JP3544687B2

JP3544687B2 - 塗布液、着色膜およびその製造方法

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Publication number: JP3544687B2
Application number: JP18727693A
Authority: JP
Inventors: 啓介阿部; 健河里; 恵子大橋; 恭宏真田; 和也平塚
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1993-06-30
Filing date: 1993-06-30
Publication date: 2004-07-21
Anticipated expiration: 2019-07-21
Also published as: JPH0782526A

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は陰極線管用パネル等に適用される塗布液とそれを用いた着色膜とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
帯電防止膜、着色膜、着色帯電防止膜、低反射帯電防止膜、着色低反射帯電防止膜のコーティング方法は従来より光学機器や、民生用機器、特にＴＶ、コンピューター端末の陰極線管（ＣＲＴ）に関し多くの検討がなされてきた。
【０００３】
帯電防止に関しては、例えば特開昭６３−７６２４７号にはブラウン管パネル表面を３５０℃程度に加熱してＣＶＤ法により酸化錫および酸化インジウム等の導電性酸化物層を設ける方法が提案されている。
【０００４】
膜の着色に関しては、特開平１−２７５６６４号に水溶性フタロシアニン化合物を用いる方法が提案されている。帯電防止性能をもつ着色膜については特開平１−２５１５４５号にメチルバイオレットを用いた帯電防止膜の記載がある。
【０００５】
低反射性に関しては、例えば特開昭６１−１１８９３１号記載の如くブラウン管表面に防眩効果をもたせるため表面に微細な凹凸を有するＳｉＯ_２層を付着させたり、弗酸により表面をエッチングして凹凸を設ける等の方法が採られてきた。
しかし、これらの方法は、外部光を散乱させるノングレア処理と呼ばれ、本質的に低反射層を設ける方法ではないため、反射率の低減には限界があり、またブラウン管等においては解像度を低下させる原因ともなっていた。
【０００６】
低反射帯電防止膜については特開平３−９３１３６号にイオンプレーティング法による光学多層膜を設ける方法が記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述の方法のうち、ＣＶＤ法による帯電防止膜を付与させる手法は装置コストがかかることに加えてブラウン管表面を高温に加熱するためブラウン管内の蛍光体の脱落が生じたり、寸法精度が低下する等の問題があった。またこの場合通常４００℃程度の高温を必要とし、低温で焼成した場合充分低抵抗な膜が得られない欠点がある。
【０００８】
水溶性フタロシアニン化合物を用いる方法は、有機染料を用いるため耐熱性、耐候性に乏しく特定波長に吸収をもち、可視光全波長領域にわたって均一な吸収を得ることが難しいという欠点がある。
メチルバイオレットを含む帯電防止膜も同様な理由より耐熱性、耐候性に乏しく可視光全波長領域にわたって均一な吸収を得ることが難しい。
【０００９】
イオンプレーティングによる方法は工業的に安価とはいえず、また可視光全波長領域にわたって均一な吸収を得られないため、陰極線管に成膜したときコントラストの向上も望めない。
【００１０】
本発明は従来技術が有していた前述の欠点を解決し、低温熱処理が可能な着色膜形成用塗布液、該塗布液を用いた着色膜とその製造方法を新規に提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、酸窒化チタンとＳｉ（ＯＲ）_ｍＲ_４−ｍ（ｍは１〜４の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基）で示される化合物（以下、特定ケイ素化合物という）またはその加水分解物とを含む着色膜形成用塗布液（以下、本塗布液という）を提供する。また、本発明は本塗布液を基体に塗布することにより得られたことを特徴とする３８０ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域において透過率が低下した着色膜を提供する。
【００１２】
本塗布液にはＳｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、ＡｌおよびＧａの群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、そのような塗布液を基体に塗布することにより３８０ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域において透過率が低下し（すなわち着色しており）、かつ帯電防止能を有する着色帯電防止膜が得られる。
本発明によれば、基体上に形成される多層膜において、該多層膜のうちの少なくとも１層が、前記の着色帯電防止膜である多層着色帯電防止膜が提供される。
多層着色帯電防止膜は、基体側から、前記の着色帯電防止膜、その上に該着色帯電防止膜よりも低屈折率を有する膜が順次形成された、多層着色低反射帯電防止膜であることが好ましい。
【００１３】
さらに、本発明は、基体表面に形成される着色膜の製造方法において、基体表面に本塗布液を塗布した後、加熱および／または紫外線照射することを特徴とする着色膜の製造方法を提供する。本塗布液には、前記したようにＳｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、ＡｌおよびＧａの群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。
【００１４】
本発明の着色膜、着色帯電防止膜および多層着色低反射帯電防止膜は、ディスプレイ用途に供されるガラス物品に好ましく用いられる。ガラス物品としての陰極線管は近年コンピューターの端末表示等に使用される場合高解像度の要求とともにハイコントラストの要求も高まりつつある。しかしコントラストの向上を期してガラス基体自体の透過率を低下させた場合、ディスプレイの大型化に伴ってパネルの肉厚も厚くなり、かつ肉厚偏差を有することから、特に大型ディスプレイでは肉厚偏差に起因して面内の透過率に分布が生じる問題がある。
【００１５】
本発明ではガラス基体自体の透過率を下げることなくその表面に膜を形成しこの膜で光吸収を生じさせることによりコントラストの向上を図る。したがって種々の肉厚をもつディスプレイ用ガラスパネルへの適用が容易となる。
陰極線管の発光スペクトルは複数のスペクトルで構成されるが、発光スペクトルのバランスを崩さずにコントラストの向上を図るには特定の光吸収を持つ着色膜よりも可視光全波長領域にわたって均一の光吸収を持つ着色膜が好ましい。
【００１６】
このような観点より鋭意研究を行なった結果、酸窒化チタン粒子を含む着色膜を構成することにより、可視光全波長領域において均一な光吸収を可能とし上記の問題点を解決することができた。
【００１７】
本発明における酸窒化チタンの組成は特に限定されないが、窒素を０．１〜３０ｗｔ％含有するＴｉＯ_ｘ（１．０≦ｘ＜２．０）であることが好ましい。また、窒素元素を酸化物中で安定化するために短周期型周期表において示される３Ａ〜７Ａ、８または１Ｂ族元素を酸窒化チタンに対して５．０ｗｔ％以下添加することも好ましい。
【００１８】
また、本発明では上記酸窒化チタン粒子に特定ケイ素化合物またはその加水分解物を加えるので、本塗布液中の酸窒化チタン粒子の安定性が向上し脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、アルコールエステル類、ケトンエステル類、エーテルアルコール類、ケトンエーテル類、エステルエーテル類のうちの１種または２種以上の混合物からなる有機溶剤で希釈した場合でも凝集沈殿を生じない。
本発明においては、特定ケイ素化合物の加水分解物がｐＨ０．１〜６．０の酸性溶液を用いることにより得られたものであることが好ましい。
【００１９】
本塗布液にＳｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ａｌ、およびＧａの群から選ばれる少なくとも１種の酸化物を含有する塗布液を塗布・成膜することにより、ディスプレイのオン・オフ時に生起する静電気を抑える帯電防止性能を有し、埃等の付着を抑制できる、着色帯電防止膜が得られる。
さらには上記着色帯電防止膜上に当該被膜よりも低い屈折率を有する膜を形成することにより、解像度を損なうことなく蛍光灯の映り込み等を抑制する低反射性能をも付与できる。
【００２０】
一般に、薄膜の光学的性能はその膜の屈折率と膜厚で決定される。一定の屈折率ｎ_Ｓを有する基体上に屈折率ｎを有する薄膜を付着させ、屈折率ｎ_０の媒質中より波長λの光が入射した場合のエネルギー反射率Ｒは、光が膜中を通過する際の位相差をΔとするとΔ＝４πｎｄ／λ（ｄ：膜厚）であり、Δ＝（２ｍ＋１）π、すなわち位相差Δが半波長の奇数倍のとき極小値をとり、このとき、
Ｒ＝（（ｎ_２ −ｎ_０ｎ_Ｓ）／（ｎ_２＋ｎ_０ｎ_Ｓ））^２・・・（１）
となる。
【００２１】
無反射条件を満たすには、（１）式において、Ｒ＝０とおき、
ｎ＝（ｎ_０ｎ_Ｓ）^１／２・・・・（２）
が必要とされる。
（２）式を２層構成に拡張した場合、
ｎ_Ｓｎ_１ ^２＝ｎ_２ ^２ｎ_０・・・・（３）
となる。ただし、ｎ_１は媒質側層、ｎ_２は基体側層の屈折率である。
【００２２】
ここでｎ_０＝１（空気）、ｎ_Ｓ＝１．５２（ガラス）を（３）式に適用した場合、ｎ_２／ｎ_１＝１．２３となり、この場合、２層構成膜の最大の低反射性が得られる。勿論ｎ_２／ｎ_１＝１．２３を満たさなくても、２層膜の屈折率がこれに近い値をとる場合、低反射性が得られる。したがって、基体側に設ける高屈折率層と媒質側に設ける低屈折率層は両者の屈折率比ができるだけ１．２３に近い値をとるように選択するのが望ましい。
【００２３】
本発明において、所望の低反射膜を得るには、多層膜間の屈折率差とともに膜厚も重要な要素である。反射防止性能を有する多層の低反射膜の構成としては、反射防止をしたい波長をλとして、基体側より高屈折率層および低屈折率層を光学厚さλ／２およびλ／４で構成した低反射膜、基体側より中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層を光学厚さλ／４、λ／２およびλ／４で順次形成した３層の低反射膜、基体側より低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層を光学厚さλ／４、λ／４、λ／２およびλ／４で順次形成した４層の低反射膜等が典型的な例として知られている。
【００２４】
本発明で用いる酸窒化チタン粒子は還元処理した酸化チタンを用いる。還元処理にはＮ_２ガス、ＮＨ_３ガス等を用いることができる。
【００２５】
酸窒化チタン自体導電性を有しているため、帯電防止膜を構成する場合、導電補助成分として機能する。酸窒化チタンの被膜中における含有割合については、着色膜の場合１〜９０ｗｔ％が好ましく、これに満たない場合は着色性能が充分でなく、これを超える場合は膜の強度が低下し好ましくない。
【００２６】
着色帯電防止膜の場合は、酸窒化チタンの被膜中における含有割合が１〜８０ｗｔ％であることが好ましい。酸窒化チタン量が少なすぎると着色性能が充分でなく、また多すぎると帯電防止能および膜の透過率が悪化し好ましくない。
また、特定ケイ素化合物の加水分解物の本塗布液中の含有量については、酸化物換算で全固形分に対して０．５〜６５ｗｔ％が好ましい。これより少ないと本塗布液に有機溶媒を混合させた場合凝集が生じることがある。また、これよりも多いと着色性能および帯電防止能が悪化し好ましくない。
【００２７】
本塗布液に添加する酸化物としては、ＳｂをドープしたＳｎＯ_２、ＩＴＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、またはＧａをドープしたＺｎＯなどを使用できる。これらの酸化物は導電性を有するので着色膜に導電性を付与でき、これによって帯電防止性能を付与できる。これら酸化物は、塗布液中に粒子として分散させて使用でき、また溶液として用いて基体上で酸化物化させることもできる。
【００２８】
前記酸化物を本塗布液中に粒子として添加する場合、分散媒中の粒子の平均粒径は３０ｎｍ以下であることが好ましい。溶液として用いる場合、キレート錯体のような有機化合物、硝酸塩のような無機化合物を用い、本塗布液と混合して用いることができる。
【００２９】
本塗布液の基体への塗布方法は、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ロールコーター法、メニスカスコーター法等、種々考えられるが、特にスピンコート法は量産性、再現性に優れ、好ましく用いられる。かかる方法によって１０ｎｍ〜１μｍ程度の膜が形成できる。
【００３０】
また、多層着色低反射帯電防止膜において低屈折率膜を構成する物質としては屈折率、膜強度の点からケイ素化合物が好ましく用いられる。ケイ素化合物としては、特定ケイ素化合物またはその部分加水分解物を用いることが好ましい。ケイフッ化水素酸、ホウ酸を含む水溶液に二酸化ケイ素粉末を飽和させてなる溶液より析出させてできるケイ素化合物も使用できる。
特定ケイ素化合物またはその部分加水分解物の着色帯電防止膜上への塗布方法としては、前述した方法と同様に種々の方法が用いられる。
【００３１】
本発明の着色膜は酸窒化チタンを含有するため高屈折率を有し、前記低屈折率膜との２層で構成した場合、低反射性能が容易に発現される。
【００３２】
本発明において、着色膜、着色帯電防止膜または多層着色低反射帯電防止膜を形成する基体としては特に限定されず、目的に応じてソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス等のガラス、鋼玉等の単結晶、マグネシア、サイアロン等の透光性セラミックス、ポリカーボネート等のプラスチックも使用できる。
特に好ましい応用例として、前記の着色液、着色帯電防止膜または多層着色低反射帯電防止膜がパネル表面に形成された陰極線管が挙げられる。
【００３３】
【作用】
本発明の着色膜においては着色成分として窒素を含有してなる酸化チタンを用いるので着色性能に関して熱安定性、耐候性に優れている。
また、特定の可視光波長に吸収を生じないため、陰極線管に適用した場合、陰極線管内の蛍光体の発するスペクトルのバランスを崩すことなくコントラストの向上を図ることができる。
【００３４】
可視光全波長領域における均一な吸収に起因して低反射特性も向上する。さらには窒素を含有してなる酸化チタン自体も導電性を有しているため酸窒化チタンも帯電防止能を発現させる成分として機能する。
【００３５】
また、上記酸窒化チタン粒子に特定ケイ素化合物またはその加水分解物を加えるので本塗布液中の酸窒化チタン粒子の安定性が向上し脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、アルコールエステル類、ケトンエステル類、エーテルアルコール類、ケトンエーテル類、エステルエーテル類のうちの１種または２種以上の混合物からなる有機溶剤で希釈した場合でも凝集沈殿を生じることがなく、広範な塗布条件に対応できる塗布液が得られる。
【００３６】
【実施例】
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
得られた液の評価結果は下記のように行った。
【００３７】
１）液中の粒子の分散安定性評価
大塚電子製レーザー粒径解析システムＬＰＡ−３１００により液合成直後および５℃で４週間静置保存したのちの液中の粒子の平均粒径を測定した。
得られた膜の評価は下記のように行った。
２）透過率評価
日立製作所製スペクトロフォトメータＵ−３５００により３８０ｎｍ、５５０ｎｍ、７８０ｎｍの透過率を測定した。
３）ヘーズ評価
スガ試験機製直読ヘーズコンピュータにより膜自体のヘーズを測定した。
【００３８】
４）導電性評価
着色帯電防止膜、多層着色低反射帯電防止膜について三菱油化製ハイレスタ抵抗測定器により相対湿度３０％以下の雰囲気中で膜表面の表面抵抗値を測定した。
５）耐擦傷性
１ｋｇ重の荷重下、消しゴムで膜表面を５０回往復後、その表面の傷の付きを目視で判断した。評価基準は以下の通りとした。
○：傷が全く付かない
△：傷が少し付く
×：多くの傷が付くか剥離
【００３９】
６）鉛筆硬度
１ｋｇ重の荷重下、鉛筆で膜表面を走査し、その後目視により表面の傷の生じ始める鉛筆の硬度を膜の鉛筆硬度と判断した。
７）視感反射率
多層着色低反射帯電防止膜についてＧＡＭＭＡ分光反射スペクトル測定器により膜の３８０ｎｍ〜７００ｎｍの視感反射率を測定した。
【００４０】
実施例１
酸窒化チタン（窒素含有量が１０ｗｔ％でありかつバナジウムを１ｗｔ％含有する）１５ｇをあらかじめｐＨ３．０に調整した水溶液８５ｇ中に添加してサンドミルで４時間粉砕して９０℃で１時間加熱したのち、濃度５ｗｔ％に調整しゾルを得た（Ａ液）。
Ｓｉ（ＯＥｔ）_４のエタノール溶液（酸化物換算で固形分５ｗｔ％）に、Ｓｉ（ＯＥｔ）_４：水＝１：８モル比となるようにｐＨ２．８に調整した硝酸酸性水溶液を添加し、２時間８０℃で加熱還流した（Ｂ液）。
Ａ液とＢ液をＡ液：Ｂ液＝２：３ｗｔ比となるように混合し酸化物換算で１．２ｗｔ％となるようにエタノールおよびブタノール（エタノール：ブタノール＝３：２ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で希釈し着色膜用コート液とした。
【００４１】
実施例２
Ｓｂが８ｍｏｌ％ドープされたＳｎＯ_２粉末（１次粒径１０ｎｍ）１５ｇを水８５ｇ中に添加してサンドミルで１６時間粉砕して９０℃で１時間加熱した後、濃度５ｗｔ％に調整しゾルを得た（Ｃ液）。
Ａ液とＢ液とＣ液を各酸化物換算でＡ液：Ｂ液：Ｃ液＝３：２：５ｗｔ比となるように混合し、エタノール、ＩＰＡ、２−エトキシエタノール（エタノール：ＩＰＡ：２−エトキシエタノール＝４：５：１ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で０．９ｗｔ％に希釈し着色帯電防止膜用コート液とした。
【００４２】
実施例３
実施例２におけるＳｂが８ｍｏｌ％ドープされたＳｎＯ_２粉末をＩＴＯ粉末（Ｓｎ／Ｉｎ＝１０／９０ｍｏｌ比、１次粒径３０ｎｍ）に変更し水８５ｇをＫＯＨであらかじめｐＨ８．０に調整した水溶液に変更した以外は実施例２と同様に行った。
【００４３】
実施例４
実施例２におけるＳｂが８ｍｏｌ％ドープされたＳｎＯ_２粉末をＡｌが１０ｍｏｌ％ドープされたＺｎＯ粉末（１次粒径２０ｎｍ）に変更した以外は実施例２と同様に行った。
【００４４】
実施例５
実施例２におけるＳｂが８ｍｏｌ％ドープされたＳｎＯ _２粉末をＧａが８ｍｏｌ％ドープされたＺｎＯ粉末（１次粒径４０ｎｍ）に変更した以外は実施例４と同様に行った。
【００４５】
比較例１
実施例１におけるＡ液をエタノールおよびブタノール（エタノール：ブタノール＝３：２ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で希釈した。
【００４６】
【００４７】
比較例２
実施例２におけるＡ液とＢ液とＣ液の混合比を各酸化物換算でＡ液：Ｂ液：Ｃ液＝５：０：５ｗｔ比と変更した以外は実施例２と同様に行った。
【００４８】
実施例６
実施例１において得られたコート液をブラウン管パネル表面に１５０ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後１６０℃で３０分加熱して約９０ｎｍの膜を得た。
【００４９】
比較例３
銅フタロシアニンブルー０．０２ｇをＢ液４０ｇに添加し酸化物換算で１．４ｗｔ％になるようにエタノールおよびブタノール（エタノール：ブタノール＝３：２ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で希釈しブラウン管パネル表面に１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布しその後１６０℃で３０分間加熱し膜を得た。
【００５０】
実施例７
実施例２において得られたコート液をブラウン管パネル表面に１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後１６０℃で３０分加熱して約１００ｎｍの膜を得た。
【００５１】
実施例８
実施例３において得られたコート液をブラウン管パネル表面に１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後２５４ｎｍの波長を主波長とする紫外線を３０分照射して約１００ｎｍの膜を得た。
【００５２】
実施例９
実施例４において得られたコート液をブラウン管パネル表面に１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後３６５ｎｍの波長を主波長とする紫外線を３０分照射して約９０ｎｍの膜を得た。
【００５３】
実施例１０
実施例５において得られたコート液をブラウン管パネル表面に１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後３７０℃で１０分加熱して約９０ｎｍの膜を得た。
【００５４】
実施例１１
実施例７において１６０℃、３０分の加熱処理を６０℃、１０分の加熱処理に変更し約１００ｎｍの厚さの膜を得た。この膜の上にＢ液を酸化物換算で０．９５ｗｔ％にエタノールおよびブタノール（エタノール：ブタノール＝３：２ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で希釈した溶液を実施例６記載のスピンコート法で塗布し１６０℃で３０分加熱処理し着色低反射帯電防止膜を得た。
【００５５】
実施例１２
硝酸インジウムを酸化物換算で５ｗｔ％となるようにアセチルアセトンに溶解し１３０℃で１時間還流を行った（Ｄ液）。
塩化第一錫をアセチルアセトンに酸化物換算で５ｗｔ％となるように溶解し１３５℃で２時間加熱還流を行った（Ｅ液）。
Ｄ液とＥ液を各酸化物換算で１．２ｗｔ％となるようにエタノールで希釈した後、Ｄ液：Ｅ液＝８５：１５ｗｔ比となるように混合した（Ｆ液）。
実施例１１におけるＣ液をＦ液に変更し２層塗布後の焼成を３７０℃、６分に変更した以外は実施例１１と同様に行った。
【００５６】
比較例４
銅フタロシアニンブルー０．０２ｇをエタノールおよびブタノール（エタノール：ブタノール＝３：２ｗｔ比）からなる混合有機溶媒５０ｇに添加した（Ｇ液）。
Ｂ液とＣ液を各酸化物換算でＢ液：Ｃ液＝２：４ｗｔ比となるように混合し、エタノール、ＩＰＡ、２−エトキシエタノール（エタノール：ＩＰＡ：２−エトキシエタノール＝４：５：１ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で０．９ｗｔ％に希釈した（Ｈ液）。
【００５７】
Ｈ液とＧ液をＨ液：Ｇ液＝１：９ｗｔ比となるように混合しブラウン管パネル表面に１００ｒｐｍの回転速度で６０秒間塗布し、その後６０℃で１０分加熱して約９０ｎｍの膜を得た。この膜の上にＢ液を酸化物換算で０．９５ｗｔ％にエタノールおよびブタノール（エタノール：ブタノール＝３：２ｗｔ比）からなる混合有機溶媒で希釈し実施例６記載のスピンコート法で塗布し１６０℃で３０分加熱処理した。
実施例１〜５および比較例１〜２において作成された塗布液の評価結果を表１に示す。実施例６および比較例３において作成された着色膜の評価結果を表２に示す。実施例７〜１２および比較例４において作成された着色帯電防止膜（実施例７〜１０）および多層着色低反射帯電防止膜（実施例１１〜１２および比較例４）の評価結果を表３に示す。なお、表中の「透過率の低下（％）」とは着色膜が形成されないブラウン管パネルの透過率を基準としたときの低下の割合である。
【００５８】
【表１】

【００５９】
【表２】

【００６０】
【表３】

【００６１】
【発明の効果】
本発明の塗布液は長期安定性に優れ、本発明の着色膜は、熱安定性、耐候性に優れるとともに、特定の可視光波長に吸収を生じない。そのため陰極線管に適用した場合、陰極線管内の蛍光体の発するスペクトルのバランスを崩すことなくコントラストの向上を図ることができる。
また、本発明において用いる窒素を含有してなる酸化チタンは導電性を有しているため、本発明の着色膜は、帯電防止能も発現することができる。

Claims

酸窒化チタン粒子とＳｉ（ＯＲ）_ｍＲ_４−ｍ（ｍは１〜４の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基）で示される化合物またはその加水分解物とを含む着色膜形成用塗布液。
前記酸窒化チタンが窒素を０．１〜３０ｗｔ％含有するＴｉＯ_ｘ（１．０≦ｘ＜２．０）である請求項１に記載の着色膜形成用塗布液。
請求項１または２に記載の着色膜形成用塗布液を基体に塗布することにより得られたことを特徴とする３８０ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域において透過率が低下した着色膜。
請求項３に記載の着色膜が形成されてなるガラス物品。
請求項３に記載の着色膜がパネル表面に形成されてなる陰極線管。
基体表面に形成される着色膜の製造方法において、請求項１または２に記載の着色膜形成用塗布液を基体表面に塗布した後、加熱および／または紫外線照射することを特徴とする着色膜の製造方法。