JPH06208003A - 反射防止膜及び表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な方法にて多層構造を有する反射防止膜
を提供することを目的とする。 【構成】 基体上に少なくとも２層の薄膜を積層した多
層構造の反射防止膜であって、前記薄膜のうち少なくと
も１層は、４００〜７００ｎｍの全波長域において吸収
を有する色素を含有し、かつ、この反射防止膜の吸収を
有する波長における反射防止膜の反射率が前記基体の反
射率より小さくなっていることを特徴とする。この反射
防止膜は、陰極線管又は液晶表示装置等の表示装置の光
透過性表示部基体に適用されて、効果的な外光反射の防
止が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、外光反射を防止する反
射防止膜及びこの反射防止膜を備えた表示装置に関し、
特に、少なくとも２層の薄膜よりなる多層反射防止膜に
関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、窓ガラス、ショー・ウインドウ、
表示装置の表示面等の材質としては、ガラスが用いられ
る。このガラスは、周囲の光、例えば太陽光や照明光を
鏡面反射することがあり、そのため、映り込み現象が生
じ、透明性等に支障をきたすことが多い。特に、表示装
置の場合には、表示面で鏡面反射が起こると、表示面に
表示されるべき映像と周囲から映り込んだ光源や周囲の
景観等が重なってしまい、著しい画像劣化を引き起こ
す。

【０００３】そこで、この反射を防止する方法として、
従来、ガラス表面上に単層もしくは多層の光学膜を形成
して、光の干渉効果を利用することで外光反射を防止す
る反射防止膜を形成する方法がある。

【０００４】この反射防止膜として一般的に良く知られ
ているものに、１／４波長膜と呼ばれているものがあ
る。この１／４波長膜について説明すると次のようにな
る。すなわち、単層の反射防止膜により外光反射を防止
する場合には、空気の屈折率をｎ₀ 、薄膜の屈折率をｎ
₁ 、基板の屈折率をｎ₂ 、薄膜の膜厚をｄ、反射を防止
しようとする光の波長をλとするとき、以下の無反射条
件を満足しなければならない。

【０００５】 ｎ₁ ｄ＝λ／４ …（１） ｎ₁ ² ＝ｎ₀ ｎ₂ …（２） 上記関係式（１）、（２）を満足する薄膜は、薄膜の膜
厚が反射を防止しようとする光の波長の１／４の厚さに
なっていることから１／４波長膜と呼ばれている。

【０００６】薄膜が式（１）、（２）を満足した場合に
は、波長λの光の反射を零にすることができるが、基板
としてガラスを用いた場合には、ｎ₂ は１．５２、空気
の屈折率ｎ₀ は１．００であるから、薄膜の屈折率ｎ₁
は１．２３である必要がある。しかしながら、現在知ら
れている中で実用上可能な低屈折率物質はＭｇＦ₂ であ
り、それ自体の屈折率は１．３８で、上記無反射条件の
屈折率（ｎ₁ ＝１．２３）より大きいため、単層の低屈
折率薄膜のみで外光反射を完全に防止することは不可能
であった。

【０００７】そこで、基板上に、基板側の下層とその上
に形成される上層の２層からなる多層式反射防止膜を形
成して反射を防止することも行われている。この場合、
空気の屈折率をｎ₀ 、上層の屈折率をｎ₃ 、下層の屈折
率をｎ₄ 、基板の屈折率をｎ₂ 、上層の膜厚をｄ₁ 、下
層の膜厚をｄ₂ 、反射を防止しようとする光の波長をλ
とするとき、以下の無反射条件を満足しなければならな
い。

【０００８】 ｎ₃ ｄ₁ ＝λ／４ …（３） ｎ₄ ｄ₂ ＝λ／４ …（４） ｎ₂ ｎ₃ ² ＝ｎ₀ ｎ₄ ² …（５） 上記関係式（３）、（４）、（５）から、基板がガラス
板の場合には、ｎ₂ ＝１．５２、ｎ₀ ＝１．００である
から、屈折率の比ｎ₄ ／ｎ₃ が１．２３になるように下
層と上層の物質を選択すれば、外光反射を防止し得るこ
とがわかる。

【０００９】なお、広帯域で反射を抑制するためには、
２層膜ではなく、３層以上の反射防止膜を用いればよい
ことが知られている。つまり、反射防止膜の膜厚は、光
の波長によって決定されるので、理論的には、Ｎ層の多
層膜とすることによりＮ個の波長の反射率を低くするこ
とができる。

【００１０】また、従来、２層構造の反射防止膜を用
い、下層膜の気孔率を制御することで下層膜の屈折率を
制御する方法が特開平３−２６１０４７号公報に示され
ている。さらに、２層構造の反射防止膜に色素を含有さ
せることにより、反射防止膜にフィルター効果を持たせ
ることも提案されている。上述のように、外光反射を抑
制するため、ガラス基板表面に多層構造の反射防止膜を
形成することが知られている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来提
案されている多層反射防止膜は、いずれも高屈折率と低
屈折率の材料をガラス基板上に積層させた構成となって
いる。これは、上述のように、特定波長に対する無反射
条件を満足させるためには、多層膜の屈折率を所定の値
に設定する必要があったためである。しかし、低屈折率
材料と高屈折率材料の中で実用可能なものは限定されて
おり、その中から適切な組合せを選択しなければならな
かった。高屈折率材料としては、ＴｉＯ₂ ，ＺｒＯ₂ ，
ＢａＯ，ＳｎＯ₂ 等が知られており、低屈折率材料とし
ては、ＭｇＦ₂ ，ＳｉＯ₂ ，ＳｎＯ₂ 等が知られてい
る。そして、これらの材料から適切な選択を考慮する必
要があった。

【００１２】また、このように多層膜を異なる材料で形
成すると、各層間における密着性が問題となり、膜形成
条件等において複雑な制御が必要であった。本発明は、
上記問題点に鑑みてなされたものであり、簡単な方法に
て多層膜構造の反射防止膜を提供することを目的とす
る。さらに、このような反射防止膜を表示面に備えた表
示装置を提供することを目的とするものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明によると、基体上
に少なくとも２層の薄膜を積層した多層構造の反射防止
膜であって、前記薄膜のうち少なくとも１層は色素を含
有し、４００〜７００ｎｍの全波長域において吸収を有
し、かつ、この吸収を有する波長における反射防止膜の
反射率が前記基体の反射率より小さくなっていることを
特徴とする反射防止膜が提供される。

【００１４】また、本発明によると、光透過性表示部基
体と、この基体上に積層された少なくとも２層の薄膜か
らなる多層構造の反射防止膜とを具備する表示装置であ
って、前記薄膜のうち少なくとも１層は色素を含有し、
４００〜７００ｎｍの全波長域において吸収を有し、か
つ、この吸収を有する波長における反射防止膜の反射率
が前記基体の反射率より小さくなっていることを特徴と
する表示装置が提供される。

【００１５】

【作用】本発明の特徴は、多層構造の反射防止膜の少な
くとも１層が色素を含有することにある。色素は一般に
特定の波長の光を選択的に吸収する。このような色素を
含有した薄膜について詳細に検討したところ次のことが
明らかになった。

【００１６】即ち、色素が吸収を有する波長の領域にお
いて、薄膜の屈折率は波長が増加するにつれて増加する
傾向を示し、その他の領域では減少傾向にあることがわ
かった。さらに、このような薄膜を用いて多層構造の反
射防止膜を形成した場合、屈折率が増加傾向を示してい
る波長の領域つまり色素の吸収領域において反射防止効
果が顕著であることが判明した。結果として、この反射
防止膜の反射率は色素の吸収領域にほぼ対応した波長領
域で低くなる。従って、可視域の全波長域にわたって反
射防止効果をもたせようとした場合、反射防止膜は可視
域の全波長域で屈折率が増加しなければならず、結果的
に可視域の全波長域の光を吸収することが必要である。

【００１７】本発明者らによる検討の結果、波長の増加
に伴い屈折率が増加傾向を示すためには、透過率は９５
％以下でなければならず、また、充分な効果が得られる
程度の屈折率の増加を得るためには、９０％以下、より
好ましくは８５％程度とすることが好ましい。

【００１８】このような知見の下に、本発明では、多層
構造の反射防止膜に、４００〜７００ｎｍの全可視光波
長域において吸収を有する色素を含有させることによ
り、可視光の反射を最大限防止することを可能としてい
る。

【００１９】ところで、通常の多層反射防止膜は、低屈
折率層と高屈折率層を低屈折率層が外表面となるように
交互に積層された構成となっている。本発明の好ましい
態様では、高屈折率層に色素を含有させることより、効
果的に可視光の反射を防止することが可能である。つま
り、前述のように色素の吸収領域で膜の屈折率特性が変
化するので、多層反射防止膜における無反射条件を満足
するように膜の屈折率を設定することができる。

【００２０】従って、多層反射防止膜における最外層か
ら数えて偶数番目の層の少なくとも１層に色素を含有さ
せることが好ましい。このように、屈折率の調整は色素
の吸収特性にて行うことができるので、多層膜の各層を
低屈折率材料と高屈折率材料というように異なる材料で
形成する必要がなくなる。従って、多層膜を同質の材料
にて形成することが可能であり、そうすることにより各
層間での密着性を向上させることが出来る。

【００２１】さらに、屈折率が異なる材料、例えば、低
屈折率物質としてＳｉＯ₂ を用い、高屈折率物質として
ＴｉＯ₂ を用い、かつ、ＴｉＯ₂ 層に色素を含有させる
ことにより、さらに反射防止効果を向上させることがで
きる。

【００２２】本発明において、使用可能な薄膜の材質と
しては、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＴａＯ₅ 、Ａ
ｌ₂ Ｏ₃ 等を挙げることが出来る。多層の薄膜はそれぞ
れ異なる材質でもよいが、同一の材質でもよい。同一の
材質の場合、上述のように各層間での密着性を向上させ
ることが出来る。しかし、この場合、多層構造としての
特性を得るためには、各層間で色素の含有を異ならせる
こと、各層間で色素の種類を異ならせること、各層間で
色素の含有量を異ならせること、等により、各層間を区
別する必要がある。

【００２３】なお、各層間で薄膜の材質を異ならせる場
合には、最上層を低屈折率物質により構成することが望
ましい。本発明において、色素としては、カ−ボンブラ
ック、グラファイト等の黒色色素が好ましく使用され
る。これら以外にも、ほとんど全ての顔料を用いること
ができる。有機顔料では、例えば、ベンジンエロー、カ
ーミンＦＢ等のアゾ系黄色、赤色顔料、ベリレン、ベリ
ロン、ジオキサジン、チオインジゴ、イソインドリノ
ン、キノフタロン、キナクリドン等の縮合顔料、フタロ
シアニン系顔料等がある。無機顔料では、チタン白、ベ
ンガラ、黄鉛、コバルトブルーが挙げられる。これらは
全可視光波長領域で５％以上、好ましくは１０％以上の
吸収を有するように組合わせた混合物とすることが必要
となる。

【００２４】このように、本発明では、色素は、種々の
形で使用可能である。例えば、カ−ボンブラックやグラ
ファイトのように、単独で全可視光波長領域を吸収する
色素を使用することも、これら色素と他の色素を組合わ
せて使用することも可能である。また、５００ｎｍ又は
６００ｎｍ以下の波長を吸収する黄色系色素又は赤色系
色素、ベンジンエロ−、カ−ミンＦＢ等と、５００ｎｍ
以上の波長を吸収する青色系色素、ヘリオゲンブル−Ｅ
Ｐ−７ｓ等を組合わせて用いることも可能である。

【００２５】上述の組合わせに係る顔料としては、その
種類の多さから、有機顔料が好ましい。また、膜の透明
性からこれらの顔料の粒径は３００ｎｍ以下が好まし
い。一般的に、膜の透明性を得るためには顔料の粒径は
波長λの１／２以下つまり可視光の場合は２００ｎｍ以
下である。これは顔料の粒径が大きくなると光散乱を生
じ透明性が損なわれる傾向があるからである。本発明で
は顔料は膜内部に閉じ込められているので顔料と空気の
屈折率差に比べ顔料と膜材料の屈折率差は小さくなり、
３００ｎｍの粒径まで透明性を維持することができる。
また、多孔質膜からの溶出を防ぎ、かつ、十分な耐光性
を有するためには、顔料の粒径は３ｎｍ以上であること
が好ましい。さらに好ましくは、顔料の粒径は５〜２０
０ｎｍである。本発明の多層反射防止膜が適用される表
示装置としては、陰極線管や液晶表示装置等の表示部基
体を通して画像を見るものがあげられる。

【００２６】

【実施例】以下、本発明の種々の実施例について説明す
る。 実施例１ （１）下層形成溶液の調製 まず、下層形成溶液として以下の組成の溶液Ａを調製し
た。

【００２７】 Ａ：Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ シリコンテトラエトキシド １．０ｗｔ％ 顔料分散液１ ６．２ｗｔ％ ＨＮＯ₃ 硝酸 ０．１ｗｔ％ 水 ０．５ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、顔料分散液１は、平均粒径が約１００ｎｍのカ
ーボンブラック（色素１）を２．４ｗｔ％の濃度でイソ
プロピルアルコールに分散させた液である。上記組成Ａ
のように調製された混合液を約１時間撹拌し、反応させ
て下層形成溶液を得た。

【００２８】（２）上層形成溶液の調製 次に、上層形成溶液として以下の組成の溶液Ｂを調製し
た。 Ｂ：Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ １．０ｗｔ％ ＨＮＯ₃ ０．１ｗｔ％ 水 ０．５ｗｔ％ ＩＰＡ 残部 上記組成Ｂのように調製された混合液を約１時間撹拌し
て反応させ、上層形成用溶液を得た。

【００２９】（３）反射防止膜の形成 まず、上述の下層形成用溶液を屈折率１．５２のガラス
基板上にディップ法により塗布し、１５０℃で５分間後
乾燥し、厚さ約０．１μｍの下層膜を形成した。次い
で、上層形成用溶液をこの下層膜上にディップ法により
塗布し、１８０℃の雰囲気で１０分間焼成し、膜厚が約
０．１μｍの上層膜を形成した。この２層反射防止膜の
各層の組成は以下に示す通りである。

【００３０】 下層 ＳｉＯ₂ ６６ｗｔ％ 色素１（カーボンブラック） ３４ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ のみ このようにして得た２層反射防止膜の分光反射率と分光
透過率を測定したところ、図１Ａ及び図１Ｂに示す結果
を得た。なお、この反射防止膜の分光反射率の測定は、
大塚電子（株）製ＭＣＰＤ−１０００を用い、光源とし
てハロゲンランプを用いて入射角０°で測定し、反射防
止膜を形成していない基板の反射率を１００％としたパ
−セントで表した。

【００３１】また、分光透過率の測定は、ミノルタカメ
ラ製分光測色計ＣＭ−１０００を用いて行った。試料を
白色板の上において分光透過率を測定し、反射防止膜を
形成していない基板の値に対する比率の平方根で表し
た。

【００３２】図１Ａ及び１Ｂからわかるように、本発明
の反射防止膜は、優れた反射防止効果を有している。 実施例２ （１）下層形成溶液の調製 まず、下層形成溶液として以下の組成の溶液Ｃを調製し
た。

【００３３】 Ｃ：Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ １．０ｗｔ％ 顔料分散液２ ８．４ｗｔ％ ＨＮＯ₃ ０．１ｗｔ％ 水 ０．５ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、顔料分散液２は、平均粒径が約１００ｎｍの色
素１（カーボンブラック）を１．７１ｗｔ％、色素２と
してヘリオゲンブルーＥＰ−７Ｓを０．３４ｗｔ％、色
素３としてペリレン系バイオレットを０．３４ｗｔ％の
濃度でイソプロピルアルコールに分散させた液である。
上記組成Ｃのように調製された混合液を空気中の水で約
１時間撹拌し、反応させて下層形成溶液とした。

【００３４】（２）反射防止膜の形成 上層形成用溶液は実施例１と同様の溶液Ｂを用い、基板
上に反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚は実
施例１と同様である。このようにして形成された２層反
射防止膜の組成は、以下に示す通りである。

【００３５】 下層 ＳｉＯ₂ ５８．８ｗｔ％ 色素１ ２９．４ｗｔ％ 色素２ ５．９ｗｔ％ 色素３ ５．９ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ のみ このようにして得た２層反射防止膜の分光反射率と分光
透過率を測定したところ、図２Ａ及び図２Ｂに示す結果
を得た。図２Ａ及び図２Ｂから明らかなように、本実施
例に係る反射防止膜は、実施例１の反射防止膜と同様に
優れた反射防止効果を有していることがわかる。

【００３６】実施例３ （１）下層形成溶液の調製 まず、下層形成溶液として以下の組成の溶液Ｄを調製し
た。

【００３７】 Ｄ：Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ １．０ｗｔ％ 顔料分散液３ ９．６ｗｔ％ ＨＮＯ₃ ０．１ｗｔ％ 水 ０．５ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、顔料分散液３は、それぞれ平均粒径が約１００
ｎｍの色素２、色素３、さらに色素４としてジオキサジ
ン系バイオレット、色素５としてイソインドリノン系イ
エローを、それぞれ０．６ｗｔ％の濃度でイソプロピル
アルコールに分散させた液である。上記組成Ｄのように
調製された混合液を約１時間撹拌し、反応させて下層形
成溶液とした。

【００３８】（２）反射防止膜の形成 上層形成用溶液として実施例１と同様の溶液Ｂを用い、
基板上に反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚
は実施例１と同様である。このようにして形成された２
層反射防止膜の組成は以下に示す通りである。

【００３９】 下層 ＳｉＯ₂ ５５．６ｗｔ％ 色素２ １１．１ｗｔ％ 色素３ １１．１ｗｔ％ 色素４ １１．１ｗｔ％ 色素５ １１．１ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ のみ このようにして得た反射防止膜の分光反射率と分光透過
率を測定したところ、図３Ａ及び図３Ｂに示す結果を得
た。これらの結果から、本実施例に係る反射防止膜は、
実施例１の反射防止膜と同様に優れた反射防止効果を有
していることがわかる。

【００４０】実施例４ （１）下層形成溶液の調製 まず、下層形成溶液として以下の組成の溶液Ｄを調製し
た。

【００４１】 Ｅ：Ｔｉ（ＯＣ₃ Ｈ₇ ）₄ チタンテトライソプロポキシド １．０ｗｔ％ 顔料分散液１ ６．２ｗｔ％ ペンチルアルコール ５．０ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、顔料分散液１は、実施例１と同じものを用い
た。上記組成Ｅのように調製された混合液を約１時間撹
拌し、反応させることにより、下層形成溶液を得た。

【００４２】（２）反射防止膜の形成 上層形成用溶液は実施例１と同様の溶液Ｂを用い、基板
上に反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚は実
施例１と同様である。このようにして形成された２層反
射防止膜の組成は以下に示す通りである。

【００４３】 下層 ＴｉＯ₂ ６５ｗｔ％ 色素１ ３５ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ のみ このようにして得た反射防止膜の分光反射率と分光透過
率を測定したところ、図４Ａ及び図４Ｂに示す結果を得
た。これらの結果から、本実施例に係る反射防止膜は、
実施例１の反射防止膜と同様に優れた反射防止効果を有
していることがわかる。

【００４４】実施例５ （１）下層形成溶液の調製 まず、下層形成溶液として以下の組成の溶液Ｄを調製し
た。

【００４５】 Ｆ：Ｔｉ（ＯＣ₃ Ｈ₇ ）₄ １．０ｗｔ％ 顔料分散液３ ９．６ｗｔ％ ペンチルアルコール ５．０ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、顔料分散液３は、上記実施例３と同じである。
上記組成Ｆのように調製された混合液を約１時間撹拌
し、反応させて下層形成溶液とした。

【００４６】（２）反射防止膜の形成 上層形成用溶液は実施例１と同様の溶液Ｂを用い、基板
上に反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚は実
施例１と同様である。このようにして形成された２層式
反射防止膜の組成は以下に示す通りである。

【００４７】 下層 ＴｉＯ₂ ５５ｗｔ％ 色素２ １１．２５ｗｔ％ 色素３ １１．２５ｗｔ％ 色素４ １１．２５ｗｔ％ 色素５ １１．２５ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ のみ このようにして得た反射防止膜の分光反射率と分光透過
率を測定したところ、図５Ａ及び図５Ｂに示す結果を得
た。これらの結果から、本実施例に係る反射防止膜は、
実施例１の反射防止膜と同様に優れた反射防止効果を有
していることがわかる。

【００４８】実施例６ （１）下層形成溶液の調製 まず、下層形成溶液として以下の組成の溶液Ｄを調製し
た。

【００４９】 Ｇ：Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ １．０ｗｔ％ ＳｎＯ₂ 微粒子分散液 １４．４ｗｔ％ 顔料分散液１ ６．２ｗｔ％ ＨＮＯ₃ ０．１ｗｔ％ 水 ０．５ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、ＳｎＯ₂ 微粒子分散液は約５０〜１００ｎｍの
ＳｎＯ2 微粒子を２ｗｔ％の濃度でＩＰＡに分散させた
液である。顔料分散液１は上記実施例１と同じである。
上記組成Ｇのように調製された混合液を約１時間撹拌
し、反応させて下層形成溶液とした。

【００５０】（２）反射防止膜の形成 上層形成用溶液は実施例１と同様の溶液Ｂを用い、基板
上に反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚は実
施例１と同様である。このようにして形成された２層式
反射防止膜の組成は以下に示す通りである。

【００５１】 下層 ＳｉＯ₂ ３９．７ｗｔ％ ＳｎＯ₂ ３９．７ｗｔ％ 色素１ ２０．５ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ のみ このようにして得た反射防止膜の分光反射率と分光透過
率を測定したところ、図６Ａ及び図６Ｂに示す結果を得
た。これらの結果から、本実施例に係る反射防止膜は、
実施例１の反射防止膜と同様に優れた反射防止効果を有
していることがわかる。また、この反射防止膜は導電性
を有し、抵抗値は１０×１０¹⁰Ω／cm²であった。

【００５２】実施例７ （１）上層形成溶液の調整 上層形成溶液として以下の組成の溶液Ｈを調整した。

【００５３】 Ｈ：Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ １．０ｗｔ％ ＳｎＯ₂ 微粒子分散液 １４．４ｗｔ％ ＨＮＯ₃ ０．１ｗｔ％ 水 ０．５ｗｔ％ ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 残部 ここで、ＳｎＯ₂ 微粒子分散液は上記実施例６と同じで
ある。上記組成Ｈのように調整された混合液を約１時間
撹拌し、反応させて下層形成溶液とした。

【００５４】（２）反射防止膜の形成 下層形成用溶液は実施例６と同様の溶液Ｇを用い、基板
上に反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚は実
施例１と同様である。このようにして形成された２層反
射防止膜の組成は以下に示す通りである。

【００５５】 下層 ＳｉＯ₂ ３９．７ｗｔ％ ＳｎＯ₂ ３９．７ｗｔ％ 色素１ ２０．５ｗｔ％ 上層 ＳｉＯ₂ ５０．０ｗｔ％ ＳｎＯ₂ ５０．０ｗｔ％ このようにして得た反射防止膜の分光反射率と分光透過
率を測定したところ、図７Ａ及び図７Ｂに示す結果を得
た。これらの結果から、本実施例に係る反射防止膜は、
実施例１の反射防止膜と同様に優れた反射防止効果を有
していることがわかる。また、この反射防止膜は導電性
を有し、その抵抗値は５×１０⁸ Ω／cm² であった。

【００５６】実施例８ 下層形成用溶液として溶液Ｂ、中層形成用溶液として溶
液Ａ、上層形成用溶液として溶液Ｂをそれぞれ用い、３
層構造の反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚
は実施例１と同様である。

【００５７】このようにして得た反射防止膜の分光反射
率と分光透過率を測定したところ、図８Ａ及び図８Ｂに
示す結果を得た。これらの結果から、本実施例に係る反
射防止膜は、実施例１に比較してより広い領域で優れた
反射防止効果を有していることがわかる。

【００５８】実施例９ 下層形成用溶液として溶液Ｂ、中層形成用溶液として溶
液Ｃ、上層形成用溶液として溶液Ｂをそれぞれ用い、３
層構造の反射防止膜を形成した。塗布方法、条件、膜厚
は実施例１と同様である。

【００５９】このようにして得た反射防止膜の分光反射
率と分光透過率を測定したところ、図９Ａ及び図９Ｂに
示す結果を得た。これらの結果から、本実施例に係る反
射防止膜は、実施例２に比較してより広い領域で優れた
反射防止効果を有していることがわかる。

【００６０】実施例１０ 次に、本発明の表示装置の具体例として、陰極線管に適
用した例について説明する。

【００６１】図１０は、本発明に基づき製造された陰極
線管６０を示す部分切欠側面図である。この陰極線管６
０は、内部が排気された気密性のガラス外囲器６１を具
備している。この外囲器６１は、ネック６２およびネッ
ク６２から連続するコーン６３を有しているとともに、
このコーン６３とフリットガラスにより封着されるフェ
ースプレート６４を有している。このフェースプレート
６４の側壁の外周には、防爆のために金属製のテンショ
ンバンド６５が巻回されている。

【００６２】このネック６２内には、電子ビームを放出
する電子銃６６が配置されている。フェースプレート６
４の内面には、電子銃６６からの電子ビームにより励起
されて発光する蛍光体層よりなる蛍光体スクリーン６７
が設けられている。また、コーン６３の外側には、蛍光
体スクリーン上を走査するように電子ビームを偏向させ
る偏向装置（図示せず）が挿着されている。

【００６３】ところで、この陰極線管６０のフェースプ
レート６４の外表面には、上述の実施例１〜７の下層形
成用溶液と上層形成用溶液を塗布することにより、本発
明の２層構造の反射防止膜６８が形成されている。

【００６４】上記実施例１では、下層形成用溶液と上層
形成用溶液をディップ法により塗布しているが、本実施
例では組立終了後の２５インチのカラー陰極線管のフェ
ースプレート前面にスピンコートにより塗布した。乾
燥、焼成の条件および下層、上層の膜厚は実施例１と同
様である。

【００６５】このようにして得た反射防止膜の特性は、
上述の実施例１〜７の図１〜図７に示す通りであった。
この反射防止膜を形成した陰極線管は、窓や照明等の周
囲光の映り込みの影響がほとんどなく、さらに着色のな
い反射光となり、色再現性を妨げることなく、良好な画
像を形成することができた。

【００６６】なお、このカラー受像管の表面に形成され
た反射防止膜の分光反射率の測定は、上記実施例と同様
に、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ−１０００を用い、光源
にハロゲンランプを用いて入射角０°で測定し、次い
で、反射防止膜を取り除いたときの同一部分の測定を行
い、反射防止膜を取り除いたときの値を１００％として
表した。また、分光透過率は、ミノルタカメラ製分光測
光計ＣＭ−１０００を用い、試料を測定し、その後、試
料の反射防止膜を薬剤等で取り除き、同一部分を測定
し、反射防止膜を取り除いたときの測定値を基準として
試料の測定値の比率の平方根で表した。

【００６７】実施例１１ 次に、本発明の表示装置の他の具体例として、液晶表示
装置に適用した例について説明する。

【００６８】図１１は、本発明に基づき製造された液晶
表示装置を示す断面図である。この液晶表示装置は、熱
硬化性樹脂からなるスペ−サ−７７により間隔を規制さ
れた対向する１対のガラス基板７１，７２の間に液晶７
８を充填することにより構成されている。基板７１，７
２の対向面には、ＩＴＯ（indium tin oxide）からなる
所定のパタ−ンの電極７３，７４が形成され、これら電
極７３，７４上には配向膜７５，７６が形成されてい
る。間に液晶７８を充填したガラス基板７１，７２の周
縁部は、シ−ル剤７９により封止されている。

【００６９】以上のように構成される液晶表示装置にお
いて、一方のガラス基板７１の外表面に、反射防止膜８
０が形成されている。この反射防止膜８０は、基板７
１，７２の周縁部をシ−ル剤７９により封止した後、実
施例３で用いた下層形成用溶液と上層形成用溶液を、膜
厚が０．１μｍとなるように塗布し、次いで焼成するこ
とにより形成された。得られた反射防止膜８０は、実施
例３で得たものと同様、優れた反射防止特性を示した。

【００７０】以上、本発明の実施例について説明した
が、反射防止膜の反射防止特性は、その反射防止膜を形
成しようとする基体に要求される特性に合わせて適宜設
定されるものであり、上記実施例に限定されるものでは
ない。また、反射防止膜と表示装置の組合せも上記例に
限定されない。

【００７１】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、２層以上の多層構造の反射防止膜の少なくとも１層
に色素を含有させるだけで、優れた反射防止特性を有す
る多層反射防止膜を得ることが可能であり、更に膜材料
の選択性、膜強度の面においてもその工業的価値は大き
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例１に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例１に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図２】本発明の第２の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例２に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例２に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図３】本発明の第３の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例３に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例３に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図４】本発明の第４の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例４に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例４に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図５】本発明の第５の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例５に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例５に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図６】本発明の第６の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例６に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例６に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図７】本発明の第７の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例７に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例７に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図８】本発明の第８の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例８に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例８に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図９】本発明の第９の実施例を示す図であり、（ａ）
は、実施例９に係る反射防止膜の分光反射率を示すグラ
フ、（ｂ）は、実施例９に係る反射防止膜の分光透過率
を示すグラフである。

【図１０】実施例１０に係る陰極線管の概略を示す一部
断面図である。

【図１１】実施例１１に係る液晶表示装置の概略を示す
断面図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿部 美千代 埼玉県深谷市幡羅町一丁目９番地２号 株 式会社東芝深谷電子工場内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体上に少なくとも２層の薄膜を積層し
   た多層構造の反射防止膜であって、 前記薄膜のうち少なくとも１層は色素を含有し、４００
   〜７００ｎｍの全波長域において吸収を有し、かつ、こ
   の吸収を有する波長における反射防止膜の反射率が前記
   基体の反射率より小さくなっていることを特徴とする反
   射防止膜。
2. 【請求項２】 前記色素は、最上層の薄膜から数えて偶
   数番目の薄膜に含有されている請求項１に記載の反射防
   止膜。
3. 【請求項３】 前記色素は、４００〜７００ｎｍの全波
   長域において吸収を示す請求項１に記載の反射防止膜。
4. 【請求項４】 光透過性表示部基体と、この基体上に積
   層された少なくとも２層の薄膜からなる多層構造の反射
   防止膜とを具備する表示装置であって、 前記薄膜のうち少なくとも１層は色素を含有し、４００
   〜７００ｎｍの全波長域において吸収を有し、かつ、こ
   の吸収を有する波長における反射防止膜の反射率が前記
   基体の反射率より小さくなっていることを特徴とする表
   示装置。
5. 【請求項５】 前記色素は、最上層の薄膜から数えて偶
   数番目の薄膜に含有されている請求項４に記載の表示装
   置。
6. 【請求項６】 前記色素は、４００〜７００ｎｍの全波
   長域において吸収を示す請求項４に記載の表示装置。