JPH06204777A - 水晶振動子の調整方法 - Google Patents

水晶振動子の調整方法

Info

Publication number
JPH06204777A
JPH06204777A JP50A JP94193A JPH06204777A JP H06204777 A JPH06204777 A JP H06204777A JP 50 A JP50 A JP 50A JP 94193 A JP94193 A JP 94193A JP H06204777 A JPH06204777 A JP H06204777A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
adjusting
frequency
adjustment
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP50A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Izumo
正雄 出雲
Yoshifumi Matsushita
嘉文 松下
Nobuyuki Zumoto
信行 頭本
Toshinori Yagi
俊憲 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP50A priority Critical patent/JPH06204777A/ja
Publication of JPH06204777A publication Critical patent/JPH06204777A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザ光照射による重りの放除量が任意に選
択でき、かつ調整工程,素子構造を簡略化する。 【構成】 照射レーザ光4のエネルギー密度(フルエン
ス)を調整し、重り2そのものの放除により粗調を、ま
た、重り2の表面に形成された酸化物層3の放除および
変質により微調を行うようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、水晶振動子の発振周
波数を高精度に調整できるようにした水晶振動子の調整
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は、特公昭53−29519号公報
に示された従来の水晶振動子の構造を示す図である。図
3において、1は水晶振動子、2は粗調整用の重り、7
は微調整用の重り、8は極微調整用の重り、9,10,
11は各々の重りに照射されるレーザ光である。また、
図4において、曲線12,13,14は各々極微調整後
のエージング特性を示す曲線である。
【0003】次に動作について説明する。まず、水晶振
動子1上に設けられた粗調整用重り2にレーザ光9が照
射され、粗調整用重り2の厚みで制限される放除量分が
除去される。次に微調整用重り7にレーザ光10が照射
され、微調整用重り7の厚みで制限される放除量分が除
去される。次にこれらレーザ光9,10による放除にお
いて生じる熱影響を避けるためにエージングを行うと、
図4に示されるようなエージング曲線が得られる。そし
て、このエージングにより周波数特性が安定化した後、
極微調整用重り8にレーザ光11が照射され、周波数の
極微調整を行う。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
水晶振動子の調整方法では、レーザ光照射による重りの
放除量が各調整用の重りの厚さに依存し、また粗調工
程,微調工程および極微調工程が必要となり、その調整
工程および素子構造が複雑になるという問題があった。
【0005】したがってこの発明は、前述した従来の課
題を解消するためになされたものであり、その目的は、
レーザ光照射による重りの放除量が任意に選択でき、か
つ調整工程,素子構造を簡略化することができる水晶振
動子の調整方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためにこの発明に係る水晶振動子の調整方法は、照射
レーザ光のエネルギー密度(フルエンス)を調整し、重
りそのものの放除により粗調を、また、重りの表面に形
成された酸化物層の放除および変質により微調を行うよ
うにするものである。
【0007】
【作用】この発明における水晶振動子の調整方法は、例
えば照射レーザ光にUVレーザ光を用い、フルエンスを
調整し、重りのアブレーション(ablation)加
工のしきい値以上のフルエンスで重りそのものの放除に
より粗調が、また、重りのアブレーション加工のしきい
値以下でかつ重りの表面に形成された酸化物層の変質加
工しきい値以上のフルエンスで重りの表面に形成された
酸化物層の放除および表面変質により微調がそれぞれ行
われる。
【0008】
【実施例】以下、図面を用いてこの発明の実施例を詳細
に説明する。図1および図2は、この発明による水晶振
動子の調整方法の一実施例を説明する水晶振動子の側面
図である。図1において、3は重り2の表面に形成され
た酸化物層、4は照射UVレーザ光である。また、図2
において、5は重り2のアブレーション加工のしきい値
以上のフルエンスにおけるショット数(レーザ光の照射
回数)と変化量との関係を示す曲線、6は重り2のアブ
レーション加工のしきい値以下かつ重り2の表面に形成
された酸化物層3の変質加工しきい値以上のフルエンス
におけるショット数と変化量との関係を示す曲線であ
る。その他の構成については図3および図4に示された
従来例と同様であるので、相当するものに同一符号を付
してその説明を省略する。
【0009】次に動作について説明する。まず、水晶振
動子1上に設けられた重り2に、例えば図2の曲線5と
同じフルエンスに調整されたUVレーザ光4が照射さ
れ、これによって重り2が曲線5で示された関係にした
がった放除量分が除去されて粗調が行われる。このと
き、大気中での工程であるので、極く短時間中に重り2
のレーザ照射部に酸化物層3が再び形成される。酸化物
層3が再び形成された後、例えば図2の曲線6と同じフ
ルエンスに調整されたUVレーザ光4が重り2の酸化物
層3に照射され、これによって酸化物層3の曲線6で示
された関係にしたがった放除量分が低熱損傷により除去
および表面変質されて微調が行われて周波数の調整が行
われる。
【0010】このような調整方法によれば、1つの重り
2で重り2自体の放除量とこの重り2の表面の酸化物層
3の放除量とにより、それぞれ周波数の粗調と微調とを
連続して行うことができるとともに周波数を高精度に調
整でき、また、重り2自体の放除量についても任意の深
さの除去が可能となり、調整が容易となる。さらにUV
レーザ光4を用いることにより、熱影響が小さく、エー
ジング時間を短縮することができる。なお、UVレーザ
光を発生させるレーザ装置として、例えばエキシマレー
ザ,He−Cdレーザ,Arイオンレーザ,YAGレー
ザまたは高調波素子との組み合わせなどのレーザ装置を
用いることがきでる。
【0011】
【発明の効果】以上、説明したようにこの発明によれ
ば、レーザ光による重りのアブレーション現象と重り表
面の酸化物層の除去および変質とを用いて水晶振動子の
周波数調整を行うことにより、重りの粗調は重りの厚み
によらず、任意に放除量を変化させることができ、ま
た、微調は表面の酸化物層の放除および変質を利用する
ことにより、極微量の調整ができるので、単純な工程で
高精度な周波数調整ができ、かつ水晶振動子の構造を簡
略化できる効果がある。さらにレーザ光としてUVレー
ザ光を用いることにより、エージング時間が短縮できる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による水晶振動子の調整方法の一実施
例を説明するための水晶振動子の側面図である。
【図2】この発明の一実施例を説明するための照射UV
レーザ光のショット数と変化量との関係を示す図であ
る。
【図3】従来の水晶振動子の構成を示す側面図である。
【図4】従来の水晶振動子の周波数調整におけるエージ
ング時間と変化量との関係を示す図である。
【符号の説明】
1 水晶振動子 2 粗調整用の重り 3 重りの表面に形成された酸化物層 4 照射UVレーザ光 5 重りのアブレーション加工のしきい値以上のフルエ
ンスにおけるショット数と変化量との関係を示す曲線 6 重りのアブレーション加工のしきい値以下かつ重り
の表面に形成された酸化物層の変質加工しきい値以上の
フルエンスにおけるショット数と変化量との関係を示す
曲線 7 微調整用の重り 8 極微調整用の重り 9 重りに照射されるレーザ光 10 重りに照射されるレーザ光 11 重りに照射されるレーザ光 12 極微調整後のエージング特性を示す曲線 13 極微調整後のエージング特性を示す曲線 14 極微調整後のエージング特性を示す曲線
フロントページの続き (72)発明者 八木 俊憲 兵庫県尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三 菱電機株式会社生産技術研究所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水晶振動子に形成した周波数特性調整用
    の重りの一部を大気中にてレーザ光の照射によって除去
    し、発振周波数を調整する水晶振動子の調整方法におい
    て、 前記重りの表面に形成された酸化物層の除去および変質
    により重量変化を生じさせて前記発振周波数の調整を行
    うことを特徴とする水晶振動子の調整方法。
  2. 【請求項2】 水晶振動子に形成した周波数特性調整用
    の重りの一部を大気中にてレーザ光の照射によって除去
    し、発振周波数を調整する水晶振動子の調整方法におい
    て、 前記重りの加工しきい値より小さく、かつ前記酸化物層
    の変質しきい値より大きいエネルギー密度のレーザ光の
    照射により前記重りの重量変化を生じさせて前記発振周
    波数の調整を行うことを特徴とする水晶振動子の調整方
    法。
  3. 【請求項3】 水晶振動子に形成した周波数特性調整用
    の重りの一部を大気中にてレーザ光の照射によって除去
    し、発振周波数を調整する水晶振動子の調整方法におい
    て、 前記重りの加工しきい値より大きいエネルギー密度のレ
    ーザ光の照射により前記重りの重量変化を生じさせて周
    波数の粗調を行った後、前記重りの加工しきい値より小
    さく、かつ前記酸化物の変質しきい値より大きいエネル
    ギー密度のレーザ光の照射により前記発振周波数の微調
    を行うことを特徴とする水晶振動子の調整方法。
  4. 【請求項4】 請求項1,請求項2または請求項3にお
    いて、前記レーザ光としてUVレーザ光を用いることを
    特徴とする水晶振動子の調整方法。
JP50A 1993-01-07 1993-01-07 水晶振動子の調整方法 Pending JPH06204777A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50A JPH06204777A (ja) 1993-01-07 1993-01-07 水晶振動子の調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50A JPH06204777A (ja) 1993-01-07 1993-01-07 水晶振動子の調整方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06204777A true JPH06204777A (ja) 1994-07-22

Family

ID=11487706

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50A Pending JPH06204777A (ja) 1993-01-07 1993-01-07 水晶振動子の調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06204777A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8365372B2 (en) 2001-12-19 2013-02-05 Contria San Limited Liability Company Piezoelectric oscillating circuit, method for manufacturing the same and filter arrangement

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5329519B2 (ja) * 1974-06-06 1978-08-21
JPS53131792A (en) * 1977-04-22 1978-11-16 Seiko Instr & Electronics Ltd Piezoelectric vibrator
JPS5596711A (en) * 1979-01-18 1980-07-23 Ebauches Sa Method of controlling frequency of resonator and resonator fabricated thereby
JPS562451B2 (ja) * 1975-12-04 1981-01-20
JPS60187116A (ja) * 1984-03-07 1985-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜振動共振子の共振周波数調整方法
JPH02220508A (ja) * 1989-02-21 1990-09-03 Matsushima Kogyo Co Ltd 圧電振動子の周波数調整方法
JPH04324706A (ja) * 1991-04-24 1992-11-13 Seiko Epson Corp 水晶振動子の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5329519B2 (ja) * 1974-06-06 1978-08-21
JPS562451B2 (ja) * 1975-12-04 1981-01-20
JPS53131792A (en) * 1977-04-22 1978-11-16 Seiko Instr & Electronics Ltd Piezoelectric vibrator
JPS5596711A (en) * 1979-01-18 1980-07-23 Ebauches Sa Method of controlling frequency of resonator and resonator fabricated thereby
JPS60187116A (ja) * 1984-03-07 1985-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜振動共振子の共振周波数調整方法
JPH02220508A (ja) * 1989-02-21 1990-09-03 Matsushima Kogyo Co Ltd 圧電振動子の周波数調整方法
JPH04324706A (ja) * 1991-04-24 1992-11-13 Seiko Epson Corp 水晶振動子の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8365372B2 (en) 2001-12-19 2013-02-05 Contria San Limited Liability Company Piezoelectric oscillating circuit, method for manufacturing the same and filter arrangement

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6717101B2 (en) Method and apparatus for laser ablation of a target material
US20070215581A1 (en) Laser beam machining method and laser beam machining apparatus
JPS6384789A (ja) 光加工方法
JPH08195357A (ja) レーザー照射装置
US20110108532A1 (en) Laser processing method
KR20070120491A (ko) 회절 격자의 레이저 손상 임계치를 증가시키는 방법
JP2003133690A (ja) 超短パルスレーザを用いた回路形成方法
JP2007157659A (ja) 有機el素子の配線パターンの形成方法及び有機el素子の形成装置
US6549608B1 (en) Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor device manufacturing method
JPH11207478A (ja) レーザー加工方法およびレーザー加工装置
JPH06204777A (ja) 水晶振動子の調整方法
JPH0740336A (ja) ダイヤモンドの加工方法
JP2004306127A (ja) 薄膜パターニング加工方法
JP2003001470A (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JPH11773A (ja) レーザ加工装置およびその方法
JP3305670B2 (ja) フォトマスクの修正方法
JPH0825064A (ja) レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JPH09260302A (ja) レーザ照射装置
JP2001239379A (ja) 高強度超短パルスレーザー加工方法
JP2990490B2 (ja) 光照射を用いた物質の加工方法
JP2008177226A (ja) レーザパルス発生装置及び方法
JP2924861B2 (ja) 半導体ウエハ用レーザマーキング装置およびその方法
JP2004174579A (ja) レーザパターニング方法
WO2023052549A2 (en) Cutting a substrate or preparing a substrate for cleaving
JP4468643B2 (ja) 切断方法