回避することが出来る。これらフッ素化剤によって処理
されるべき担体は、種々のゼオライト、シリカ、活性ア
ルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアなど
をあげることが出来る。これら担体は、フッ素化剤が水
溶液であればその一定濃度の水溶液に浸漬し、十分水洗
し乾燥した後、300〜600℃で焼成処理することに
よって得られ、又、フッ素化剤がフロンガスであれば、
通常の常圧気相連続流通方式で処理される。この場合に
は、温度、処理時間、反応剤の種類及び濃度などが適切
な選択されるのはもちろんである。
【0008】次に、本発明における疎水性担体とは、使
用される温度領域において水分の吸着能を示さないか、
あるいは又、その吸着量が、極めて小さいものである。
この水吸着能は、常温にて水を飽和吸着させた試料のT
G−DTA曲線を解析することなどによって見つもるこ
とが出来るものである。こうした疎水性担体としては富
士デヴィソン化学製の微粉末合成シリカ、SYLOID
978、同308、同255、同じく富士デヴィソン化
学製の球状シリカゲルCARIACT10、同15、同
30、同50及び住友化学製の球状活性アルミナKHD
−24(−46)、同NKHD−24(−46)などを
挙げることが出来る。あるいは又、ソーダ塩などの水溶
性塩やアルコキシドのアルコール溶液を均一に混合した
溶液を中和あるいは加水分解させる方法などによって沈
殿を生成させ、さらにろ過・水洗・リパルブを繰り返し
た後乾燥、焼成することによって、それぞれ、シリカゲ
ル、アルミナあるいは又、シリカ−アルミナなどの微粉
末を調製することも可能である。
用される温度領域において水分の吸着能を示さないか、
あるいは又、その吸着量が、極めて小さいものである。
この水吸着能は、常温にて水を飽和吸着させた試料のT
G−DTA曲線を解析することなどによって見つもるこ
とが出来るものである。こうした疎水性担体としては富
士デヴィソン化学製の微粉末合成シリカ、SYLOID
978、同308、同255、同じく富士デヴィソン化
学製の球状シリカゲルCARIACT10、同15、同
30、同50及び住友化学製の球状活性アルミナKHD
−24(−46)、同NKHD−24(−46)などを
挙げることが出来る。あるいは又、ソーダ塩などの水溶
性塩やアルコキシドのアルコール溶液を均一に混合した
溶液を中和あるいは加水分解させる方法などによって沈
殿を生成させ、さらにろ過・水洗・リパルブを繰り返し
た後乾燥、焼成することによって、それぞれ、シリカゲ
ル、アルミナあるいは又、シリカ−アルミナなどの微粉
末を調製することも可能である。
【0009】本発明に係る触媒は、例えば以下の方法に
より調製することが出来る。前述した各種処理をした担
体を含む担体を、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Ptなどの貴金属の塩化物の水溶液中に一定時間浸
漬させ、貴金属を含浸し、乾燥した後、ヒドラジンで還
元し乾燥後、400℃〜500℃で3なこ5時間焼成す
る。以上のようにして本発明に係る触媒が得られるが、
これら貴金属の好適な担持量は、金属として0.3〜2
wt%である。0.3wt%以下では、これらの効果が
十分に発揮されず、又2wt%を超えてもそれに見合う
だけの向上は得られなかった。これらの貴金属のうちで
より好ましいのはRh、Ru、Irであった。
より調製することが出来る。前述した各種処理をした担
体を含む担体を、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Ptなどの貴金属の塩化物の水溶液中に一定時間浸
漬させ、貴金属を含浸し、乾燥した後、ヒドラジンで還
元し乾燥後、400℃〜500℃で3なこ5時間焼成す
る。以上のようにして本発明に係る触媒が得られるが、
これら貴金属の好適な担持量は、金属として0.3〜2
wt%である。0.3wt%以下では、これらの効果が
十分に発揮されず、又2wt%を超えてもそれに見合う
だけの向上は得られなかった。これらの貴金属のうちで
より好ましいのはRh、Ru、Irであった。
【0010】本発明に係る亜酸化窒素分解用触媒は、従
来公知の成形方法により、ハニカム状球状等の種々の形
状に成形することが出来る。さらに又、担体のみを成形
し、貴金属を成形後に含浸させてもよい。さらに又、別
に成形したセラミックス担体あるいはセラミックファイ
バー製基材、コージェライト製ハニカム等の上に前述し
た触媒粉をウオッシュコートしてもよい。又、成形の際
には、成形助剤、無機繊維、有機バインダー等を適宜配
合してもよい。
来公知の成形方法により、ハニカム状球状等の種々の形
状に成形することが出来る。さらに又、担体のみを成形
し、貴金属を成形後に含浸させてもよい。さらに又、別
に成形したセラミックス担体あるいはセラミックファイ
バー製基材、コージェライト製ハニカム等の上に前述し
た触媒粉をウオッシュコートしてもよい。又、成形の際
には、成形助剤、無機繊維、有機バインダー等を適宜配
合してもよい。
【0011】本発明による触媒を用いる酸化窒素の接触
分解において用いられる還元性ガスとしては、例えば、
気体状のものとして、CO及びメタン、エタン、プロパ
ン、プロピレン、ブチレン等の炭化水素ガス、液体状の
ものとして、ペンタン、ヘキサン、オクタン、ヘブタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の単一成分系の炭
化水素、カソリン、灯油、軽油、重油等の鉱油系炭化水
素等、及びメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等のアルコール類等を用いることが出来る。特
に、本発明によれば、上記したなかでも、CO、アセチ
レン、メチルアセチレン、1−ブチン等の低級アルキ
ン、エチレン、プロピレン、イソブチレン、1−ブテ
ン、2−ブテン等の低級アルケン、ブタジエン、イソプ
レン等の低級ジエン、プロパン、ブタン等の低級アルカ
ン、及びメタノール、エタノール等の低級アルコール類
等が好ましく用いられる。これら還元性ガスは、単独で
用いてもよく、又は必要に応じて二種以上併用してもよ
い。
分解において用いられる還元性ガスとしては、例えば、
気体状のものとして、CO及びメタン、エタン、プロパ
ン、プロピレン、ブチレン等の炭化水素ガス、液体状の
ものとして、ペンタン、ヘキサン、オクタン、ヘブタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の単一成分系の炭
化水素、カソリン、灯油、軽油、重油等の鉱油系炭化水
素等、及びメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等のアルコール類等を用いることが出来る。特
に、本発明によれば、上記したなかでも、CO、アセチ
レン、メチルアセチレン、1−ブチン等の低級アルキ
ン、エチレン、プロピレン、イソブチレン、1−ブテ
ン、2−ブテン等の低級アルケン、ブタジエン、イソプ
レン等の低級ジエン、プロパン、ブタン等の低級アルカ
ン、及びメタノール、エタノール等の低級アルコール類
等が好ましく用いられる。これら還元性ガスは、単独で
用いてもよく、又は必要に応じて二種以上併用してもよ
い。
【0012】上記還元性ガスは、その種類によって異な
るが、通常、亜酸化窒素に対するモル比で、0.1〜2
程度の範囲にて用いられる。還元性ガスの使用量が亜酸
化窒素に対するモル比にて、0.1未満であるときは、
亜酸化窒素に対して十分な分解活性を得ることができ
ず、他方、モル比が2を越えるときは、未反応の還元性
ガスの排出量が多くなるために、亜酸化窒素の接触分解
処理の後に、これを回収するための後処理が必要とな
る。
るが、通常、亜酸化窒素に対するモル比で、0.1〜2
程度の範囲にて用いられる。還元性ガスの使用量が亜酸
化窒素に対するモル比にて、0.1未満であるときは、
亜酸化窒素に対して十分な分解活性を得ることができ
ず、他方、モル比が2を越えるときは、未反応の還元性
ガスの排出量が多くなるために、亜酸化窒素の接触分解
処理の後に、これを回収するための後処理が必要とな
る。
【0013】上記還元性ガスが亜酸化窒素に対して選択
的分解活性を示す温度は、アルキン<CO<アルケン<
芳香族系炭化水素<アルカンの順に高くなる。また、同
系の炭化水素においては、炭素数が大きくなるに従っ
て、その温度は低くなる。本発明による触媒が亜酸化窒
素に対して分解活性を示す最適な温度は、使用する還元
性ガスや触媒種により異なるが、通常、100〜800
℃である。この温度領域においては、空間速度(SV)
500〜100000程度で排ガスを流通させることが
好ましい。本発明において特に好適な温度領域は200
〜400℃である。
的分解活性を示す温度は、アルキン<CO<アルケン<
芳香族系炭化水素<アルカンの順に高くなる。また、同
系の炭化水素においては、炭素数が大きくなるに従っ
て、その温度は低くなる。本発明による触媒が亜酸化窒
素に対して分解活性を示す最適な温度は、使用する還元
性ガスや触媒種により異なるが、通常、100〜800
℃である。この温度領域においては、空間速度(SV)
500〜100000程度で排ガスを流通させることが
好ましい。本発明において特に好適な温度領域は200
〜400℃である。
【0014】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 (I)、触媒の調製 実施例1 粒径が2mm〜4mm、細孔容積0.38ml/g、吸
水率48%の住友化学製の球状活性アルミナNKHD−
24を1mol/lのHF水溶液中に一昼夜浸漬し、十
分に水洗した後120℃で5時間乾燥した。さらに50
0℃で4時間焼成することによってフッ素処理球状アル
ミナ担体を得た。次にこれを、RhCl3水溶液中に浸
漬し、Rhとして0.5wt%となるように含浸した。
余分な水分を吹きとばしした後、100℃で5時間乾燥
した。次に5%のヒドラジン溶液にて気泡が出なくなる
まで浸漬し、還元した。これらを温水で十分水洗し、余
分な水分を吹きとばした後100℃で2時間乾燥、さら
に500℃で4時間焼成してRhを0.5wt%担持し
たフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 (I)、触媒の調製 実施例1 粒径が2mm〜4mm、細孔容積0.38ml/g、吸
水率48%の住友化学製の球状活性アルミナNKHD−
24を1mol/lのHF水溶液中に一昼夜浸漬し、十
分に水洗した後120℃で5時間乾燥した。さらに50
0℃で4時間焼成することによってフッ素処理球状アル
ミナ担体を得た。次にこれを、RhCl3水溶液中に浸
漬し、Rhとして0.5wt%となるように含浸した。
余分な水分を吹きとばしした後、100℃で5時間乾燥
した。次に5%のヒドラジン溶液にて気泡が出なくなる
まで浸漬し、還元した。これらを温水で十分水洗し、余
分な水分を吹きとばした後100℃で2時間乾燥、さら
に500℃で4時間焼成してRhを0.5wt%担持し
たフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
【0015】実施例2 実施例1において、RhCl3水溶液にかえて、RuC
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Ruを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Ruを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【0016】実施例3 実施例1において、RhCl3水溶液にかえて、PdC
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Pdを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Pdを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【0017】実施例4 実施例1において、RhCl3水溶液にかえて、ReC
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Reを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Reを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【0018】実施例5 実施例1において、RhCl3水溶液にかえて、OsC
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Osを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Osを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【0019】実施例6 実施例1において、RhCl3水溶液にかえて、IrC
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Irを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
l3水溶液とする以外は実施例1と同様にして、Irを
0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【0020】実施例7 実施例1において、RhCl3水溶液にかえて、H2P
tCl6水溶液とする以外は実施例1と同様にして、P
tを0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒
を得た。
tCl6水溶液とする以外は実施例1と同様にして、P
tを0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミナ触媒
を得た。
【0021】実施例8 実施例1において、RhCl3水溶液の濃度を2倍とす
る以外は実施例1と同様にして、Rhを1.0wt%担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
る以外は実施例1と同様にして、Rhを1.0wt%担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
【0022】実施例9 実施例1において、RhCl3水溶液の濃度を4倍とす
る以外は実施例1と同様にして、Rhを2.0wt%担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
る以外は実施例1と同様にして、Rhを2.0wt%担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
【0023】実施例10 実施例1において、KHD−24にかえて、粒径が2m
m〜4mm、細孔容積1.05ml/g、吸水率111
%の富士デヴィソン化学製の球状シリカCARIACT
50とする以外は、実施例1と同様にして、Rhを0.
5wt%担持したフッ素処理球状シリカ触媒を得た。
m〜4mm、細孔容積1.05ml/g、吸水率111
%の富士デヴィソン化学製の球状シリカCARIACT
50とする以外は、実施例1と同様にして、Rhを0.
5wt%担持したフッ素処理球状シリカ触媒を得た。
【0024】実施例11 実施例1において、1mol/lのHF水溶液にかえ
て、同じく1mol/lのKF水溶液とする以外は、実
施例1と同様にして、Rhを0.5wt%担持したフッ
素処理球状アルミナ触媒を得た。
て、同じく1mol/lのKF水溶液とする以外は、実
施例1と同様にして、Rhを0.5wt%担持したフッ
素処理球状アルミナ触媒を得た。
【0025】実施例12 実施例10において、1mol/lのHF水溶液にかえ
て、同じく1mol/lのKF水溶液とする以外は、実
施例10と同様にして、Rhを0.5wt%担持したフ
ッ素処理球状シリカ触媒を得た。
て、同じく1mol/lのKF水溶液とする以外は、実
施例10と同様にして、Rhを0.5wt%担持したフ
ッ素処理球状シリカ触媒を得た。
【0026】実施例13 実施例1において用いた球状アルミナKHD−24を、
常圧気相流通反応装置中で、N2ガスを希釈剤として、
CCIF3(CCIF3/N2molar ratio
=1/1)を、温度500℃、流量100cc/min
で30分間フッ素処理をした。以下実施例1と同様にし
て、Rhを0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミ
ナ触媒を得た。
常圧気相流通反応装置中で、N2ガスを希釈剤として、
CCIF3(CCIF3/N2molar ratio
=1/1)を、温度500℃、流量100cc/min
で30分間フッ素処理をした。以下実施例1と同様にし
て、Rhを0.5wt%担持したフッ素処理球状アルミ
ナ触媒を得た。
【0027】実施例14 実施例10において用いた球状シリカCARIACT5
0を、常圧気相流通反応装置中で、N2ガスを希釈剤と
して、CFC(CFC/N2molar ratio=
1/1)を、温度500℃、流量100cc/minで
30分間フッ素処理をした。以下実施例10と同様にし
て、Rhを0.5wt%担持したフッ素処理球状シリカ
触媒を得た。
0を、常圧気相流通反応装置中で、N2ガスを希釈剤と
して、CFC(CFC/N2molar ratio=
1/1)を、温度500℃、流量100cc/minで
30分間フッ素処理をした。以下実施例10と同様にし
て、Rhを0.5wt%担持したフッ素処理球状シリカ
触媒を得た。
【0028】実施例15 粒径が2mm〜4mm、細孔容積0.62ml/g、吸
水率53%の日本化学製球状モルデナイトNM−100
Sを、常圧気相流通反応装置中で、N2ガスを希釈剤と
して、CHClF2(CHClF2/N2 molar
ratio=1/1)を、温度50℃、流量100c
c/minで1時間フッ素処理をした。以下実施例1と
同様にして、Rhを0.5wt%担持したフッ素処理球
状モルデナイト触媒を得た。
水率53%の日本化学製球状モルデナイトNM−100
Sを、常圧気相流通反応装置中で、N2ガスを希釈剤と
して、CHClF2(CHClF2/N2 molar
ratio=1/1)を、温度50℃、流量100c
c/minで1時間フッ素処理をした。以下実施例1と
同様にして、Rhを0.5wt%担持したフッ素処理球
状モルデナイト触媒を得た。
【0029】実施例16 平均粒径2.5μ、比表面積103m2/gの活性二酸
化チタンパウダーの一部をチタニアゾルをバインダーと
して、顆粒機にかけ篩を通して約1mmの顆粒状物とし
た。次にこれらを核として、残りのパウダーを同じくチ
タニアゾルをバインダーとして転動造粒機にかけ、篩を
通して粒径が2mm〜4mmの球状造粒物を得た。これ
らを120℃で5時間乾燥し、さらに500℃で5時間
焼成して球状チタニア担体を得た。次にこれらを常圧気
相流通反応装置中でN2ガスを希釈剤として、CHF3
(CHF3/N2 molar ratio=1/)
を、温度350℃、流量100cc/minで1時間フ
ッ素化処理をした。以下実施例1と同様にして、Rhを
0.5wt%担持したフッ素処理球状チタニア触媒を得
た。
化チタンパウダーの一部をチタニアゾルをバインダーと
して、顆粒機にかけ篩を通して約1mmの顆粒状物とし
た。次にこれらを核として、残りのパウダーを同じくチ
タニアゾルをバインダーとして転動造粒機にかけ、篩を
通して粒径が2mm〜4mmの球状造粒物を得た。これ
らを120℃で5時間乾燥し、さらに500℃で5時間
焼成して球状チタニア担体を得た。次にこれらを常圧気
相流通反応装置中でN2ガスを希釈剤として、CHF3
(CHF3/N2 molar ratio=1/)
を、温度350℃、流量100cc/minで1時間フ
ッ素化処理をした。以下実施例1と同様にして、Rhを
0.5wt%担持したフッ素処理球状チタニア触媒を得
た。
【0030】実施例17 実施例1において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Rhを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Rhを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0031】実施例18 実施例2において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Ruを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Ruを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0032】実施例19 実施例3において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Pdを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Pdを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0033】実施例20 実施例4において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Reを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Reを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0034】実施例21 実施例5において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Osを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Osを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0035】実施例22 実施例6において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Irを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Irを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0036】実施例23 実施例7において、HF水溶液によるフッ素処理をせず
して、Ptを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
して、Ptを0.5wt%担持した球状アルミナ触媒を
得た。
【0037】実施例24 実施例10において、HF水溶液によるフッ素処理をせ
ずして、Rhを0.5wt%担持した球状シリカ触媒を
得た。
ずして、Rhを0.5wt%担持した球状シリカ触媒を
得た。
【0038】実施例25 実施例10において、HF水溶液によるフッ素処理をせ
ず、RhCl3水溶液にかえて、RuCl3水溶液とす
る以外は実施例10と同様にして、Ruを0.5wt%
担持した球状シリカ触媒を得た。
ず、RhCl3水溶液にかえて、RuCl3水溶液とす
る以外は実施例10と同様にして、Ruを0.5wt%
担持した球状シリカ触媒を得た。
【0039】実施例26 実施例10において、HF水溶液によるフッ素処理をせ
ず、RhCl3水溶液にかえて、IrCl4水溶液とす
る以外は実施例10と同様にして、Ir 0.5wt%
担持した球状シリカ触媒を得た。
ず、RhCl3水溶液にかえて、IrCl4水溶液とす
る以外は実施例10と同様にして、Ir 0.5wt%
担持した球状シリカ触媒を得た。
【0040】実施例27 実施例15において、CHClF2によるフッ素処理を
せずして、Rhを0.5wt%担持した球状モルデナイ
ト触媒を得た。
せずして、Rhを0.5wt%担持した球状モルデナイ
ト触媒を得た。
【0041】実施例28 実施例15において、CHClF2によるフッ素処理を
せずして、又、RhCl3水溶液にかえてRuCl3水
溶液とする以外は実施例15と同様にして、Ruを0.
5wt%担持した球状モルデナイト触媒を得た。
せずして、又、RhCl3水溶液にかえてRuCl3水
溶液とする以外は実施例15と同様にして、Ruを0.
5wt%担持した球状モルデナイト触媒を得た。
【0042】実施例29 実施例15において、CHClF2によるフッ素処理を
せず、又、RhCl3水溶液にかえて、IrCl4水溶
液とする以外は実施例15と同様にして、Irを0.5
wt%担持した球状モルデナイト触媒を得た。
せず、又、RhCl3水溶液にかえて、IrCl4水溶
液とする以外は実施例15と同様にして、Irを0.5
wt%担持した球状モルデナイト触媒を得た。
【0043】実施例30 実施例16において、CHF3によるフッ素処理をせす
して、Rhを0.5wt%担持したチタニア触媒を得
た。
して、Rhを0.5wt%担持したチタニア触媒を得
た。
【0044】実施例31 実施例16において、CHF3によるフッ素処理をせ
ず、又、RhCl3水溶液にかえて、RuCl3水溶液
とする以外は実施例16と同様にして、Ruを0.5w
t%担持した球状チタニア触媒を得た。
ず、又、RhCl3水溶液にかえて、RuCl3水溶液
とする以外は実施例16と同様にして、Ruを0.5w
t%担持した球状チタニア触媒を得た。
【0045】実施例32 実施例16において、CHF3によるフッ素処理をせ
ず、又、RhCl3水溶液にかえて、IrCl4水溶液
とする以外は実施例16と同様にして、Irを0.5w
t%担持した球状チタニア触媒を得た。
ず、又、RhCl3水溶液にかえて、IrCl4水溶液
とする以外は実施例16と同様にして、Irを0.5w
t%担持した球状チタニア触媒を得た。
【0046】(II)、評価試験 実施例1〜32で得た触媒について、下記の試験条件に
より、常圧流通式反応装置を用い、還元性ガスの共存及
び非共存下で亜酸化窒素含有ガスの接触分解を行い、亜
酸化窒素のN2への転換率をガスクロマトグラフ法によ
りN2を定量し、測定した。試験条件 、ガス組成 N2O 50ppm 還元ガス 100ppm O2 5% H2O 2% He 残部 還元性ガス;一酸化炭素、エチレン、プロピレン、メタ
ノール 、空間速度 10000Hr1 、反応温度 250℃、350℃、450℃ 結果を表1〜表5に示す。
より、常圧流通式反応装置を用い、還元性ガスの共存及
び非共存下で亜酸化窒素含有ガスの接触分解を行い、亜
酸化窒素のN2への転換率をガスクロマトグラフ法によ
りN2を定量し、測定した。試験条件 、ガス組成 N2O 50ppm 還元ガス 100ppm O2 5% H2O 2% He 残部 還元性ガス;一酸化炭素、エチレン、プロピレン、メタ
ノール 、空間速度 10000Hr1 、反応温度 250℃、350℃、450℃ 結果を表1〜表5に示す。
【0047】
【表1】
【0048】
【表2】
【0049】
【表3】
【0050】
【表4】
【0051】
【表5】
【0052】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法は、排ガス中の亜酸
化窒素を低温度においても効率よく分解処理することが
出来るなど、優れた特有の効果を有する。
る亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法は、排ガス中の亜酸
化窒素を低温度においても効率よく分解処理することが
出来るなど、優れた特有の効果を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 F23J 15/00 ZAB A 7367−3K (72)発明者 中平 健二 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工業 株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】還元性ガスの共存下において、ルテニウム
(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、レ
ニウム(Re)、オスミウム(Os)、イリジウム(I
r)、白金(Pt)から選ばれた少なくとも1種以上の
貴金属を担持することを特徴とする触媒を用いる亜酸化
窒素分解方法。 - 【請求項2】請求項1の範囲において、触媒がフッ素処
理担体に担持されることを特徴とする亜酸化窒素分解方
法。 - 【請求項3】請求項1の範囲において、触媒が疎水性担
体に担持されることを特徴とする亜酸化窒素分解方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5047578A JPH06218232A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5047578A JPH06218232A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06218232A true JPH06218232A (ja) | 1994-08-09 |
Family
ID=12779137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5047578A Pending JPH06218232A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 亜酸化窒素含有排ガスの浄化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06218232A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011083714A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 活性アルミナ触媒及び亜酸化窒素の除去方法 |
JP2014113585A (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Hyundai Motor Company Co Ltd | 窒素酸化物還元反応用担持触媒、その製造方法、及びこれを利用した窒素酸化物の除去方法 |
WO2023021806A1 (ja) | 2021-08-18 | 2023-02-23 | 住友化学株式会社 | 亜酸化窒素の分解方法および亜酸化窒素の分解装置 |
WO2023084825A1 (ja) | 2021-11-15 | 2023-05-19 | 住友化学株式会社 | 亜酸化窒素分解用触媒の再生方法および亜酸化窒素の分解方法 |
WO2023219074A1 (ja) * | 2022-05-12 | 2023-11-16 | 住友化学株式会社 | 触媒、触媒前駆体、触媒の製造方法、触媒充填反応管および亜酸化窒素の分解方法 |
-
1993
- 1993-01-26 JP JP5047578A patent/JPH06218232A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011083714A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 活性アルミナ触媒及び亜酸化窒素の除去方法 |
JP2014113585A (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Hyundai Motor Company Co Ltd | 窒素酸化物還元反応用担持触媒、その製造方法、及びこれを利用した窒素酸化物の除去方法 |
WO2023021806A1 (ja) | 2021-08-18 | 2023-02-23 | 住友化学株式会社 | 亜酸化窒素の分解方法および亜酸化窒素の分解装置 |
KR20240041953A (ko) | 2021-08-18 | 2024-04-01 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 아산화질소의 분해 방법 및 아산화질소의 분해 장치 |
WO2023084825A1 (ja) | 2021-11-15 | 2023-05-19 | 住友化学株式会社 | 亜酸化窒素分解用触媒の再生方法および亜酸化窒素の分解方法 |
WO2023219074A1 (ja) * | 2022-05-12 | 2023-11-16 | 住友化学株式会社 | 触媒、触媒前駆体、触媒の製造方法、触媒充填反応管および亜酸化窒素の分解方法 |
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