JPH06202098A

JPH06202098A - 液晶表示パネル

Info

Publication number: JPH06202098A
Application number: JP5015966A
Authority: JP
Inventors: Osamu Yamada; 修山田
Original assignee: Citizen Watch Co Ltd
Current assignee: Citizen Watch Co Ltd
Priority date: 1993-01-05
Filing date: 1993-01-05
Publication date: 1994-07-22

Abstract

(57)【要約】【構成】基板１０１の上に設ける導電性を有する遮光
膜１０２と、遮光膜上に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜
上に設けるカラーフィルター１０４と、カラーフィルタ
ー上に設ける保護膜１０５と、保護膜上に設ける透明電
極１０６とを有する。【効果】いずれかの層にピンホールがあってもこの多
層膜構造で遮光膜と透明電極の電気的ショートを確実に
防止できる。このため遮光特性の不充分な絶縁体を用い
た遮光膜を使用する必要がなく、遮光特性の優れた、平
坦性の優れた表示品質の高い液晶表示パネルを歩留まり
を低下させること無く生産でき、しかも既存の保護膜、
あるいはカラーフィルターを利用して多層膜構造を形成
しているため、最小限の工程の追加ですむから大幅な価
格上昇もない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネルの基板
の構造に関し、さらに具体的には導電性を有する遮光膜
を設けた基板の構造に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネルは基本的には複数の透明
電極を形成した２枚の基板を、透明電極を形成した面を
対向させ、シール材により封止し、これに液晶材料を注
入して構成する。

【０００３】以下図面に基づいて従来技術を説明する。
図９は従来のカラー液晶表示パネルの構造を示す断面図
である。

【０００４】図９に示すように、第１の基板１０１上に
はカラーフィルター１０４が設けられ、カラーフィルタ
ー１０４上には保護膜１０５が設けられ、保護膜１０５
上には透明電極１０６が設けられている。液晶３００を
介して第１の基板１０１と対向する第２の基板２０１に
は、透明電極２０６が設けられている。ここで透明電極
１０６と透明電極２０６上には、実際には配向膜が設け
られているが、図示を省略してある。

【０００５】この図９に示す構成の場合、保護膜１０５
はカラーフィルター１０４の層表面の凹凸を吸収し、透
明電極１０６の表面を平坦化するために用いられる。す
なわち対向する透明電極１０６と透明電極２０６の間隔
に不均一な部分があると、この部分およびその近傍にお
いて、表示の明るさの不均一、液晶の配向の不均一など
を生じ、表示品質を低下させる原因になる。このため基
板の透明電極面を平坦に仕上げるため、保護膜１０５を
設けるのである。

【０００６】しかし比較的低分割駆動の液晶表示パネル
の場合、保護膜無しでも許容可能な平坦性を得られるた
め、この保護膜の形成を廃止することもある。

【０００７】透明電極１０６と透明電極２０６とは、互
いにマトリクス状に配置され、その対向する部分が表示
に関与する画素部分であり、その他の部分は表示に関与
しない非画素部分である。非画素部分は表示全体のコン
トラストを低下させないためには、光透過率が零である
ことが望ましい。

【０００８】しかし実際には種々の理由により光が漏れ
るため、表示品質を著しく下げてしまう。そこで非画素
部分からの光漏れを防止する工夫が試みられている。

【０００９】図１０は非画素部分の光漏れを防止した従
来例における第１の基板１０１を示す断面図であり、隣
合うカラーフィルター１０４をオーバーラップさせて、
遮光効果を得ようとするものである。

【００１０】この図１０に示す構成にはいくつかの欠点
がある。１つは遮光効果を高めるためには、隣合うカラ
ーフィルター１０４が完全にオーバーラップしている必
要があり、このオーバーラップ部分が凸状になってしま
う。

【００１１】この凸状部分は距離が比較的大きいため、
保護膜１０５によっても表面段差が吸収されず、透明電
極１０６の平坦性が損なわれることになる。

【００１２】またさらに、カラーフィルター１０４が完
全にオーバーラップした部分においても、多少の光漏れ
が生じ、完全な遮光方法とはいえない。

【００１３】またこの方法では、カラーフィルター１０
４に平行な非画素部分に対してしか遮光効果が得られ
ず、カラーフィルター１０４に直交する非画素部分は遮
光することができない。

【００１４】図１１は他の従来例における第１の基板１
０１を示す断面図である。

【００１５】図１１に示すように、第１の基板１０１の
上に遮光膜１０２を設け、この遮光膜１０２の上にカラ
ーフィルター１０４を設け、カラーフィルター１０４の
上に保護膜１０５を設け、保護膜１０５の上に透明電極
１０６を設ける。

【００１６】この図１１に示す構成によれば、カラーフ
ィルター１０４とは独立して遮光膜１０２を設けること
ができる。その結果、遮光膜１０２形状を井桁状に構成
することにより、カラーフィルター１０４に平行な非画
素部分に対しても、遮光効果が得られ、さらにカラーフ
ィルター１０４に直交する非画素部分に対しても遮光効
果を得ることができる。

【００１７】遮光膜１０２の形成法として、絶縁材料で
ある黒色顔料や黒色染料を分散した黒色樹脂を印刷法や
フォトエッチング法で形成する方法もあるが、この黒色
樹脂材料の吸光度は低く、膜厚が薄い場合は充分な遮光
特性が得られない。

【００１８】この黒色樹脂で充分な遮光特性を得るに
は、樹脂膜厚を充分に厚くすることが必要になる。しか
しながら、このように膜厚を厚くした場合には、遮光膜
の部分と有効画素となる遮光膜の無い部分とで大きな表
面段差が生じ、この段差を保護膜１０５で平坦化するこ
とは困難である。

【００１９】このように平坦性の不足した基板構造を持
つ液晶表示パネルは、液晶の配向不均一をおこし、表示
品質の悪いものとなることは前述の通りである。この問
題を解決するため、遮光膜１０２の材料として金属薄膜
が用いられる。

【００２０】遮光膜１０２に金属材料を用いた場合の、
図１１に示した従来例の製造工程を簡単に説明すると、
第１の基板１０１上にスパッタリング法あるいは真空蒸
着法などによって、クロムなどの不透明な金属薄膜を形
成した後、フォトエッチング法で所定のパターンを形成
し遮光膜１０２とする。

【００２１】その遮光膜１０２上に、印刷法、染色法、
顔料分散法などを用いてカラーフィルター１０４を設け
る。さらに、そのカラーフィルター１０４上にポリイミ
ド、アクリルなどの透明樹脂を印刷法、スピンコート法
を用いて保護膜１０５を設ける。その保護膜１０５上全
面にスパッタリング法、真空蒸着法などを用いて、透明
電極１０６となる酸化インジュウム錫膜を形成させる。
この酸化インジュウム錫膜をフォトエッチング法で所定
のパターン形状に加工して、透明電極１０６とする。

【００２２】遮光膜１０２を金属薄膜とした場合、保護
膜１０５は前述のように平坦化作用に加え、遮光膜１０
２と透明電極１０６との間の絶縁膜としての作用をも有
することになる。

【００２３】

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、遮
光膜１０２に金属薄膜を使用することが充分な遮光特性
を持ち、透明電極１０６の表面平坦性を確保できる遮光
膜１０２を形成する現実的な方法である。また遮光膜１
０２である金属薄膜は、フォトエッチング法で微細なパ
ターン形状加工ができることも長所である。

【００２４】しかし金属薄膜を遮光膜１０２として使用
した場合、しばしば遮光膜１０２と透明電極１０６との
間で電気的ショートが起こり、歩留まりを大幅に低下さ
せてしまうという問題点が発生する。

【００２５】これは、保護膜１０５で、遮光膜１０２と
透明電極間１０６との間は電気的に絶縁されている筈で
あるが、実際には保護膜１０５には微細なピンホールが
多数あり、このピンホールを介して遮光膜１０２と透明
電極１０６との間が電気的にショートしてしまうのであ
る。この保護膜１０５に発生するピンホールを完全に無
くすことは、現在のところ非常に難しい。

【００２６】本発明は、従来のこのような問題を解決
し、その目的とするところは遮光膜と透明電極との電気
的なショートを防ぎ、表示品質の高い液晶表示パネルを
安定して供給することにある。

【００２７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明が用いる第１の手段は、導電性を有する遮光膜
と透明電極の間に保護膜とは別に新たに絶縁膜を設ける
ことであり、第２の手段は隣合うカラーフィルターを僅
かにオーバーラップさせて絶縁層として活用することで
ある。

【００２８】

【作用】上記の手段を用いて構成した液晶表示パネル
は、保護膜やカラーフィルターの持つ微細なピンホール
に起因する遮光膜と透明電極の電気的ショートを、新た
に設ける絶縁膜と保護膜、絶縁膜とカラーフィルター、
絶縁膜と保護膜とカラーフィルター、あるいは保護膜と
カラーフィルターの多層膜による絶縁層を構成すること
で防止することができる。この結果、歩留まりを低下さ
せること無く、平坦性にすぐれ、かつ充分な遮光特性を
持つ高品質な表示品質を有する液晶表示パネルを提供す
ることができる。

【００２９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面によって説明す
るが、図面は構造のみを示すものであって寸法などにつ
いて示すものではない。また透明電極上の配向膜などは
図示していない。

【００３０】図１は本発明の第１の実施例における第１
の基板１０１を示す断面図である。

【００３１】図１に示すように、第１の基板１０１上の
全面にまずスパッタリング法あるいは真空蒸着法を用い
てクロム薄膜を形成し、そのクロム薄膜をフォトエッチ
ング法にて所定のパターンに形成し、遮光膜１０２を設
ける。

【００３２】さらに遮光膜１０２上にスパッタリング法
で、硬質で透明な絶縁体である酸化シリコンを形成し、
絶縁膜１０３を形成する。さらにその後、絶縁膜１０３
上に染色法を用いて直接カラーフィルター１０４を形成
する。

【００３３】その後さらに、カラーフィルター１０４上
にスピンコート法を用い透明なアクリル樹脂を全面に塗
布し、保護膜１０５を設ける。さらに、保護膜１０５上
にスパッタリング法で酸化インジュウム錫薄膜を全面に
形成した後、フォトエッチング法で所定のパターンを形
成し、透明電極１０６を設ける。

【００３４】すなわち図１に示す第１の実施例は、第１
の基板１０１上に設ける導電性を有する遮光膜１０２
と、遮光膜１０２上に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜１
０３上に設けるカラーフィルター１０４と、カラーフィ
ルター１０４上に設ける保護膜１０５と、保護膜１０５
上に設ける透明電極１０６とを有する構造となる。

【００３５】この図１に示す構造を採用する本発明によ
れば、遮光膜１０２として導電性はあるが遮光特性の充
分な金属薄膜を使用しても、絶縁膜１０３と保護膜１０
５とが多層膜として、遮光膜１０２と透明電極１０６と
の間に設けられている。このため、たとえ絶縁膜１０３
にピンホールがあっても、保護膜１０５との多層膜構造
で、遮光膜１０２と透明電極１０６との電気的ショート
の発生を確実に防ぐことができる。

【００３６】図２は本発明の第２の実施例における第１
の基板１０１を示す断面図で、絶縁膜１０３をカラーフ
ィルター１０４上に設けた構造を示す。

【００３７】図２に示すように、第１の基板１０１上に
設ける導電性を有する遮光膜１０２と、遮光膜１０２上
に設けるカラーフィルター１０４と、このカラーフィル
ター１０４上に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上
に設ける保護膜１０５と、保護膜１０５上に設ける透明
電極１０６とを有する構造である。

【００３８】この第２の実施例でも、図１に示した第１
の実施例と同様に、遮光膜１０２と透明電極１０６の間
に、絶縁膜１０３と保護膜１０５との多層膜が形成され
るため、遮光膜１０２と透明電極１０６の間の電気的シ
ョートの発生を防止することができる。

【００３９】図３は本発明の第３の実施例を示す断面図
で、絶縁膜１０３を保護膜１０５上に設けた構造を示
す。

【００４０】図３に示すように、第１の基板１０１上に
設ける導電性を有する遮光膜１０２と、遮光膜１０２上
に設けるカラーフィルター１０４と、このカラーフィル
ター１０４上に設ける保護膜１０５と、保護膜１０５上
に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上に設ける透明
電極１０６とを有する構造である。

【００４１】この第３の実施例でも、図１に示した第１
の実施例と同様に、遮光膜１０２と透明電極１０６の間
に絶縁膜１０３と保護膜１０５との多層膜が形成される
ている。このため、遮光膜１０２と透明電極１０６の間
の電気的ショートの発生を防止することができる。

【００４２】図４に本発明の第４の実施例における第１
の基板１０１の断面図を示す。第４の実施例の構造は、
図１から図３に示す保護膜１０５を廃止し、カラーフィ
ルター１０４を絶縁層として活用した構造である。

【００４３】図４に示すように、第１の基板１０１上に
設ける導電性を有する遮光膜１０２と、遮光膜１０２上
に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上に設けるカラ
ーフィルター１０４、とカラーフィルター１０４上に設
ける透明電極１０６とを有する構造である。

【００４４】保護膜１０５を設ける目的は、一義的には
透明電極１０６の表面平坦性の向上にある。しかし比較
的低分割駆動の場合、駆動マージンが広いために、不充
分な平坦性でも使用可能な表示品質を得ることができ
る。このような場合には保護膜１０５を廃止することが
可能である。

【００４５】しかし先に述べたように、金属薄膜による
遮光層１０２を設けた場合には、保護膜１０５は多層膜
絶縁層の一部としての機能も有するのであるから、単に
保護膜１０５を廃止しただけでは多層膜による絶縁構造
が失われ、絶縁膜１０３にピンホールが存在すれば、や
はり透明電極１０６と遮光膜１０２の間の電気的ショー
トが生ずる。

【００４６】そこで図４に示すように、隣合うカラーフ
ィルター１０４を互いにオーバーラップし、遮光膜１０
２と透明電極１０６との間にカラーフィルター１０４と
絶縁膜１０３とによる多層膜による絶縁構造を構成す
る。

【００４７】この場合、遮光効果は遮光膜１０２によっ
て得ているのであるから、従来例の図１０で示したよう
な大きな凸部生じるような、カラーフィルター１０４の
オーバーラップは必要ない。なおオーバーラップが小さ
い場合には、工程ばらつきにより部分的に隙間が生じて
しまうこともあり得るが、その場合でも電気的ショート
事故発生の確率は大幅に低下する。

【００４８】図５は本発明の第５の実施例における第１
の基板１０１を示す断面図であり、保護膜１０５を廃止
して、かつ絶縁膜１０３をカラーフィルター１０６上に
設けた構造を示す。

【００４９】図５に示すように、第１の基板１０１上に
設ける導電性を有する遮光膜１０２と、遮光膜１０２上
に設けるカラーフィルター１０４と、このカラーフィル
ター１０４上に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上
に設ける透明電極１０６とを有する構造である。

【００５０】カラーフィルター１０４を、図４を用いて
説明した第４の実施例と同じく、オーバーラップさせる
ことにより、カラーフィルター１０４と絶縁膜１０３と
からなる多層膜構造の絶縁層を得ることができる。

【００５１】図４を用いて説明した第４の実施例と同じ
ように、図５に示した第５の実施例では、保護膜１０５
を設ける工程を廃止でき、低価格の液晶表示パネルを提
供できる。また適切なオーバーラップを行えば、結果的
に透明電極１０６の平坦性を向上させることもできる。

【００５２】図６は本発明の第６の実施例における第１
の基板１０１を示す断面図であり、カラーフィルターを
使用しない、白黒表示の液晶表示パネルにおける第１の
基板１０１の構造である。

【００５３】図６に示した構造についてその製造工程を
簡単に述べると、第１の基板１０１上の全面にまずスパ
ッタリング法あるいは真空蒸着法を用いてクロム薄膜を
形成させる。そのクロム薄膜をフォトエッチング法にて
所定のパターンに形成し、遮光膜１０２を設ける。

【００５４】この遮光膜１０２上にスパッタリング法
で、硬質な透明絶縁体である酸化シリコンを形成し絶縁
膜１０３を形成し、絶縁膜１０３上にスピンコート法を
用い透明なアクリル樹脂を全面に塗布し保護膜１０５を
設ける。さらに、保護膜１０５上にスパッタリング法で
酸化インジュウム錫薄膜を全面に形成した後に、フォト
エッチング法で所定のパターンを形成し、透明電極１０
６を設ける。

【００５５】この説明のようにして、第６の実施例では
基板上に設ける導電性を有する遮光膜１０２と、遮光膜
１０２上に設ける絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上に設
ける保護膜１０５と、保護膜上１０５に設ける透明電極
１０６を有する構造となり、多層膜構造の絶縁層を得る
ことができる。

【００５６】絶縁膜１０３と保護膜１０５とが、遮光膜
１０２と透明電極１０６との間に設けられているため、
遮光膜１０２と透明電極１０６との電気的ショート発生
を防止することができる。

【００５７】図７は本発明の第７の実施例における第１
の基板１０１を示す断面図であり、カラーフィルターを
有しない基板において、絶縁膜１０３を保護膜１０５上
に設けた構造を示す。

【００５８】図７に示すように、第１の基板１０１上に
設ける導電性を有する遮光膜１０２と、遮光膜１０２上
に設ける保護膜１０５と、この保護膜１０５上に設ける
絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上に設ける透明電極１０
６とを有する構造である。

【００５９】図６を用いて説明した第６の実施例と同様
に、第７の実施例においても多層膜構造の絶縁層を得る
ことができる。したがって、透明電極１０６と遮光膜１
０２との電気的ショート発生を、保護膜１０５と絶縁膜
１０３とによって抑えることができる。

【００６０】図８は本発明の第８の実施例における第１
の基板１０１を示す断面図である。この第８の実施例に
おいては絶縁膜１０３の機能をカラーフィルター１０４
のオーバーラップにより得ている。

【００６１】カラーフィルター１０４のオーバーラップ
による効果などについては図４、図５を用いて説明した
第４、第５の実施例の説明で述べたとおりであり、説明
を省略する。

【００６２】本発明の趣旨は以上の実施例の説明で明か
であるが、なお若干の細補足を行えば、図１に示した第
１の実施例、あるいは図６に示した第６の実施例の説明
中、遮光膜１０２としてクロム薄膜を用いて説明した。
しかしながら、遮光膜１０２としては、これ以外にも充
分な遮光特性を得られる、タンタル、ニッケル、アルミ
チタンなどの薄膜を用いてもよい。

【００６３】また絶縁膜１０３としては、スパッタリン
グ法を用いて酸化シリコンを形成したが、酸化シリコン
以外に、窒化シリコン、炭化シリコン、酸化チタン、酸
化ジリコニウムなどを、印刷法、真空蒸着法、ディップ
法などを用いて形成することができる。

【００６４】さらに保護膜１０５としては、透明なアク
リル樹脂以外にも、透明なポリイミド樹脂、透明なエポ
キシ樹脂を使用することも可能である。また保護膜１０
５の形成方法としてはスピンコート法以外にも、印刷
法、ディッピング法も使用できる。

【００６５】さらにカラーフィルター１０４について
は、染色法以外にも印刷法、顔料分散法を用いてカラー
フィルター１０４を形成することも可能である。

【００６６】また図１、図４、図６に示した実施例の場
合、絶縁膜１０３は耐熱性のすぐれた第１の基板１０１
および金属薄膜による遮光膜１０２上への設置であり、
比較的高温で安定した絶縁膜１０３を設けることができ
る。またこのような安定した膜であるため、従来の製造
工程をそのまま使用することが可能である。

【００６７】つぎに図２と図３との比較において、絶縁
膜１０３と保護膜１０５との関係について述べる。絶縁
膜１０３と保護膜１０５とは、ともに絶縁層としての機
能を果たすのであるが、絶縁膜１０３は専ら絶縁機能
を、保護膜１０５は絶縁機能の他に前述の平坦化の目的
をも有している膜と理解すれば良い。したがって両者の
材質、膜厚などが異なる場合は、図２と図３は異なる実
施例を示すことになる。

【００６８】しかしながら、絶縁膜１０２を保護膜１０
５と同一の材料で同一の膜厚で設けて、両者にともに絶
縁機能と平坦化機能とを均等に負わせる場合には、図２
と図３とは構造的には同一のものとなる。

【００６９】同様なことが図６と図７においても言え
る。図６と図７においては段差を形成するカラーフィル
ター１０４が存在しないから、保護膜１０５に求められ
る平坦化の機能はそれほど必要がない。したがって絶縁
膜１０２を保護膜１０５と同一の材料で同一の膜厚で設
けるならば、図６と図７とは構造的には同一のものとな
る。

【００７０】しかしながらカラーフィルター１０４が無
い場合には、他の機能がこれらの絶縁層に求められる。

【００７１】すなわち遮光膜１０２が液晶表示パネルの
有効表示面全面に井桁状に設けられて、そしてすべての
遮光膜１０２が電気的に接続している場合、それぞれの
透明電極１０６は、遮光膜１０２を介して容量的に結合
する。この容量結合は、透明電極１０６が有する電気的
抵抗と関係して液晶に印加する駆動電圧に歪みを生じさ
せ、液晶表示パネルの表示状態を悪化させる原因にな
る。

【００７２】そのため透明電極１０６と遮光膜１０２と
の間隔を充分にとって、両者間の電気容量をできるだけ
小さくする必要がある。そこで主に絶縁機能を重視する
被膜を絶縁膜１０３とし、電気容量の低減化を図る被膜
を保護膜１０５として、両者の材質あるいは膜厚を変え
た場合においては、図６と図７は異なる構造となるので
ある。

【００７３】

【発明の効果】以上の説明で明かなように、本発明は導
電性を有する遮光膜を有する液晶表示パネルにおいて、
遮光膜と透明電極との間に新たに絶縁膜を設け、または
隣合うカラーフィルターをオーバーラップることで、遮
光膜と透明電極との間に、保護膜と絶縁膜、もしくはカ
ラーフィルターと絶縁膜、またはカラーフィルター保護
膜とからなる多層膜を形成する。これによりいずれかの
層にピンホールがあっても、この多層膜構造で遮光膜と
透明電極の電気的ショートの発生を確実に防止すること
ができる。

【００７４】このため遮光特性の不充分な絶縁体を用い
た遮光膜を使用する必要がなく、遮光特性に優れ、しか
も平坦性に優れた表示品質の高い液晶表示パネルを歩留
まりを低下させること無く生産することができる。

【００７５】しかも本発明の液晶表示パネルは、既存の
保護膜、あるいはカラーフィルターを利用して多層膜構
造を形成しているため、最小限の工程の追加で可能であ
るから大幅な価格上昇もない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図２】本発明の第２の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図３】本発明の第３の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図４】本発明の第４の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図５】本発明の第５の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図６】本発明の第６の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図７】本発明の第７の実施例における遮光膜を有する
基板を示す断面図である。

【図８】本発明の第８の実施例におけるの遮光膜を有す
る基板を示す断面図である。

【図９】従来の液晶表示パネルの構造を示す断面図であ
る。

【図１０】従来の液晶表示パネルの遮光膜を有する基板
を示す断面図である。

【図１１】従来の液晶表示パネルの遮光膜を有する基板
を示す断面図である。

【符号の説明】

１０１基板１０２遮光膜１０３絶縁膜１０４カラーフィルター１０５保護膜１０６透明電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設ける絶縁膜と、絶縁膜上に設けるカラ
ーフィルターと、カラーフィルター上に設ける保護膜
と、保護膜上に設ける透明電極とを有することを特徴と
する液晶表示パネル。
【請求項２】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設けるカラーフィルターと、カラーフィ
ルター上に設ける絶縁膜と、絶縁膜上に設ける保護膜
と、保護膜上に設ける透明電極とを有すことを特徴とす
る液晶表示パネル。
【請求項３】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設けるカラーフィルターと、カラーフィ
ルター上に設ける保護膜と、保護膜上に設ける絶縁膜
と、絶縁膜上に設ける透明電極とを有することを特徴と
する液晶表示パネル。
【請求項４】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設ける絶縁膜と、絶縁膜上に設けるカラ
ーフィルターと、カラーフィルター上に設ける透明電極
とを有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設けるカラーフィルターと、カラーフィ
ルター上に設ける絶縁膜と、絶縁膜上に設ける透明電極
とを有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設ける絶縁膜と、絶縁膜上に設ける保護
膜と、保護膜上に設ける透明電極とを有することを特徴
とする液晶表示パネル。
【請求項７】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設ける保護膜と、保護膜上に設ける絶縁
膜と、絶縁膜上に設ける透明電極とを有することを特徴
とする液晶表示パネル。
【請求項８】基板上に設ける導電性を有する遮光膜
と、遮光膜上に設けるカラーフィルターと、カラーフィ
ルター上に設ける保護膜と、保護膜上に設ける透明電極
とを有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】絶縁膜は、酸化シリコン、窒化シリコ
ン、炭化シリコン、酸化チタン、酸化ジリコニウムから
選ばれる一つあるいは複数で構成することを特徴とする
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、
請求項６、あるいは請求項７記載の液晶表示パネル。