JPH06213621A - 光導波体の位置を測定する方法およびスプライス法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 ２つの互いに位置合わせされるべき群におけ
る光導波体の局所的な強度分布を、したがって光導波体
の局所位置状態を、一層簡単にかつ一層確実に測定でき
る構成を提供する。 【構成】 光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊が長方形の帯線
ＢＬ１の中に実質的に互いに平行に機械的に固定されて
いる。外側のスリーブＢＨ１の中に埋め込まれている光
導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊は、片側が破線で示されてい
る。群１の光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４も長方形の帯線ＢＬ
２の中に実質的に互いに平行に機械的に固定されてい
る。帯線ＢＬ１およびＢＬ２の位置合わせのための所定
の初期状態を保証する目的で、帯線ＢＬ１が保持装置Ｈ
Ｌ１の中に、ならびに帯線ＢＬ２が保持装置ＨＬ２の中
に、取り付けられている。保持装置ＨＬ１とＨＬ２は共
通の基板ＧＰの上に配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、２つの互いに位置合わ
せされるべき群における光導波体の位置の測定法および
装置に関する。この場合、１つの群の少なくとも１つの
光導波体の中へ光が入力結合される。

【０００２】

【従来技術】この種の方法はドイツ連邦共和国特許第３
９００４０６Ａ１号公報に示されている。帯状ファイバ
ーケーブルの対におけるガラスファイバーの位置合わせ
状態の検査の目的で、反射鏡が、帯線の対のガラスファ
イバーに隣り合って設けられている。照明光がガラスフ
ァイバーの中へ、ガラスファイバーにより形成される面
の法線とは異なる平面において導びかれる。一方では、
鏡により反射されて次にガラスファイバー中を案内され
る照射光により生ずる像が観測される。ガラスファイバ
ーの中を案内されて次に鏡により反射される照射光によ
り形成される像も観測される。

【０００３】この公知の方法の場合の前提は、ガラスフ
ァイバーが、対向し合う帯線においてそれぞれ個々に取
り出されていることである。そのため帯線を囲み、帯線
をまとめて保持する材料は除去されて、これによりガラ
スファイバーが自由に可動になる。このことは、ガラス
ファイバーを外部から側面で照射してその輪郭を個々に
別個に光学的に結像可能にする目的で、ガラスファイバ
ーの位置合わせ状態の観測のために必要とされる。その
ためこの公知の測定法は、間接的な手法で露出されたガ
ラスファイバーの局所分布に関する情報と推定を与え
る。他方、それぞれ光導波体の心の中に導びかれる光の
実際の局所的強度分布は、技術的に手を入れて操作する
ためには複雑な構成が必要とされる。両方の帯線中の実
際の光強度状態に関する情報は、この公知の方法では著
しい制限の下でしか得られない。これにより、例えばス
プライス目的のための帯線の位置合わせが著しく不正確
になる。

【０００４】

【発明の解決すべき課題】本発明の課題は、２つの互い
に位置合わせされるべき群における光導波体の局所的な
強度分布を、したがって光導波体の局所位置状態を、一
層簡単にかつ一層確実に測定できる構成を提供すること
である。

【０００５】

【課題を解決すべき手段】この課題は本発明により、冒
頭に述べた方法において、次のようにして解決されてい
る。即ち、両方の群のうちの第１の群を第２の群に対し
て、光導波体の長手軸線を横切る方向の少なくとも１つ
の平面において、少なくとも１回変位させ、該変位過程
中に第２の群の少なくとも１つの光導波体から光を連続
的に第１の群の少なくとも１つの光導波体の中へ入力結
合し、第１の群の中に入力結合された光の強度分布の時
間経過を測定し、該時間経過から光導波体の局所的強度
分布を、評価の目的で保持する。

【０００６】本発明は、特に次の点で特徴づけられてい
る、即ち光導波体の両方の群の簡単な相互間の相対運動
により、両方の群における光導波体の局所的な強度分布
が、それぞれ個々に即ち各々の光導波体に対して選択的
に直接、測定可能となる。光導波体の群毎の局所的強度
分布から、光導波体の実際の局所位置が即ちそれらの相
互間の位置が、高い解像度で個々に測定可能となる。簡
単な変位運動が複雑な構成なく実施できる。さらに光導
波体用の大抵の測定装置においては、例えばスプライス
装置または結合時の減衰測定装置においては、光導波体
を変位させるための支持装置またはステーションエレメ
ントが、いずれにしても既に設けられている。そのため
本発明の方法を実施するための付加的な機械的な構成は
何ら必要とされない。同時に、両方の群の相互の簡単な
変位運動は、光導波体の両方の群の相対位置の像を互い
に著しく迅速に測定できる利点を与える。

【０００７】本発明の構成によれば、群の光導波体は互
いに例えば帯線の外側スリーブの中で機械的に互いに接
続されている。この種の機械的に固定された束における
光導波体の相対的な局所的分布ないし位置は、光導波体
を取り出しないし露出することなく確実に求めることが
できる。その理由は、その都度に光導波体中を案内され
る光出力の成分が直接、個々に測定できるからである。
即ち案内される光出力に比例する値を求めることができ
る。それぞれ実際に案内される光出力（ミリワット）を
知ることは、測定および評価のために必要とされない。

【０００８】本発明の構成によれば、第１の測定過程に
おいて第１の群における光導波体の局所的強度分布が求
められ、続いて第２の測定過程において第２の群におけ
る光導波体の局所的強度分布が求められる。この目的で
局所的に測定されるべき、第１の群の光導波体からの光
が、まず、第２の群の少なくとも１つの観測用―ないし
測定用光導波体の中へ入力結合され、次に第２の群の少
なくとも１つの光導波体からの光が、第１の群の少なく
とも１つの観測用―ないし測定用光導波体の中へ入力結
合される。第１のないし第２の群のための観測用光導波
体は好適に、それぞれ測定されるべき光導波体に対して
相対的に、光導波体の長手軸線を横切る方向の少なくと
も１つの平面において運動される。観測用光導波体は例
えば、対向するその都度にちょうど検査はされない群の
１つの選択された光導波体か、または固有に設けられる
べき測定用光導波体とすることができる。両方の群の光
導波体の両方の検出された全体強度分布は有利に互いに
相関化できる。その結果、両方の群の間の最大の一致の
場所が即ち親和性の場所が求められる。両方の群の間の
最適の位置合わせの即ち最適な位置合わせ状態のこの場
所は、次に例えば２つの帯線の溶接の目的で処理され
る。この溶接の場合、相応の光導波体対の個々の位置合
わせは行なえない。

【０００９】本発明の構成によれば第１の群の光導波体
が、第２の群の光導波体の長手軸線を横切る方向の少な
くとも１つの平面において、少なくとも１回、互いに相
対的に変位される。第２の群の光導波体から第１の群の
光導波体へ（またはその逆に）過結合された光の強度分
布の時間経過から有利に、第２の群の光導波体に対す
る、第１の群の光導波体の相対位置を直接求めることが
できる。

【００１０】好適に第２の群に対する第１の群の変位運
動は、次の位置からスタートされる。即ち各々の対応す
る光導波体対に対してその都度に、個別強度分布ないし
個別出力レベルまたは結合作用度に対する最大値がまだ
上回わる位置から、スタートされる。この目的で例えば
第１の群を第２の群に対して、これらがもはや対向しな
くなるまで、走行される。有利に第１の群を第２の群に
対して例えば往復運動させることも、即ち一種の振動運
動（“ジッタ”運動）も実施できる。この“ジッタ”運
動は、高い速度で、両方の群の著しく小さい変位運動し
か測定検出のために必要とされない利点を有する。例え
ばこのジッタ運動の場合、第１の群は第２の群に対し
て、最も不良に位置合わせされた光導波体のほぼ最大残
留ずれだけ、往復運動される。この処理が簡単に、著し
く迅速なかつ精確な、光導波体の両方の群の相互間の相
対的な位置測定を可能にする。

【００１１】有利に、次のような全体強度分布がないし
全体出力分布または全体結合作用度分布が、変位運動中
にないし“ジッタ”運動中に記録される。即ち全部の対
応する光導波体対が共通に、測定された全体強度分布の
時間経過において同時にその最大の個々の個別強度分布
ないし出力レベルを場合の前記の分布が記録される。所
属の変位個所が好適に、最適の位置合わせ状態を即ち、
両方の互いに位置合わせされるべき群の間の最大の“親
和性”の場所を測定する。

【００１２】本発明によれば、変位運動ないしジッタ運
動を用いて求められた最適の位置合わせ状態に対して、
両方の互いに接続されるべき、光導波体の群の間のスプ
ライス接続が実施できる。このことは多ファイバー接続
の場合に例えば２つの互いに溶接されるべき帯線の場合
に、次の時に限り役割を果す。即ち２つのそれぞれ機械
的に固定された、光導波体の群の場合に、個々の心合わ
せされる、即ち第１のおよび第２の群の２つの対応する
光導波体の心の理想的な位置合わせが可能でない時に限
り、役割を果す。有利に次に最適の位置合わせ状態にお
いて即ち最大の親和性の場所に、スプライス接続が例え
ば相応の光導波体のないし光導波体組み合わせの溶接
が、多重スプライス装置において実施される。このこと
は有利に、第１のおよび第２の群のそれぞれ２つの相応
の光導波体の間の十分良好なスプライス接続を、同時に
コストおよび個別スプライス接続当りの製造時間の低減
の下で、可能にする。

【００１３】さらに本発明は、光導波体の第１のおよび
第２の群のスプライス法であって、この場合、一方の群
の光導波体の少なくとも１つの中へ光を入力結合する方
法を対象とし、この方法は次の構成により特徴づけられ
る。即ち第１の群の光導波体の、第２の群の光導波体と
のスプライスを、光の時間的強度分布を用いて制御し、
光を、溶接中に第２の群の少なくとも１つの光導波体か
ら第１群の少なくとも１つの光導波体へ過結合する。

【００１４】例えば溶接の際のスプライス過程の制御の
目的で、特に好適に下記のように処理される：観測用光
導波体の中でないし第２の群の光導波体の中で案内され
る光の局所的全体強度の経過から簡単に、最適の見込み
位置における最大の半径方向のずれを有する対応の光導
波体対が識別される。この光導波体組み合わせに、全体
強度分布ないし全体出力レベルにおける最小の相対的出
力レベルが一義的に配属されている。この場合、最小の
相対出力レベルは、位置合わせされた状態において測定
された最大の絶対出力に関して、最小の絶対出力レベル
である。最小の出力レベルの絶対値を測定することは、
困難の下でのみ可能である（さらに評価のために必要と
されない）。何故ならば受信されたレベルは、送信器の
および受信器の入力―および出力結合作用度に依存する
からである（例えば測定されるべき光導波体の異なる色
伝送にもとづいて）。その所属の個別強度分布ないし出
力レベルは好適に、第１および第２の群の全部の残りの
対応の光導波体組み合わせのためのスプライス過程の例
えば溶接過程の制御の目的で使用できる。このようにし
て有利に、最も不良に位置合わせされた光導波体に対し
てなお十分なスプライス結果が、したがって全部の残り
の対応の光導波体対に対しても同時に保証される。この
利点は次の時もなお十分に達せられる。即ち本発明によ
り実施例される相対運動とは異なる方法を用いてならび
にこの場合に現われる、両方の群の間の光過結合の得ら
れる、何らかの位置合わせ位置において、両方の互いに
位置合わせされるべきおよび場合により互いに接続され
るべき群が対向する時も、達せられる。例えば両方の群
の適切な位置合わせ状態はビデオカメラによっても求め
られる。

【００１５】さらに本発明は、２つの互いにスプライス
されるべき群の減衰の測定法であって、この場合、１つ
の群の光導波体の少なくとも１つの中に光を入力結合す
る形式の、例えば減衰の測定法を対象とし、次の構成に
より特徴づけられる。第１の測定ステップにおいては、
変位運動中に時間的に相次いでそれぞれ２つの互いに配
属された光導波体を互いに心合わせして位置合わせし、
この理想的な位置合わせ状態においてそれぞれそれらの
所属の強度分布を選択的に測定して保持し、次に第２の
測定ステップにおいては光導波体の第１のおよび第２の
群に対して最適の位置合わせ状態を溶接過程中に求めて
次のように処理し、即ちこの最適の位置合わせ状態にお
いてそれぞれ２つの対応する光導波体に対して、それら
の所属の強度分布を測定して保持し、次に第３の測定ス
テップにおいては両方の群を求められた最適の位置合わ
せ状態へ移し、この状態でそれらの対応する光導波体を
互いに溶接し、最後にスプライス過程の後に、それぞれ
２つの互いに接続された光導波体に対して、それらの所
属の強度分布を求めて保持し、前記の３つの測定ステッ
プにおいて得られた強度分布から、それぞれ２つの互い
に接続された光導波体に対して、それらのスプライス減
衰を選択的に測定する。

【００１６】両方の群の光導波体の接続後に光学的伝送
性量の、例えば２つの帯線の光導波体の溶接時のスプラ
イス減衰のできるだけ正確な測定の目的で、全体的に観
測されて次の３つの独立の測定ステップが詳細に実施さ
れる。

【００１７】第１の測定ステップにおいては、両方のま
だ接続されていないかつ位置合わせされていない群ない
し帯線は、各々の対応の光導波体対のための個々の理想
的な心合わせがそれぞれ形成される（しかも複数のない
し全部の位置合わせされるべき光導波体に対して、時間
的に相次いでまたは同時にも）ように、互いに変位され
る。理想的な位置合わせの個所における出力レベルは、
各々の光導波体組み合わせに対して、その都度に個々に
記録される。

【００１８】第２の測定ステップにおいて両方の帯線
が、両方の群の間の相対変位運動ないしジッタ運動中に
全体強度分布の時間経過から測定できる最適の位置合わ
せ状態において処理される。最適な位置合わせ状態にお
いて同じく、対応する光導波体組み合わせのための出力
レベルが選択的に保持される。

【００１９】第３の測定ステップにおいて、対応する光
導波体対が最終的に最適の位置合わせ状態において互い
にスプライスされ、例えば溶接され、この場合も光導波
体組み合わせのための所属の出力レベルが保持される。

【００２０】これらの３つの出力レベルから、必要に応
じて、それぞれ２つの対応の光導波体の間の空隙伝送特
性量の考慮の下に、各々の互いに接続された光導波体対
の実際の個々の光学的伝送特性量が例えばスプライス減
衰が、選択的に高い精度で算出される。

【００２１】この３つの測定ステップの実施は、光導波
体の位置を求めるための本発明の方法に結びつくのでは
なく、光導波体の位置測定のための別の方法および装置
（例えばビデオ撮影法）と組み合わせても有利に実施で
きる。

【００２２】本発明は、２つの互いに位置合わせされる
べき群における光導波体の位置の測定装置であって、こ
の場合、１つの群の少なくとも１つの光導波体の中へ光
が入力結合される形式の前記の測定装置も対象とする。
この装置は次の構成により特徴づけられる。即ち第１の
群の光導波体を有する第１の支持装置が、第２の群の光
導波体を有する第２の支持装置に対して相対的に、光導
波体の長手軸線を横切る方向の少なくとも１つの平面に
おいて変位可能に設けられており、第２の群の少なくと
も１つの光導波体から第１の群の少なくとも１つの光導
波体へ過結合される光の強度分布の時間経過を検出する
ための受信装置が設けられており、さらにメモリ装置が
設けられており、該メモリは前記の時間経過から、光導
波体の局所的強度分布を測定して評価のために保持す
る。

【００２３】

【実施例】次に本発明の実施例を図面を用いて説明する 図１の右の部分に例えば４つの光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ
４＊を有する第１の群Ｇ１＊が示されている。左の部分
には例えば同じく４つの光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４を有す
る第２の群Ｇ１が示されている。これらの両方の群Ｇ１
＊およびＧ１は互いに位置合わせされており、または必
要に応じて互いに接続されており例えば互いに溶接され
ている。群Ｇ１＊ないしＧ１において光導波体ＬＷ１＊
〜ＬＷ４＊ないしＬＷ１〜ＬＷ４はばらばらに例えば構
造化されずに配置できる。しかし有利には互いに帯線の
形式で、これらを固定的に囲むスリーブにより機械的に
結合することもできる。図１において光導波体ＬＷ１＊
〜ＬＷ４＊が例えば長方形の帯線ＢＬ１の中に実質的に
互いに平行に機械的に固定されている。外側のスリーブ
ＢＨ１の中に埋め込まれている光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ
４＊は、片側が破線で示されている。群１の光導波体Ｌ
Ｗ１〜ＬＷ４も例えば長方形の帯線ＢＬ２の中に実質的
に互いに平行に機械的に固定されている。それらの外側
スリーブＢＨ２は図１の左の部分に示されている。帯線
ＢＬ１およびＢＬ２の位置合わせのための所定の初期状
態を保証する目的で、帯線ＢＬ１が保持装置ＨＬ１の中
に、ならびに帯線ＢＬ２が保持装置ＨＬ２の中に、取り
付けられている。保持装置ＨＬ１とＨＬ２は共通の基板
ＧＰの上に配置されている。例えば両方の、互いに位置
合わせされるべき帯線ＢＬ１およびＢＬ２は、後続のス
プライス（例えば溶接過程）のために、それらの対向す
る端部の領域においてそれぞれそれらの外部のスリーブ
ＢＨ１ないしＢＨ２から解放されている。この場合、露
出された光導波体の位置保証の目的で、光導波体ＬＷ１
＊〜ＬＷ４＊の自由に動く端部を、長手方向に延在す
る、案内手段の例えば実質的に長方形のプレートのＶ字
形の案内溝の中に収容すると好適である。同じくとり出
されて解放された光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４は、案内手段
の実質的にＶ状の案内溝Ｎ１〜Ｎ４―これらは光導波体
の長手軸に実質的に平行に延在する―の中に収容され
る。この案内手段も実質的に長方形のプレートから形成
されている。この場合、案内溝Ｎ１＊〜Ｎ＊は好適に、
収容されるべき光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊のないしＬ
Ｗ１〜ＬＷ４の幅に実質的に相応する断面の幅を有す
る。両方の案内部材の案内溝Ｎ１＊〜Ｎ４＊ないしＮ１
〜Ｎ４は好適に等間隔の距離を有する。その目的は、近
似的に互いに平行に設けられる光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ
４＊ないしＬＷ１〜ＬＷ４が、それぞれ所定の位置確保
された初期状態へ移されるためである。案内手段は有利
にそれぞれ支持装置ＨＬ１ないしＨＬ２の側で、両方の
互いに位置合わせされるべき群Ｇ１＊およびＧ１の上で
それらの位置合わせ個所において対向する。

【００２４】両方の群Ｇ１＊およびＧ１を最適に互いに
位置合わせ可能にする目的で、群Ｇ１＊ないしＧ１の内
部でそれぞれそれらの所属の光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４
＊のないしＬＷ１〜ＬＷ４の局所的な強度分布が、でき
るだけ高い局所分解能で定められる。これらの強度分布
から最大の一致の位置が、即ち最大の“親和性”の個所
を、両方の群Ｇ１＊とＧ１との間で求めることができ
る。各々の群の内部での光導波体のそれぞれの局所的な
位置分分は、後続の２つの互いに独立に実施されるべき
測定ステップを用いて実施される。この場合、両方の測
定ステップの順序は何の役割も果さない。

【００２５】第１の測定ステップ 第１の測定ステップ。

【００２６】第１の測定ステップにおいて、群Ｇ１にお
ける光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の局所的な強度分布が求め
られて検査される。この場合、詳細には、送信装置ＳＥ
１が帯線ＢＬ２の全部の光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４へ結合
されるようにして、行なわれる。送信装置ＳＥ１は図１
の左の部分に示されている。この送信装置ＳＥ１は次の
ように構成されている。即ち光学的測定信号Ｐ１〜Ｐ４
が光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の中へ位置合わせ個所の方向
へ、しかも有利にはたわみ結合器を用いて入力結合され
る。たわみ結合器は図１の右側にＢＫ１で示されてい
る。図１において測定信号Ｐ１〜Ｐ４は記号でそれぞれ
矢印で示されている。図１の実施例において、測定信号
Ｐ１〜Ｐ４が同一である、即ち等しい大きさであること
が、前提とされている。

【００２７】光測定信号Ｐ１〜Ｐ４は４つの光導波体Ｌ
Ｗ１〜ＬＷ４の中を位置合わせ個所の中を走行する。こ
こで光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の開口端部からそれらの所
属の放射電磁界ＳＦ１〜ＳＦ４が選択的に現われる。光
導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の局所的な全体の強度分布が、次
のようにして測定できる。即ち少なくとも１つの観測光
導波体が少なくとも１つの平面において、、光導波体Ｌ
Ｗ１〜ＬＷ４の長手軸を横切るように、これらに相対的
に通過される。図１において、観測光導波体として、帯
線ＢＬ２と溶接されるべき帯線ＢＬ１の光導波体ＬＷ１
＊が選択される。これにより固有の設けられるべき観測
光導波体の付加的な収容が省略される。そのため一定の
時間変化のない測定状態が実質的に保証できる。もちろ
ん、所定の測定導体をまたは測定帯線を、測定に対して
特別に設けることもできる。観測光導波体ＬＷ１＊の相
対運動の間中に放射電磁界ＳＦ１〜ＳＦ４が連続的に相
次いで観測光導波体ＬＷ１＊の中へ入力結合される。Ｌ
Ｗ１＊は光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の強度分布を検出して
評価装置へ伝送する。即ち観測光導波体ＬＷ１＊は、検
査されるべき測定物体に沿って通過される撮影カメラの
ように作用する。群１の光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４に対す
る測定光導波体ＬＷ１＊の相対運動は、複数個の形式で
実施できる。例えば群Ｇ１は支持装置ＨＬ２において固
定的に配置可能であり、他方、観測光導波体ＬＷ１＊は
支持装置ＨＬ１を用いて群Ｇ１を通過される。しかし反
対に、観測光導波体ＬＷ１＊も固定的に配置可能であ
り、他方、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４を有する群Ｇ１は支
持装置ＨＬ２の中で変位される。群Ｇ１を支持装置ＨＬ
２を用いて、さらに同時に観測光導波体ＬＷ１＊を支持
装置ＨＬ１を用いて、互いに変位させることもできる。
有利に変位過程はそれぞれ一定の相対測度で行なわれ
る。そのため、観測光導波体ＬＷ１＊の中へ入力結合さ
れた光の強度分布の時間経過は直接、群Ｇ１における光
導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の局所的強度分布に相応する。好
適に観測光導波体ＬＷ１＊の第１の方向における変位運
動を、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の軸が存在する面と同じ
面において、少なくとも１回は実施する。続いて第２の
変位運動が、第１の観測平面にγの角度の方向へ少なく
とも１回は行なえる。観測光導波体ＬＷ１＊への放射電
磁界ＳＦ１〜ＳＦ４の入力結合された光の強度分布の時
間経過は、破線で囲まれた入力装置ＥＭ１の中で検出さ
れる。このことは図１の右の部分に示されている。受信
装置ＥＭ１はたわみ結合器ＢＫ１を有し、その案内溝Ｆ
Ｎ１は有利に、たわみ結合器ＢＫ１における帯線ＢＬ１
が変位しないように保持される幅に構成されている。測
定光導波体ＬＷ１＊における強度分布の時間経過は例え
ば有利にフォトダイオードＰＤ１を用いて測定できる。
この目的でフォトダイオードＰＤ１がたわみ結合器ＢＫ
１の受信領域において次のように配置されさらに位置合
わせされている。即ちその受信特性が、光導波体ＬＷ１
＊のわん曲に沿って現われる受信放射電磁界ＥＦ１がで
きるだけ完全にに検出されるように、されている。フォ
トダイオードＰＤ１が、出力結合された受信放射電磁界
ＥＦ１の光エネルギを、即ち光導波体ＬＷ１＊の中を案
内される強度分布の時間経過を、電気測定信号ＰＭへ変
換する。この測定信号ＰＭは破線ＤＬ１を介して測定値
メモリＭＥＭ１へ導びかれてこの中に保持される即ち記
憶される。

【００２８】第２ステップ 帯線ＢＬ１における群Ｇ１＊の光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ
４＊の局所的強度分布は、第１の測定ステップの手順と
同様に得られる。この目的で送信器ＳＥ１が、図１の左
部分における帯線ＢＬ１の全部の光導波体ＬＷ１＊〜Ｌ
Ｗ４＊に結合されている。この場合、同一の測定信号Ｐ
１＊〜Ｐ４＊は位置合わせ個所への方向へ、測定される
べき４つの光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の中へ選択的に
供給される。他方、受信器ＥＭ１は図１の左部分におけ
る帯線ＢＬ２へ結合される。即ち第２の測定法は、送信
装置ＳＥ１および受信装置ＥＭ１に関して、図１に示さ
れた装置と鏡対称的に実施される、即ち送信側および受
信側が交換される。観測光導波体として群Ｇ１の光導波
体が例えば光導波体ＬＷ１が用いられる。第１の測定ス
テップとして有利に、光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の局
所的強度の検出の目的で、変位過程（スキャンニング）
が帯線ＢＬ１の長手軸を横切る方向で即ちＸ方向へおよ
び／またはＹ方向へ少なくとも１回は実施される。光導
波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊から出力結合された、それらに
対して通過する観測光導波体ＬＷ１の方向における放射
電磁界の局所的強度分布の時間経過は、第１の測定ステ
ップと同様に、帯線ＢＬ２へ結合されたフォトダイオー
ドＰＤ１を用いて検出できる。フォトダイオードＰＤ１
はそのたわみ結合器ＢＫ１の受信領域において次のよう
に位置定めされている。即ちその受信特性が光導波体Ｌ
Ｗ１の受信放射電磁界へ位置合わせされており、さらに
これをほとんど完全に検出するように、位置定めされて
いる。光導波体ＬＷ１の中へ入力結合された光はフォト
ダイオードＰＤ１の中で電気測定信号ＰＭ＊へ変換され
て、線路ＤＬ１を介して同じく測定値メモリＭＥＭ１の
中にファィルされる。

【００２９】好適に、両方の群Ｇ１＊とＧ１との間の最
適の位置合わせ状態の測定の目的で、１つよりも多くの
変位過程を各々の変位方向に対して実施できる。例えば
群Ｇ１＊を観測光導波体ＬＷ１がＸ方向および／または
Ｙ方向へ複数回実施できる、即ち変位過程が１回より多
く同じ変位方向へ行なえる。このようにして求められた
強度分布は有利により大きい測定精度で求めることが可
能であり、次にはじめて評価の目的に用いることができ
る。この適用例の場合、測定値メモリＭＥＭ１は好適に
次のように構成されている。即ちメモリが群Ｇ１のない
しＧ１＊の多数の強度分布ＰＭないしＰＭ＊を記憶でき
るように、構成されている。

【００３０】評価の目的で有利に群Ｇ１およびＧ１＊の
光導波体に対する局所的な全体の強度分布が、その都度
に視覚的に両方の測定ステップの場合に表示される。こ
の目的で第１の測定ステップからの群Ｇ１の光導波体Ｌ
Ｗ１〜１Ｗ４の局所的強度分布が測定値メモリＭＥＭ１
から呼び出されて、連続的に線路ＤＬ３を介して信号Ｄ
Ｓ３を用いて、図１の左部分に示されている表示装置Ａ
Ｚ１へ伝送される。表示装置ＡＺ１において例えば全強
度分布ないし包絡線ＰＭｉ（Ｘ）（ｉ＝１〜４）がで表
示される。この強度分布は例えばＸ軸に沿っての変位過
程（スキャン）中に検出される。表示装置ＡＺ１におけ
る瞬時の検出は、４つの光導波体ＬＷ１〜１Ｗ４に配属
されている４つの別個の個別強度分布ないし包絡線Ｊ１
〜Ｊ４を示す。それらの最大値Ｍ１〜Ｍ４は光導波体Ｌ
Ｗ１〜１Ｗ４における最大の光案内の個所をその都度
に、即ち例えば光導波体ＬＷ１〜１Ｗ４の心の位置をそ
の都度に特徴づける。そのためこれらの最大値Ｍ１〜Ｍ
４により帯線ＢＬ２の内部での光導波体ＬＷ１〜１Ｗ４
の心の正確な位置が測定されて直ちに読み出し可能とな
る。モノモード光導波体の場合は強度分布Ｊ１〜Ｊ４は
著しくせまくかつ急峻に示される（１０μｍの桁）。２
つの個別強度分布の間隔は約２６０μｍの値を有する。
表示装置ＡＺ１における表示からわかるように、光導波
体ＬＷ３の心は光導波体ＬＷ１の方向へ多少変位されて
いる、即ちこの場合は帯線ＢＬ２の内部に等間隔の心分
布が設けられない。

【００３１】表示装置ＡＺ１と同様に、第２の測定ステ
ップによる帯線ＢＬ１〜内部での光導波体ＬＷ１＊〜１
Ｗ４＊の局所的強度分布の経過は、連続的に、図１の左
半部に破線で示されている表示装置において可視的に表
示される。この目的でその都度に、測定メモリＭＥＭ１
の中に記録されている、光導波体ＬＷ１＊〜１Ｗ４＊の
局所分布に対する測定データがこの測定値メモリＭＥＭ
１から呼び出されて線路ＤＬ４を介して信号ＤＳ４を用
いて表示装置ＡＺ２へ連続的に転送される。図１の表示
装置ＡＺ２は例えば、局所座標Ｘに沿って観測光導波体
ＬＷ１によるスキャンの前提の下に、光導波体ＬＷ１＊
〜１Ｗ４＊に対して局所的な全強度分布ないし包絡線Ｐ
Ｍｉ＊（ｉ＝１〜４）を示す。表示装置ＡＺ２における
瞬時の撮影が、４つの別個の強度分布ないし包絡線Ｊ１
＊〜Ｊ４＊を、それぞれ４つの最大値Ｍ１＊〜Ｍ４＊で
示す。Ｍ１＊〜Ｍ４＊は群Ｇ１＊の４つの光導波体ＬＷ
１＊〜ＬＷ４＊に配属されている。この場合、最大値Ｍ
１＊〜Ｍ４＊は、光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊において
最大の光エネルギーがその都度に案内される局所ないし
位置を特徴づける。即ち前記の最大値はその都度に、帯
線ＢＬ１における光伝導性の心の位置を表わす。

【００３２】両方の帯線ＢＬ１およびＢＬ２を互いに最
適に位置合わせ可能にするために、操作者はその都度
に、群Ｇ１の局所的強度分布ＰＭｉ（Ｘ）を、群Ｇ１＊
の局所的強度分布ＰＭｉ＊（Ｘ）と直接、目でみて比較
し、これから帯線ＢＬ１およびＢＬ２に対する最適の位
置合わせ位置を予測するだけで十分である。両方の帯線
ＢＬ１およびＢＬ２を、このようにして求められた最適
の位置合わせ位置へ移す目的で、操作者のために手動の
操作装置ＨＳ１が設けられており、これを用いて支持装
置ＨＬ１を操作するための制御信号ＳＬ１を作動でき
る。全く同様に操作者に対して、支持装置ＨＬ２を操作
装置ＨＳ２を用いて制御信号ＳＳ２により、破線で示さ
れている制御線路ＳＬ２を介して変位できる。

【００３３】最適の位置合わせ間隔を見出して実施する
ことは、有利に計算ユニットＣＯＲにおける評価により
自動化できる。操作者は局所的な強度分布ＰＭｉおよび
ＰＭｉ＊に対する両方の相応の測定撮影を、計算ユニッ
トＣＯＲを用いての手動制御装置ＳＫにより、比較のた
めに互いに上下に変位させ、群Ｇ１の個別強度ないし包
絡線Ｊ１〜Ｌ４の最大の重畳の個所を、群Ｇ１＊の個別
強度ないし包絡線Ｊ１＊〜Ｊ４＊のより見出すことがで
きる。この目的で操作者は手動制御装置ＳＫにより制御
信号ＳＳ３をトリガする。この制御信号は計算ユニット
ＣＯＲを制御線路ＳＬ３を介して次のことを指示する。
即ち局所的な強度分布ＰＭｉおよびＰＭｉ＊（ｉ＝１〜
４）のその都度の２つの相応の全体測定撮影を信号ＤＳ
５を用いて線路ＤＬ５を介して測定値メモリＭＥＭ１か
ら読み出して重畳的に変位させることを指示する。手動
制御装置ＳＫによる操作過程ないし変位過程を監視して
観測可能にする目的で、計算ユニットＣＯＲは測定撮影
ＰＭｉおよびＰＭｉ＊を信号ＤＳ８を用いて線路ＤＬ８
を介して、共通の表示装置ＳＡＺへ送信する。表示装置
は局所的な強度分布ＰＭｉおよびＰＭｉ＊を別個に、例
えば異なるグレー値または異なる色により、表示する。
好適に、群Ｇ１とＧ１＊の両方の相応の強度分布の間の
重畳領域を、例えば特別な着色により特別に特徴づける
こともできる。図１において表示装置ＳＡＺにおいて例
えば両方の相応の、ΔＸだけ互い変位された強度分布な
いし包絡線が表示装置ＡＺ１およびＡＺ２から同時に重
畳されて記録される。群Ｇ１に対する強度分布ＰＭｉ
（Ｘ）は破線で示されている。他方、群Ｇ１＊に対する
強度分布ＰＭｉ＊（Ｘ）は実線で示されている。共通の
重畳領域はそれぞれ斜線で示されている。両方のできる
だけ最適に重なり合うべき強度分布ないし包絡線の、即
ち重畳領域の共通の表示は、表示装置ＳＡＺにおいて操
作者による制御ボタンＳＫの変位操作のために好適に実
時間で行なわれる。計算ユニットＣＯＲは連続的に相応
の変位座標を例えば群Ｇ１とＧ１＊の相互間の変位座標
ΔＸを連続的に算出して、これをディスプレーＤＰへ伝
送する、ディスプレーは表示装置ＳＡＺの上方の右隅に
おいて連続的に変位座標ΔＸ（および第２の変位方向た
とえばΔＹにおいて表示する。計算ユニットＣＯＲは変
位過程中に、両方の局所的な強度分布ＰＭｉ（Ｘ）およ
びＰＭｉ＊（Ｘ）の間の最大の重畳全体面を有する場所
を記録し、最大の親和性を有するこの個所を固定して、
ディスプレーＤＰにおける表示装置ＳＡＺに、所属の変
位座標を例えばΔＸＭＡＸ，ΔＹＭＡＸを表示する。最
大の親和性の場所は、例えば操作者によって手動で操作
装置ＨＳ１ないしＨＳ２を介して到達される。

【００３４】帯線ＢＬ１およびＢＬ２の自動的な位置合
わせは有利に次のようにして可能である。即ち最大の
“親和性”の個所に対する座標ΔＸＭＡＸおよび／また
はΔＹＭＡＸが計算器ＣＯＲにより線路ＤＬ６を介して
信号ＤＳ６を用いて制御―および調整装置ＣＴＵへ転送
する。この装置は支持装置ＨＬ１ないしＨＬ２の少なく
とも一方を、所属の制御線路ＳＬ１ないしＳＬ２を介し
て操作する。図１において制御―および調整装置ＣＴＵ
が例えば支持装置ＨＬ１を制御信号ＳＳ１を介して作動
する。それに応じて図１に破線で示されている様に、支
持装置ＨＬ２が制御信号Ｓ２―これは制御線路ＳＬ２を
介して支持装置ＨＬ２へ送出される―を介して操作でき
る。

【００３５】最大の親和性の個所の完全な自動的な測定
は、計算ユニットＣＯＲにおいてその都度の全相関関数
の例えばＣＯＲ（ΔＸ）の算出により、各々の変位方向
に対して、例えば群Ｇ１の全体強度分布と群Ｇ１＊の全
体強度分布との間のＸ方向に対して、測定される。この
相関関数は例えばＣＯＲ（ΔＸ）は線路ＤＬ７を介して
信号ＤＳ７を用いて表示装置ＤＳＰ１へ伝送されて、こ
こでその都度の変位（例えばΔＸ，ΔＹ）に関して表示
される。この詳細は図６〜図６を用いて説明する。

【００３６】図１に示されている複数個の部品は好適に
１つの測定装置へ例えば１つの測定トランクへまとめる
ことができる、または例えば光導波体スプライス装置の
または減衰装置の構成部材とすることもできる。本発明
のこの両方の特別の有利な適用分野のほかに、２つの対
向する、光導波体の群の別の光学的伝送量を測定するこ
ともできる。

【００３７】両方の帯線ＢＬ１およびＢＬ２がそれらの
最大の一致の個所において最適に互いに位置合わせされ
ていると、ここで群Ｇ１＊の光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４
＊はそれらの対応する、群Ｇ１の光導波体ＬＷ１〜１Ｗ
４と（例えば溶融装置ＳＶを用いて）接続できる、ない
し結合できる。この目的で両方の案内手段が支持装置Ｈ
Ｌ２ないしＨＬ１を用いて互いに接近される。その結
果、Ｚ方向へのその軸線の偏差が解消されて光導波体の
端面が互いに当接される。光導波体端部は案内手段を越
えて数ｍｍ突出する。その目的は溶融の際の一様な熱分
布を保証することである。溶融装置ＳＶが手動でならび
に自動的に制御―および調整ユニットＣＴＵを用いて操
作できる。図１において制御―および調整ユニットＣＴ
Ｕが溶融装置ＳＶを信号ＳＳ５を用いて破線で示された
制御線路ＳＬ５を介して作動する。

【００３８】前もって求められた群Ｇ１＊およびＧ１に
対する両方の強度分布ＰＭｉ＊およびＰＭｉから、適切
な特性制御尺度が、計算ユニットＣＯＲにおける溶融時
間ｔの設定の目的で導出されて、制御―および調整装置
ＣＴＵ信号ＳＳ７を用いて線路ＳＬ７を介して伝送でき
る。有利に特性制御尺度の測定の目的で、過結合された
光電力が、最適の位置合わせ状態において最大の残りの
半径方向の偏差を有する、相応の光導波体対において用
いられる。何故ならば多ファイバー接続技術における個
々の位置合わせが可能でないからである。最も不利に位
置合わせされた光導波体対は例えば次のようにして測定
される。即ち計算ユニットＣＯＲが最適の位置合わせ状
態において、互いに変位された全体強度分布ＰＭｉおよ
びＰＭｉ＊が、最小の個々の重畳面を有する両方の相応
の個別強度分布を識別する。表示装置ＳＡＺの両方のΔ
Ｘだけ互いにずらされた全体強度分布ＰＭｉ（Ｘ）およ
びＰＭｉ＊（Ｘ）の瞬時の撮影において、両方の相応の
個別強度分布Ｊ３およびＪ３＊は、互いに変位された両
方の、群Ｇ１のおよび群Ｇ１＊のＪ１＊〜Ｊ４＊の個別
強度分布Ｊ１〜Ｊ４の下に、最小の重畳面を示す。この
位置合わせ状態においては光導波体対ＬＷ３／ＬＷ３＊
は最も不良に位置合わせされている。この光導波体対に
おける過結合された光を測定可能にする目的で、受信側
で受信器ＥＭ１のフォトダイオードＰＤ１が光導波体Ｌ
Ｗ３＊の受信面へ位置合わせされる。好適にこのことは
自動的に計算ユニットＣＯＲを用いて実施できる。計算
ユニットは制御信号ＳＳ６を破線で示された制御線路Ｓ
Ｌ６を介して、フォトダイオードＰＤ１のための操作素
子ＢＰＤへ伝送する。次に群Ｇ１の光導波ＬＷ３から群
Ｇ１＊の光導波体ＬＷ３＊へ入力結合された光は次に連
続的にフォトダイオードＰＤ１を用いて測定されて、電
気測定信号ＰＭへ変換されて、線路ＤＬ１を介して測定
値メモリＭＥＭ１へ伝送される。ここから測定信号ＰＭ
は最終的に信号ＤＳ５を用いて線路ＤＬ５を介して計算
ユニットＣＯＲへ伝送される。この受信信号は、有利に
両方の群Ｇ１およびＧ１＊を溶接中の特性制御尺度とし
て用いられる。その根拠は、この手段を用いていかなる
場合も、最も不良に位置合わせされたしたがってスプラ
イス過程に関して問題のある光導波体対に対する最適な
スプライス結果が保証できるからである。

【００３９】図２は、位置合わせ個所において過結合さ
れた光ＰＳ（ｔ）の２つの受信レベルを、対応する光導
波体対ＬＷ３／ＬＷ３＊ならびにＬＷ４／ＬＷ４＊のた
めの溶接時間ｔに依存して示す。近似的に理想的に心合
わされて位置合わせされた光導波体対たとえばＬＷ４／
ＬＷ４＊の場合は測定曲線ＪＡが形成され、著しく不良
に位置合わされた光導波体対たとえばＬＷ３／ＬＷ３＊
の場合は測定曲線ＳＡが形成される。近似的に理想的に
心合わせ位置合わせされた光導波体対ＬＷ４／ＬＷ４＊
の場合は著しく平らな曲線経過が時点ｔｏにおける溶接
過程の開始から著しく長い溶接持続時間にわたり形成さ
れる。他方、著しく不良に位置合わせされた光導波体対
ＬＷ３／ＬＷ３＊の場合は測定曲線ＳＡが溶接時点ｔｏ
から時点ｔｓまでの測定レベルＰＳ（ｔ）の上昇を有す
る。他方、この時点ｔｓ以降は受信レベルＰＳ（ｔ）は
再び低下する、即ち位置合わせ個所ないし溶接個所にお
ける減衰が再び上昇する。そのため不良に位置合わせさ
れた光導波体対ＬＷ３／ＬＷ３＊の場合は、最適な時点
ｔｓが、なしい時点ｔｏにおける溶接過程のスターから
の時間領域が―溶接過程ができるだけ遮断されるべき―
が存在する。何故ならばここでは受信レベルＰＳ（ｔ）
に対する最大値ＭＰが即ち最小の減衰が存在するからで
ある。溶接過程が例えば時点ｔｓで終了されると、有利
に、溶融されたガラスの表面張力の結果、最も不良に位
置合わせされた光導波体対に対する群Ｇ１およびＧ１＊
の最適な位置合わせ状態における残りの半径方向の偏差
が解消される。この場合、溶接過程の終了後の減衰は実
質的に最小の状態になる。このようにして有利に次のこ
とが保証される。即ち不良に位置合わせされた光導波体
対ＬＷ３／ＬＷ３＊に対しても両方の群Ｇ１およびＧ１
＊の最適な位置合わせ状態において、最善の溶接結果が
得られる。全部の残りの互いに良好に位置合わせされた
光導波体対は、例えばＬＷ４／ＬＷ４＊は測定曲線ＪＡ
の著しく平らな経過のため、時点ｔｓにおける溶接過程
の早期の遮断の際も、それにもかかわらずなお一層良好
なスプライス結果が得られる。

【００４０】この方法は溶接過程を、最も不良に位置合
わせされた光導波体対ＬＷ３／ＬＷ３＊に対して、偏差
がガラスの表面張力によりゼロへ向かう時点ｔｓに遮断
する。これにより同時に群Ｇ１およびＧ１＊における全
部の残りの光導波体対に対する良好なスプライス結果も
保証する。溶融されたガラスの表面張力に、またはその
他のプロフィル損傷にもとづく許容できないほど高い心
のたわみは、最も不良に位置合わせされた光導波体対に
対する受信レベルの最大値において溶接過程を早期に遮
断することにより実質的に回避される。

【００４１】即ち一般的に言えば、溶接時間はｔｓ−ｔ
ｏは、関与される光導波体対の心の位置合わせが不良で
あるほど、それだけ短く選定される。

【００４２】曲線ＳＡＳにより破線で示されている様に
光導波体組み合わせＬＷ３／ＬＷ３＊の位置合わせが曲
線ＳＡによるよりもさらに不良に再現されるとすれば、
溶接過程が既に時点ｔｓｓで遮断しなければならなくな
る、即ち溶接時間ｔｓ−ｔｏをさらに一層短かく選定し
なければならなくなる。

【００４３】図３において例えば図１に示した本発明に
よる方法により得られた、帯線ＢＬ２の光導波体ＬＷ４
／ＬＷ４に対する全体強度分布ないし全体包絡線ＰＭｉ
（Ｘ）が、Ｘ方向への変位運動の場合に示されている。
全体強度分布ＰＭｉ（Ｘ）は、４つの光導波体ＬＷ１／
ＬＷ４に対して、４つの所属の個別強度分布をないし包
絡線Ｅ１〜Ｅ４を有する。

【００４４】これらの４つの包絡線Ｅ１〜Ｅ４の各々は
それぞれ３つの離散的な測定値を含む。これらは例えば
図１に示されているアナログ／ディジタル変換器を用い
て、フォトダイオードＰＤ１から連続的に検出される測
定信号ＰＭとすることができる。そのため連続的な局所
座標Ｘにわたる連続的な全体包絡線ＰＭｉ（Ｘ）に、離
散的な局所座標Ｋ（ただしＸ＝Ｋ・ＴＡである。ＴＡ＝
サンプリング間隔）にわたる離散的な量子化された全体
包絡線ＰＭｉ（ｋ）が配属されている。そのため包絡線
Ｅ１は例えば３つの量子化された強度測定値ＤＪ１，Ｄ
Ｊ２およびＤＪ３を間隔ＴＡにおいて有する。４つの包
絡線Ｅ１〜Ｅ４はそれぞれ４つの最大値ＤＭ１〜ＤＭ４
を示す。ＤＭ１〜ＤＭ４は、それぞれ光導波体ＬＷ１〜
ＬＷ４における最大の光出力の個所を、即ちそれぞれ光
導波の心の中心を特徴づける。

【００４５】図４に図３のように、帯線ＢＬ１の光導波
体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊に対して例えば連続的な全体強度
分布ないし全体包絡線ＰＭｉ＊（Ｘ）が連続的な局所座
標Ｘにわたり記入されている。これらには図３に示され
ている様に、離散的な全体強度分布ＰＭｉ＊が離散的な
局所座標ｋ（ただしＸ＝ｋ・ｔである）にわたり配属さ
れている。強度分布ＰＭｉ＊（Ｘ）は４つの光導波体Ｌ
Ｗ１＊〜ＬＷ４＊に対して同じく４つの所属の包絡線Ｅ
１＊〜Ｅ４＊を有する。これらはそれぞれ３つの離散的
な測定値をサンプリング間隔Ｔで包む。例えば包絡線Ｅ
１＊は量子化された測定値ＤＪ１＊，ＤＪ２＊およびＤ
Ｊ３＊を含む。包絡線Ｅ１＊〜Ｅ４＊はそれぞれ光導波
体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の心の中心をそれぞれ最大値ＤＭ
１＊〜ＤＥ４＊により特徴づける。

【００４６】図４の全体強度分布ＰＭｉ＊（Ｘ）を図３
の全体強度分布と比較すると、同じＸ座標区間にわたる
包絡線Ｅ１＊は包絡線Ｅ１のように延長する、即ち光導
波体ＬＷ１＊とＬＷ１の心はここでは理想的に互いに心
合わせされて位置合わせされている。これとは反対に包
絡線Ｅ２＊は包絡線Ｅ２よりも多少は左へ変位されてい
る、即ち光導波体ＬＷ２＊の心は光導波体ＬＷ２の心よ
りも多少は左へずらされている。他方、包絡線Ｅ３＊と
Ｅ４＊は包絡線Ｅ３とＥ４に対して多少は右へ変位され
ている、即ち、光導波体ＬＷ３＊およびＬＷ４＊は光導
波体ＬＷ３とＬＷ４に対しても位置合わせされていな
い。

【００４７】最後に図５に相対的な離散的な変位長さｎ
にわたり相互相関関数ＣＯＲ（ｎ）が示されている。こ
の相互相関関数は、図３の離散的な全体強度分布ＰＭｉ
（ｋ）が図４の離散的な全体強度分布ＰＭｉ（ｋ）と相
関化される時に、得られる。離散的な全体強度分布ＰＭ
ｉ（ｋ）とＰＭｉ＊（Ｘ）の相互相関関数ＣＯＲ（ｎ）
は次の式で定義されている。

【００４８】 離散的な相互相関関数ＣＯＲ（ｎ）は６つの最大値ＫＭ
１〜ＫＭ７を有する。中央の最大値ＫＭ４はＣＯＲ
（ｎ）の離散的な分布内で最も大きい絶対値の最大値
［ＣＯＲ（ｎ）］＝ＫＭ４である。この離散的な相互相
関関数ＣＯＲ（ｎ）の最大値は離散的な変位長さを、即
ち全部の４つの離散的な個別分布を特徴づける。即ち４
つの所属の離散的な個別分布を有する包絡線Ｅ１〜Ｅ４
におけるそれぞれ３つのサンプリング値がＰＭｉ（ｋ）
により、即ちＰＭｉ＊（ｋ）の包絡線Ｅ１＊〜Ｅ４＊に
おける３つのサンプリング値と最大に重畳する。図５に
おいて絶対値の最も大きい最大値ＭＡＸ［ＣＯＲ
（ｎ）］が個所ｎ＝０において生ずる、即ち光導波体Ｌ
Ｗ１＊〜１Ｗ４＊に対する光導波体ＬＷ１〜１Ｗ４の位
置分布―これは図３および図４において互いに上下に所
属の離散的な全体強度分布ＰＭｉ（ｋ）およびＰＭｉ＊
（ｋ）に示されている様に―既に最適の位置合わせ状態
が得られる、したがって帯線ＢＬ１とＢＬ２との間の最
大の一致の個所が得られる。実際に重要なことは、離散
的な相互相関関数ＣＯＲ（ｎ）を関数に依存して（例え
ば多項式補間をまたはシャノンのサンプリング定理を用
いて）近似させることである。何故ならばＸ座標の分解
能は２つの強度値の間隔により制限されるからである。
そのため離散的な相互相関関数ＣＯＲ（ｎ）の離散的な
強度測定値に対する包絡線として、変位座標ΔＸに対す
る連続的な相互相関関数ＣＯＲ（ΔＸ）が形成される。
ただしΔＸ＝ｎＴＡである。補間された連続的な相互相
関関数ＣＯＲ（ΔＸ）から、関数的に、局所座標ΔＸ＝
０．４の場合の絶対値が最も最大値ＭＡＸ［ＣＯＲ（Δ
Ｘ）］が正確に（即ち中間値で）測定される。両方の帯
線ＢＬ１とＢＬ２を最適に互いに位置合わせする目的
で、帯線ＢＬ１をΔＸ＝０．４だけ帯線ＢＬ２から左へ
変位させるか、または帯線ＢＬ２を帯線ＢＬ１からΔＸ
だけ右へ変位させる。

【００４９】図７において、図１とは同じ部品にはそれ
と同じ記号が付されている。支持装置ＨＬ２における光
導波体ＬＷ１〜１Ｗ４は図１とは異なり位置合わせ個所
の領域ＡＳにも、帯線ＢＬ２の外からほぼ直角の平らな
スリーブＢＨ２が埋め込まれている。支持装置ＨＬ２は
必要に応じて３つの異なる空間方向ｘ，ｙおよびｚへ変
位可能である。これと同様に光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４
＊を有する群Ｇ１も支持装置ＨＬ１において位置合わせ
個所の領域でさらに帯線のほぼ長方形の外側のスリーブ
ＢＨ１により囲まれていて、必要に応じてｘ，ｙおよび
ｚ方向へ移動可能である。光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４のな
らびにＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の長手方向軸線は、それぞれ
破線で帯線ＢＬ２およびＢＬ１の中に示されている。両
方の支持装置ＨＬ１およびＨＬ２は良好な携帯性の目的
で、１つの共通の位置固定の基板ＧＰの上に取り付けら
れている。

【００５０】両方の帯線ＢＬ１およびＢＬ２は、光導波
体の両方の群Ｇ１＊およびＧ１に関連づけて即ち群毎に
できるだけ最適に互いに位置合わせすべきである。その
目的は次にこの最適な位置合わせ状態において例えば両
方の群の各々の光導波体組み合わせのための減衰測定を
またはスプライス過程を確実に実施可能にするためであ
る。最適の位置合わせ位置そのものの群毎の測定の目的
で、次のことは必ずしも必要とはされない。即ち光導波
体ＬＷ１〜ＬＷ４を帯線ＢＬ２の外側スリーブＢＨ２か
ら、ないし光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊を帯線ＢＬ１の
外側スリーブＢＨ１から取り出したり自由に位置させる
ことは必ずしも必要とされない。

【００５１】図７の左部分において最適な位置測定の目
的で４つの送信信号ＳＰ１〜ＳＰ４が帯線ＢＬ２の光導
波体ＬＷ１〜ＬＷ４の中へ、送信装置ＳＥ３を用いて入
力結合される。この目的で帯線ＢＬ２の光導波体ＬＷ１
〜ＬＷ４がたわみ結合器ＢＫ３の円筒ＺＴ３のまわりに
巻回されており、さらにその案内溝ＦＮ３の中にわん曲
されて案内されている。その結果、送信信号ＳＰ１〜Ｓ
Ｐ４が近似的に接線方向へ光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の中
へ入力できる。送信信号ＳＰ１〜ＳＰ４はそれぞれ矢印
で示されている。

【００５２】図７に示されている様に送信装置ＳＥ３
は、ただ１つの光源ＬＡを例えば１つのレーザダイオー
ド―これへ全部の測定されるべき光導波体ＬＷ１〜ＬＷ
４が共通に結合されている―を有するか、または各々の
結合されるべき光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４のために１つの
固有の光源を有する。たわみ結合器方式とは代替的に送
信信号ＳＰ１〜ＳＰ４が光導波体ＬＷ１の開放端面を直
接介して給電できる。これらの信号は有利に図７におけ
る様に、固有に設けられる測定送信器から例えば光源Ｌ
Ａから送出できる、しかし光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４にお
ける情報信号とすることもできる。

【００５３】図７における以下の実施例のために簡単化
のために前提とされることは、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４
の中へ入力結合される送信信号ＳＰ１〜ＳＰ４が同一で
ある、即ち等しい大きさである。さらに簡単化が、送信
側の入力結合の際におよび受信側における出力結合の際
に、それぞれ全部で４つの光導波体組み合わせＬＷ１／
ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に対して等しい結合係数に
適用される。

【００５４】４つの測定信号Ｐ１〜Ｐ４が光導波体ＬＷ
１〜ＬＷ４において位置合わせ個所ＡＳ―これは図７に
おいて破線で示されている―まで導びかれる。そのため
ここにそれらの所属の４つのビーム電磁界ＳＦ１〜ＳＦ
４が互いに選択的に分離される。

【００５５】光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４を有する帯線ＢＬ
２に光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊を有する帯線ＢＬ１が
まず最初にどれか１つの位置合わせされない位置が対向
する。次に両方の帯線ＢＬ１とＢＬ２が互いに相対的に
次のように移動される。即ち光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４か
ら出力結合されたビーム電磁界ＳＦ１〜ＳＦ４が光導波
体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の中へ、両方の帯線ＢＬ１および
ＢＬ２の種々異なる位置において互いに入力結合される
ように、移動される。この目的で例えば帯線ＢＬ１が支
持装置ＨＬ１において、支持装置ＨＬ２における位置固
定の帯線ＢＬ２に対して、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４が存
在する面に平行に、例えばＸ方向へおよび／またはＹ方
向へ少なくとも１回は変位される。この変位運動によ
り、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４から出力結合されたビーム
電磁界ＳＦ１〜ＳＦ４が、それぞれ、所属の相応の光導
波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊により種々異なる空間位置にお
いて、検出される。図７において例えば光導波体ＬＷ１
から出力結合された測定信号Ｐ１のビーム電磁界ＳＦ１
を、Ｘ方向への変位過程の間中に継続的に即ち連続的に
種々異なるＸ位置において検出する。同様にＹ方向への
変位の際にまたは他の空間方向への変位の際に、直交帯
線ＢＬ２の長手軸を横切るように即ちするように走行さ
れる。ビーム電磁界ＳＦ１〜ＳＦ４の、光導波体ＬＷ１
＊〜ＬＷ４＊への入力結合の際に、それらの受信特性な
らびにそれらの固有の光案内特性がそれらの心のおい
て、それぞれ光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４からの全体強度分
布ないし全体受信レベルの時間経過へ作用する。換言す
れば光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の中へ過結合された測
定信号は群Ｇ１の光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の位置状態に
即ち特性出力結合状態に依存し、ならびに同時に位置合
わせ個所ＡＳの領域における光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４
＊の心の入力結合状態ないし受信特性に依存する。

【００５６】好適に、各々の光導波体対たとえばＬＷ１
／ＬＷ１＊に対してそれぞれなおそれらの個別強度分布
に対する最大値が越えられる位置から、帯線ＢＬ１の変
位過程がスタートされる。このことは例えば簡単に、帯
線ＢＬ１を位置合わせ個所ＡＳから取り出してここから
変位過程をスタートさせることにより、達成できる。光
導波体の両方の群Ｇ１およびＧ１＊の簡単な相対運動は
好適に、それぞれの変位方向への群Ｇ１およびＧ１＊み
おける２つの相応の光導波体の最大に発生する少なくと
も偏差だけ、実施される。

【００５７】しかし好適に、両方の帯線ＢＬ１およびＢ
Ｌ２を互いにわずか変位させることもできる、即ち一種
の往復運動（“ジッタ”）を実施することもできる。そ
のためその都度の個別強度最大値から（ないし受信レベ
ルの最大値から）左へおよび右へ、即ちビーム電磁界Ｓ
Ｆ１〜ＳＦ４の主ビーム方向から左へおよび右へ、ビー
ム電磁界ＳＦ１〜ＳＦ４の光成分も過結合される。帯線
ＢＬ１のための“ジッタ運動は例えばＸ方向において次
にように行なわれる、即ちこの運動が最初に正のＸ方向
へ小さい間隔ΔＸだけ運動され、次に負のＸ方向へ方向
が反転される。この往復運動は有利に複数回実施でき
る。測定検出の重畳ないし平均値形成により有利に次の
ことが達成できる。即ち障害量が例えば支持装置の機械
的な遊び、ならびにピエゾエレメントのヒステリシスな
らびにすべりが実質的に回避できる。それらの最適の位
置合わせ状態に関する通報および推定を相互に利用可能
にするために帯線ＢＬ１とＢＬ２との間の著しく小さい
変位運動しか必要とされない利点を“ジッタ”運動が与
える。“ジッタ”運動の場合、それぞれ２つの相応の光
導波体のそれぞれのビーム電磁波の少なくとも幅だけ
の、それぞれの理想的な心合わされる位置合わせ状態か
らの変位（約１０μｍ）が必要とされる。これにより著
しく迅速に、帯線ＢＬ２における光導波体ＬＷ１〜ＬＷ
４の心の相対位置に関する種々の空間方向からの情報
が、帯線ＢＬ１における光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の
心へ得られる。そのためこの“ジッタ”法は、いかなる
場合もそれぞれ２つの相応の光導波体の例えばＬＷ１／
ＬＷ１＊の伝送最大値を検出できることを、保証する。

【００５８】光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の強度分布の
時間経過は、連続的に即ち持続的に、受信装置ＥＭ２を
用いて撮影できる。この受信装置ＥＭ２は有利に円筒Ｚ
Ｔ２、その案内溝ＦＮ２の中に帯線ＢＬ１が収容されて
いるを有するたわみ結合器ＢＬ２を有する。少なくとも
４つの光感エレメントＬＥ１〜ＬＥ４が、破線で部分的
にだけ示されている共通の基板ＧＵの上に配置されてい
る。これらの光感エレメントを用いて４つの受信ビーム
電磁界ＥＳ１〜ＥＳ４―これらは光導波体ＬＷ１＊〜Ｌ
Ｗ４＊のわん曲に沿って出力結合される―が選択的に検
出される。光感エレメントは例えば多象限アレイのまた
はＣＣＤアレイの多象限ダイオードの形式でまとめるこ
とができる。このアレイは通常は１００個よりもはるか
に多い光感エレメント（ビデオ規格の場合は例えば１０
２４×１０２４エレメント）を有する。光感エレメント
ＬＥ１〜ＬＥ４はビーム電磁界ＥＳ１〜ＥＳ４から電気
信号ＭＳ１〜ＭＳ４を発生して、これらを個別の測定線
路ＭＬ１〜ＭＬ４を介して、測定値メモリＭＥＭ２へ導
びく。このメモリは、光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊から
出力結合された光の時間過程をその都度に選択的に保持
する。

【００５９】評価装置ＡＥは、線路Ｂ１を介して測定値
メモリＭＥＭ２から連続的に入力する信号Ｓ１（測定シ
ーケンス）を、次の全体―ないし群強度によるないし次
のような全体受信レベルによるそれぞれの変位過程の場
合に、サーチする。即ち全部の４つの光導波体組み合わ
せＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に対して同時に
その都度に最大の個別強度最大値（ないし最大受信レベ
ル）を有する強度ないし受信レベルによる変位過程の場
合にサーチする。即ちその都度に、全部で４つの光導波
体対ＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に対する個々
の個別強度分布が同時に観測されて、最終的に次のよう
な群強度分布のならびに所属の場所の撮影像が変位過程
中に評価装置ＡＥにより識別されて記録される。即ち全
部の４つの相応の光導波体対ＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４
／ＭＬ４＊に対してその都度の変位過程の時間順序にお
いてその都度に最大の個々の強度最大値を同時に有する
撮影像が識別されて記録される。変位運動は、全部の４
つの光導波体対ＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に
対して同時にそれぞれ最大の選択的強度最大値を形成す
る個所で遮断される。この個所で、帯線ＢＬ１およびＢ
Ｌ２における光導波体の心の両方の局所分布の間の最大
の群毎の“親近性”が存在する。

【００６０】図７において帯線ＢＬ１は支持装置ＨＬ１
を用いてＸ方向へ、静止している帯線ＢＬ２へ走行され
る。この目的で評価装置ＡＥが支持装置ＨＬ１を制御線
路ＳＬ１（図１の制御線路に相応する）を介して制御信
号ＳＳ１を用いて制御する。

【００６１】両方の帯線ＢＬ１とＢＬ２との間の相対運
動の別の組み合わせは図１に示されている様に実施され
る。支持装置ＨＬ２は破線で示された制御線路ＳＬ２を
介して制御信号ＳＳ２を用いて操作できる。評価装置Ａ
Ｅは最後に、４つの同時に最大の個別強度最大値を有す
る測定撮影個所を探し出す。この測定撮影個所が測定値
メモリＭＥＭ２へ線路Ｂ３を介して信号Ｓ３を用いて、
次のような指示を与える。即ちこの全体強度分布ＰｉＶ
ＥＲ（ｉ＝１〜４）を線路Ｂ２を介して信号Ｓ２を用い
て可視的に表示装置ＤＳＰ２において例えばディスプレ
ーで表示すべき指示を与える。

【００６２】図７において表示装置ＤＳＰ２において、
全体強度分布ＰｉＶＥＲ（ｉ＝１〜４）に対する最適に
得られる受信状態（最適の位置合わせ状態）が、即ち全
部の４つの光導波体組み合わせＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ
４／ＬＷ４＊が、同時に記録される。４つの光導波体対
ＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に、４つの包絡線
Ｐ１ＶＥＲ〜Ｐ４ＶＥＲが個別強度分布として配属され
ている。これらの包絡線Ｐ１ＶＥＲ〜Ｐ４ＶＥＲは４つ
の最大値Ｍ１ＶＥＲ〜Ｍ４ＶＥＲを示す。これらは全
部、上側限界ＯＳと下側限界ＵＳとの間の許容範囲Ｔの
中にある。Ｘ方向へのこの変位運動の場合、ＵＳないし
ＯＳの同時の検出の際に簡単化のために、理想的に全部
のファイバー対に対してＹ方向へ既に最適に位置合わせ
された状態が前提とされる。最大値Ｍ１ＶＥＲ〜Ｍ４Ｖ
ＥＲはそれぞれ最大の光案内の場所を示す、即ち測定さ
れるべき光導波体対の互いに位置合わされた心の中心を
表わす。下側の限界値ＵＳは、それぞれ少なくとも光導
波体対の１つのなお許容される位置合わせ位置に対して
必要とされる強度値をマーキングする。他方、上側限界
値ＯＳは、理想的に心合わせする光導波体対に対して最
大に達成できる強度値を特徴づける。

【００６３】群毎に最適の位置合わせ状態に対して全体
強度分布ＰｉＶＥＲ（ｉ＝１〜４）以内で、光導波体組
み合わせＬＷ１／ＬＷ１＊が、上側限界値ＯＳをわずか
に下回わる絶対値の最大値Ｍ１ＶＥＲ（Ｍ１ＶＥＲ＞Ｍ
ｉＶＥＲ，ｉ＝２，３，４）を有する包絡線を示す。こ
のことからわかることは、光導波体ＬＷ１が近似的に理
想的に即ち心合わせされて光導波体ＬＷ１＊へ位置合わ
せされていることである。他方、光導波体組み合わせＬ
Ｗ２／ＬＷ２＊は最も不良に位置合わせされた光導波体
対を示す。何故ならばその所属の、その最大値Ｍ２ＶＥ
Ｒを有する包絡線Ｐ２ＶＥＲは、ちょどまだ、下側の許
容限界ＵＳの外に存在するからである。全体強度分布の
評価のための詳細が図８〜図１０に示されている。

【００６４】光導波体の両方の群Ｇ１とＧ１＊との間の
最適の一致の個所において、相並んで配属された４つの
光導波体対に対する減衰測定を実施すると有利である。
ここで同じく有利に、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４を光導波
体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊と、破線で示された溶接装置ＳＶ
２を用いて対毎に持続できる。溶接過程のために光導波
体組み合わせＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊が好
適に（図１のように）その外側のスリーブＢＨ２＊〜Ｂ
Ｈ１から前もって、即ち位置合わせ―および溶接過程の
前に、解放される。溶接装置ＳＶ２は評価装置ＡＥによ
り、破線で示された線ＳＬ８を介して、制御信号ＳＳ８
により操作される。溶接過程の制御は有利に、既に図１
および図２に示された様に行なわれる。

【００６５】図１に示されている本発明による方法にお
いては両方の互いに位置合わせされるべき帯線における
光導波体の実際の局所的な強度分布がまず最初に供給さ
れ、次にこれらからはじめて、光導波体組み合わせの心
位置の間の“親和度”に対する尺度が即ちそれらの最適
の位置が求められる。他方、最適の位置合わせ状態は図
７に示された本発明による方法で直接測定できる。両方
の帯線の間の“ジッタ”運動を、この方法はさらに簡単
化しならびに動作速度を向上できる。

【００６６】一方の群の測定されるべき光導波体の中へ
光が入力結合され、位置合わせ個所で他方の群の相応の
光導波体の中へ過結合され、最後にこの入力結合された
光がこの中で実際に測定されている。このことにより両
方の群の相互の最適の相対位置が直接、高い精度と高い
速さで測定される。

【００６７】図１および図７に示された本発明による測
定装置を、多ファイバ用の減衰値測定装置のまたはスプ
ライス装置の構成部材とすることができる。例えばその
それぞれの部品を１つの測定トランクへまとめることが
できる。

【００６８】図８〜図１０において最適の伝送特性量の
測定の目的で、例えば２つの群の光導波体の接続時の例
えば２つの帯線の溶接時のスプライス減衰の測定の目的
で、図７に示された方法が実施される。図８〜図９にお
いて、図７のエレメントと同じエレメントは同じ記号を
有する。

【００６９】図８〜図９において拡大された平面図に、
図７の両方の帯線ＢＬ１およびＢＬ２が示されている。
両方の帯線ＢＬ１およびＢＬ２を最適に互いに溶接可能
にする目的で、これらを、図７に示された方法および図
８〜図１０に示された測定装置を用いて、まず最初に最
適に互いに位置合わせする。帯線ＢＬ２の外側スリーブ
ＢＨ２の中に固定的に埋め込まれた光導波体ＬＷ１〜Ｌ
Ｗ４は全体で、帯線ＢＬ１の外側スリーブＢＨ１の中に
固定的に埋め込まれている光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊
を有する群Ｇ１＊は、最適に位置合わせ個所ＡＳの領域
に配属されている。位置合わせ過程に対して、帯線ＢＬ
２の光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４が帯線ＢＬ１〜光導波体Ｌ
Ｗ１＊〜ＬＷ４＊に、位置合わせ個所ＡＳの領域におい
て、好適にそれらの光導波体端部に関してそれぞれ０ｍ
ｍ〜１ｍｍの間隔ＬＳ１〜ＬＳ４で互いに対向する。溶
接過程に対して光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４ないしＬＷ１＊
〜ＬＷ４＊がそれぞれそれらのスリーブＢＨ２ないしＢ
Ｈ１から取り出されて、さらに場合によりそれらの被覆
（コーティング）が除去される。その目的は溶接過程中
に溶接個所におけるスリーブ材料による汚れを、したが
って接続品質の低下をできるだけ阻止するためである。
光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４ないしＬＷ１＊〜ＬＷ４＊は好
適に著しく短かい長さで例えば３ｍｍ〜１０ｍｍで位置
合わせ個所ＡＳの領域に自由に置かれる。この場合、光
導波体ＬＷ１〜ＬＷ４ないしＬＷ１＊〜ＬＷ４＊は有利
に、例えば図１に示されている様に、案内手段における
位置固定の目的で収容されている。図８〜図１０におい
て、光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４ないしＬＷ１＊〜ＬＷ４＊
の光導波体心の位置は、即ち最大の光案内の場所はそれ
ぞれ破線で示されている。群Ｇ１とＧ１＊との局所的分
布の間の親和度を位置合わせ―および溶接過程中に測定
可能にする目的で、図８〜図１０の光導波体ＬＷ１〜Ｌ
Ｗ４の中へ測定信号Ｐ１〜Ｐ４が図７に示されている様
に供給される。これらの所属のビーム電磁界は位置合わ
せ個所ＡＳの領域において光導波体ＬＷ１〜ＬＷ４の開
口端部に現われて、さらに少なくとも部分的に群Ｇ１＊
の光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊の開口端部へ入力結合さ
れる。光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊への過結合された光
の時間経過は図７に測定信号ＭＳ１〜ＭＳ４にわたり記
録され、さらに図７の表示装置ＤＳＰ２において表示さ
れる。図８〜図１０に、スプライス減衰の測定のために
必要とされる強度分布が、それぞれ表示装置ＤＳＰ２に
記録されている。強度分布は、それぞれ過結合された出
力の分布を再生する。この出力は、送信側の光入力結合
の際のおよび受信側の光出力結合の際の結合作用度を表
わす。Ｘ方向へのスプライス減衰の測定の目的で例えば
次の独立の測定ステップが実施される；（Ｙ方向へのス
プライス減衰は同様に測定できる）。しかし簡単化の目
的で以下に前提とされることは、全部の相応のファイバ
対が既に最適に位置合わせされていることである。その
結果、例えばＸ方向に関する位置合わせだけを実施して
説明する。

【００７０】第１測定ステップ 第１の測定ステップにおいて帯線ＢＬ１が帯線ＢＬ２に
対してＸ方向へ（図７の座標系の）少なくとも１回、往
復運動される。図８にこの往復運動（“ジッタ”）が正
方向及び負方向で２重矢印ＶＲで示されいる。はじめは
位置合わせ化されない初期位置において対向している帯
線ＢＬ１およびＢＬ２がそれぞれ少なくとも次のような
変位長さだけ往復運動される、即ち接続されるべき相応
の光導波体対ＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊の各
々に対して、それぞれ個々に絶対値の強度最大値Ｍ１Ｉ
Ｄ〜Ｍ４ＩＤが、光導波体ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊へ入力結
合された光の所属の最良と思はれる時間的強度経過Ｐｉ
ＩＤ（ｉ＝１〜４）において測定できる様に往復運動さ
れる。変位距離は、帯線ＢＬ１／ＢＬ２の最初の位置合
わせされない初期状態における最も不良に位置合わせさ
れた光導波体心の例えば図８におけるＬＷ２／ＬＷ２＊
の最大に発生された偏差から、ならびにそれぞれのビー
ム電磁界幅（モノモード光導波体の場合は約１０μｍ）
から求められる。例えば図７に示されている両方の帯線
ＢＬ１とＢＬ２との間の一種のゆれ運動（“ジッタ”）
が実施されることにより、各々相応の光導波体対に対し
て、その都度に個々に絶対値の強度最大値Ｍ１ＩＤ〜Ｍ
４ＩＤを上回ることが可能となり、そのためその都度に
個々に局所的に分解されたないし時間的に分解された、
過結合された出力の、最大可能な強度分布Ｐ１ＩＤ〜Ｐ
４ＩＤを、各々の相応の光導波体対に対して求めること
ができる。（一定の相対速度の場合は変位個所は変位時
に相応する。）光導波体組み合わせＬＷ１／ＬＷ１＊〜
ＬＷ４／ＬＷ４＊に包絡線として個別強度分布がないし
個々の出力分布Ｅ１ＩＤ〜Ｅ４ＩＤが配属されている。
所属の、時間過程中に現われる最良と思はれる結合作用
度ないし強度分布Ｐ１ＩＤ〜Ｐ４ＩＤは、その都度にそ
れらの最大値Ｍ１ＩＤ〜Ｍ４ＩＤにより、２つの互いに
配属された光導波体の心合わせされた個々の位置合わせ
の場所を特徴づける。表示装置ＤＳＰ２において結像さ
れた瞬時の撮影は、光導波体対ＬＷ１／ＬＷ１に対して
絶対値の強度最大値Ｍ１ＩＤが時間的強度分布Ｅ１ＩＤ
（＝Ｐ１ＩＤ）において存在し、そのため光導波体組み
合わせＬＷ１／ＬＷ１＊がちょうど心合わせされて位置
合わせされていることを、即ちＸ方向において偏差がな
く対向していることを、示す。他方、光導波体対ＬＷ２
／ＬＷ２＊，ＬＷ３／ＬＷ３＊ないしＬＷ４／ＬＷ４＊
は図８の瞬時撮影においてはＸ方向へは位置合わせされ
ていない。（Ｅ２ＩＤ≠Ｐ２ＩＤ，Ｅ３ＩＤ≠Ｐ３Ｉ
Ｄ，Ｅ４ＩＤ≠Ｐ４ＩＤ）。対ＬＷ３／ＬＷ３＊はだい
たい対ＬＷ１／ＬＷ１＊のように位置合わせされてい
る。そのためそれらの最大値は、Ｘ方向への変位運動の
際の同じ時点に上回わられる。

【００７１】これらのために継続的に即ち時間的に相次
いで、ジッタ運動中に同じく最大値Ｍ２ＩＤ〜Ｍ４ＩＤ
が個々に走行される。最大値Ｍ１ＩＤ〜Ｍ４ＩＤがおよ
び／またはそれらの所属の最大と思はれる出力分布Ｐ１
ＩＤ〜Ｐ４ＩＤが、最終的に図７の評価装置ＡＥにおい
て記憶される。

【００７２】第２測定ステップ 次に両方の帯線ＢＬ１およびＢＬ２が互いに相対的に往
復変位される間中に、全部の相応の光導波体対ＬＷ１／
ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に対して、所属の個々の出
力レベルが同時に最大となる最適な位置合わせ状態も形
成される。これは、光導波体の両方の群の間の最大の親
近性の場所である。この最適の位置合わせ状態が図９に
表示装置ＤＳＰ２に示されている。

【００７３】全部の個別強度分布ＰｉＶＥＲ（ｉ＝１〜
４）は、下側限界値ＵＳと上側限界値ＯＳとの間の許容
範囲Ｔの中に存在する。上側限界値ＯＳは、達成可能な
最大の出力レベルを特徴づける。この出力レベルは、相
応の光導波体対をＸ方向へ変位させることなく個々に位
置合わせできる。他方、下側限界値ＵＳは、偏差を有す
るスプライス結合に対してまだ許容できるないし受け入
れられる出力レベルを特徴づける。

【００７４】強度分布Ｐ１ＶＥＲ〜Ｐ４ＶＥＲを、それ
らの最良の可能な即ち偏差なしで達成される強度分布Ｐ
１ＩＤ〜Ｐ４ＩＤにより正規化される。

【００７５】 ＰｉＶｅｒ／ＰｉＩＤ ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４， この正規化により上側限界値ＯＳに好適に値１が配属さ
れる。（ＯＳ＝１）。下側限界値ＵＳに対しては値が１
より小さい（ＵＳ＜１）。許容範囲Ｔに対して好適に、
上側限界値ＯＳ（＝１）と下側限界値ＵＳ（＜１）との
間の差、３ｄＢが選定されると、下側限界値に対してＵ
Ｓ＝０．５が形成される。全部の正規化された出力レベ
ルに対して、即ち ＰｉＶＥＲ／ＰｉＩＤ ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４， に対して、次に最適の位置合わせ状態において次の値が
要求される： ＵＳ＝０.５ ＜ ＰｉＶＥＲ／ＰｉＩＤ ＜ １ ＝ＯＳ
ｉ ＝１ ｂｉｓ ４ 対数表現にすると、 ｏ ｄＢ ＜ ｜１０ ｌｏｇ ＰｉＶＥＲ／ＰｉＩＤ ｜
＜ ３ ｄＢ もちろん同様に、強度分布ＰｉＶＥＲ（ｉ＝１〜４）
を、最良に可能をな達成される強度分布ＰｉＩＤ（ｉ＝
１〜４）の絶対値の最大値ＭｉＩＤで除算する正規化も
有利に可能である、即ち ＰｉＶＥＲ／ＭｉＩＤ ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４， 正規化の利点として、評価が例えばＹ方向への位置合わ
せ状態にならびに外部の入力係数に関係なくなる。例え
ば送信側の光入力結合の際のおよび受信側の光出力結合
の際の、例えば異なる色指示（種々の色、異なる層の厚
さ等）により帯線の中の光導波体へ発生し得る異なる結
合作用度に関係なくなる。

【００７６】実際は既に個々の光導波体に対して３０ｄ
Ｂまでの結合作用度における差が生じ得る。これにより
客観的評価が著しく不確実になるおそれがある。正規化
により、個々の光導波体に対して同じ大きさのまたは異
なる大きさの送信信号，測定信号がおよび／または受信
信号が存在するか否かは、もはや何の役割も果さない。

【００７７】図９の瞬時撮影において光出力のない強度
の正規化された指示の場合（ならびに簡単化のため、既
に行なわれたＹ方向への最適の位置合わせの前提の下
に）、光導波体対ＬＷ１／ＬＷ１＊が例えばＸ方向へ近
似的に偏差なしに即ち理想的に心合わせをされて位置合
わせされる。他方、光導波体ＬＷ２／ＬＷ２＊〜ＬＷ４
／ＬＷ４＊は残留するしかしなお許容可能な偏差を有す
る。この場合、光導波体組み合わせＬＷ２／ＬＷ２＊は
最小の受信レベルＰ２ＶＥＲを有する、即ち最大の残留
偏差を有する。この最適の位置合わせ状態において、両
方の群Ｇ１およびＧ１＊の全部の光導波体に対して、そ
れぞれ２つの相応の光導波体の個別強度分布ＰｉＶＥＲ
（ｉ＝１〜４）の相対最大値ＭｉＶＥＲ（ｉ＝１〜４）
も、評価装置ＡＥの中に保持される。最終的に両方の帯
線ＢＬ１およびＢＬ２がこの位置合わせ状態において互
いに相対運動され、さらに溶接過程が図１ないし図７の
実施例に応じて実施される。この溶接過程は有利に、最
も不良に位置合わせされた光導波体対の最大残留偏差に
より制御できる。図９においてこれは光導波体対ＬＷ２
／ＬＷ２＊の偏差であり、これは表示装置ＤＳＰ２にお
いて最大の減衰を即ち最小の個別強度分布Ｐ２ＶＥＲを
有する。下側の閾値Ｕｓを出力レベルが下回わると、溶
接過程が遮断されて新たな位置合わせ過程がスタートさ
れる。

【００７８】第３測定ステップ 両方の群Ｇ１およびＧ１＊に対する多重スプライスの実
施後に最後に再び、それぞれ相応の光導波体対の局所最
大値ＭｉＳ（ｉ＝１〜４）を有する強度分布ＰｉＳ（ｉ
＝１〜４）が測定されて、図７の評価装置ＡＥにおいて
保持される。図１０に例えば溶接過程の実施後の全体強
度分布ＰｉＳが表示装置ＤＳＰ２の中に記録されてい
る。図９の最大位置合わせ状態における溶接の際に、光
導波体の両方の群の残留偏差は、溶融されたガラスの表
面張力により消失する。この場合もちろん、不良に位置
合わせされた光導波体対たとえばＬＷ２／ＬＷ２＊に対
して改善が達成できる（図２の実施例を参照のこと）
と、減衰が有利に低減できる。図１０において全部の出
力レベルＰｉＳ（ｉ＝１〜４）が、図９の撮影よりも改
善された様子が示されている。

【００７９】これらの３つの測定ステップを用いてＸ方
向の実際の個々のスプライス減衰が、各々の相応の光導
波体対ＬＷ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に対して、
選択的に算出できる。このことは例えば図７の評価装置
ＡＥにより実施できる。各々の光導波体対に対する実際
の個々のスプライス減衰は、３つの成分の加算により合
成される： １． 多ファイバ技術の場合、光導波体の２つの群Ｇ１
とＧ１＊の最適の位置合わせ状態において相応の光導波
体対に対する半径方向の偏差がそれぞれ残る。何故なら
ば個々の位置合わせが大抵は可能ではないからである。
これにより、最良の可能の（理想的な）個別の位置合わ
せ状態にもとづいて生ずる高められた減衰が形成される
からである。最適の位置合わせ状態における出力レベル
ＰｉＶＥＲ（ｉ＝１〜４）に対する最良の可能の出力レ
ベルＰｉＩＤのその都度の比は、両方の群Ｇ１およびＧ
１＊の残りの差により発生された減衰ΔａＶｉを示す： Δ ａｖｉ ＝ １０ ｌｏｇ ＰｉＩＤ／ＰｉＶＥＲ ｉ
＝ １ ｂｉｓ ４ そのためＸ方向への残留偏差による減衰に対しては次の
式が適用される： Δ ａｖｉ（ｘ）＝１０ ｌｏｇ ＰｉＩＤ（ｘ）／Ｐｉ
ＶＥＲ（ｘ） ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４ 例えば相応の最大値も簡単化のために次の式で表わされ
るとする： Δ ａｖｉ ＝ １０ ｌｏｇ ＭｉＩＤ／ＭｉＶＥＲ ｉ
＝ １ ｂｉｓ ４ 同じく好適に面も相応の強度分布の下に比が形成され
る。

【００８０】２． ２つの相応の光導波体の溶接により
それぞれ起因する減衰Δ ａｓｉ（ｉ＝１〜４）は、そ
れぞれ、出力レベルＰｉＳ（ｉ＝１〜４）に対する相応
の光導波体の溶接後の最適の位置合わせ状態における出
力レベルＰｉＶＥＲの比から算出される。

【００８１】 Δ ａｓｉ ＝ １０ ｌｏｇ ＰｉＶＥＲ ／ ＰｉＳ （式 ２） ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４ そのため溶接過程によるＸ方向への減衰変化に対しては
次の式が適用される： Δ ａｓｉ(ｘ)＝ １０ ｌｏｇ ＰｉＶＥＲ（ｘ）／Ｐｉ
Ｓ ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４ 前記の１．に示されている様に同じく有利に所属の最大
値または面が、所属の出力レベルの下に次の比で表わさ
れる Δ ａｓｉ ＝ １０ ｌｏｇ ＭｉＶＥＲ ／ ＭｉＳ ｉ
＝ １ ｂｉｓ ４ ３． 最後に、それぞれ２つの相応の光導波体の間の異
なる個々の空隙長さＬＳ１〜ＬＳ４（図８参照）により
形成される減衰成分Δａｌｉ（ｉ＝１〜４）は、次の補
正式を用いて近似的に考慮できる：良好な近似において
空隙減衰Δａｌｉは次の通りである：Δａｌは、理想的
に位置合わせされた光導波体対（そのためｉに依存っし
ない）の場合の空隙減衰である。

【００８２】Δａｌは、ガラスから空気へのないし空気
からガラス（たわみ）への移行の際の反射により、約
０．３ｄＢの値を有する。空隙長さが大きい場合は付加
的な補正が必要とされる（空隙長さＬＳｉに応じて。た
だしｉはｉ番目のファイバ対のＺ方向への空隙長さ。ｉ
＝１〜４）。

【００８３】Δ ａｌｉ ＝ Δ ａｌ ＋ Δ ａｚｉ ｉ ＝ １ ｂｉｓ ４ ｕｎｄ ＬＳｉ ｉｎ μｍ 係数ａはモノモード光導波体の場合は経験的に求められ
る。ａは電磁界の直径と波長の関数である。通常の単モ
ードファイバの場合は波長１３００ｎｍでａ≒５０／μ
ｍである。図６に空隙減衰 Δ ａｌｉが空隙ＬＳｉ（ｉ
＝１〜４）に依存して記入されている。空隙ＬＳｉがゼ
ロ（ＬＳｉ＝０）へ近づくと、２つの心合わせされて、
即ち理想的に位置合わせされた光導波体間の移行領域に
おけるガラスから空気へのないし空気からガラスへの移
行の際の反射により、常に約０．３ｄＢの損失が残る。
空隙長さＬＳｉが増加すると（ＬＳｉ＞Ｏ）、たわみ効
果による損失が付加される。これは付加的な補正式によ
り分離されて、各々の光導波体対ＬＷ１／ＬＷ１＊〜Ｌ
Ｗ４／ＬＷ４＊のために考慮できる。

【００８４】そのため全スプライス減衰Δ ａｉ（ｉ＝
１〜４）は、各々の互いに接続されるべき光導波体対Ｌ
Ｗ１／ＬＷ１＊〜ＬＷ４／ＬＷ４＊に対して、選択的に
かつ個々に、３つの部分減衰Δ ａｌｉ，Δ ａｖｉおよ
びΔ ａＳｉの加算から形成される： Δ ａｉ ＝ Δ ａｌｉ ＋ Δ ａｖｉ ＋ Δ ａｓｉ （式 ４） ｉ ＝ １ … ４ 図８〜図１０に、Ｘ方向への帯線ＢＬ１およびＢＬ２の
位置合わせが行なわれる場合だけが示されている。帯線
ＢＬ１とＢＬ２との相応の位置合わせはもちろん、両方
の帯線ＢＬ１およびＢＬ２の長手軸線を横切る任意の方
向へも、付加的に実施できる。好適に例えばその都度
に、Ｘ方向への偏差による個々の選択的な減衰Δ ａｖ
ｉ （ｘ）が、およびＹ方向への残留偏差によるΔ ａｖ
ｉ が、それぞれ２つの相応の互いに溶接されるべき光
導波体対のために、測定される。式（４）はＸＹ方向お
よびＹ方向への偏差に分解すると次のようになる： Δ ａｉ ＝ Δ ａｌｉ ＋ Δ ａｖｉｘ ＋ Δ ａｖｉｙ
＋ Δ ａsｉ Δ ａｖｉ ＝ Δ ａｖｉｘ ＋ Δ ａｖｉｙ 図８〜図１０はそれぞれスプライス減衰だけを取り上げ
たが、ここに示された手順および方法ならびにそれらの
利点は、別の光学的な伝送特性量の測定の場合も、例え
ば位相遅延時間、伝達特性、パルス応答等の測定の場合
も、適用される。この場合、図８〜図１０に示された利
点は、両方の群における光導波体の位置の測定法により
得られる。

【００８５】図１〜図１０に示された実施例およびその
ための説明は、一層よく図示する目的でそれぞれ具体的
な数（ｎ＝４）へ関係づけられる。しかもこれらは任意
に多数の光導波体へ転用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の方法を実施する装置の基本構成の部分
斜視図である。

【図２】図１による本発明の方法を実際する際の溶接中
の、種々異なるように位置合わせされた光導波体対の場
合の受信レベル図である。

【図３】図１に示された本発明の方法による２つの全体
強度分布図である。

【図４】図１に示された本発明の方法による２つの全体
強度分布図である。

【図５】図３および図４による両方の全体強度分布の相
互相関関数を示す図である。

【図６】空隙長さに依存して示された空隙―減衰曲線図
である。

【図７】本発明による方法を実施する第２の測定装置で
ある。

【図８】光学的伝送量を測定するための、例えばスプラ
イス減衰の、図７に示された方法を実施する際の詳細図
である。

【図９】光学的伝送量を測定するための、例えばスプラ
イス減衰の、図７に示された方法を実施する際の詳細図
である。

【図１０】光学的伝送量を測定するための、例えばスプ
ライス減衰の、図７に示された方法を実施する際の詳細
図である。

【符号の説明】

Ｇ１，Ｇ１＊ 光導波体群 ＬＷ１〜ＬＷ４，ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊ 光導波体群 Ｎ１〜Ｎ４，Ｎ１＊〜Ｎ４＊，ＡＺ１，ＡＺ２ 表示
装置 ＰＭ１〜ＰＭ４，ＰＭ１＊〜ＰＭ４＊ 包絡線 ＤＰ ディスプレー ＳＡＺ 表示装置 ＨＬ１，ＨＬ２ 支持装置 ＳＬ１，ＳＬ２ 制御線路 ＣＯＲ 計算ユニット ＣＯＲ 相関関数 ＳＰ１〜ＳＰ４ 送信信号 ＺＴ１〜ＺＴ３ 円筒 ＳＦ１〜ＳＦ４ ビーム電磁界 Ｐ１〜Ｐ４ 測定信号 ＡＳ 位置合わせ個所 ＢＫ１〜ＢＫ４ たわみ結合器 ＥＳ１〜ＥＳ４ 受信ビーム電磁界 ＭＥＭ１〜ＭＥＭ４ 測定値メモリ ＡＥ 評価装置

Claims (31)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２つの互いに位置合わせされるべき群
   （Ｇ１，Ｇ１＊）における光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４，
   ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の位置の測定法であって、この場
   合、１つの群の少なくとも１つの光導波体の中へ光が入
   力結合される形式の前記の測定法において、両方の群の
   うちの第１の群（Ｇ＊）を第２の群（Ｇ１）に対して、
   光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４）の長手軸線を横切る方向の
   少なくとも１つの平面において、少なくとも１回変位さ
   せ、該変位過程中に第２の群の少なくとも１つの光導波
   体（ＬＷ１〜ＬＷ４）から光を連続的に第１の群（Ｇ１
   ＊）の少なくとも１つの光導波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４
   ＊）の中へ入力結合し、第１の群（Ｇ１＊）の中に入力
   結合された光の強度分布の時間経過を測定し、該時間経
   過から光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４，ＬＷ１＊〜ＬＷ４
   ＊）の局所的強度分布を、評価のために保持することを
   特徴とする、光導波体の位置の測定法。
2. 【請求項２】 第１の群（Ｇ１＊）を第２の群（Ｇ１）
   の光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４）の長手軸線を横切る方向
   の少なくとも１つの平面において、少なくとも１回変位
   させ、第１の群の少なくとも１つの観測用光導波体（例
   えばＬＷ１＊）の中へ連続的に光を、第２の群（Ｇ１）
   の少なくとも１つの光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４）から入
   力結合し、この観測用光導波体（例えばＬＷ１＊）にお
   ける強度分布の時間経過から、第２の群（Ｇ１）におけ
   る光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４）の局所的強度分布（ＰＭ
   ｉ）を測定して保持する、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 第２の群（Ｇ１）を、第１の群（Ｇ１
   ＊）の光導波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の長手軸線を横
   切る方向の少なくとも１つの平面において少なくとも１
   回変位させ、第２の群（Ｇ１）の少なくとも１つの観測
   用光導波体（例えばＬＷ１）の中へ連続的に光を、第１
   の群（Ｇ１＊）の少なくとも１つの光導波体（ＬＷ１＊
   〜ＬＷ４＊）から入力結合し、この観測用光導波体（Ｌ
   Ｗ１）における強度分布の時間経過から、第１の群（Ｇ
   １＊）における光導波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の局所
   的強度分布を求めて保持する、請求項１記載の方法。
4. 【請求項４】 観測用光導波体として、第１のおよび／
   または第２の群（Ｇ１＊，Ｇ１）の光導波体を用いる、
   請求項２又は３記載の方法。
5. 【請求項５】 観測用光導波体として、固有の測定用光
   導波体を用いる、請求項２又は３記載の方法。
6. 【請求項６】 第１の群（Ｇ１＊）の光導波体（ＬＷ１
   ＊〜ＬＷ４＊）の局所強度分布（ＰＭｉ＊）を、第２の
   群（Ｇ１）の光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４）の局所強度分
   布（ＰＭｉ）と相関化する、請求項１から５までのいず
   れか１項記載の方法。
7. 【請求項７】 第１の群（Ｇ１＊）の光導波体（例えば
   ＬＷ１＊）を、および／または第２の群（Ｇ１）の対応
   の光導波体を、それぞれ案内溝（ＦＭ＊，ＦＭ）の中へ
   収容する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方
   法。
8. 【請求項８】 第１の群（Ｇ１＊）を第２の群（Ｇ１）
   に対して、その光導波体（例えばＬＷ１〜ＬＷ４）の長
   手軸線を横切る方向の少なくとも１つの平面において少
   なくとも１回変位させ、この変位過程の間中に連続的に
   光を、第２の群（Ｇ１）の少なくとも１つの光導波体
   （ＬＷ１〜ＬＷ４）から、第１の群（Ｇ１＊）の少なく
   とも１つの配属された対応する光導波体（ＬＷ１＊〜Ｌ
   Ｗ４＊）の中へ入力結合し、第１の群（Ｇ１＊）の光導
   波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の中へ過結合された光の強
   度分布の時間経過から、第２の群（Ｇ１）の光導波体
   （ＬＷ１〜ＬＷ４）に対する、第１の群（Ｇ１＊）の光
   導波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の相対位置を直接求め
   る、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
9. 【請求項９】 第１の群（Ｇ１＊）と第２の群（Ｇ１）
   をその光導波体の長手軸線を横切る方向の少なくとも１
   つの平面において、少なくとも１回、互いに相対的に往
   復運動（“ジッタ”運動）させる、請求項１から８まで
   のいずれか１項記載の方法。
10. 【請求項１０】 両方の群（Ｇ１＊，Ｇ１）の相互間の
    相対変位を、その都度に２つの対応する光導波体（ＬＷ
    １＊，ＬＷ１）の少なくとも最大残留ずれだけ実施す
    る、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
11. 【請求項１１】 群（Ｇ１＊，Ｇ１）の長手軸線を横切
    る方向の少なくとも１つの平面における少なくとも１つ
    の変位過程において、第２の群（Ｇ１）から第１の群
    （Ｇ１＊）へ過結合された光の強度分布の時間経過を検
    出し、この経過（ＰｉＶＥＲ，ｉ＝１〜４）から群の間
    の最適に位置合わせされた位置（最適な位置合わせ状
    態）を測定する、請求項１から１０までのいずれか１項
    記載の方法。
12. 【請求項１２】 第１の群（Ｇ１＊）を第２の群（Ｇ
    １）に対して少なくとも１回、光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ
    ４）の長手軸線の存在する平面に平行に少なくとも１回
    移動し、過結合された光の強度分布の時間経過を測定し
    て記録する、請求項１から１１までのいずれか１項記載
    の方法。
13. 【請求項１３】 第１の群（Ｇ１＊）を第２の群（Ｇ
    １）に対して１つの平面（例えばＹ方向の）において第
    １の観測平面（例えばＸ方向の）に垂直に少なくとも１
    回互いに相対的に変位し、過結合された光の強度分布の
    時間経過を捕捉検出する、請求項１２記載の方法。
14. 【請求項１４】 強度分布（ＰＭｉ，ＰＭｉ＊）の時間
    経過から、第１の群および第２の群（Ｇ１＊，Ｇ１）の
    それぞれ２つの互いに配属された対応する光導波体（例
    えばＬＷ１＊／ＬＷ１）の横方向のずれを選択的に求め
    る、請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
15. 【請求項１５】 変位過程中に第１のおよび第２の群
    （Ｇ１＊，Ｇ１）のそれぞれ２つの対応する光導波体
    （例えばＬＷ１＊，ＬＷ１）を、時間的に相次いで理想
    的な位置合わせ状態において互いに心合わせして位置合
    わせする、請求項１から１４までのいずれか１項記載の
    方法。
16. 【請求項１６】 ２つの対応する光導波体（例えばＬＷ
    １＊，ＬＷ１）の理想的な位置合わせ状態において、そ
    れらの強度分布（ＰｉＩＤ，ｉ＝１〜４）をその都度に
    個々に測定して保持する、請求項１５記載の方法。
17. 【請求項１７】 第１のおよび第２の群（Ｇ１＊，Ｇ
    １）を、最大の親和性を有する最適の位置合わせ状態へ
    移す、請求項１から１６までのいずれか１項記載の方
    法。
18. 【請求項１８】 それぞれ２つの互いに配属された光導
    波体（例えばＬＷ１＊／ＬＷ１）に対する前記の最適の
    位置合わせ状態において、それらの強度分布（ＰｉＶＥ
    Ｒ，ｉ＝１〜４）を個々に測定して保持する、請求項１
    ７記載の方法。
19. 【請求項１９】 第１のおよび第２の群（Ｇ１＊，Ｇ
    １）をそれらの最適の位置合わせ状態の中へ移し、スプ
    ライス過程を例えば溶接過程を、第１のおよび第２の群
    （Ｇ１＊，Ｇ１）のそれぞれ２つの対応する光導波体
    （例えばＬＷ１＊／ＬＷ１）に対して実施する、請求項
    １から１８までのいずれか１項記載の方法。
20. 【請求項２０】 光導波体の第１のおよび第２の群（Ｇ
    １＊，Ｇ１）のスプライス法であって、この場合、一方
    の群（例えばＧ１）の光導波体（例えばＬＷ１〜ＬＷ
    ４）の少なくとも１つの中へ光を入力結合する、例えば
    請求項１から１９までのいずれか１項記載の方法におい
    て、第１の群（Ｇ１＊）の光導波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４
    ＊）の、第２の群（Ｇ１）の光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ
    ４）とのスプライスを、光の時間的強度分布を用いて制
    御し、光を、スプライス中に第２群の少なくとも１つの
    光導波体（例えばＬＷ２）から第１群の少なくとも１つ
    の光導波体（例えばＬＷ２＊）へ過結合する、スプライ
    ス法。
21. 【請求項２１】 スプライスを、両方の最も不良に位置
    合わせされた、両方の群（Ｇ１，Ｇ１＊）の光導波体
    （例えばＬＷ３／ＬＷ３＊）に配属されている強度分布
    （ＰＳ（Ｚ））を用いて制御する、請求項２０記載の方
    法。
22. 【請求項２２】 第１のおよび第２の群（Ｇ１＊，Ｇ
    １）のそれぞれ２つの対応する光導波体（例えばＬＷ１
    ＊／ＬＷ１）のスプライス過程の後に、それらの所属の
    強度分布（ＰｉＳ，ｉ＝１〜４）を選択的に測定する、
    請求項１９から２１までのいずれか１項記載の方法。
23. 【請求項２３】 ２つの互いにスプライスされるべき群
    （Ｇ１＊，Ｇ１）の減衰の測定法であって、この場合、
    １つの群の光導波体の少なくとも１つの中に光を入力結
    合する形式の、例えば請求項１から２２までのいずれか
    １項記載の減衰の測定法において、第１の測定ステップ
    においては、変位運動中に時間的に相次いでそれぞれ２
    つの互いに配属された光導波体（例えばＬＷ１＊，ＬＷ
    １）を互いに心合わせして位置合わせし、この理想的な
    位置合わせ状態においてそれぞれそれらの所属の強度分
    布（ＰｉＩＤ，ｉ＝１〜４）を選択的に求めて保持し、
    次に第２の測定ステップにおいては光導波体の第１のお
    よび第２の群（Ｇ１＊，Ｇ１）に対して最適の位置合わ
    せ状変を変異過程中に求めて次のように処理し、即ちこ
    の最適の位置合わせ状態においてそれぞれ２つの対応す
    る光導波体（例えばＬＷ１＊，ＬＷ１）に対して、それ
    らの所属の強度分布（ＰｉＶＥＲ，ｉ＝１〜４）を測定
    して保持し、次に第３の測定ステップにおいては両方の
    群（Ｇ１＊，Ｇ１）を求められた最適の位置合わせ状態
    へ移し、この状態でそれらの対応する光導波体を互いに
    スプライスし、最後にスプライス過程の後に、それぞれ
    ２つの互いに接続された光導波体（例えばＬＷ１＊，Ｌ
    Ｗ１）に対して、それらの所属の強度分布（ＰｉＳ，ｉ
    ＝１〜４）を求めて保持し、前記の３つの測定ステップ
    において得られた強度分布から、それぞれ２つの互いに
    接続された光導波体（例えばＬＷ１＊，ＬＷ１）に対し
    て、それらのスプライス減衰を選択的に測定する方法。
24. 【請求項２４】 ２つの互いに位置合わせされるべき群
    （Ｇ１，Ｇ１＊）における光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４，
    ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の位置の測定装置であって、この
    場合、１つの群の少なくとも１つの光導波体の中へ光が
    入力結合される形式の前記の測定装置において、第１の
    群（Ｇ１＊）の光導波体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）を有す
    る第１の支持装置（ＨＬ１＊）が、第２の群（Ｇ１）の
    光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４）を有する第２の支持装置
    （ＨＬ１）に対して相対的に、光導波体（例えばＬＷ１
    〜ＬＷ４）の長手軸線を横切る方向の少なくとも１つの
    平面において変位可能に設けられており、第２の群（Ｇ
    １）の少なくとも１つの光導波体（例えばＬＷ１〜ＬＷ
    ４）から第１の群（Ｇ１＊）の少なくとも１つの光導波
    体（ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）へ過結合される光の強度分布
    の時間経過を検出するための受信装置（ＥＭ１）が設け
    られており、さらにメモリ装置（ＭＥＭ１）が設けられ
    ており、該メモリ装置は前記の時間的な強度分布経過か
    ら、光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４，ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）
    の局所的強度分布（ＰＭｉ，ＰＭｉ＊）を測定して、評
    価のために保持することを特徴とする、２つの互いに位
    置合わせされるべき群（Ｇ１，Ｇ１＊）における光導波
    体（ＬＷ１〜ＬＷ４，ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の位置の測
    定装置。
25. 【請求項２５】 両方の群の所属の局所的な強度分布
    （ＰＭｉ＊，ＰＭｉ）から、両方の群（Ｇ１＊，Ｇ１）
    の最適の位置合わせ位置を測定するための相関器（ＣＯ
    Ｒ）が設けられている、請求項２４記載の装置。
26. 【請求項２６】 両方の群(Ｇ１，Ｇ１＊)における光導
    波体（ＬＷ１〜ＬＷ４，ＬＷ１＊〜ＬＷ４＊）の局所的
    な強度分布を可視的に表示する表示装置（ＡＺ１，ＡＺ
    ２）がそれぞれ設けられている、請求項２４又は２５記
    載の装置。
27. 【請求項２７】 第１群と第２群（Ｇ１＊，Ｇ１）との
    間の相互相関関数を表示する表示装置（ＤＳＰ１）が設
    けられている、請求項２４から２６までのいずれか１項
    記載の装置。
28. 【請求項２８】 光導波体（ＬＷ１〜ＬＷ４，ＬＷ１＊
    〜ＬＷ４＊）の両方の群（Ｇ１，Ｇ１＊）の一方の群へ
    光を選択的に入力結合する送信装置（ＳＥ１）が設けら
    れている、請求項２４から２７までのいずれか１項記載
    の装置。
29. 【請求項２９】 支持装置（例えばＨＬ１＊）を変位さ
    せる制御装置（ＣＴＵ）が設けられている、請求項２４
    から２８までのいずれか１項記載の装置。
30. 【請求項３０】 受信装置（ＥＭ１）が少なくとも１つ
    の光感エレメント（ＰＤ１）を有する、請求項２４から
    ２９までのいずれか１項記載の装置。
31. 【請求項３１】 測定装置が、光導波体スプライス装置
    の構成部分である、請求項２４から３０までのいずれか
    １項記載の装置。