JPH06199537A - 光ファイバ線引炉 - Google Patents
光ファイバ線引炉Info
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- JPH06199537A JPH06199537A JP18793A JP18793A JPH06199537A JP H06199537 A JPH06199537 A JP H06199537A JP 18793 A JP18793 A JP 18793A JP 18793 A JP18793 A JP 18793A JP H06199537 A JPH06199537 A JP H06199537A
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- inert gas
- heating
- chamber
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/62—Heating means for drawing
- C03B2205/63—Ohmic resistance heaters, e.g. carbon or graphite resistance heaters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/80—Means for sealing the preform entry or upper end of the furnace
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/90—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大形光ファイバ母材から線径変動の少ない光
ファイバを得ることができる光ファイバ線引炉を提供す
ることを目的とする。 【構成】 上部から連続的に流入される不活性ガスで満
たされる線引室を有し、該線引室の上端開口からダミー
棒に支えられて挿入される光ファイバ母材を加熱溶融し
てその下端から光ファイバを線引きする光ファイバ線引
炉において、導入される不活性ガスを加熱する加熱空間
部２０を有しかつ加熱空間部２０の少なくとも下面側に
は加熱不活性ガス流出孔２０ｂを複数形成してなる円筒
状の不活性ガス加熱室２１を形成してなる。
ファイバを得ることができる光ファイバ線引炉を提供す
ることを目的とする。 【構成】 上部から連続的に流入される不活性ガスで満
たされる線引室を有し、該線引室の上端開口からダミー
棒に支えられて挿入される光ファイバ母材を加熱溶融し
てその下端から光ファイバを線引きする光ファイバ線引
炉において、導入される不活性ガスを加熱する加熱空間
部２０を有しかつ加熱空間部２０の少なくとも下面側に
は加熱不活性ガス流出孔２０ｂを複数形成してなる円筒
状の不活性ガス加熱室２１を形成してなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大型光ファイバ母材か
ら線径変動の少ない光ファイバを得ることができる光フ
ァイバ線引炉に関する。
ら線径変動の少ない光ファイバを得ることができる光フ
ァイバ線引炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より光ファイバ母材（以下、単に母
材とも称す）を加熱溶融し、線引きして光ファイバを得
るために光ファイバ線引炉が用いられる。
材とも称す）を加熱溶融し、線引きして光ファイバを得
るために光ファイバ線引炉が用いられる。
【０００３】この光ファイバ線引炉の一例を図１１に示
す。同図に示すように、線引炉は炉芯部１と煙突部２と
からなる。炉芯部１はカーボンなどからなる炉芯管３の
周囲にヒータ４を設けた構造を有しており、その上下側
には内部が水冷構造となっている上蓋部５及び下蓋部６
で仕切られている。また、煙突部２はカーボンなどから
なり、炉芯管３と同径の内筒管７を有しており、その周
囲は通常安全のため、水冷構造となっている。そして、
炉芯管３とその上方に連通する内筒管７とで円筒状の線
引室８を形成しており、この線引室８内には上方からダ
ミー棒９に支えられた光ファイバ母材１０が挿入されて
いる。さらに、内筒管７の上部壁面には不活性ガス噴出
口１１が円周方向に均一に形成されており、内筒管７の
外側に形成された不活性ガス通路１２を介して外部から
供給される不活性ガスが線引室８内に連続的に流入され
るようになっている。なお、図中１３は、煙突部２の上
部開口を塞ぎ外部空気の流入を防ぐ蓋である。
す。同図に示すように、線引炉は炉芯部１と煙突部２と
からなる。炉芯部１はカーボンなどからなる炉芯管３の
周囲にヒータ４を設けた構造を有しており、その上下側
には内部が水冷構造となっている上蓋部５及び下蓋部６
で仕切られている。また、煙突部２はカーボンなどから
なり、炉芯管３と同径の内筒管７を有しており、その周
囲は通常安全のため、水冷構造となっている。そして、
炉芯管３とその上方に連通する内筒管７とで円筒状の線
引室８を形成しており、この線引室８内には上方からダ
ミー棒９に支えられた光ファイバ母材１０が挿入されて
いる。さらに、内筒管７の上部壁面には不活性ガス噴出
口１１が円周方向に均一に形成されており、内筒管７の
外側に形成された不活性ガス通路１２を介して外部から
供給される不活性ガスが線引室８内に連続的に流入され
るようになっている。なお、図中１３は、煙突部２の上
部開口を塞ぎ外部空気の流入を防ぐ蓋である。
【０００４】かかる線引炉を用い、不活性ガス噴出口１
１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内を不活
性ガスを満たすと共にヒータ４で炉芯管３を加熱するこ
とにより、光ファイバ母材１０の下端から光ファイバ１
４を線引きすることができる。なお、このようにして線
引きされる光ファイバ１４の線径変動は通常、±０．３
μｍ程度であり、実用上十分な性能を有するものであっ
た。
１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内を不活
性ガスを満たすと共にヒータ４で炉芯管３を加熱するこ
とにより、光ファイバ母材１０の下端から光ファイバ１
４を線引きすることができる。なお、このようにして線
引きされる光ファイバ１４の線径変動は通常、±０．３
μｍ程度であり、実用上十分な性能を有するものであっ
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、光フ
ァイバの量産、低コスト化により光ファイバ母材１０が
大型化してきた。しかし従来の線引炉を用いて、例えば
直径１２５mm、長さ１２０mm程度あるいはそれ以上の大
型母材を用いて線引きした場合、線径変動が±３〜１０
μｍと大きくなり、高性能化が求められている光通信分
野等では使用できないという問題がある。
ァイバの量産、低コスト化により光ファイバ母材１０が
大型化してきた。しかし従来の線引炉を用いて、例えば
直径１２５mm、長さ１２０mm程度あるいはそれ以上の大
型母材を用いて線引きした場合、線径変動が±３〜１０
μｍと大きくなり、高性能化が求められている光通信分
野等では使用できないという問題がある。
【０００６】本発明はこのような事情に鑑み、大型母材
を線引きしても線径変動が小さく抑えられる光ファイバ
線引炉を提供することを目的とする。
を線引きしても線径変動が小さく抑えられる光ファイバ
線引炉を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る光ファイバ線引炉は、上部から連続的に流入さ
れる不活性ガスで満たされる線引室を有し、該線引室の
上端開口からダミー棒に支えられて挿入される光ファイ
バ母材を加熱溶融してその下端から光ファイバを線引き
する光ファイバ線引炉において、上記光ファイバ母材よ
り上方の空間に不活性ガス加熱領域を形成したことを特
徴とする。
明に係る光ファイバ線引炉は、上部から連続的に流入さ
れる不活性ガスで満たされる線引室を有し、該線引室の
上端開口からダミー棒に支えられて挿入される光ファイ
バ母材を加熱溶融してその下端から光ファイバを線引き
する光ファイバ線引炉において、上記光ファイバ母材よ
り上方の空間に不活性ガス加熱領域を形成したことを特
徴とする。
【０００８】上記構成において、上記不活性ガス加熱領
域が導入される不活性ガスを加熱する加熱空間部を有し
かつ加熱空間部の少なくとも下面側には加熱不活性ガス
流出孔を複数形成してなる円筒状の不活性ガス加熱室で
あることを特徴とする。
域が導入される不活性ガスを加熱する加熱空間部を有し
かつ加熱空間部の少なくとも下面側には加熱不活性ガス
流出孔を複数形成してなる円筒状の不活性ガス加熱室で
あることを特徴とする。
【０００９】上記構成において、上記不活性ガス加熱領
域が導入される不活性ガスを加熱する加熱空間部を有す
る円筒状の不活性ガス加熱室であると共に、当該加熱室
の下端部が開口しており、かつその開口端部が光ファイ
バ母材上部肩部に載置すると共に、当該開口端部近傍周
壁に加熱不活性ガス流出孔を複数形成してなることを特
徴とする。
域が導入される不活性ガスを加熱する加熱空間部を有す
る円筒状の不活性ガス加熱室であると共に、当該加熱室
の下端部が開口しており、かつその開口端部が光ファイ
バ母材上部肩部に載置すると共に、当該開口端部近傍周
壁に加熱不活性ガス流出孔を複数形成してなることを特
徴とする。
【００１０】上記構成において、不活性ガス加熱領域が
ダミー棒の周方向に分割されその軸方向に亙って設けら
れた複数の矢羽状の仕切り板により形成されてなること
を特徴とする。
ダミー棒の周方向に分割されその軸方向に亙って設けら
れた複数の矢羽状の仕切り板により形成されてなること
を特徴とする。
【００１１】
【作用】線引室の上部から流入される不活性ガスは、不
活性ガス加熱領域で一旦、加熱された後、光ファイバ母
材側へ流れ込む。これにより、光ファイバ母材の下端の
線引き部の周囲の温度の乱れ及びガス流の乱れが生じに
くくなり、線引きされる光ファイバの線径が安定する。
活性ガス加熱領域で一旦、加熱された後、光ファイバ母
材側へ流れ込む。これにより、光ファイバ母材の下端の
線引き部の周囲の温度の乱れ及びガス流の乱れが生じに
くくなり、線引きされる光ファイバの線径が安定する。
【００１２】また、加熱空間部を有する円筒状の不活性
ガス加熱室を用い、当該加熱室の下面側にガス流出孔を
複数個設けた場合、当該細孔を通して加熱され且つ整流
化された不活性ガスが加熱室と光ファイバ母材との間に
流れ込み、これが光ファイバ母材の下側に流れ込むの
で、光ファイバ母材の下端の線引き部の周囲のガスの乱
れがさらに小さくなる。
ガス加熱室を用い、当該加熱室の下面側にガス流出孔を
複数個設けた場合、当該細孔を通して加熱され且つ整流
化された不活性ガスが加熱室と光ファイバ母材との間に
流れ込み、これが光ファイバ母材の下側に流れ込むの
で、光ファイバ母材の下端の線引き部の周囲のガスの乱
れがさらに小さくなる。
【００１３】加熱室の開口端部を光ファイバ母材の肩部
に載せた場合、加熱室内で加熱された不活性ガスは開口
端部近傍に設けられたガス流出孔から整流化され線径変
動が少なくなる。
に載せた場合、加熱室内で加熱された不活性ガスは開口
端部近傍に設けられたガス流出孔から整流化され線径変
動が少なくなる。
【００１４】さらに、複数の矢羽状の仕切板によって軸
方向に空間を分割し、該空間において加熱することによ
りガスの整流化が図られ、線径が安定する。
方向に空間を分割し、該空間において加熱することによ
りガスの整流化が図られ、線径が安定する。
【００１５】これに対し、不活性ガス加熱領域を設けな
い場合には、光ファイバ母材の上方の空間内では不活性
ガスの流れが乱れており、且つ上部の冷えた部分との対
流があるので全体的に温度が低い。したがって、光ファ
イバ母材の下側に流れ込む不活性ガスは温度が低く且つ
流れが乱れた状態となるので、線引きが均一に行えない
と考えられる。
い場合には、光ファイバ母材の上方の空間内では不活性
ガスの流れが乱れており、且つ上部の冷えた部分との対
流があるので全体的に温度が低い。したがって、光ファ
イバ母材の下側に流れ込む不活性ガスは温度が低く且つ
流れが乱れた状態となるので、線引きが均一に行えない
と考えられる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【００１７】実施例１ 図１には実施例１に係る光ファイバ線引炉の概要を示
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。
【００１８】本実施例に係る光ファイバ線引炉は図１，
２に示すように、本実施例ではダミー棒９の途中に内部
に加熱空間２０を有する円柱状の不活性ガス加熱室（以
下「加熱室」という）２１を係止し、線引室８の光ファ
イバ母材１０の上方の空間を上下方向に画成している。
さらに詳言すると、加熱室２１は、光ファイバ母材１０
の直径よりは大きいが内筒管７及び炉芯管３の内径より
は小さい直径を有する石英製のものであり、中央にダミ
ー棒９との係止孔２１ａ，２１ｂを有するものである。
したがって、線引炉の内部空間は加熱室２１により上下
方向に分画される。また、この加熱室２１はその上端面
と下端面には各々ガス流入孔２２ａ及びガス流出孔２２
ｂが穿設されており、煙突部２内に導入された不活性ガ
スの流入及び加熱されたガスの流出の際の整流化を行っ
ている。なお、図中符号１５は光ファイバ母材１０と一
体となつたダミー棒と別途用意したダミー棒とを連結す
る嵌合部材を図示する。
２に示すように、本実施例ではダミー棒９の途中に内部
に加熱空間２０を有する円柱状の不活性ガス加熱室（以
下「加熱室」という）２１を係止し、線引室８の光ファ
イバ母材１０の上方の空間を上下方向に画成している。
さらに詳言すると、加熱室２１は、光ファイバ母材１０
の直径よりは大きいが内筒管７及び炉芯管３の内径より
は小さい直径を有する石英製のものであり、中央にダミ
ー棒９との係止孔２１ａ，２１ｂを有するものである。
したがって、線引炉の内部空間は加熱室２１により上下
方向に分画される。また、この加熱室２１はその上端面
と下端面には各々ガス流入孔２２ａ及びガス流出孔２２
ｂが穿設されており、煙突部２内に導入された不活性ガ
スの流入及び加熱されたガスの流出の際の整流化を行っ
ている。なお、図中符号１５は光ファイバ母材１０と一
体となつたダミー棒と別途用意したダミー棒とを連結す
る嵌合部材を図示する。
【００１９】また、加熱室２１の材質は、耐熱性を有す
るものであれば、石英に限定されず、カーボンや炭化珪
素（ＳｉＣ）などとすることもできる。
るものであれば、石英に限定されず、カーボンや炭化珪
素（ＳｉＣ）などとすることもできる。
【００２０】以上説明した光ファイバ線引炉において、
線引室８内をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス
噴出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８
内を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の
空間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方
向の対流）が生じ、この不活性ガスは流入孔２２ａから
加熱室２１内に入る。この際加熱室２１はヒータ４によ
る加熱によって加熱されているので、流入した不活性ガ
スはこの加熱室２１の内部で加熱され、その後流出孔２
２ｂから整流化されつつ流出する。そして、このように
加熱され、流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材
１０の周囲から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き
部分の温度変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定し
て行うことができる。
線引室８内をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス
噴出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８
内を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の
空間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方
向の対流）が生じ、この不活性ガスは流入孔２２ａから
加熱室２１内に入る。この際加熱室２１はヒータ４によ
る加熱によって加熱されているので、流入した不活性ガ
スはこの加熱室２１の内部で加熱され、その後流出孔２
２ｂから整流化されつつ流出する。そして、このように
加熱され、流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材
１０の周囲から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き
部分の温度変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定し
て行うことができる。
【００２１】図１に示す光ファイバ線引炉を用い、直径
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
μｍ程度と良好であった。この際の室温で導入された不
活性ガスの加温温度は３００〜５００℃と高温であっ
た。これに対し、仕切板２０を外した場合に同様に線引
きしたところ、±０．３μｍ以上の線径変動が生じた。
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
μｍ程度と良好であった。この際の室温で導入された不
活性ガスの加温温度は３００〜５００℃と高温であっ
た。これに対し、仕切板２０を外した場合に同様に線引
きしたところ、±０．３μｍ以上の線径変動が生じた。
【００２２】実施例２ 図３には実施例２に係る光ファイバ線引炉の概要を示
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図３，４に示すように、上述した実
施例１に係る光ファイバ線引炉の内に配した加熱室２１
の周壁を軸方向に延設し且つその下端部を開放端部２１
ｃとしている。そしてこの加熱室２１の開放端部２１ｃ
は光ファイバ母材１０の上部肩部近傍に載置すると共
に、この開放端部の近傍には周方向に亙って不活性ガス
流出孔２２ｃが複数形成されている。
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図３，４に示すように、上述した実
施例１に係る光ファイバ線引炉の内に配した加熱室２１
の周壁を軸方向に延設し且つその下端部を開放端部２１
ｃとしている。そしてこの加熱室２１の開放端部２１ｃ
は光ファイバ母材１０の上部肩部近傍に載置すると共
に、この開放端部の近傍には周方向に亙って不活性ガス
流出孔２２ｃが複数形成されている。
【００２３】以上説明した光ファイバ線引炉において、
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の空
間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方向
の対流）が生じ、この不活性ガスは流入孔２２ａから加
熱室２１内に入る。この際加熱室２１はヒータ４による
加熱によって加熱されているので、流入した不活性ガス
はこの加熱室２１の内部で加熱され、その後光ファイバ
母材側近傍の周壁に設けられた流出孔２２ｃから整流化
されつつ流出する。そして、このように加熱され、流れ
が安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の周囲から
下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の温度変化
や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行うことがで
きる。また、特に本実施例では加熱室２１の周壁が下方
に延び、その開口端部が光ファイバ母材と当接する結
果、この内部は相当加温されることになり、実施例１の
場合よりガスの加温温度が高くなる。
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の空
間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方向
の対流）が生じ、この不活性ガスは流入孔２２ａから加
熱室２１内に入る。この際加熱室２１はヒータ４による
加熱によって加熱されているので、流入した不活性ガス
はこの加熱室２１の内部で加熱され、その後光ファイバ
母材側近傍の周壁に設けられた流出孔２２ｃから整流化
されつつ流出する。そして、このように加熱され、流れ
が安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の周囲から
下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の温度変化
や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行うことがで
きる。また、特に本実施例では加熱室２１の周壁が下方
に延び、その開口端部が光ファイバ母材と当接する結
果、この内部は相当加温されることになり、実施例１の
場合よりガスの加温温度が高くなる。
【００２４】図３に示す光ファイバ線引炉を用い、直径
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
【００２５】実施例３ 図５には実施例３に係る光ファイバ線引炉の概要を示
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図５に示すように、上述した実施例
１に係る光ファイバ線引炉の内に配した加熱室２１は加
熱空間２０内に不活性ガスを吹出すガス噴出口２３ａを
有する円筒状のダミー棒２３に係止されている。すなわ
ち、不活性ガスは円筒状のダミー棒２３の上端部から供
給され、該ダミー棒２３の円筒内部を通ってガス噴出口
２３ａから加熱空間２０内に径方向に噴出されるように
なっている。
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図５に示すように、上述した実施例
１に係る光ファイバ線引炉の内に配した加熱室２１は加
熱空間２０内に不活性ガスを吹出すガス噴出口２３ａを
有する円筒状のダミー棒２３に係止されている。すなわ
ち、不活性ガスは円筒状のダミー棒２３の上端部から供
給され、該ダミー棒２３の円筒内部を通ってガス噴出口
２３ａから加熱空間２０内に径方向に噴出されるように
なっている。
【００２６】以上説明した光ファイバ線引炉において、
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。これと同時に円筒状のダミー棒
２３の上端部からも不活性ガスを連続的に流入し、加熱
空間２０内に流出する。この際加熱室２１はヒータ４に
よって加熱されているので、流入した不活性ガスはこの
加熱室２１の内部で加熱され、その後光ファイバ母材側
の底面及び周壁に設けられた流出孔２２ｂ，２２ｃから
整流化されつつ流出する。そして、このように加熱さ
れ、流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の
周囲から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の
温度変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行う
ことができる。また、特に本実施例では加熱室２１内に
流入する不活性ガスは円筒状のダミー棒２３の円筒内部
を通ってくるのでこの間に予熱され、さらにその後に加
熱空間２０内で加熱される結果、この加熱空間２０内部
において相当加温されることになり、実施例１，２の場
合よりガスの加温温度がさらに高くなり、さらに線径変
動の防止を図ることができる。
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。これと同時に円筒状のダミー棒
２３の上端部からも不活性ガスを連続的に流入し、加熱
空間２０内に流出する。この際加熱室２１はヒータ４に
よって加熱されているので、流入した不活性ガスはこの
加熱室２１の内部で加熱され、その後光ファイバ母材側
の底面及び周壁に設けられた流出孔２２ｂ，２２ｃから
整流化されつつ流出する。そして、このように加熱さ
れ、流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の
周囲から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の
温度変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行う
ことができる。また、特に本実施例では加熱室２１内に
流入する不活性ガスは円筒状のダミー棒２３の円筒内部
を通ってくるのでこの間に予熱され、さらにその後に加
熱空間２０内で加熱される結果、この加熱空間２０内部
において相当加温されることになり、実施例１，２の場
合よりガスの加温温度がさらに高くなり、さらに線径変
動の防止を図ることができる。
【００２７】図５に示す光ファイバ線引炉を用い、直径
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
【００２８】実施例４ 図６には実施例４に係る光ファイバ線引炉の概要を示
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図６に示すように、上述した実施例
２に係る図３に示す光ファイバ線引炉の内に配した周壁
が延設してなる加熱室２１を用い、ダミー棒としては上
記実施例３で示した図５に示す円筒状ダミー棒２３を用
い、加熱空間２０内に不活性ガスを吹出すようにしてい
る。
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図６に示すように、上述した実施例
２に係る図３に示す光ファイバ線引炉の内に配した周壁
が延設してなる加熱室２１を用い、ダミー棒としては上
記実施例３で示した図５に示す円筒状ダミー棒２３を用
い、加熱空間２０内に不活性ガスを吹出すようにしてい
る。
【００２９】以上説明した光ファイバ線引炉において、
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。これと同時に円筒状のダミー棒
２３の上端からも不活性ガスを連続的に流入し、加熱空
間２０内に流出する。この際加熱室２１はヒータ４によ
って加熱されているので、流入した不活性ガスはこの加
熱室２１の内部で加熱され、その後光ファイバ母材側の
底面及び周壁に設けられた流出孔２２ｂ，２２ｃから整
流化されつつ流出する。そして、このように加熱され、
流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の周囲
から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の温度
変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行うこと
ができる。また、特に本実施例では加熱室２１内に流入
する不活性ガスは円筒状のダミー棒２３の内部を通って
くるのでこの間に予熱され、さらにその後に加熱空間２
０内で加熱される結果、この内部において相当加温され
ることになり、実施例１，２の場合よりガスの加温温度
がさらに高くなる。
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。これと同時に円筒状のダミー棒
２３の上端からも不活性ガスを連続的に流入し、加熱空
間２０内に流出する。この際加熱室２１はヒータ４によ
って加熱されているので、流入した不活性ガスはこの加
熱室２１の内部で加熱され、その後光ファイバ母材側の
底面及び周壁に設けられた流出孔２２ｂ，２２ｃから整
流化されつつ流出する。そして、このように加熱され、
流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の周囲
から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の温度
変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行うこと
ができる。また、特に本実施例では加熱室２１内に流入
する不活性ガスは円筒状のダミー棒２３の内部を通って
くるのでこの間に予熱され、さらにその後に加熱空間２
０内で加熱される結果、この内部において相当加温され
ることになり、実施例１，２の場合よりガスの加温温度
がさらに高くなる。
【００３０】図６に示す光ファイバ線引炉を用い、直径
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
【００３１】実施例５ 図７には実施例５に係る光ファイバ線引炉の概要を示
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図７，８に示すように、本実施例で
は、ダミー棒９の途中で当該ダミー棒の軸方向に沿って
矢羽状の仕切板２４が複数周設されており、当該仕切板
２４によって加熱空間（本実施例では８つの空間）２５
を形成している。
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図７，８に示すように、本実施例で
は、ダミー棒９の途中で当該ダミー棒の軸方向に沿って
矢羽状の仕切板２４が複数周設されており、当該仕切板
２４によって加熱空間（本実施例では８つの空間）２５
を形成している。
【００３２】以上説明した光ファイバ線引炉において、
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の空
間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方向
の対流）が生じるが、この不活性ガスは矢羽状の仕切板
２４によって区分けされた加熱空間２５の内部で加熱さ
れ、その後光ファイバ母材上部肩部からその周囲に向っ
て整流化されつつ流出する。そして、このように加熱さ
れ、流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の
周囲から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の
温度変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行う
ことができる。尚、この加熱空間２５内は光ファイバ母
材１０の肩部からの副射熱によっても加熱されることと
なる。
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の空
間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方向
の対流）が生じるが、この不活性ガスは矢羽状の仕切板
２４によって区分けされた加熱空間２５の内部で加熱さ
れ、その後光ファイバ母材上部肩部からその周囲に向っ
て整流化されつつ流出する。そして、このように加熱さ
れ、流れが安定した不活性ガスが光ファイバ母材１０の
周囲から下方に流れ込むので、光ファイバ線引き部分の
温度変化や流れの乱れが少なく、線引きを安定して行う
ことができる。尚、この加熱空間２５内は光ファイバ母
材１０の肩部からの副射熱によっても加熱されることと
なる。
【００３３】図７に示す光ファイバ線引炉を用い、直径
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
【００３４】実施例６ 図９には実施例６に係る光ファイバ線引炉の概要を示
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図９，１０に示すように、本実施例
では、ダミー棒９の途中で当該ダミー棒の軸方向に沿っ
て矢羽状の仕切板２４が複数周設されており、当該仕切
板２４によって加熱空間（本実施例では８つの空間）２
５を形成していると共に、その周囲をガス流出孔２６ａ
を有する筒部２６で覆っている。
す。なお、図中、図１１と同一作用を示す部材には同一
符号を付して重複する説明は省略する。本実施例に係る
光ファイバ線引炉は図９，１０に示すように、本実施例
では、ダミー棒９の途中で当該ダミー棒の軸方向に沿っ
て矢羽状の仕切板２４が複数周設されており、当該仕切
板２４によって加熱空間（本実施例では８つの空間）２
５を形成していると共に、その周囲をガス流出孔２６ａ
を有する筒部２６で覆っている。
【００３５】以上説明した光ファイバ線引炉において、
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の空
間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方向
の対流）が生じるが、この不活性ガスは矢羽状の仕切板
２４によって区分けされた加熱空間２５の内部で加熱さ
れ、その後光ファイバ母材上部肩部近傍に形成された流
出孔２６ａからその周囲に向って整流化されつつ流出す
る。そして、このように加熱され、流れが安定した不活
性ガスが光ファイバ母材１０の周囲から下方に流れ込む
ので、光ファイバ線引き部分の温度変化や流れの乱れが
少なく、線引きを安定して行うことができる。
線引室８をヒータ４により加熱すると共に不活性ガス噴
出口１１から不活性ガスを連続的に流入して線引室８内
を不活性ガスで満たす。すると、加熱室２１の上方の空
間では比較的低温の不活性ガスのガスの流れ（上下方向
の対流）が生じるが、この不活性ガスは矢羽状の仕切板
２４によって区分けされた加熱空間２５の内部で加熱さ
れ、その後光ファイバ母材上部肩部近傍に形成された流
出孔２６ａからその周囲に向って整流化されつつ流出す
る。そして、このように加熱され、流れが安定した不活
性ガスが光ファイバ母材１０の周囲から下方に流れ込む
ので、光ファイバ線引き部分の温度変化や流れの乱れが
少なく、線引きを安定して行うことができる。
【００３６】図７に示す光ファイバ線引炉を用い、直径
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
１２５ｍｍ、長さ１２０ｍｍの光ファイバ母材１０を線
引きしたところ、光ファイバ１４の線径変動は±０．１
〜０．０５μｍ程度ときわめて良好であった。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
仕切板により光ファイバ母材の上部に不活性ガス加熱領
域を形成してなることができるので、大型母材を用いて
も線径変動のない光ファイバを連続的に製造することが
できる。
仕切板により光ファイバ母材の上部に不活性ガス加熱領
域を形成してなることができるので、大型母材を用いて
も線径変動のない光ファイバを連続的に製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１に係る光ファイバ線引炉の概略図であ
る。
る。
【図２】その加熱室の外観を示す説明図である。
【図３】実施例２に係る光ファイバ線引炉の概略図であ
る。
る。
【図４】その加熱室の外観を示す説明図である。
【図５】実施例３に係る光ファイバ線引炉の概略図であ
る。
る。
【図６】実施例４に係る光ファイバ線引炉の概略図であ
る。
る。
【図７】実施例５に係る光ファイバ線引炉の概略図であ
る。
る。
【図８】加熱領域の外観を示す説明図である。
【図９】実施例６に係る光ファイバ線引炉の概略図であ
る。
る。
【図１０】その加熱室の外観を示す説明図である。
【図１１】従来技術に係る光ファイバ線引炉の概略図で
ある。
ある。
１ 線引部 ２ 煙突部 ３ 炉芯管 ４ ヒータ ７ 内筒管 ８ 線引室 ９ ダミー棒 １０ 光ファイバ母材 １１ 不活性ガス噴出口 １４ 光ファイバ ２０，２５ 加熱空間 ２１ 不活性ガス加熱室（加熱室） ２２ａ 流入孔 ２２ｂ，２２ｃ 流出孔 ２３ 円筒状ダミー棒 ２４ 矢羽状の仕切板 ２６ 円筒部
Claims (5)
- 【請求項１】 上部から連続的に流入される不活性ガス
で満たされる線引室を有し、該線引室の上端開口からダ
ミー棒に支えられて挿入される光ファイバ母材を加熱溶
融してその下端から光ファイバを線引きする光ファイバ
線引炉において、上記光ファイバ母材より上方の空間に
不活性ガス加熱領域を形成したことを特徴とする光ファ
イバ線引炉。 - 【請求項２】 請求項１において、上記不活性ガス加熱
領域が導入される不活性ガスを加熱する加熱空間部を有
しかつ加熱空間部の少なくとも下面側には加熱不活性ガ
ス流出孔を複数形成してなる円筒状の不活性ガス加熱室
であることを特徴とする光ファイバ線引炉。 - 【請求項３】 請求項１において、上記不活性ガス加熱
領域が導入される不活性ガスを加熱する加熱空間部を有
する円筒状の不活性ガス加熱室であると共に、当該加熱
室の下端部が開口しており、かつその開口端部が光ファ
イバ母材上部肩部に載置すると共に、当該開口端部近傍
周壁に加熱不活性ガス流出孔を複数形成してなることを
特徴とする光ファイバ線引炉。 - 【請求項４】 請求項１において、不活性ガス加熱領域
がダミー棒の周方向に分割されその軸方向に亙って設け
られた複数の矢羽状の仕切り板により形成されてなるこ
とを特徴とする光ファイバ線引炉。 - 【請求項５】 請求項２，３又は４において、円筒状の
不活性ガス加熱室又は仕切板の直径が線引室の内径より
は小さく光ファイバ母材の直径より大きいことを特徴と
する光ファイバ線引炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18793A JPH06199537A (ja) | 1993-01-05 | 1993-01-05 | 光ファイバ線引炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18793A JPH06199537A (ja) | 1993-01-05 | 1993-01-05 | 光ファイバ線引炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06199537A true JPH06199537A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=11466997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18793A Withdrawn JPH06199537A (ja) | 1993-01-05 | 1993-01-05 | 光ファイバ線引炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06199537A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0893416A1 (fr) * | 1997-07-24 | 1999-01-27 | Alcatel | Diffuseur haut de gaz dans un dispositif de fibrage d'une préforme de fibre optique |
| WO1999051534A1 (fr) * | 1998-04-03 | 1999-10-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Four et procede d'etirage de fil de fibre optique |
| WO2003102641A1 (fr) * | 2002-05-30 | 2003-12-11 | Asahi Glass Company, Limited | Procede de production de fibre optique en plastique |
| US6993937B2 (en) * | 1999-12-27 | 2006-02-07 | Alcatel | Preform inlet arrangement for an optical fiber drawing furnace, a furnace provided with that kind of inlet arrangement, and a preform equipped to co-operate with that inlet arrangement |
| JP2013014468A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の焼結装置および焼結方法 |
| CN109689583A (zh) * | 2016-09-07 | 2019-04-26 | 住友电气工业株式会社 | 光纤拉丝方法及拉丝装置 |
-
1993
- 1993-01-05 JP JP18793A patent/JPH06199537A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0893416A1 (fr) * | 1997-07-24 | 1999-01-27 | Alcatel | Diffuseur haut de gaz dans un dispositif de fibrage d'une préforme de fibre optique |
| FR2766480A1 (fr) * | 1997-07-24 | 1999-01-29 | Alsthom Cge Alcatel | Diffuseur haut de gaz dans un dispositif de fibrage d'une preforme de fibre optique |
| WO1999051534A1 (fr) * | 1998-04-03 | 1999-10-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Four et procede d'etirage de fil de fibre optique |
| US6668592B1 (en) | 1998-04-03 | 2003-12-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing furnace having adjustable partitions |
| US6810692B2 (en) | 1998-04-03 | 2004-11-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of controlling an upper portion of an optical fiber draw furnace |
| US6993937B2 (en) * | 1999-12-27 | 2006-02-07 | Alcatel | Preform inlet arrangement for an optical fiber drawing furnace, a furnace provided with that kind of inlet arrangement, and a preform equipped to co-operate with that inlet arrangement |
| WO2003102641A1 (fr) * | 2002-05-30 | 2003-12-11 | Asahi Glass Company, Limited | Procede de production de fibre optique en plastique |
| JP2013014468A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の焼結装置および焼結方法 |
| CN109689583A (zh) * | 2016-09-07 | 2019-04-26 | 住友电气工业株式会社 | 光纤拉丝方法及拉丝装置 |
| CN109689583B (zh) * | 2016-09-07 | 2022-07-19 | 住友电气工业株式会社 | 光纤拉丝方法及拉丝装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |