JPH08208274A - 着色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス物品 - Google Patents
着色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス物品Info
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- JPH08208274A JPH08208274A JP1013295A JP1013295A JPH08208274A JP H08208274 A JPH08208274 A JP H08208274A JP 1013295 A JP1013295 A JP 1013295A JP 1013295 A JP1013295 A JP 1013295A JP H08208274 A JPH08208274 A JP H08208274A
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】充分な低抵抗化が可能な着色材を用い、可視光
全域でほぼ均一な光吸収性を得る。 【構成】（Ｃｏ、Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃｒ）2 ０4 の複合酸
化物顔料１０ｇを水溶液５０ｇ中に添加しサンドミルで
２時間粉砕処理し平均２次粒径１３０ｎｍのゾルを得た
（Ａ液）。Ａ液を水とエタノールの液で酸化物換算で固
形分濃度１．２重量％に希釈しブラウン管パネル表面に
スピンコーターで塗布、焼成し約１００ｎｍ厚の着色膜
を得た。
全域でほぼ均一な光吸収性を得る。 【構成】（Ｃｏ、Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃｒ）2 ０4 の複合酸
化物顔料１０ｇを水溶液５０ｇ中に添加しサンドミルで
２時間粉砕処理し平均２次粒径１３０ｎｍのゾルを得た
（Ａ液）。Ａ液を水とエタノールの液で酸化物換算で固
形分濃度１．２重量％に希釈しブラウン管パネル表面に
スピンコーターで塗布、焼成し約１００ｎｍ厚の着色膜
を得た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は陰極線管用パネル等に適
用される着色膜形成用塗布液と、それを塗布することに
より形成される着色膜及び着色膜を形成したガラス物品
に関する。
用される着色膜形成用塗布液と、それを塗布することに
より形成される着色膜及び着色膜を形成したガラス物品
に関する。
【０００２】
【従来の技術】着色膜、着色帯電防止膜、低反射帯電防
止膜、着色低反射帯電防止膜等のコーティング方法は、
従来より、光学機器用のみならず、民生用機器特にＴ
Ｖ、コンピュータ端末の陰極線管（ＣＲＴ）用としても
多く検討がなされてきた。
止膜、着色低反射帯電防止膜等のコーティング方法は、
従来より、光学機器用のみならず、民生用機器特にＴ
Ｖ、コンピュータ端末の陰極線管（ＣＲＴ）用としても
多く検討がなされてきた。
【０００３】膜の着色に関しては、特開平１−２７５６
６４号公報に水溶性フタロシアニン化合物を用いる方法
が提案されている。また、帯電防止能を持つ着色膜につ
いては特開平１−２５１５４５号公報にメチルバイオレ
ットを用いた帯電防止膜の記述がある。しかし、これら
の着色材は耐熱性に乏しく、ブラウン管の製造工程中に
加熱された場合著しく退色する問題があった。
６４号公報に水溶性フタロシアニン化合物を用いる方法
が提案されている。また、帯電防止能を持つ着色膜につ
いては特開平１−２５１５４５号公報にメチルバイオレ
ットを用いた帯電防止膜の記述がある。しかし、これら
の着色材は耐熱性に乏しく、ブラウン管の製造工程中に
加熱された場合著しく退色する問題があった。
【０００４】また、これらの物質は本質的に絶縁体であ
るため、膜に帯電防止性等を付与しようとする場合、着
色材に低抵抗物質を添加する必要があり、これら着色材
の安定性が乏しいため抵抗阻害をおこし、充分低抵抗化
ができない問題があった。
るため、膜に帯電防止性等を付与しようとする場合、着
色材に低抵抗物質を添加する必要があり、これら着色材
の安定性が乏しいため抵抗阻害をおこし、充分低抵抗化
ができない問題があった。
【０００５】また着色膜の主目的は陰極線管の画像のコ
ントラスト向上にあるり、そのため可視光全域での均一
な吸収が必要となる。着色材としては黒色であることが
好ましいが、上記の従来の着色材では均一な吸収は非常
に困難であった。
ントラスト向上にあるり、そのため可視光全域での均一
な吸収が必要となる。着色材としては黒色であることが
好ましいが、上記の従来の着色材では均一な吸収は非常
に困難であった。
【０００６】帯電防止性に関しては、特開昭６３−７６
２４７号公報には、ブラウン管パネル表面を３５０℃程
度に加熱してＣＶＤ法により酸化錫及び酸化インジウム
等の低抵抗酸化物層を設ける方法が提案されている。し
かし、ＣＶＤ法により帯電防止膜を形成させる手法は、
装置コストがかかることに加えてブラウン管表面を高温
に加熱するため、ブラウン管内の蛍光体の脱落を生じた
り寸法精度が低下する等の問題があった。またこの場
合、通常４００℃程度の高温を必要とし、低温で焼成し
た場合に充分に低抵抗の膜が得られない欠点がある。
２４７号公報には、ブラウン管パネル表面を３５０℃程
度に加熱してＣＶＤ法により酸化錫及び酸化インジウム
等の低抵抗酸化物層を設ける方法が提案されている。し
かし、ＣＶＤ法により帯電防止膜を形成させる手法は、
装置コストがかかることに加えてブラウン管表面を高温
に加熱するため、ブラウン管内の蛍光体の脱落を生じた
り寸法精度が低下する等の問題があった。またこの場
合、通常４００℃程度の高温を必要とし、低温で焼成し
た場合に充分に低抵抗の膜が得られない欠点がある。
【０００７】低反射性に関しては、特開昭６１−１１８
９３１号公報記載のように、ブラウン管表面に防眩効果
をもたせるために表面に微細な凹凸を有するＳｉＯ2 層
を付着させたり、フッ酸により表面をエッチングして凹
凸を設ける等の方法が採られてきた。
９３１号公報記載のように、ブラウン管表面に防眩効果
をもたせるために表面に微細な凹凸を有するＳｉＯ2 層
を付着させたり、フッ酸により表面をエッチングして凹
凸を設ける等の方法が採られてきた。
【０００８】しかし、これらの方法は外部光を散乱させ
るノングレア処理と呼ばれ、本質的に低反射層を設ける
方法ではないため反射率の低減には限界があり、またブ
ラウン管等においては解像度を低下させる原因ともなっ
ていた。
るノングレア処理と呼ばれ、本質的に低反射層を設ける
方法ではないため反射率の低減には限界があり、またブ
ラウン管等においては解像度を低下させる原因ともなっ
ていた。
【０００９】低反射低抵抗膜については、特開平３−９
３１３６号公報にイオンプレーティング法による光学多
層膜を設ける方法が記載されている。しかし、イオンプ
レーティングによる方法は工業的に安価とはいえない。
３１３６号公報にイオンプレーティング法による光学多
層膜を設ける方法が記載されている。しかし、イオンプ
レーティングによる方法は工業的に安価とはいえない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の課題を
解決しようとするものであり、高性能を有する新規な着
色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス
物品を提供する。
解決しようとするものであり、高性能を有する新規な着
色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス
物品を提供する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＺｎのうち少な
くとも１種の元素を含む複合酸化物顔料を分散させた液
を含むことを特徴とする着色膜形成用塗布液を提供す
る。
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＺｎのうち少な
くとも１種の元素を含む複合酸化物顔料を分散させた液
を含むことを特徴とする着色膜形成用塗布液を提供す
る。
【００１２】本発明の前記塗布液中にＳｎ、Ｉｎ、Ｓ
ｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ及びＧａの群から選ばれる
少なくとも１つの金属の化合物であって、前記複合酸化
物顔料とは別異の化合物を含むようにすれば、低抵抗の
着色膜形成用塗布液となり、形成膜に帯電防止性を付与
でき好ましい。前記化合物としてはＳｎＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ
3 、ＺｎＯ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 （シリカ
ゾル）、ＳｂドープＳｎＯ2 、ＳｎドープＩｎ2 Ｏ3
（ＩＴＯ）、Ａｌ（又はＧａ）ドープＺｎＯ、Ａｌ（又
はＧａ）ドープＴｉＯ2 等が好ましい。
ｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ及びＧａの群から選ばれる
少なくとも１つの金属の化合物であって、前記複合酸化
物顔料とは別異の化合物を含むようにすれば、低抵抗の
着色膜形成用塗布液となり、形成膜に帯電防止性を付与
でき好ましい。前記化合物としてはＳｎＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ
3 、ＺｎＯ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 （シリカ
ゾル）、ＳｂドープＳｎＯ2 、ＳｎドープＩｎ2 Ｏ3
（ＩＴＯ）、Ａｌ（又はＧａ）ドープＺｎＯ、Ａｌ（又
はＧａ）ドープＴｉＯ2 等が好ましい。
【００１３】本発明の着色膜形成用塗布液を塗布するこ
とにより形成された着色膜は、３８０〜７００ｎｍの光
の波長領域において透過率が低下し、ほぼ全可視光の波
長領域で透過率を調整でき好ましい。透過率の低下の程
度については、実用上コントラストの向上が得られる範
囲でよく、少なくとも５％以上の低下が生ずるのがよ
く、好ましくは５〜３０％の低下が生ずるのがよい。３
０％を超えると画像自体の輝度が落ちるため好ましくな
い。
とにより形成された着色膜は、３８０〜７００ｎｍの光
の波長領域において透過率が低下し、ほぼ全可視光の波
長領域で透過率を調整でき好ましい。透過率の低下の程
度については、実用上コントラストの向上が得られる範
囲でよく、少なくとも５％以上の低下が生ずるのがよ
く、好ましくは５〜３０％の低下が生ずるのがよい。３
０％を超えると画像自体の輝度が落ちるため好ましくな
い。
【００１４】この場合、本発明の着色膜形成用塗布液中
に前述のようなＳｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、
Ｓｉ及びＧａの群から選ばれる少なくとも１つの金属の
化合物を含むようにすれば、３８０〜７００ｎｍの光の
波長領域において透過率が低下しかつ帯電防止能を有す
る低抵抗着色膜が形成できる。前記帯電防止能について
は、帯電したガラス物品の静電荷減衰がすみやかになさ
れればよく、少なくとも１×１０10Ω／□以下、好まし
くは１×１０7 Ω／□以下の表面（電気）抵抗であれば
よい。
に前述のようなＳｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、
Ｓｉ及びＧａの群から選ばれる少なくとも１つの金属の
化合物を含むようにすれば、３８０〜７００ｎｍの光の
波長領域において透過率が低下しかつ帯電防止能を有す
る低抵抗着色膜が形成できる。前記帯電防止能について
は、帯電したガラス物品の静電荷減衰がすみやかになさ
れればよく、少なくとも１×１０10Ω／□以下、好まし
くは１×１０7 Ω／□以下の表面（電気）抵抗であれば
よい。
【００１５】また、透明基体上に基体側から本発明の着
色膜を形成し、その上に前記着色膜より低屈折率の被膜
を順次形成すれば、反射防止性を付与された多層の低反
射着色膜が形成できる。
色膜を形成し、その上に前記着色膜より低屈折率の被膜
を順次形成すれば、反射防止性を付与された多層の低反
射着色膜が形成できる。
【００１６】本発明の着色膜、低抵抗着色膜、低反射着
色膜、低抵抗低反射着色膜は、陰極線管（ＣＲＴ）等の
ディスプレイ用途に供されるガラス物品に好ましく用い
られる。ガラス物品としての陰極線管は、近年コンピュ
ータ装置の端末表示装置等に使用される場合、高解像度
の要求とともにハイコントラストの要求も高まりつつあ
る。
色膜、低抵抗低反射着色膜は、陰極線管（ＣＲＴ）等の
ディスプレイ用途に供されるガラス物品に好ましく用い
られる。ガラス物品としての陰極線管は、近年コンピュ
ータ装置の端末表示装置等に使用される場合、高解像度
の要求とともにハイコントラストの要求も高まりつつあ
る。
【００１７】しかし、コントラストの向上を期してガラ
ス自体の透過率を低下させた場合、ディスプレイの大型
化に伴ってパネルのフェイスプレートの肉厚も厚くなっ
てくるので、特に大型ディスプレイでは透過率の著しい
低下が問題となる。
ス自体の透過率を低下させた場合、ディスプレイの大型
化に伴ってパネルのフェイスプレートの肉厚も厚くなっ
てくるので、特に大型ディスプレイでは透過率の著しい
低下が問題となる。
【００１８】本発明では、ガラス自体の透過率を下げる
ことなくその表面に膜を形成し、この膜に光吸収性を付
与させることによりコントラストの向上を図る。したが
って、種々の肉厚を持つディスプレイ用ガラスパネルへ
の自在な光吸収性の付与がきわめて容易である。
ことなくその表面に膜を形成し、この膜に光吸収性を付
与させることによりコントラストの向上を図る。したが
って、種々の肉厚を持つディスプレイ用ガラスパネルへ
の自在な光吸収性の付与がきわめて容易である。
【００１９】陰極線管の発光スペクトルは複数のスペク
トルで構成され、発光スペクトルのバランスを崩さずに
コントラストの向上を図るには、特定の光吸収を持つ着
色膜よりも可視光領域にわたって均一の光吸収をもつ着
色膜が好ましい。
トルで構成され、発光スペクトルのバランスを崩さずに
コントラストの向上を図るには、特定の光吸収を持つ着
色膜よりも可視光領域にわたって均一の光吸収をもつ着
色膜が好ましい。
【００２０】このような観点から鋭意研究を行った結
果、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及
びＺｎのうち少なくとも１種の元素を含む複合酸化物顔
料を分散させた液を含む塗布液を用いることにより、可
視光領域においてほぼ均一かつ充分な着色力を有し、さ
らに耐熱性にも優れた着色膜が製造できることが判明し
た。また上記着色材を含む液は安定であり、従来公知で
ある種々の低抵抗性物質、たとえばＳｎ、Ｉｎ等の酸化
物と混合して低抵抗の着色膜形成用塗布液を容易に製造
しうることも判明した。
果、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及
びＺｎのうち少なくとも１種の元素を含む複合酸化物顔
料を分散させた液を含む塗布液を用いることにより、可
視光領域においてほぼ均一かつ充分な着色力を有し、さ
らに耐熱性にも優れた着色膜が製造できることが判明し
た。また上記着色材を含む液は安定であり、従来公知で
ある種々の低抵抗性物質、たとえばＳｎ、Ｉｎ等の酸化
物と混合して低抵抗の着色膜形成用塗布液を容易に製造
しうることも判明した。
【００２１】本発明において用いられるＴｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＺｎのうち少な
くとも１種の元素を含む複合酸化物顔料は種々の物質が
使用できる。複合酸化物顔料は、通常、原料を混合後焼
成して製造され、他の顔料あるいは染料に比べて耐熱性
及び耐薬品性に優れるという長所があり、本発明にとっ
て好ましい効果を有する。本発明でいう平均粒径は、基
体に塗布する塗布液中における平均粒径を示し、たとえ
ば１次粒子をゾルにして２次粒子を形成させそれを塗布
液に用いるような場合は平均２次粒径を示す。
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＺｎのうち少な
くとも１種の元素を含む複合酸化物顔料は種々の物質が
使用できる。複合酸化物顔料は、通常、原料を混合後焼
成して製造され、他の顔料あるいは染料に比べて耐熱性
及び耐薬品性に優れるという長所があり、本発明にとっ
て好ましい効果を有する。本発明でいう平均粒径は、基
体に塗布する塗布液中における平均粒径を示し、たとえ
ば１次粒子をゾルにして２次粒子を形成させそれを塗布
液に用いるような場合は平均２次粒径を示す。
【００２２】複合酸化物顔料の結晶構造としてはガーネ
ット型、ルチル型、オリビン型、スピネル型等種々の構
造を有する物質がある。具体的にはガーネット型として
３ＣａＯ・Ｃｒ2 Ｏ3 ・３ＳｉＯ2 、ルチル型として(
Ｎｉ、Ｓｂ、Ｔｉ）Ｏ2 、オリビン型としてＣｏ2 Ｓｉ
Ｏ4 、スピネル型としてＣｏ（Ａｌ、Ｃｒ）2 Ｏ4 等の
物質があげられる。また特殊な構造としてはＺｒＳｉＯ
4 にＶが固溶した複合酸化物等があげられる。本発明に
おいては、これらの結晶構造を有するいずれの複合酸化
物も好ましく使用できる。
ット型、ルチル型、オリビン型、スピネル型等種々の構
造を有する物質がある。具体的にはガーネット型として
３ＣａＯ・Ｃｒ2 Ｏ3 ・３ＳｉＯ2 、ルチル型として(
Ｎｉ、Ｓｂ、Ｔｉ）Ｏ2 、オリビン型としてＣｏ2 Ｓｉ
Ｏ4 、スピネル型としてＣｏ（Ａｌ、Ｃｒ）2 Ｏ4 等の
物質があげられる。また特殊な構造としてはＺｒＳｉＯ
4 にＶが固溶した複合酸化物等があげられる。本発明に
おいては、これらの結晶構造を有するいずれの複合酸化
物も好ましく使用できる。
【００２３】ここで、スピネル型複合酸化物は一般式Ａ
Ｂ2 Ｏ4 （Ａ、Ｂは金属元素）で示され、前記一般式中
において結晶中で金属原子が占有する位置が複数あり、
数種の金属原子で置換可能である。一般に金属酸化物の
光吸収特性は金属種に依存し、通常はその金属に特有な
波長の光を選択的に吸収する。スピネル型複合酸化物の
場合は前述の如く複数の金属原子を結晶中に固溶可能で
あり、そのため可視光全域にわたる均一な吸収が得られ
る。したがって、特に本発明の目的に沿ったものであり
好ましく使用できる。
Ｂ2 Ｏ4 （Ａ、Ｂは金属元素）で示され、前記一般式中
において結晶中で金属原子が占有する位置が複数あり、
数種の金属原子で置換可能である。一般に金属酸化物の
光吸収特性は金属種に依存し、通常はその金属に特有な
波長の光を選択的に吸収する。スピネル型複合酸化物の
場合は前述の如く複数の金属原子を結晶中に固溶可能で
あり、そのため可視光全域にわたる均一な吸収が得られ
る。したがって、特に本発明の目的に沿ったものであり
好ましく使用できる。
【００２４】スピネル型複合酸化物顔料の組成として
は、ＣｕＣｒ2 Ｏ4 、（Ｃｏ、Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃｒ）2
Ｏ4 、（Ｆｅ、Ｍｎ）（Ｆｅ、Ｍｎ）2 Ｏ4 、（Ｎｉ、
Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃｒ）2 Ｏ4 、（Ｆｅ、Ｃｏ）Ｆｅ2 Ｏ
4 、（Ｚｎ、Ｍｎ）（Ａｌ、Ｃｒ、Ｆｅ）2 Ｏ4 、（Ｚ
ｎ、Ｃｏ）（Ａｌ、Ｃｒ）2 Ｏ4 等があげられる。
は、ＣｕＣｒ2 Ｏ4 、（Ｃｏ、Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃｒ）2
Ｏ4 、（Ｆｅ、Ｍｎ）（Ｆｅ、Ｍｎ）2 Ｏ4 、（Ｎｉ、
Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃｒ）2 Ｏ4 、（Ｆｅ、Ｃｏ）Ｆｅ2 Ｏ
4 、（Ｚｎ、Ｍｎ）（Ａｌ、Ｃｒ、Ｆｅ）2 Ｏ4 、（Ｚ
ｎ、Ｃｏ）（Ａｌ、Ｃｒ）2 Ｏ4 等があげられる。
【００２５】複合酸化物顔料は、平均粒径が５〜２００
ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ未満では液中での分
散安定性に乏しく、２００ｎｍ超では塗膜外観が悪化す
るため好ましくない。複合酸化物顔料の塗布液中での含
有量は、全固形分量に対し１〜９０重量％であることが
好ましい。１重量％未満では着色性能が充分でなく、９
０重量％超では膜の強度が低下するため好ましくない。
ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ未満では液中での分
散安定性に乏しく、２００ｎｍ超では塗膜外観が悪化す
るため好ましくない。複合酸化物顔料の塗布液中での含
有量は、全固形分量に対し１〜９０重量％であることが
好ましい。１重量％未満では着色性能が充分でなく、９
０重量％超では膜の強度が低下するため好ましくない。
【００２６】複合酸化物を含む液を合成する際には複合
酸化物粒子が液中に均一に分散していることが必要であ
る。粒子の均一分散が可能な手法であれば分散媒、分散
法等は特に限定されず、公知の種々の分散媒、分散法が
使用できる。
酸化物粒子が液中に均一に分散していることが必要であ
る。粒子の均一分散が可能な手法であれば分散媒、分散
法等は特に限定されず、公知の種々の分散媒、分散法が
使用できる。
【００２７】特に好ましくは水又はアルコール等の有機
溶媒中に粒子を添加し、界面活性剤、樹脂、酸、アルカ
リ等の分散助剤を添加し、コロイドミル、サンドミル、
ホモジナイザー等の市販の粉砕器で分散させる手法を採
用できる。特に分散助剤としては界面活性剤、樹脂が分
散効率の点から有効である。界面活性剤のうちでは特に
陰イオン系及び非イオン系界面活性剤は好ましい。また
樹脂としてはセルロース樹脂、ポリビニルアルコール、
ポリフッ化スチレンあるいはポリスチレン、エポキシ樹
脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、フェノー
ル樹脂、ポリウレタン等が使用できる。
溶媒中に粒子を添加し、界面活性剤、樹脂、酸、アルカ
リ等の分散助剤を添加し、コロイドミル、サンドミル、
ホモジナイザー等の市販の粉砕器で分散させる手法を採
用できる。特に分散助剤としては界面活性剤、樹脂が分
散効率の点から有効である。界面活性剤のうちでは特に
陰イオン系及び非イオン系界面活性剤は好ましい。また
樹脂としてはセルロース樹脂、ポリビニルアルコール、
ポリフッ化スチレンあるいはポリスチレン、エポキシ樹
脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、フェノー
ル樹脂、ポリウレタン等が使用できる。
【００２８】本発明においては、塗布液中に複合酸化物
を含むことで所期の目標を達成可能であるが、顔料は通
常電気伝導性に乏しい。そのため、帯電防止性等の電気
的特性を膜に付与する場合には、塗布液中にＳｎ、Ｉ
ｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ及びＧａの群から選
ばれる少なくとも１種の化合物を含有させることによ
り、透過率、表面抵抗を制御できる。特にＳｂドープＳ
ｎＯ2 又はＳｎドープＩｎＯ2 を塗布液中に添加した場
合、前記酸化物は可視光に対しほぼ透明でかつ低抵抗性
であるため、塗膜の表面抵抗を低下させつつ、透過率の
制御ができる。
を含むことで所期の目標を達成可能であるが、顔料は通
常電気伝導性に乏しい。そのため、帯電防止性等の電気
的特性を膜に付与する場合には、塗布液中にＳｎ、Ｉ
ｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ及びＧａの群から選
ばれる少なくとも１種の化合物を含有させることによ
り、透過率、表面抵抗を制御できる。特にＳｂドープＳ
ｎＯ2 又はＳｎドープＩｎＯ2 を塗布液中に添加した場
合、前記酸化物は可視光に対しほぼ透明でかつ低抵抗性
であるため、塗膜の表面抵抗を低下させつつ、透過率の
制御ができる。
【００２９】本発明においては、塗布液中に公知の染料
又は顔料を添加することにより得られる低抵抗着色膜の
色調を変化させうる。染料としては公知のアゾ染料、ア
ントラキノン染料等が使用できる。複合酸化物以外の顔
料も種々使用でき、これらのうち特に窒素を０．１〜３
０重量％含有するＴｉＯx （１．０≦ｘ＜２．０）は着
色力に優れ、またある程度の電導性も有しており、さら
に分散性、安定性に優れるため特に好ましい。
又は顔料を添加することにより得られる低抵抗着色膜の
色調を変化させうる。染料としては公知のアゾ染料、ア
ントラキノン染料等が使用できる。複合酸化物以外の顔
料も種々使用でき、これらのうち特に窒素を０．１〜３
０重量％含有するＴｉＯx （１．０≦ｘ＜２．０）は着
色力に優れ、またある程度の電導性も有しており、さら
に分散性、安定性に優れるため特に好ましい。
【００３０】前記の窒素含有ＴｉＯx （１．０≦ｘ＜
２．０）の構造については、詳細には判明していない
が、ルチル型ＴｉＯ2 とアナタース型ＴｉＯ2 の混相で
あると考えられる。ＴｉＯ2 結晶中に酸素欠損構造が存
在し、その欠損した結晶格子に窒素Ｎが入り込んだもの
と考えられる。したがって、より正確には若干量のＴｉ
ＯＮあるいはＴｉＮを含有する酸素欠損型ＴｉＯ2 であ
るといえる。これをＸ線回折法により分析すると、既知
のＴｉＯ2 ピークの他に未知の弱いピークが観測でき、
ＴｉＯＮのピークと推定できるが正確には不明である。
２．０）の構造については、詳細には判明していない
が、ルチル型ＴｉＯ2 とアナタース型ＴｉＯ2 の混相で
あると考えられる。ＴｉＯ2 結晶中に酸素欠損構造が存
在し、その欠損した結晶格子に窒素Ｎが入り込んだもの
と考えられる。したがって、より正確には若干量のＴｉ
ＯＮあるいはＴｉＮを含有する酸素欠損型ＴｉＯ2 であ
るといえる。これをＸ線回折法により分析すると、既知
のＴｉＯ2 ピークの他に未知の弱いピークが観測でき、
ＴｉＯＮのピークと推定できるが正確には不明である。
【００３１】窒素を多量に含有しうるＴｉＯx （１．０
≦ｘ＜２．０）は、ＯＮ計（酸素窒素測定計）等により
その窒素含有量（重量％）を正確に測定できる。
≦ｘ＜２．０）は、ＯＮ計（酸素窒素測定計）等により
その窒素含有量（重量％）を正確に測定できる。
【００３２】また、Ｓｉ化合物は液中に添加した場合膜
外観が向上するため好ましい。Ｓｉ化合物としては特に
制限されず、Ｓｉ（ＯＲ）m Ｒ4-m （ｍは１〜４の整
数、Ｒは炭素が１〜４個のアルキル基）で示される化合
物、又はその加水分解物、部分加水分解物が好ましい。
ケイ酸ソーダのイオン交換法等の公知手法によって得ら
れる重合ケイ酸よりなるシリカゾルも好ましく使用でき
る。
外観が向上するため好ましい。Ｓｉ化合物としては特に
制限されず、Ｓｉ（ＯＲ）m Ｒ4-m （ｍは１〜４の整
数、Ｒは炭素が１〜４個のアルキル基）で示される化合
物、又はその加水分解物、部分加水分解物が好ましい。
ケイ酸ソーダのイオン交換法等の公知手法によって得ら
れる重合ケイ酸よりなるシリカゾルも好ましく使用でき
る。
【００３３】本発明では着色膜用塗布液又は低抵抗着色
膜形成用塗布液として、複合酸化物を分散させた液又は
さらに抵抗低減成分を添加した液をそのまま用いること
もできる。また種々の溶媒で希釈して用いることもでき
る。使用できる溶媒としては特に限定はなく、水、アル
コール、ケトン、エーテル、エステル類等種々の有機溶
媒が使用できる。シリコーンオイル等のレベリング剤も
添加できる。
膜形成用塗布液として、複合酸化物を分散させた液又は
さらに抵抗低減成分を添加した液をそのまま用いること
もできる。また種々の溶媒で希釈して用いることもでき
る。使用できる溶媒としては特に限定はなく、水、アル
コール、ケトン、エーテル、エステル類等種々の有機溶
媒が使用できる。シリコーンオイル等のレベリング剤も
添加できる。
【００３４】さらに上記着色膜又は低抵抗の着色膜形成
用塗布液を用いて得られる着色膜又は低抵抗着色膜上
に、前記膜よりも低屈折率の膜を形成し、解像度を損な
うことなく蛍光灯の写り込み等を制御する低反射性能を
も付与しうる。
用塗布液を用いて得られる着色膜又は低抵抗着色膜上
に、前記膜よりも低屈折率の膜を形成し、解像度を損な
うことなく蛍光灯の写り込み等を制御する低反射性能を
も付与しうる。
【００３５】一般に、薄膜の光学的性能はその膜を構成
する屈折率と膜厚で決定される。ここで、一定の屈折率
ｎS を有する透明基体上に屈折率ｎを有する薄膜を付着
させ、屈折率ｎ0 の溶質中より波長λの光が入射した場
合のエネルギー反射率Ｒを求める。光が膜中を通過する
際の位相差をΔとすると、Δ＝４πｎｄ／λ（ｄ：膜
厚）であり、Δ＝（２ｍ1 ＋１）π（ｍ1 は０以上の整
数）、すなわち位相差Δが半波長の奇数倍の時に極小値
をとり、このとき、（１）式のようになる。
する屈折率と膜厚で決定される。ここで、一定の屈折率
ｎS を有する透明基体上に屈折率ｎを有する薄膜を付着
させ、屈折率ｎ0 の溶質中より波長λの光が入射した場
合のエネルギー反射率Ｒを求める。光が膜中を通過する
際の位相差をΔとすると、Δ＝４πｎｄ／λ（ｄ：膜
厚）であり、Δ＝（２ｍ1 ＋１）π（ｍ1 は０以上の整
数）、すなわち位相差Δが半波長の奇数倍の時に極小値
をとり、このとき、（１）式のようになる。
【００３６】無反射条件を満たすには、（１）式におい
てＲ＝０とおき、（２）式の条件が必要とされる。
（２）式を２層構成に拡張した場合、（３）式のように
なる。ただし、ｎ1 は媒質側層の屈折率、ｎ2 は基体側
層の屈折率である。
てＲ＝０とおき、（２）式の条件が必要とされる。
（２）式を２層構成に拡張した場合、（３）式のように
なる。ただし、ｎ1 は媒質側層の屈折率、ｎ2 は基体側
層の屈折率である。
【００３７】
【数１】
【００３８】ここで、ｎ0 ＝１（空気）、ｎS ＝１．５
２（ガラス）を（３）式に適用した場合、ｎ2 ／ｎ1 ＝
１．２３となる。この場合、２層構成膜の最大の低反射
性が得られる。ｎ2 ／ｎ1 ＝１．２３を満たさなくて
も、２層膜の屈折率がこれに近い値をとれる場合、低反
射性が得られる。したがって、基体側に設ける高屈折率
層と媒質側に設ける低屈折率層は両者の屈折率比ができ
るだけ１．２３に近い値を選択するのが望ましい。
２（ガラス）を（３）式に適用した場合、ｎ2 ／ｎ1 ＝
１．２３となる。この場合、２層構成膜の最大の低反射
性が得られる。ｎ2 ／ｎ1 ＝１．２３を満たさなくて
も、２層膜の屈折率がこれに近い値をとれる場合、低反
射性が得られる。したがって、基体側に設ける高屈折率
層と媒質側に設ける低屈折率層は両者の屈折率比ができ
るだけ１．２３に近い値を選択するのが望ましい。
【００３９】本発明において、所望の低反射膜を得るに
は、多層膜間の屈折率差とあわせて膜厚も重要な要素で
ある。反射防止性能を有する多層の低反射膜の構成とし
ては、反射防止をしたい波長をλとして、基体側より高
屈折率層及び低屈折率層を光学厚みλ／２及びλ／４で
構成した低反射膜、基体側より中屈折率層、高屈折率層
及び低屈折率層を光学厚みλ／４、λ／２及びλ／４で
順次形成した３層の低反射膜、基体側より低屈折率層、
中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を光学厚みλ／
４、λ／４、λ／２及びλ／４で順次形成した４層の低
反射膜等が典型例として知られている。
は、多層膜間の屈折率差とあわせて膜厚も重要な要素で
ある。反射防止性能を有する多層の低反射膜の構成とし
ては、反射防止をしたい波長をλとして、基体側より高
屈折率層及び低屈折率層を光学厚みλ／２及びλ／４で
構成した低反射膜、基体側より中屈折率層、高屈折率層
及び低屈折率層を光学厚みλ／４、λ／２及びλ／４で
順次形成した３層の低反射膜、基体側より低屈折率層、
中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を光学厚みλ／
４、λ／４、λ／２及びλ／４で順次形成した４層の低
反射膜等が典型例として知られている。
【００４０】また、着色膜、低反射着色膜あるいは低抵
抗低反射着色膜において、低屈折率膜を構成する物質と
してはケイ素化合物が屈折率、膜強度の点で好ましく用
いられる。ケイ素化合物としては、Ｓｉ（ＯＲ）m Ｒ
4-m （ｍは１〜４の整数、Ｒは炭素が１〜４個のアルキ
ル基）で示される化合物、又はその加水分解物、部分加
水分解物が好ましい。ケイフッ化水素酸、ホウ酸を含む
水溶液に二酸化ケイ素粉末を飽和させてなる溶液より析
出させてできるケイ素化合物も、使用できる。
抗低反射着色膜において、低屈折率膜を構成する物質と
してはケイ素化合物が屈折率、膜強度の点で好ましく用
いられる。ケイ素化合物としては、Ｓｉ（ＯＲ）m Ｒ
4-m （ｍは１〜４の整数、Ｒは炭素が１〜４個のアルキ
ル基）で示される化合物、又はその加水分解物、部分加
水分解物が好ましい。ケイフッ化水素酸、ホウ酸を含む
水溶液に二酸化ケイ素粉末を飽和させてなる溶液より析
出させてできるケイ素化合物も、使用できる。
【００４１】前記Ｓｉ（ＯＲ）m Ｒ4-m で示される化合
物又は部分加水分解物の低抵抗着色膜上への塗布方法と
しては、スピンコート法、ディップコート法、スプレー
法、ロールコーター法、メニスカスコーター法等種々考
えられ、特にスピンコート法は量産性、再現性に優れ、
好ましい。かかる方法によって、１０ｎｍ〜１μｍ程度
の膜が形成できる。
物又は部分加水分解物の低抵抗着色膜上への塗布方法と
しては、スピンコート法、ディップコート法、スプレー
法、ロールコーター法、メニスカスコーター法等種々考
えられ、特にスピンコート法は量産性、再現性に優れ、
好ましい。かかる方法によって、１０ｎｍ〜１μｍ程度
の膜が形成できる。
【００４２】本発明の着色膜は高屈折率の複合酸化物を
含有するため、上記低屈折率膜との２層で構成した場合
前述の低反射性能が容易に発現できる。
含有するため、上記低屈折率膜との２層で構成した場合
前述の低反射性能が容易に発現できる。
【００４３】本発明において、着色膜、帯電防止性を有
する低抵抗着色膜、帯電防止性及び低反射性を有する低
抵抗低反射着色膜を形成する透明基体としては特に限定
されない。目的に応じてソーダライムシリケートガラ
ス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラ
ス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス等
のガラス、鋼玉等の単結晶、マグネシア、サイアロン等
の透光性セラミックス、ポリカーボネート等のプラスチ
ックも使用できる。
する低抵抗着色膜、帯電防止性及び低反射性を有する低
抵抗低反射着色膜を形成する透明基体としては特に限定
されない。目的に応じてソーダライムシリケートガラ
ス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラ
ス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス等
のガラス、鋼玉等の単結晶、マグネシア、サイアロン等
の透光性セラミックス、ポリカーボネート等のプラスチ
ックも使用できる。
【００４４】
【作用】本発明の着色膜、低抵抗着色膜又は低抵抗低反
射着色膜においては、着色成分として着色力及び耐熱性
に優れた複合酸化物の均一分散液を含む塗布液を用いて
成膜されるため、高性能を有する膜が容易に得られる。
射着色膜においては、着色成分として着色力及び耐熱性
に優れた複合酸化物の均一分散液を含む塗布液を用いて
成膜されるため、高性能を有する膜が容易に得られる。
【００４５】
【実施例】以下に、実施例（例１〜１３）、比較例（例
１４〜１７）により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらによって限定されない。
１４〜１７）により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらによって限定されない。
【００４６】（１）透過率評価 日立製作所製スペクトロフォトメーターＵ−３５００に
より視感透過率を測定した。さらにこの値よりブランク
値として測定したブラウン管パネルの視感透過率を差し
引き、膜による透過率低下を算出した。
より視感透過率を測定した。さらにこの値よりブランク
値として測定したブラウン管パネルの視感透過率を差し
引き、膜による透過率低下を算出した。
【００４７】（２）低抵抗性評価 低抵抗着色膜について三菱油化製ハイレスタ抵抗測定器
により相対湿度３０％以下の雰囲気中で膜表面の表面抵
抗を測定した。
により相対湿度３０％以下の雰囲気中で膜表面の表面抵
抗を測定した。
【００４８】（３）耐擦傷性 １ｋｇ重の荷重下、消しゴムで膜表面を５０回往復後、
その表面の傷の付き方を目視で判断した。評価基準は、
○：傷が全く付かない、△：傷が多少付く、×：多く傷
が付くか剥離、とした。
その表面の傷の付き方を目視で判断した。評価基準は、
○：傷が全く付かない、△：傷が多少付く、×：多く傷
が付くか剥離、とした。
【００４９】（４）視感反射率 低反射着色膜、低反射低抵抗着色膜についてＧＡＭＭＡ
分光反射スペクトル測定器により膜の３８０〜７００ｎ
ｍの視感反射率を測定した。
分光反射スペクトル測定器により膜の３８０〜７００ｎ
ｍの視感反射率を測定した。
【００５０】（例１）組成式（Ｃｏ、Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃ
ｒ）2 ０4 で示される複合酸化物顔料（平均１次粒径３
５ｎｍ）１０ｇを、あらかじめ界面活性剤（ノニルフェ
ノールエトキシレート）３．０ｇを添加した水溶液５０
ｇ中に添加して、サンドミルで２時間粉砕処理後、水で
濃度１０重量％に調整し平均２次粒径１３０ｎｍのゾル
を得た（Ａ液）。
ｒ）2 ０4 で示される複合酸化物顔料（平均１次粒径３
５ｎｍ）１０ｇを、あらかじめ界面活性剤（ノニルフェ
ノールエトキシレート）３．０ｇを添加した水溶液５０
ｇ中に添加して、サンドミルで２時間粉砕処理後、水で
濃度１０重量％に調整し平均２次粒径１３０ｎｍのゾル
を得た（Ａ液）。
【００５１】Ａ液を水：エタノール＝２０：８０重量比
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、ブラウン管パネル表面（フェース外面）にス
ピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布
し、その後１６０℃で３０分間加熱し約１００ｎｍの厚
さの着色膜を得た。
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、ブラウン管パネル表面（フェース外面）にス
ピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布
し、その後１６０℃で３０分間加熱し約１００ｎｍの厚
さの着色膜を得た。
【００５２】（例２）組成式（Ｎｉ、Ｆｅ）（Ｆｅ、Ｃ
ｒ）2 ０4 で示される複合酸化物顔料（平均１次粒径３
５ｎｍ）１０ｇを、あらかじめ界面活性剤（ノニルフェ
ノールエトキシレート）３．０ｇを添加した水溶液５０
ｇ中に添加してサンドミルで２時間粉砕処理後、水で濃
度１０重量％に調整し平均２次粒径１３０ｎｍのゾルを
得た（Ｂ液）。
ｒ）2 ０4 で示される複合酸化物顔料（平均１次粒径３
５ｎｍ）１０ｇを、あらかじめ界面活性剤（ノニルフェ
ノールエトキシレート）３．０ｇを添加した水溶液５０
ｇ中に添加してサンドミルで２時間粉砕処理後、水で濃
度１０重量％に調整し平均２次粒径１３０ｎｍのゾルを
得た（Ｂ液）。
【００５３】Ｂ液を水：エタノール＝２０：８０重量比
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、例１と同様にしてスピンコーターによりブラ
ウン管パネル表面に着色膜を形成した。
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、例１と同様にしてスピンコーターによりブラ
ウン管パネル表面に着色膜を形成した。
【００５４】（例３）組成式ＣｏＡｌ2 Ｏ4 で示される
複合酸化物顔料（平均１次粒径２５ｎｍ）１０ｇを、あ
らかじめ１０重量％ポリビニルアルコール水溶液５．０
ｇを添加した水溶液５０ｇ中に添加して、サンドミルで
２時間粉砕処理後、水で濃度１０重量％に調整し平均２
次粒径１３０ｎｍのゾルを得た（Ｃ液）。
複合酸化物顔料（平均１次粒径２５ｎｍ）１０ｇを、あ
らかじめ１０重量％ポリビニルアルコール水溶液５．０
ｇを添加した水溶液５０ｇ中に添加して、サンドミルで
２時間粉砕処理後、水で濃度１０重量％に調整し平均２
次粒径１３０ｎｍのゾルを得た（Ｃ液）。
【００５５】Ｃ液を水：エタノール＝２０：８０重量比
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、例１と同様にしてスピンコーターによりブラ
ウン管パネル表面に着色膜を形成した。
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、例１と同様にしてスピンコーターによりブラ
ウン管パネル表面に着色膜を形成した。
【００５６】（例４）組成式Ｃｏ2 ＳｉＯ4 で示される
複合酸化物顔料（平均１次粒径２５ｎｍ）１０ｇを、あ
らかじめ界面活性剤（ドデシルベンゼンスルホン酸アン
モニウム）３．０ｇを添加した水溶液５０ｇ中に添加し
て、サンドミルで２時間粉砕処理後、水で濃度１０重量
％に調整し平均２次粒径１３０ｎｍのゾルを得た（Ｄ
液）。
複合酸化物顔料（平均１次粒径２５ｎｍ）１０ｇを、あ
らかじめ界面活性剤（ドデシルベンゼンスルホン酸アン
モニウム）３．０ｇを添加した水溶液５０ｇ中に添加し
て、サンドミルで２時間粉砕処理後、水で濃度１０重量
％に調整し平均２次粒径１３０ｎｍのゾルを得た（Ｄ
液）。
【００５７】Ｄ液を水：エタノール＝２０：８０重量比
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、例１と同様にしてスピンコーターによりブラ
ウン管パネル表面に着色膜を形成した。
の液で酸化物換算で固形分濃度１．２重量％となるよう
に希釈後、例１と同様にしてスピンコーターによりブラ
ウン管パネル表面に着色膜を形成した。
【００５８】（例５）例１における１６０℃、３０分間
の加熱処理を４５０℃、３０分間に変更して約９５ｎｍ
の厚さの着色膜を得た。
の加熱処理を４５０℃、３０分間に変更して約９５ｎｍ
の厚さの着色膜を得た。
【００５９】（例６）ＳｂドープＳｎＯ2 粉末（原子比
でＳｂ／Ｓｎ＝０．１５、平均１次粒径１０ｎｍ）１５
ｇを、水８５ｇ中に添加して、サンドミルで１６時間粉
砕して９０℃で１時間加熱後、水で酸化物換算固形分濃
度１０重量％に調整し、平均２次粒径５０ｎｍのゾルを
得た（Ｅ液）。
でＳｂ／Ｓｎ＝０．１５、平均１次粒径１０ｎｍ）１５
ｇを、水８５ｇ中に添加して、サンドミルで１６時間粉
砕して９０℃で１時間加熱後、水で酸化物換算固形分濃
度１０重量％に調整し、平均２次粒径５０ｎｍのゾルを
得た（Ｅ液）。
【００６０】Ａ液とＥ液を３：７の重量比となるように
混合し、さらに水: エタノール＝２０：８０重量比の液
で固形分濃度１．２重量％となるように希釈後、例１と
同様にスピンコーターによりブラウン管パネル表面に低
抵抗着色膜を形成した。
混合し、さらに水: エタノール＝２０：８０重量比の液
で固形分濃度１．２重量％となるように希釈後、例１と
同様にスピンコーターによりブラウン管パネル表面に低
抵抗着色膜を形成した。
【００６１】（例７）Ｂ液とＥ液を３：７の重量比とな
るように混合し、さらに水: エタノール＝２０：８０重
量比の液で固形分濃度１．２重量％となるように希釈
後、例１と同様にスピンコーターによりブラウン管パネ
ル表面に低抵抗着色膜を形成した。
るように混合し、さらに水: エタノール＝２０：８０重
量比の液で固形分濃度１．２重量％となるように希釈
後、例１と同様にスピンコーターによりブラウン管パネ
ル表面に低抵抗着色膜を形成した。
【００６２】（例８）ＳｎドープＩｎ2 Ｏ3 粉末（原子
比でＳｎ／Ｉｎ＝０．２、平均１次粒径３０ｎｍ）１５
ｇを、水８５ｇ中に添加して、サンドミルで１６時間粉
砕して９０℃で１時間加熱後、水で酸化物換算固形分濃
度１０重量％に調整し平均２次粒径５０ｎｍのゾルを得
た（Ｆ液）。
比でＳｎ／Ｉｎ＝０．２、平均１次粒径３０ｎｍ）１５
ｇを、水８５ｇ中に添加して、サンドミルで１６時間粉
砕して９０℃で１時間加熱後、水で酸化物換算固形分濃
度１０重量％に調整し平均２次粒径５０ｎｍのゾルを得
た（Ｆ液）。
【００６３】Ｄ液とＦ液を３：７の重量比となるように
混合し、さらに水: エタノール＝２０：８０重量比の液
で固形分濃度１．２重量％となるように希釈後、例１と
同様にスピンコーターによりブラウン管パネル表面に低
抵抗着色膜を形成した。
混合し、さらに水: エタノール＝２０：８０重量比の液
で固形分濃度１．２重量％となるように希釈後、例１と
同様にスピンコーターによりブラウン管パネル表面に低
抵抗着色膜を形成した。
【００６４】（例９）Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 のエタノー
ル溶液（酸化物換算固形分５重量％）に、ＳｉＯ2 ：水
のモル比が１：８となるように水をｐＨ２．８に調整し
た硝酸酸性水溶液として添加し、１時間撹拌後プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート：イソプロ
ピルアルコール：ジアセトンアルコール＝５：４：１の
重量比に調整された混合有機溶媒で酸化物換算固形分濃
度１．０重量％となるように希釈した（Ｇ液）。
ル溶液（酸化物換算固形分５重量％）に、ＳｉＯ2 ：水
のモル比が１：８となるように水をｐＨ２．８に調整し
た硝酸酸性水溶液として添加し、１時間撹拌後プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート：イソプロ
ピルアルコール：ジアセトンアルコール＝５：４：１の
重量比に調整された混合有機溶媒で酸化物換算固形分濃
度１．０重量％となるように希釈した（Ｇ液）。
【００６５】例１における１６０℃、３０分の加熱処理
を６０℃、１０分の加熱処理に変更し約１０５ｎｍの厚
さの着色膜を得た。この膜の上にＧ液をスピンコーター
で１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後１
６０℃で３０分間加熱し低反射着色膜を得た。
を６０℃、１０分の加熱処理に変更し約１０５ｎｍの厚
さの着色膜を得た。この膜の上にＧ液をスピンコーター
で１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後１
６０℃で３０分間加熱し低反射着色膜を得た。
【００６６】（例１０）例５における１６０℃、３０分
の加熱処理を６０℃、１０分の加熱処理に変更し、約１
０５ｎｍの厚さの着色膜を得た。この膜の上にＧ液をス
ピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布
し、その後１６０℃で３０分間加熱し低反射低抵抗着色
膜を得た。
の加熱処理を６０℃、１０分の加熱処理に変更し、約１
０５ｎｍの厚さの着色膜を得た。この膜の上にＧ液をス
ピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布
し、その後１６０℃で３０分間加熱し低反射低抵抗着色
膜を得た。
【００６７】（例１１）例７における１６０℃、３０分
の加熱処理を６０℃、１０分の加熱処理に変更し約１０
５ｎｍの厚さの着色膜を得た。この膜の上にＧ液をスピ
ンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布
し、その後１６０℃で３０分間加熱し低反射低抵抗着色
膜を得た。
の加熱処理を６０℃、１０分の加熱処理に変更し約１０
５ｎｍの厚さの着色膜を得た。この膜の上にＧ液をスピ
ンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布
し、その後１６０℃で３０分間加熱し低反射低抵抗着色
膜を得た。
【００６８】（例１２）Ａ液とＥ液とＧ液を３：６：１
の重量比となるように混合したのち、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート：イソプロピルアル
コール：ジアセトンアルコール＝５：４：１の重量比に
調整された混合有機溶媒で酸化物換算固形分濃度１．２
重量％となるように希釈した。その後、ブラウン管パネ
ル表面にスピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６
０秒間塗布し、その後６０℃で１０分間加熱し約１１０
ｎｍの厚さの低抵抗着色膜を得た。この膜の上にＧ液を
スピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗
布し、その後１６０℃で３０分間加熱し低反射低抵抗着
色膜を得た。
の重量比となるように混合したのち、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート：イソプロピルアル
コール：ジアセトンアルコール＝５：４：１の重量比に
調整された混合有機溶媒で酸化物換算固形分濃度１．２
重量％となるように希釈した。その後、ブラウン管パネ
ル表面にスピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６
０秒間塗布し、その後６０℃で１０分間加熱し約１１０
ｎｍの厚さの低抵抗着色膜を得た。この膜の上にＧ液を
スピンコーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗
布し、その後１６０℃で３０分間加熱し低反射低抵抗着
色膜を得た。
【００６９】（例１３）例１１における１６０℃、３０
分間の加熱処理を４５０℃、３０分間の加熱処理に変更
して低反射低抵抗着色膜を得た。
分間の加熱処理を４５０℃、３０分間の加熱処理に変更
して低反射低抵抗着色膜を得た。
【００７０】（例１４）銅フタロシアニンブルーをエタ
ノール中に固形分濃度１重量％となるように分散した
（Ｈ液）。Ｈ液とＧ液を重量比３：７となるように混合
し、ブラウン管パネル表面（フェース外面）にスピンコ
ーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、そ
の後１６０℃で３０分間加熱し約１００ｎｍの厚さの膜
を得た。
ノール中に固形分濃度１重量％となるように分散した
（Ｈ液）。Ｈ液とＧ液を重量比３：７となるように混合
し、ブラウン管パネル表面（フェース外面）にスピンコ
ーターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、そ
の後１６０℃で３０分間加熱し約１００ｎｍの厚さの膜
を得た。
【００７１】（例１５）例１４における１６０℃、３０
分間の加熱処理を４５０℃、３０分間に変更して約９５
ｎｍの厚さの膜を得た。
分間の加熱処理を４５０℃、３０分間に変更して約９５
ｎｍの厚さの膜を得た。
【００７２】（例１６）Ｅ液をエタノールで固形分濃度
１．２重量％となるように希釈した後、例１４と同様に
してスピンコーターにより膜を形成した。
１．２重量％となるように希釈した後、例１４と同様に
してスピンコーターにより膜を形成した。
【００７３】（例１７）例１４における１６０℃、３０
分間の加熱処理を６０℃、１０分間に変更して約１０５
ｎｍの厚さの膜を得た。この膜の上にＧ液をスピンコー
ターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その
後４５０℃で３０分間加熱し約１００ｎｍの厚さの膜を
得た。
分間の加熱処理を６０℃、１０分間に変更して約１０５
ｎｍの厚さの膜を得た。この膜の上にＧ液をスピンコー
ターで１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その
後４５０℃で３０分間加熱し約１００ｎｍの厚さの膜を
得た。
【００７４】例１〜１７のにおける膜の透過率低下、表
面抵抗値、視感反射率、耐擦傷性を表１に示す。
面抵抗値、視感反射率、耐擦傷性を表１に示す。
【００７５】
【表１】
【００７６】
【発明の効果】本発明における複合酸化物分散液を含む
着色膜形成用塗布液により、耐擦傷性、耐熱性に優れ、
可視光領域全域における膜の透過率を均一かつ自在に調
整できるという高品位な着色性を膜に付与し得る。ま
た、導電性成分を付与することにより、充分な帯電防止
性を付与できる。
着色膜形成用塗布液により、耐擦傷性、耐熱性に優れ、
可視光領域全域における膜の透過率を均一かつ自在に調
整できるという高品位な着色性を膜に付与し得る。ま
た、導電性成分を付与することにより、充分な帯電防止
性を付与できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 恵子 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 石関 健二 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 小松 通郎 福岡県北九州市若松区北湊町13−２ 触媒 化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者 平井 俊晴 福岡県北九州市若松区北湊町13−２ 触媒 化成工業株式会社若松工場内
Claims (7)
- 【請求項１】Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ及びＺｎのうち少なくとも１種の元素を含む複
合酸化物顔料を分散させた液を含むことを特徴とする着
色膜形成用塗布液。 - 【請求項２】塗布液中にＳｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｓｉ及びＧａの群から選ばれる少なくとも１
つの金属の化合物を含む請求項１記載の着色膜形成用塗
布液。 - 【請求項３】請求項１記載の着色膜形成用塗布液を塗布
することにより形成された、３８０〜７００ｎｍの光の
波長領域において透過率が低下することを特徴とする着
色膜。 - 【請求項４】請求項２記載の着色膜形成用塗布液を塗布
することにより形成された、３８０〜７００ｎｍの光の
波長領域において透過率が低下しかつ帯電防止能を有す
ることを特徴とする低抵抗着色膜。 - 【請求項５】透明基体上に基体側から請求項３又は４記
載の着色膜を形成し、その上に前記着色膜より低屈折率
の被膜が順次形成されてなることを特徴とする多層の低
反射着色膜。 - 【請求項６】請求項３、４又は５記載の着色膜が表面に
形成されてなることを特徴とするガラス物品。 - 【請求項７】前記ガラス物品が陰極線管用パネルである
請求項６記載のガラス物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01013295A JP3729528B2 (ja) | 1995-01-25 | 1995-01-25 | 着色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01013295A JP3729528B2 (ja) | 1995-01-25 | 1995-01-25 | 着色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス物品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08208274A true JPH08208274A (ja) | 1996-08-13 |
| JP3729528B2 JP3729528B2 (ja) | 2005-12-21 |
Family
ID=11741771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01013295A Expired - Lifetime JP3729528B2 (ja) | 1995-01-25 | 1995-01-25 | 着色膜形成用塗布液、着色膜及び着色膜を形成したガラス物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3729528B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000214310A (ja) * | 1999-01-21 | 2000-08-04 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 遮光フィルム |
| JP2008247037A (ja) * | 1996-11-07 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 反射防止フイルムの製造方法 |
| JP2013503369A (ja) * | 2009-08-28 | 2013-01-31 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 帯電防止コーティングを有する光学デバイス |
-
1995
- 1995-01-25 JP JP01013295A patent/JP3729528B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008247037A (ja) * | 1996-11-07 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 反射防止フイルムの製造方法 |
| JP2000214310A (ja) * | 1999-01-21 | 2000-08-04 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 遮光フィルム |
| JP2013503369A (ja) * | 2009-08-28 | 2013-01-31 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 帯電防止コーティングを有する光学デバイス |
| US11807795B2 (en) | 2009-08-28 | 2023-11-07 | 3M Innovative Properties Company | Optical device with antistatic coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3729528B2 (ja) | 2005-12-21 |
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