JPH06196904A - 静磁波フィルタ - Google Patents

静磁波フィルタ

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JPH06196904A
JPH06196904A JP35892092A JP35892092A JPH06196904A JP H06196904 A JPH06196904 A JP H06196904A JP 35892092 A JP35892092 A JP 35892092A JP 35892092 A JP35892092 A JP 35892092A JP H06196904 A JPH06196904 A JP H06196904A
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JP
Japan
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magnetostatic wave
thin film
magnetostatic
wave
outside
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Pending
Application number
JP35892092A
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English (en)
Inventor
Kazuo Okada
一夫 岡田
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Fujitsu General Ltd
Original Assignee
Fujitsu General Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 YIG薄膜の入力部と出力部のそれぞれより
外側へ伝搬する静磁波によるフィルタ特性への悪影響を
少なくすること。 【構成】 GGG基板42上にYIG薄膜44を形成し
て静磁波素子40を形成し、この静磁波素子40に直流
磁界16を印加して、YIG薄膜44に入力した電磁波
を静磁波に変換して出力部へ伝搬させる静磁波フィルタ
において、YIG薄膜44の入力部と出力部のそれぞれ
の外側の反射面46、48と50、52を、矢印54で
示すように、静磁波が順次外側へ向かって反射する形状
に形成する。このため、YIG薄膜44の入力部と出力
部のそれぞれより外側へ伝搬する静磁波を反射で減衰さ
せて、フィルタ特性に悪影響を与える静磁波が本来の静
磁波伝搬領域に戻るのをなくすか、極めて少なくするこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板(例えばGGG
(ガドリニウム・ガリウム・ガーネット)基板)上に静
磁波を伝搬するための薄膜(例えばYIG(イットリウ
ム・鉄・ガーネット)薄膜)を形成することによって静
磁波素子を形成し、この静磁波素子に直流磁界を印加す
ることによって、前記薄膜の入力部に入力した電磁波を
静磁波に変換して出力部へ伝搬させるようにした静磁波
フィルタに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の静磁波フィルタは図3お
よび図4に示すように構成されていた。すなわち、ガド
リニウム・ガリウム・ガーネット(Gd3Ga512、略
してGGGと記述する)基板10上にイットリウム・鉄
・ガーネット(Y3Fe512、略してYIGと記述す
る)薄膜12を形成して静磁波素子14を形成し、この
静磁波素子14に永久磁石(図示省略)からの直流磁界
16を印加する。
【0003】この状態において、YIG薄膜12の入力
部に入力アンテナ18から電磁波(例えばマイクロ波)
を加えると、静磁波(magnetostatic w
ave)が励振され(すなわち電磁波・静磁波変換が行
なわれ)、この静磁波がYIG薄膜12を伝搬し(矢印
20の方向へ伝搬し)、YIG薄膜12の出力部で静磁
波が電磁波に変換され、出力アンテナ22から取り出さ
れる。
【0004】そして、YIG薄膜12の入力部で発生し
た静磁波は、出力部側へ伝搬するだけでなく、伝搬方向
20と反対の外側へも伝搬するので、この逆方向へ伝搬
する静磁波を減衰させるために、YIG薄膜12の平面
形状を図3に示すような平行四辺形に形成していた。す
なわち、伝搬方向20と交差する二辺が伝搬方向20に
対してほぼ45度傾斜するような平行四辺形状に形成す
ることによって反射面24、26を形成し、この反射面
24、26で逆方向へ伝搬する静磁波を矢印28に示す
ように反射して減衰させていた。同様にして、反射面3
0、32でYIG薄膜12の出力部より外側へ伝搬する
静磁波を減衰させていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図3お
よび図4に示した従来の装置では、YIG薄膜12の平
面形状を、伝搬方向20と交差する二辺が伝搬方向20
に対してほぼ45度傾斜する平行四辺形状に形成してい
たので、YIG薄膜12の入力部で発生し伝搬方向20
と反対方向へ伝搬する静磁波が、矢印28で示すよう
に、反射面24、26で順次反射した後、同一経路を逆
に進んで本来の静磁波伝搬領域に戻ってくることにな
り、フィルタ特性悪化の原因になるという問題点があっ
た。YIG薄膜12の出力部より外側へ伝搬する静磁波
についても、反射面30、32の反射によって本来の静
磁波伝搬領域に戻ってくるので、同様の問題点があっ
た。
【0006】本発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
で、薄膜(例えばYIG薄膜)の入力部より外側へ(本
来の伝搬方向と逆方向へ)伝搬する静磁波と、薄膜の出
力部より外側へ伝搬する静磁波とによるフィルタ特性へ
の悪影響を少なくすることのできる静磁波フィルタを提
供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に静磁
波を伝搬するための薄膜を形成することによって静磁波
素子を形成し、この静磁波素子に直流磁界を印加するこ
とによって、前記薄膜の入力部に入力した電磁波を静磁
波に変換して出力部へ伝搬させるようにした静磁波フィ
ルタにおいて、前記薄膜の入力部より外側の反射面を、
前記静磁波の伝搬方向と反対方向へ進む静磁波が順次外
側へ向かって反射する形状に形成し、前記薄膜の出力部
より外側の反射面を、前記静磁波の伝搬方向と同一方向
へ進む静磁波が順次外側へ向かって反射する形状に形成
してなることを特徴とするものである。
【0008】
【作用】薄膜の入力部で発生し伝搬方向と反対の外側へ
伝搬する静磁波は、薄膜の入力部より外側の反射面で順
次反射することによって減衰する。このとき、この逆方
向へ進む静磁波は、本来の伝搬方向と反対の外側に向か
って順次反射していくので、本来の静磁波伝搬領域に戻
る成分が無くなるか、極めて少なくなる。同様にして、
薄膜の出力部より外側へ伝搬する静磁波は、薄膜の出力
部より外側の反射面によって、外側に向かって順次反射
していくので、本来の静磁波伝搬領域に戻る成分が無く
なるか、極めて少なくなる。
【0009】
【実施例】以下、本発明による静磁波フィルタの一実施
例を図1および図2を用いて説明する。図1および図2
において、図3および図4と同一部分は同一符号とす
る。図1および図2において、40は静磁波素子で、こ
の静磁波素子40は、例えば液相エピタキシャル法など
によって、ガドリニウム・ガリウム・ガーネット(Gd
3Ga512、以下単にGGGと記述する)基板42上に
イットリウム・鉄・ガーネット(Y3Fe512、以下単
にYIGと記述する)薄膜44を形成することによって
構成される。
【0010】前記GGG基板42は、その平面形状にお
いて、長手方向が静磁波の伝搬方向20に一致するとと
もに、伝搬方向20と反対の方向に向かう2辺と、伝搬
方向と同一の方向に向かう2辺とが、それぞれ頂角の小
さい二等辺三角形の2等辺となる形状に形成されてい
る。前記YIG薄膜44は、前記GGG基板42上に液
相エピタキシャル法などによって形成され、その平面形
状は前記GGG基板42の平面形状と同一に形成されて
いる。そして、前記YIG薄膜44の伝搬方向20と反
対の方向に向かう2辺と、伝搬方向20と同一の方向に
向かう2辺とは、それぞれ静磁波の反射面46、48と
50、52となっている。
【0011】つぎに、前記実施例の作用を説明する。静
磁波素子40に対して、静磁波の伝搬方向20と直交す
る方向に直流磁界16を印加する(永久磁石や電磁石に
よって)。この状態において、静磁波素子40の入力部
に設けられた入力アンテナ18から電磁波(例えばマイ
クロ波)を加えると静磁波(magnetostati
c wave)が励振され(すなわち電磁波・静磁波変
換が行なわれ)、この静磁波はYIG薄膜44を矢印の
伝搬方向20へ伝搬し、出力部では静磁波が電磁波に変
換され、出力アンテナ22から取り出される。
【0012】YIG薄膜44の入力部で発生し伝搬方向
と反対の外側へ伝搬する静磁波は、矢印54で示すよう
に反射面46、48で順次反射して減衰する。このと
き、この逆方向へ伝搬する静磁波は、本来の伝搬方向2
0と反対の外側に向かって順次反射して減衰していくの
で、本来の静磁波伝搬領域に戻る成分が無くなるか、極
めて少なくなる。同様にして、YIG薄膜44の出力部
より外側へ伝搬する静磁波は、反射面50、52で外側
に向かって順次反射して減衰していくので、本来の静磁
波伝搬領域に戻る成分が無くなるか、極めて少なくな
る。
【0013】このように、YIG薄膜44の入力部で発
生し伝搬方向20と反対の外側へ伝搬する静磁波や、Y
IG薄膜44の出力部より外側へ伝搬する静磁波を減衰
させることができるので、フィルタ特性に悪影響を与え
る静磁波がYIG薄膜44の本来の静磁波伝搬領域に戻
るのをなくすか、極めて少なくすることができ、フィル
タ特性悪化を防止することができる。
【0014】前記実施例では、基板(例えばGGG基
板)の平面形状を薄膜(例えばYIG薄膜)の平面形状
と同一に形成することによって、基板上に液相エピタキ
シャル法などによって形成される薄膜の製造を簡単にす
るようにしたが、本発明はこれに限るものでなく、基板
の平面形状と薄膜の平面形状を同一にする必要はない。
例えば、基板の平面形状を矩形状に形成し、この基板上
に形成する薄膜の平面形状を、前記実施例と同様の細長
六角形状に形成してもよい。
【0015】前記実施例では、薄膜(例えばYIG薄
膜)の平面形状を細長六角形状に形成することによっ
て、薄膜の入力部より外側の反射面を、静磁波の伝搬方
向と反対の方向に向かう2辺が頂角の小さい二等辺三角
形の2等辺となる形状に形成し、薄膜の出力部より外側
の反射面を、静磁波の伝搬方向と同一の方向に向かう2
辺が頂角の小さい二等辺三角形の2等辺となる形状に形
成するように構成したが、本発明はこれに限るものでな
く、薄膜の入力部より外側の反射面を、静磁波の伝搬方
向と反対方向へ進む静磁波が順次外側へ向かって反射す
る形状に形成し、薄膜の出力部より外側の反射面を、静
磁波の伝搬方向と同一方向へ進む静磁波が順次外側へ向
かって反射する形状に形成するものであればよい。
【0016】例えば、薄膜の入力部より外側の反射面
を、静磁波の伝搬方向と反対の方向に向かう2辺が頂角
の小さい三角形の2つの長い辺となる形状に形成し、薄
膜の出力部より外側の反射面を、静磁波の伝搬方向と同
一の方向に向かう2辺が頂角の小さい三角形の2つの長
い辺となる形状に形成して、静磁波が順次外側へ向かっ
て反射して減衰するようにしてもよい。
【0017】
【発明の効果】本発明による静磁波フィルタは、上記の
ように、静磁波素子の薄膜の入力部より外側の反射面
を、静磁波の伝搬方向と反対方向へ進む静磁波が順次外
側へ向かって反射する形状に形成したので、薄膜の入力
部で発生し伝搬方向と反対の外側へ伝搬する静磁波を順
次反射して減衰させることができる。同様にして、薄膜
の出力部より外側へ伝搬する静磁波を順次反射して減衰
させることができる。
【0018】このように、薄膜の入力部で発生し伝搬方
向と反対の外側へ伝搬する静磁波や、薄膜の出力部より
外側へ伝搬する静磁波を減衰させることができるので、
フィルタ特性に悪影響を与える静磁波が薄膜の本来の静
磁波伝搬領域に戻るのをなくすか、極めて少なくするこ
とができ、フィルタ特性悪化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による静磁波フィルタの一実施例の概略
構成を示す平面図である。
【図2】図1の静磁波素子の概略構成を示す斜視図であ
る。
【図3】従来の静磁波フィルタの概略構成を示す平面図
である。
【図4】図2の静磁波素子の概略構成を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
16…直流磁界、 18…入力アンテナ、20…静磁波
の本来の伝搬方向、 22…出力アンテナ、40…静磁
波素子、 42…GGG基板(基板の一例)、44…Y
IG薄膜(薄膜の一例)、46、48、50、52…Y
IG薄膜の反射面、54…YIG薄膜44の入力部で発
生し、伝搬方向20と反対の方向へ伝搬する静磁波の進
む方向。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上に静磁波を伝搬するための薄膜を形
    成することによって静磁波素子を形成し、この静磁波素
    子に直流磁界を印加することによって、前記薄膜の入力
    部に入力した電磁波を静磁波に変換して出力部へ伝搬さ
    せるようにした静磁波フィルタにおいて、前記薄膜の入
    力部より外側の反射面を、前記静磁波の伝搬方向と反対
    方向へ進む静磁波が順次外側へ向かって反射する形状に
    形成し、前記薄膜の出力部より外側の反射面を、前記静
    磁波の伝搬方向と同一方向へ進む静磁波が順次外側へ向
    かって反射する形状に形成してなることを特徴とする静
    磁波フィルタ。
  2. 【請求項2】薄膜の入力部より外側の反射面を、静磁波
    の伝搬方向と反対の方向に向かう2辺が頂角の小さい二
    等辺三角形の2等辺となる形状に形成し、前記薄膜の出
    力部より外側の反射面を、前記静磁波の伝搬方向と同一
    の方向に向かう2辺が頂角の小さい二等辺三角形の2等
    辺となる形状に形成してなる請求項1記載の静磁波フィ
    ルタ。
JP35892092A 1992-12-25 1992-12-25 静磁波フィルタ Pending JPH06196904A (ja)

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JP35892092A JPH06196904A (ja) 1992-12-25 1992-12-25 静磁波フィルタ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100331047B1 (ko) * 1993-12-14 2002-08-08 가부시끼가이샤 무라따 세이사꾸쇼 정자파장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100331047B1 (ko) * 1993-12-14 2002-08-08 가부시끼가이샤 무라따 세이사꾸쇼 정자파장치

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