JPH06182203A - 亜酸化窒素分解用触媒 - Google Patents
亜酸化窒素分解用触媒Info
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- JPH06182203A JPH06182203A JP4361909A JP36190992A JPH06182203A JP H06182203 A JPH06182203 A JP H06182203A JP 4361909 A JP4361909 A JP 4361909A JP 36190992 A JP36190992 A JP 36190992A JP H06182203 A JPH06182203 A JP H06182203A
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- carrier
- fluorine
- catalyst
- treated
- aqueous solution
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/10—Capture or disposal of greenhouse gases of nitrous oxide (N2O)
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】フッ素処理担体に、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジ
ウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、レニウム（Ｒ
ｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金
（Ｐｔ）から選ばれた少なくとも１種以上の貴金属を担
持した触媒。 【効果】排ガス中の亜酸化窒素を、低温度においても効
率よく接触分解することが出来、かつ水分の影響を受け
にくい。
ウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、レニウム（Ｒ
ｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金
（Ｐｔ）から選ばれた少なくとも１種以上の貴金属を担
持した触媒。 【効果】排ガス中の亜酸化窒素を、低温度においても効
率よく接触分解することが出来、かつ水分の影響を受け
にくい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガス中の窒素酸化
物、とりわけ亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）の分解除去用触媒に
係わり、詳しくは工場、自動車、ゴミ焼却炉、下水汚泥
焼却炉などの廃棄物処理設備などから排出される排気ガ
ス中に含まれる亜酸化窒素を分解除去する際に用いる好
適な窒素酸化物分解用触媒に関する。
物、とりわけ亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）の分解除去用触媒に
係わり、詳しくは工場、自動車、ゴミ焼却炉、下水汚泥
焼却炉などの廃棄物処理設備などから排出される排気ガ
ス中に含まれる亜酸化窒素を分解除去する際に用いる好
適な窒素酸化物分解用触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】多種の
排ガス中の窒素酸化物（以下、ＮＯｘ）は、健康に有害
であり、かつ光化学スモッグや酸性雨の発生原因ともな
りうるため、その排出は厳しく制限されており、その効
果的な除去手段の開発が望まれている。ところで、従来
排出規制が義務づけられている窒素酸化物は主として一
酸化窒素（ＮＯ）及び二酸化窒素（ＮＯ２）である。
排ガス中の窒素酸化物（以下、ＮＯｘ）は、健康に有害
であり、かつ光化学スモッグや酸性雨の発生原因ともな
りうるため、その排出は厳しく制限されており、その効
果的な除去手段の開発が望まれている。ところで、従来
排出規制が義務づけられている窒素酸化物は主として一
酸化窒素（ＮＯ）及び二酸化窒素（ＮＯ２）である。
【０００３】これらＮＯｘの除去方法としては、触媒を
用いて排ガス中のＮＯｘを低減する方法が既にいくつか
実用化されている。例えば（イ）ガソリン自動車におけ
る三元触媒法や、（ロ）ボイラー等の大型設備排出源か
らの排ガスについて、アンモニアを用いる選択的接触還
元法が挙げられる。また、最近では（ハ）炭化水素を用
いた排ガス中のＮＯｘ除去方法として、銅等の金属を担
持したゼオライト、あるいはアルミナ等の金属酸化物を
触媒として炭化水素の共存下でＮＯを含むガスと接触さ
せる方法などが提案されるている。ところが、こうした
方法ではいずれも、排ガス中のＮ２Ｏの処理は不可能で
はないが十分ではなく、従来これらは、前述した脱硝設
備の後流に未処理のまま排出されてきた。これは、これ
までＮ２Ｏに対する法的な規制値がなく、又、ＪＩＳの
ような公的な測定方法も定められてなかったことなどと
も関連しており、実質的にはこれらの処理は、脱硝の対
象としては黙視されてきたというのが現実であった。
用いて排ガス中のＮＯｘを低減する方法が既にいくつか
実用化されている。例えば（イ）ガソリン自動車におけ
る三元触媒法や、（ロ）ボイラー等の大型設備排出源か
らの排ガスについて、アンモニアを用いる選択的接触還
元法が挙げられる。また、最近では（ハ）炭化水素を用
いた排ガス中のＮＯｘ除去方法として、銅等の金属を担
持したゼオライト、あるいはアルミナ等の金属酸化物を
触媒として炭化水素の共存下でＮＯを含むガスと接触さ
せる方法などが提案されるている。ところが、こうした
方法ではいずれも、排ガス中のＮ２Ｏの処理は不可能で
はないが十分ではなく、従来これらは、前述した脱硝設
備の後流に未処理のまま排出されてきた。これは、これ
までＮ２Ｏに対する法的な規制値がなく、又、ＪＩＳの
ような公的な測定方法も定められてなかったことなどと
も関連しており、実質的にはこれらの処理は、脱硝の対
象としては黙視されてきたというのが現実であった。
【０００４】ところが、前述した脱硝方法においては、
その運転条件によってＮ２Ｏが生成することが認められ
ており、又、最近ではゴミ焼却炉や下水汚泥焼却炉など
からも比較的高濃度のＮ２Ｏが生成することも報告され
ている。加えて近年、Ｎ２Ｏは、ＣＯ２、フロン、ＣＨ
４等とともに、成層圏でのオゾン層の破壊、ないしは温
室効果による温度上昇などもたらす地球規模的汚染物質
として特に注目されてきている。
その運転条件によってＮ２Ｏが生成することが認められ
ており、又、最近ではゴミ焼却炉や下水汚泥焼却炉など
からも比較的高濃度のＮ２Ｏが生成することも報告され
ている。加えて近年、Ｎ２Ｏは、ＣＯ２、フロン、ＣＨ
４等とともに、成層圏でのオゾン層の破壊、ないしは温
室効果による温度上昇などもたらす地球規模的汚染物質
として特に注目されてきている。
【０００５】こうした事情からＮ２Ｏの処理方法、とり
わけその分解触媒についての関心が高まっており、いく
つかの方法が提案されてきた。それらは例えば、ゼオラ
イト系の担体に各種の遷移金属を担持させたものあるい
は又、酸化マグネシウムや酸化亜鉛などの塩基性担体に
各種の遷移金属を担持させたものである。しかしながら
これらはいずれも活性を示す温度が高く、低温では充分
なる性能が得られず、又処理ガス中に水分があるとその
影響を強く受けて失活するなどの弱点を有していた。本
発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その
目的とするところは、排ガス中のＮ２Ｏを効率よく分解
することが出来るＮ２Ｏ分解用触媒を提供することにあ
る。
わけその分解触媒についての関心が高まっており、いく
つかの方法が提案されてきた。それらは例えば、ゼオラ
イト系の担体に各種の遷移金属を担持させたものあるい
は又、酸化マグネシウムや酸化亜鉛などの塩基性担体に
各種の遷移金属を担持させたものである。しかしながら
これらはいずれも活性を示す温度が高く、低温では充分
なる性能が得られず、又処理ガス中に水分があるとその
影響を強く受けて失活するなどの弱点を有していた。本
発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その
目的とするところは、排ガス中のＮ２Ｏを効率よく分解
することが出来るＮ２Ｏ分解用触媒を提供することにあ
る。
【０００６】
【問題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る亜酸化窒素分解用触媒は、予めフッ素処
理した担体に、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒ
ｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミ
ウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）から
選ばれた少なくとも１種以上の貴金属を担持させてな
る。
の本発明に係る亜酸化窒素分解用触媒は、予めフッ素処
理した担体に、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒ
ｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミ
ウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）から
選ばれた少なくとも１種以上の貴金属を担持させてな
る。
【０００７】本発明に係る亜酸化窒素分解用触媒は、例
えば次のようにして調製される。すなわち、本発明にお
けるフッ素処理担体とは、種々のフッ素化剤を用いて、
担体を前処理したものであり、これらフッ素化剤として
は、フッ化水素酸、フッ素カリウム、フッ化アンモニウ
ム、酸性フッ化アンモニウム、フッ化テトラアルキルア
ンモニウムなどの水溶液、あるいは又、クロロフルオロ
カーボン（ＣＦＣ）、ヒドロクロロフルオロカーボン
（ＨＣＦＣ）、ヒドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）など
種々のフロンガスが用いられる。ただ、これらフロンガ
スは、前述したように、成層圏でのオゾン層破壊の原因
物質であるのでその取扱いには十分に注意を要する。す
なわち、ＣＦＣは容易にハロゲン化水素と二酸化炭素と
に転化するので、アルカリ水を用いて吸収、除去出来
る。又、未反応のフロンは活性炭などの吸着剤によって
固定化出来るので、これらガスの使用による還元汚染は
回避することが出来る。これらフッ素化剤によって処理
されるべき担体は、種々のゼオライト、シリカ、活性ア
ルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアなど
をあげることが出来る。これら担体は、フッ素化剤が水
溶液であればその一定濃度の水溶液に浸漬し、十分水洗
し乾燥した後、３００〜６００℃で焼成処理することに
よって得られ、又、フッ素化剤がフロンガスであれば、
通常の常圧気相連続流通方式で処理される。この場合に
は、温度、処理時間、反応剤の種類及び濃度などが適切
な選択されるのはもちろんである。
えば次のようにして調製される。すなわち、本発明にお
けるフッ素処理担体とは、種々のフッ素化剤を用いて、
担体を前処理したものであり、これらフッ素化剤として
は、フッ化水素酸、フッ素カリウム、フッ化アンモニウ
ム、酸性フッ化アンモニウム、フッ化テトラアルキルア
ンモニウムなどの水溶液、あるいは又、クロロフルオロ
カーボン（ＣＦＣ）、ヒドロクロロフルオロカーボン
（ＨＣＦＣ）、ヒドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）など
種々のフロンガスが用いられる。ただ、これらフロンガ
スは、前述したように、成層圏でのオゾン層破壊の原因
物質であるのでその取扱いには十分に注意を要する。す
なわち、ＣＦＣは容易にハロゲン化水素と二酸化炭素と
に転化するので、アルカリ水を用いて吸収、除去出来
る。又、未反応のフロンは活性炭などの吸着剤によって
固定化出来るので、これらガスの使用による還元汚染は
回避することが出来る。これらフッ素化剤によって処理
されるべき担体は、種々のゼオライト、シリカ、活性ア
ルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアなど
をあげることが出来る。これら担体は、フッ素化剤が水
溶液であればその一定濃度の水溶液に浸漬し、十分水洗
し乾燥した後、３００〜６００℃で焼成処理することに
よって得られ、又、フッ素化剤がフロンガスであれば、
通常の常圧気相連続流通方式で処理される。この場合に
は、温度、処理時間、反応剤の種類及び濃度などが適切
な選択されるのはもちろんである。
【０００８】本発明に係る触媒は、例えば以下の方法に
より調製することが出来る。前述したフッ素処理担体
を、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔなどの
貴金属の塩化物の水溶液中に一定時間浸漬させ、貴金属
を含浸し、乾燥した後、ヒドラジンで還元し乾燥後、４
００℃〜５００℃で３〜５時間焼成する。以上のように
して本発明に係る触媒が得られるが、これら貴金属の好
適な担持量は、金属として０．３〜２ｗｔ％である。
０．３ｗｔ％以下では、これらの効果が十分に発揮され
ず、又２ｗｔ％を超えてもそれに見合うだけの活性の向
上は得られなかった。これら貴金属のうちでより好まし
いのはＲｈ、Ｒｕ、Ｉｒであった。
より調製することが出来る。前述したフッ素処理担体
を、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔなどの
貴金属の塩化物の水溶液中に一定時間浸漬させ、貴金属
を含浸し、乾燥した後、ヒドラジンで還元し乾燥後、４
００℃〜５００℃で３〜５時間焼成する。以上のように
して本発明に係る触媒が得られるが、これら貴金属の好
適な担持量は、金属として０．３〜２ｗｔ％である。
０．３ｗｔ％以下では、これらの効果が十分に発揮され
ず、又２ｗｔ％を超えてもそれに見合うだけの活性の向
上は得られなかった。これら貴金属のうちでより好まし
いのはＲｈ、Ｒｕ、Ｉｒであった。
【０００９】本発明に係る亜酸化窒素分解用触媒は、従
来公知の成形方法により、ハニカム状球状等の種々の形
状に成形することが出来る。さらに又、前述したフッ素
担体のみを成形し、貴金属を成形後に含浸させてもよ
い。さらに又、別に成形したセラミックス担体あるいは
セラミックファイバー製基材、コージエライト製ハニカ
ム等の上に前述した触媒粉をウォッシュコートしてもよ
い。又、成形の際には、成形助剤、無機繊維、有機バイ
ンダー等を適宜配合してもよい。本発明に係る亜酸化窒
素分解用触媒が、Ｎ２Ｏに対して活性を示す最適な温度
は、触媒種によって異なるが通常２００℃〜６００℃で
あり、この温度領域においては、空間速度（ＳＶ）５０
０〜５０００００程度で排ガスを通流させることが好ま
しい。なお、より好適な使用温度領域は３００℃〜５０
０℃である。
来公知の成形方法により、ハニカム状球状等の種々の形
状に成形することが出来る。さらに又、前述したフッ素
担体のみを成形し、貴金属を成形後に含浸させてもよ
い。さらに又、別に成形したセラミックス担体あるいは
セラミックファイバー製基材、コージエライト製ハニカ
ム等の上に前述した触媒粉をウォッシュコートしてもよ
い。又、成形の際には、成形助剤、無機繊維、有機バイ
ンダー等を適宜配合してもよい。本発明に係る亜酸化窒
素分解用触媒が、Ｎ２Ｏに対して活性を示す最適な温度
は、触媒種によって異なるが通常２００℃〜６００℃で
あり、この温度領域においては、空間速度（ＳＶ）５０
０〜５０００００程度で排ガスを通流させることが好ま
しい。なお、より好適な使用温度領域は３００℃〜５０
０℃である。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 （Ｉ）、触媒の調製 実施例１ 粒径が２ｍｍ〜４ｍｍ、細孔容積０．３８ｍｌ／ｇ、吸
水率４８％の住友化学製の球状活性アルミナＮＫＨＤ−
２４を１ｍｏｌ／ｌのＨＦ水溶液中に一昼夜浸漬し、十
分に水洗した後１２０℃で５時間乾燥した。さらに５０
０℃で４時間焼成することによってフッ素処理球状アル
ミナ担体を得た。次にこれを、ＲｈＣｌ３水溶液中に浸
漬し、Ｒｈとして０．５ｗｔ％となるように含浸した。
余分な水分を吹きとばしした後、１００℃で５時間乾燥
した。次に５％のヒドラジン溶液にて気泡が出なくなる
まで浸漬し、還元した。これらを温水で十分水洗し、余
分な水分を吹きとばした後１００℃で２時間乾燥、さら
に５００℃で４時間焼成してＲｈを０．５ｗｔ％担持し
たフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
に説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるも
のではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変
更して実施することが可能なものである。 （Ｉ）、触媒の調製 実施例１ 粒径が２ｍｍ〜４ｍｍ、細孔容積０．３８ｍｌ／ｇ、吸
水率４８％の住友化学製の球状活性アルミナＮＫＨＤ−
２４を１ｍｏｌ／ｌのＨＦ水溶液中に一昼夜浸漬し、十
分に水洗した後１２０℃で５時間乾燥した。さらに５０
０℃で４時間焼成することによってフッ素処理球状アル
ミナ担体を得た。次にこれを、ＲｈＣｌ３水溶液中に浸
漬し、Ｒｈとして０．５ｗｔ％となるように含浸した。
余分な水分を吹きとばしした後、１００℃で５時間乾燥
した。次に５％のヒドラジン溶液にて気泡が出なくなる
まで浸漬し、還元した。これらを温水で十分水洗し、余
分な水分を吹きとばした後１００℃で２時間乾燥、さら
に５００℃で４時間焼成してＲｈを０．５ｗｔ％担持し
たフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
【００１１】実施例２ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液にかえて、ＲｕＣ
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｒｕを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｒｕを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【００１２】実施例３ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液にかえて、ＰｄＣ
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｐｄを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｐｄを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【００１３】実施例４ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液にかえて、ＲｅＣ
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｒｅを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｒｅを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【００１４】実施例５ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液にかえて、ＯｓＣ
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｏｓを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｏｓを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【００１５】実施例６ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液にかえて、ＩｒＣ
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｉｒを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
ｌ３水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｉｒを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得
た。
【００１６】実施例７ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液にかえて、Ｈ２Ｐ
ｔＣｌ６水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｐ
ｔを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒
を得た。
ｔＣｌ６水溶液とする以外は実施例１と同様にして、Ｐ
ｔを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミナ触媒
を得た。
【００１７】実施例８ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液の濃度を２倍とす
る以外は実施例１と同様にして、Ｒｈを１．０ｗｔ％担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
る以外は実施例１と同様にして、Ｒｈを１．０ｗｔ％担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
【００１８】実施例９ 実施例１において、ＲｈＣｌ３水溶液の濃度を４倍とす
る以外は実施例１と同様にして、Ｒｈを２．０ｗｔ％担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
る以外は実施例１と同様にして、Ｒｈを２．０ｗｔ％担
持したフッ素処理球状アルミナ触媒を得た。
【００１９】実施例１０ 実施例１において、ＫＨＤ−２４にかえて、粒径が２ｍ
ｍ〜４ｍｍ、細孔容積１．０５ｍｌ／ｇ、吸水率１１１
％の富士デヴィソン化学製の球状シリカＣＡＲＩＡＣＴ
５０とする以外は、実施例１と同様にして、Ｒｈを０．
５ｗｔ％担持したフッ素処理球状シリカ触媒を得た。
ｍ〜４ｍｍ、細孔容積１．０５ｍｌ／ｇ、吸水率１１１
％の富士デヴィソン化学製の球状シリカＣＡＲＩＡＣＴ
５０とする以外は、実施例１と同様にして、Ｒｈを０．
５ｗｔ％担持したフッ素処理球状シリカ触媒を得た。
【００２０】実施例１１ 実施例１において、１ｍｏｌ／ｌのＨＦ水溶液にかえ
て、同じく１ｍｏｌ／ｌのＫＦ水溶液とする以外は、実
施例１と同様にして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ
素処理球状アルミナ触媒を得た。
て、同じく１ｍｏｌ／ｌのＫＦ水溶液とする以外は、実
施例１と同様にして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ
素処理球状アルミナ触媒を得た。
【００２１】実施例１２ 実施例１０において、１ｍｏｌ／ｌのＨＦ水溶液にかえ
て、同じく１ｍｏｌ／ｌのＫＦ水溶液とする以外は、実
施例１０と同様にして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフ
ッ素処理球状シリカ触媒を得た。
て、同じく１ｍｏｌ／ｌのＫＦ水溶液とする以外は、実
施例１０と同様にして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフ
ッ素処理球状シリカ触媒を得た。
【００２２】実施例１３ 実施例１において用いた球状アルミナＫＨＤ−２４を、
常圧気相流通反応装置中で、Ｎ２ガスを希釈剤として、
ＣＣＩＦ３（ＣＣＩＦ３／Ｎ２ ｍｏｌａｒｒａｔｉｏ
＝１／１）を、温度５００℃、流量１００ｃｃ／ｍｉｎ
で３０分間フッ素処理をした。以下実施例１と同様にし
て、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミ
ナ触媒を得た。
常圧気相流通反応装置中で、Ｎ２ガスを希釈剤として、
ＣＣＩＦ３（ＣＣＩＦ３／Ｎ２ ｍｏｌａｒｒａｔｉｏ
＝１／１）を、温度５００℃、流量１００ｃｃ／ｍｉｎ
で３０分間フッ素処理をした。以下実施例１と同様にし
て、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状アルミ
ナ触媒を得た。
【００２３】実施例１４ 実施例１０において用いた球状シリカＣＡＲＩＡＣＴ５
０を、常圧気相流通反応装置中で、Ｎ２ガスを希釈剤と
して、ＣＦＣ（ＣＦＣ／Ｎ２ ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ
＝１／１）を、温度５００℃、流量１００ｃｃ／ｍｉｎ
で３０分間フッ素処理をした。以下実施例１０と同様に
して、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状シリ
カ触媒を得た。
０を、常圧気相流通反応装置中で、Ｎ２ガスを希釈剤と
して、ＣＦＣ（ＣＦＣ／Ｎ２ ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ
＝１／１）を、温度５００℃、流量１００ｃｃ／ｍｉｎ
で３０分間フッ素処理をした。以下実施例１０と同様に
して、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状シリ
カ触媒を得た。
【００２４】実施例１５ 粒径が２ｍｍ〜４ｍｍ、細孔容積０．６２ｍｌ／ｇ、吸
水率５３％の日本化学製球状モルデナイトＮＭ−１００
Ｓを、常圧気相流通反応装置中で、Ｎ２ガスを希釈剤と
して、ＣＨＣｌＦ２（ＣＨＣｌＦ２／Ｎ２ ｍｏｌａｒ
ｒａｔｉｏ＝１／１）を、温度５０℃、流量１００ｃ
ｃ／ｍｉｎで１時間フッ素処理をした。以下実施例１と
同様にして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球
状モルデナイト触媒を得た。
水率５３％の日本化学製球状モルデナイトＮＭ−１００
Ｓを、常圧気相流通反応装置中で、Ｎ２ガスを希釈剤と
して、ＣＨＣｌＦ２（ＣＨＣｌＦ２／Ｎ２ ｍｏｌａｒ
ｒａｔｉｏ＝１／１）を、温度５０℃、流量１００ｃ
ｃ／ｍｉｎで１時間フッ素処理をした。以下実施例１と
同様にして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球
状モルデナイト触媒を得た。
【００２５】実施例１６ 平均粒径２．５μ、比表面積１０３ｍ２／ｇの活性二酸
化チタンパウダーの一部をチタニアゾルをバインダーと
して、顆粒機にかけ篩を通して約１ｍｍの顆粒状物とし
た。次にこれらを核として、残りのパウダーを同じくチ
タニアゾルをバインダーとして転動造粒機にかけ、篩を
通して粒径が２ｍｍ〜４ｍｍの球状造粒物を得た。これ
らを１２０℃で５時間乾燥し、さらに５００℃で５時間
焼成して球状チタニア担体を得た。次にこれらを常圧気
相流通反応装置中でＮ２ガスを希釈剤として、ＣＨＦ３
（ＣＨＦ３／Ｎ２ ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ＝１／）
を、温度３５０℃、流量１００ｃｃ／ｍｉｎで１時間フ
ッ素化処理をした。以下実施例１と同様にして、Ｒｈを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状チタニア触媒を得
た。
化チタンパウダーの一部をチタニアゾルをバインダーと
して、顆粒機にかけ篩を通して約１ｍｍの顆粒状物とし
た。次にこれらを核として、残りのパウダーを同じくチ
タニアゾルをバインダーとして転動造粒機にかけ、篩を
通して粒径が２ｍｍ〜４ｍｍの球状造粒物を得た。これ
らを１２０℃で５時間乾燥し、さらに５００℃で５時間
焼成して球状チタニア担体を得た。次にこれらを常圧気
相流通反応装置中でＮ２ガスを希釈剤として、ＣＨＦ３
（ＣＨＦ３／Ｎ２ ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ＝１／）
を、温度３５０℃、流量１００ｃｃ／ｍｉｎで１時間フ
ッ素化処理をした。以下実施例１と同様にして、Ｒｈを
０．５ｗｔ％担持したフッ素処理球状チタニア触媒を得
た。
【００２６】比較例１ 実施例１において、ＨＦ水溶液によるフッ素化処理をせ
ずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状アルミナ触媒
を得た。
ずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状アルミナ触媒
を得た。
【００２７】比較例２ 実施例１０において、ＨＦ水溶液によるフッ素化処理を
せずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状シリカ触媒
を得た。
せずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状シリカ触媒
を得た。
【００２８】比較例３ 実施例１５において、ＣＨＣｌＦ２によるフッ素化処理
をせずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状モルデナ
イト触媒を得た。
をせずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状モルデナ
イト触媒を得た。
【００２９】比較例４ 実施例１６において、ＣＨＦ３によるフッ素化処理をせ
ずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状チタニア触媒
を得た。
ずして、Ｒｈを０．５ｗｔ％担持した球状チタニア触媒
を得た。
【００３０】（ＩＩ）、評価試験 実施例１〜１６、比較例１〜４で得た触媒について、下
記の試験条件により、常圧流通式反応装置を用い、亜酸
化窒素含有ガスの接触分解を行い、亜酸化窒素のＮ２へ
の転換率をガスクロマトグラフ法によりＮ２を定量し
た。試験条件 、ガス組成 Ｎ２Ｏ ５０ｐｐｍ Ｏ２ ５％ Ｈ２Ｏ ２％ Ｈｅ 残部 、空間速度 １００００Ｈｒ１ 、反応温度 ２５０℃、３５０℃、４５０℃、
５５０℃ 結果を表１に示す。
記の試験条件により、常圧流通式反応装置を用い、亜酸
化窒素含有ガスの接触分解を行い、亜酸化窒素のＮ２へ
の転換率をガスクロマトグラフ法によりＮ２を定量し
た。試験条件 、ガス組成 Ｎ２Ｏ ５０ｐｐｍ Ｏ２ ５％ Ｈ２Ｏ ２％ Ｈｅ 残部 、空間速度 １００００Ｈｒ１ 、反応温度 ２５０℃、３５０℃、４５０℃、
５５０℃ 結果を表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る亜酸化窒素分解用触媒は、排ガス中の亜酸化窒素を低
温度においても効率よく接触分解することが出来、又、
排ガスに水分が存在してもその影響は受けにくいなど、
優れた特有の効果を有する。
る亜酸化窒素分解用触媒は、排ガス中の亜酸化窒素を低
温度においても効率よく接触分解することが出来、又、
排ガスに水分が存在してもその影響は受けにくいなど、
優れた特有の効果を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中平 健二 大阪府堺市戎島町５丁１番地 堺化学工業 株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】フッ素処理担体に、ルテニウム（Ｒｕ）、
ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、レニウム（Ｒ
ｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金
（Ｐｔ）から選ばれた少なくとも１種以上の貴金属を担
持することを特徴とする亜酸化窒素分解用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4361909A JPH06182203A (ja) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | 亜酸化窒素分解用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4361909A JPH06182203A (ja) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | 亜酸化窒素分解用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06182203A true JPH06182203A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=18475261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4361909A Pending JPH06182203A (ja) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | 亜酸化窒素分解用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06182203A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000064862A3 (en) * | 1999-04-28 | 2001-02-15 | Du Pont | Process for hydrogenating dinitriles in aminonitriles |
| US6258745B1 (en) | 1999-04-28 | 2001-07-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aminonitrile production |
| US6680403B1 (en) | 1999-11-30 | 2004-01-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for hydrogenating dinitriles in aminonitriles |
| US6841507B2 (en) | 1999-11-30 | 2005-01-11 | Invista North America S.A.R.L. | Aminonitrile production |
| EP1586365A2 (de) | 2004-03-11 | 2005-10-19 | W.C. Heraeus GmbH | Katalysator zur Zersetzung von Distickstoffmonoxid (N2O) beim Ostwaldprozess |
| US7976804B2 (en) | 2004-03-11 | 2011-07-12 | W.C. Heraeus Gmbh | Method for the decomposition of N2O in the Ostwald process |
| JP2014113585A (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Hyundai Motor Company Co Ltd | 窒素酸化物還元反応用担持触媒、その製造方法、及びこれを利用した窒素酸化物の除去方法 |
-
1992
- 1992-12-22 JP JP4361909A patent/JPH06182203A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000064862A3 (en) * | 1999-04-28 | 2001-02-15 | Du Pont | Process for hydrogenating dinitriles in aminonitriles |
| US6258745B1 (en) | 1999-04-28 | 2001-07-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aminonitrile production |
| US6680403B1 (en) | 1999-11-30 | 2004-01-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for hydrogenating dinitriles in aminonitriles |
| US6841507B2 (en) | 1999-11-30 | 2005-01-11 | Invista North America S.A.R.L. | Aminonitrile production |
| EP1586365A2 (de) | 2004-03-11 | 2005-10-19 | W.C. Heraeus GmbH | Katalysator zur Zersetzung von Distickstoffmonoxid (N2O) beim Ostwaldprozess |
| EP1586365A3 (de) * | 2004-03-11 | 2006-12-27 | W.C. Heraeus GmbH | Katalysator zur Zersetzung von Distickstoffmonoxid (N2O) beim Ostwaldprozess |
| US7976804B2 (en) | 2004-03-11 | 2011-07-12 | W.C. Heraeus Gmbh | Method for the decomposition of N2O in the Ostwald process |
| JP2014113585A (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Hyundai Motor Company Co Ltd | 窒素酸化物還元反応用担持触媒、その製造方法、及びこれを利用した窒素酸化物の除去方法 |
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