JPH06194594A - 光学再形成系 - Google Patents
光学再形成系Info
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- JPH06194594A JPH06194594A JP5246295A JP24629593A JPH06194594A JP H06194594 A JPH06194594 A JP H06194594A JP 5246295 A JP5246295 A JP 5246295A JP 24629593 A JP24629593 A JP 24629593A JP H06194594 A JPH06194594 A JP H06194594A
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- Japan
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- reflective surface
- respect
- azimuth
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】再形成されるべき物体に対して９０°回転され
る物体の像を物体面に対して平行な像平面上に形成する
ための４つの反射表面（第１の鏡像Ａ１を形成し、鏡像
Ａ１と入射光軸Ａ０とで第１の平面を規定する第１の反
射表面Ｓ１；第２の鏡像Ａ２を形成し、鏡像Ａ１と鏡像
Ａ２とで第２の平面を規定する第２の反射表面Ｓ２；入
射光軸Ａ０と出射光軸Ａ５との延長線と交差する第３の
鏡像Ａ３を形成する第３の反射表面Ｓ３；出射光軸Ａ５
上に形成される第４の鏡像Ａ４を形成する第４の反射表
面Ｓ４）からなる光学再形成系。 【効果】反射表面が少なく、その精密な調整のためのコ
ストが低い。フルフォーマット原本の再形成系とハーフ
フォーマット原本の再形成系を備えた印刷機や写真処理
装置に好適である。
る物体の像を物体面に対して平行な像平面上に形成する
ための４つの反射表面（第１の鏡像Ａ１を形成し、鏡像
Ａ１と入射光軸Ａ０とで第１の平面を規定する第１の反
射表面Ｓ１；第２の鏡像Ａ２を形成し、鏡像Ａ１と鏡像
Ａ２とで第２の平面を規定する第２の反射表面Ｓ２；入
射光軸Ａ０と出射光軸Ａ５との延長線と交差する第３の
鏡像Ａ３を形成する第３の反射表面Ｓ３；出射光軸Ａ５
上に形成される第４の鏡像Ａ４を形成する第４の反射表
面Ｓ４）からなる光学再形成系。 【効果】反射表面が少なく、その精密な調整のためのコ
ストが低い。フルフォーマット原本の再形成系とハーフ
フォーマット原本の再形成系を備えた印刷機や写真処理
装置に好適である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学再形成系に関するも
のである。
のである。
【０００２】
【従来の技術】物体の面に平行な像平面に物体を再形成
し、そしてその像平面に形成された像が前記物体に対し
て９０°だけ回転されている光学再形成系は多くの形態
で従来公知である。例として、いわゆるドーブ／アミシ
プリズム、アッベ／ケニッヒプリズムおよびシュミット
／ペッハンプリズムがある。これらの再形生系はそれら
が用いる反射表面の数においてそれらの間で著しく相違
する（ドーブ／アミシ：１，アッベ／ケニッヒ：３，シ
ュミット／ペッハン：５）。しかし、それらの各々は奇
数の反射表面を有するものであり、その結果として、形
成された像が物体に対する像平面上で実際に９０°回転
されており、しかもその各々において、像はその向きで
反転されてもいる（右回り系は左回り系に変わり、逆も
また同様）。
し、そしてその像平面に形成された像が前記物体に対し
て９０°だけ回転されている光学再形成系は多くの形態
で従来公知である。例として、いわゆるドーブ／アミシ
プリズム、アッベ／ケニッヒプリズムおよびシュミット
／ペッハンプリズムがある。これらの再形生系はそれら
が用いる反射表面の数においてそれらの間で著しく相違
する（ドーブ／アミシ：１，アッベ／ケニッヒ：３，シ
ュミット／ペッハン：５）。しかし、それらの各々は奇
数の反射表面を有するものであり、その結果として、形
成された像が物体に対する像平面上で実際に９０°回転
されており、しかもその各々において、像はその向きで
反転されてもいる（右回り系は左回り系に変わり、逆も
また同様）。
【０００３】物体を９０°回転させる上記再形成系は興
味深く、そして写真複写機および写真処理経路に使用さ
れる。原本から、例えばネガフィルムのネガから複写の
形成の際には、フルフォーマットのフィルムフレーム
（フルフレーム，例えば２４ｍｍ×３６ｍｍ）およびハ
ーフフォーマットのフィルムフレーム（ハーフフレー
ム，例えば２４ｍｍ×１８ｍｍ）の両方がある。ネガフ
ィルム上でハーフフレームは均一なフィルム幅に起因し
フルフレームに対して９０°回転されている。印画紙へ
の通常の簡単な露光の場合にはまた、ハーフフレーム原
本の複写された像はフルフレーム原本の像に対して印画
紙上で９０°だけ回転されているだろう。
味深く、そして写真複写機および写真処理経路に使用さ
れる。原本から、例えばネガフィルムのネガから複写の
形成の際には、フルフォーマットのフィルムフレーム
（フルフレーム，例えば２４ｍｍ×３６ｍｍ）およびハ
ーフフォーマットのフィルムフレーム（ハーフフレー
ム，例えば２４ｍｍ×１８ｍｍ）の両方がある。ネガフ
ィルム上でハーフフレームは均一なフィルム幅に起因し
フルフレームに対して９０°回転されている。印画紙へ
の通常の簡単な露光の場合にはまた、ハーフフレーム原
本の複写された像はフルフレーム原本の像に対して印画
紙上で９０°だけ回転されているだろう。
【０００４】一般に、フルフレームで原本を有するフィ
ルム（フィルムフレーム）は９０°回転されるハーフフ
レームを有するフィルムに比べより頻繁に現れる。にも
かかわらず、回転されたハーフフレームを有するフィル
ムは、今日広く流布しており、そして複写機または写真
処理経路での処理物の効率のよい分配のために、９０°
回転されたハーフフレーム原本を印画紙上に複写するこ
とを可能にする必要がある程、多数生じ、そしてそのよ
うにして９０°回転されたハーフフレーム原本の複写は
フルフレーム原本の複写と同一な位置さらには寸法を印
画紙上に有する。
ルム（フィルムフレーム）は９０°回転されるハーフフ
レームを有するフィルムに比べより頻繁に現れる。にも
かかわらず、回転されたハーフフレームを有するフィル
ムは、今日広く流布しており、そして複写機または写真
処理経路での処理物の効率のよい分配のために、９０°
回転されたハーフフレーム原本を印画紙上に複写するこ
とを可能にする必要がある程、多数生じ、そしてそのよ
うにして９０°回転されたハーフフレーム原本の複写は
フルフレーム原本の複写と同一な位置さらには寸法を印
画紙上に有する。
【０００５】この要求は即座に明らかになる：顧客はハ
ーフフレームまたはフルフレーム原本を有するフィルム
のいずれで撮影しても、彼は紙複写を、例えば特に一般
的な９ｃｍ×１３ｃｍのフォーマットで受け取ることを
希望するであろう。同時に、複写機での複写は通常、個
々のフィルムまたはフィルムストリップを最初に結合し
て長いテープを形成する工程を包含する。この長いテー
プは次いで印画紙上への露光により処理される。同様
に、感光紙の長いテープが１つのおよび同一なフォーマ
ットの複写のために使用される。この長い紙テープは均
一な幅（１つのおよび同一なフォーマットの複写のため
には常に）を有する。フルフレームでの原本および９０
°回転されたハーフフレーム原本の両方を前記紙上に単
一の拡大で複写する試みがなされるならば、フルフレー
ム原本の複写のより小さい寸法（例えば９ｃｍの大き
さ）に調整された紙幅はハーフフレーム原本の複写には
不十分であろう。紙幅が適当な大きさで与えられた場合
でも（フルフレーム原本の複写のために、紙余白に大量
の余分な長さを生じるであろうように）、紙テープ上へ
の次の複写がフルフレームまたはハーフフレーム原本の
ものであるかに応じて（つまりハーフフレーム原本の複
写は９０°回転で回転させた紙上に複写されるであろう
ように）、次の複写が紙テープから切断され得る前に、
紙テープを不均一な距離だけ各々の時間前進させなけれ
ばならないであろう。
ーフフレームまたはフルフレーム原本を有するフィルム
のいずれで撮影しても、彼は紙複写を、例えば特に一般
的な９ｃｍ×１３ｃｍのフォーマットで受け取ることを
希望するであろう。同時に、複写機での複写は通常、個
々のフィルムまたはフィルムストリップを最初に結合し
て長いテープを形成する工程を包含する。この長いテー
プは次いで印画紙上への露光により処理される。同様
に、感光紙の長いテープが１つのおよび同一なフォーマ
ットの複写のために使用される。この長い紙テープは均
一な幅（１つのおよび同一なフォーマットの複写のため
には常に）を有する。フルフレームでの原本および９０
°回転されたハーフフレーム原本の両方を前記紙上に単
一の拡大で複写する試みがなされるならば、フルフレー
ム原本の複写のより小さい寸法（例えば９ｃｍの大き
さ）に調整された紙幅はハーフフレーム原本の複写には
不十分であろう。紙幅が適当な大きさで与えられた場合
でも（フルフレーム原本の複写のために、紙余白に大量
の余分な長さを生じるであろうように）、紙テープ上へ
の次の複写がフルフレームまたはハーフフレーム原本の
ものであるかに応じて（つまりハーフフレーム原本の複
写は９０°回転で回転させた紙上に複写されるであろう
ように）、次の複写が紙テープから切断され得る前に、
紙テープを不均一な距離だけ各々の時間前進させなけれ
ばならないであろう。
【０００６】それ故に、９０°回転されたハーフフレー
ム原本の場合には、これらの回転された原本が９０°
「逆回転」して印画紙上に複写され、そしてそのような
複写は、複写の際に回転されなかったフルフレーム原本
の複写と同じ位置を印画紙上に結果として占める複写機
が過去において提案された。確かに、最初に記載した再
形成系はこの目的のためには不向きであるが、それは既
に記載したように、それらが非偶数個の反射表面を有す
るからであり、そしてそれらが９０°回転を提示するけ
れども、原本上に見られる物体の配置は反転されている
であろうからである。他方、９０°回転を提示し得る偶
数個の反射表面は再形成された物体の向きを保持するで
あろう。これらの偶数個の反射表面を有する複写機は例
えば米国特許第４７４３１０３号およびＥＰ０１５７３
２５号に記載されている。
ム原本の場合には、これらの回転された原本が９０°
「逆回転」して印画紙上に複写され、そしてそのような
複写は、複写の際に回転されなかったフルフレーム原本
の複写と同じ位置を印画紙上に結果として占める複写機
が過去において提案された。確かに、最初に記載した再
形成系はこの目的のためには不向きであるが、それは既
に記載したように、それらが非偶数個の反射表面を有す
るからであり、そしてそれらが９０°回転を提示するけ
れども、原本上に見られる物体の配置は反転されている
であろうからである。他方、９０°回転を提示し得る偶
数個の反射表面は再形成された物体の向きを保持するで
あろう。これらの偶数個の反射表面を有する複写機は例
えば米国特許第４７４３１０３号およびＥＰ０１５７３
２５号に記載されている。
【０００７】２つのシュミット／ペッハンプリズムおよ
び多数個のレンズを用いる米国特許第４７４３１０３号
に記載された解決法はいくつかの面で不利である。１つ
は空間の必要性に関する問題である（複写機の使用のた
めの再形成系は所望の大きさでは何らあり得ない）。し
かし主たる問題は、増加する数の反射（実施例において
反射の数は１０である）を有するプリズムの反射表面の
調整に必要な高い精度に関する費用が非常に高いこと、
および形成された複写による原本の真の再形成が非常に
高いコストに結びつくか、またはさもなければ、プリズ
ムおよびそれらの反射表面のより不正確な調整によりか
なり損なわれるであろうことである。
び多数個のレンズを用いる米国特許第４７４３１０３号
に記載された解決法はいくつかの面で不利である。１つ
は空間の必要性に関する問題である（複写機の使用のた
めの再形成系は所望の大きさでは何らあり得ない）。し
かし主たる問題は、増加する数の反射（実施例において
反射の数は１０である）を有するプリズムの反射表面の
調整に必要な高い精度に関する費用が非常に高いこと、
および形成された複写による原本の真の再形成が非常に
高いコストに結びつくか、またはさもなければ、プリズ
ムおよびそれらの反射表面のより不正確な調整によりか
なり損なわれるであろうことである。
【０００８】ＥＰ０１５７３２５号において示唆された
別法は全部で６つの反射表面からなり、そのうち４つが
所望の９０°回転を達成するのに必要とされる。確か
に、４回の反射の後では、系の入射光軸および出射光軸
は一致しないであろうし、そして結果的に像は印画紙上
にズレを生じて複写されるであろう。そのようなズレ
は、ハーフフレーム原本から形成される複写とフルフレ
ーム原本から形成される複写との間の紙テープにおける
ギャップがフルフレーム原本の複写だけが形成される場
合に比べより大きいので、結果として紙の消費を増やす
であろう。さらに、ズレは相当する複写機または写真処
理経路の移送手段および切断装置に関する費用を高め
る：紙テープ上の次の複写がフルフレームの複写である
か、またはハーフフレームの複写であるかに応じて、紙
テープは次の複写が紙テープから切断され得る前に異な
る距離だけ前進されなければならない。この種のズレお
よび関連する費用を避けるために、ＥＰ０１５７３２５
号は９０°回転させた像がズレを生ぜずに、フルフレー
ム原本の回転されていない像と同じ位置で印画紙に確実
に複写されるようにさらに２つの反射表面を備えてい
る。しかしながら、追加の反射表面は追加の鏡により提
示される高められた費用の他に、空間をさらに必要とす
る。しかし、最も重要な問題は、プリズムおよびそれら
の反射表面の調整に必要な高い精度に関する費用が非常
に高いままであり、その結果、形成される複写による原
本の真の再形成が莫大な費用で達成され得るのみであ
り、また、コストを下げた場合、プリズムおよびそれら
の反射表面の調整がより低い精度で行われることにな
る。
別法は全部で６つの反射表面からなり、そのうち４つが
所望の９０°回転を達成するのに必要とされる。確か
に、４回の反射の後では、系の入射光軸および出射光軸
は一致しないであろうし、そして結果的に像は印画紙上
にズレを生じて複写されるであろう。そのようなズレ
は、ハーフフレーム原本から形成される複写とフルフレ
ーム原本から形成される複写との間の紙テープにおける
ギャップがフルフレーム原本の複写だけが形成される場
合に比べより大きいので、結果として紙の消費を増やす
であろう。さらに、ズレは相当する複写機または写真処
理経路の移送手段および切断装置に関する費用を高め
る：紙テープ上の次の複写がフルフレームの複写である
か、またはハーフフレームの複写であるかに応じて、紙
テープは次の複写が紙テープから切断され得る前に異な
る距離だけ前進されなければならない。この種のズレお
よび関連する費用を避けるために、ＥＰ０１５７３２５
号は９０°回転させた像がズレを生ぜずに、フルフレー
ム原本の回転されていない像と同じ位置で印画紙に確実
に複写されるようにさらに２つの反射表面を備えてい
る。しかしながら、追加の反射表面は追加の鏡により提
示される高められた費用の他に、空間をさらに必要とす
る。しかし、最も重要な問題は、プリズムおよびそれら
の反射表面の調整に必要な高い精度に関する費用が非常
に高いままであり、その結果、形成される複写による原
本の真の再形成が莫大な費用で達成され得るのみであ
り、また、コストを下げた場合、プリズムおよびそれら
の反射表面の調整がより低い精度で行われることにな
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】それ故に、本発明は、
ハーフフレーム原本の像が像の回転の必要のないフルフ
レーム原本の像と同じ位置で紙テープ上に再形成される
ように、フルフレーム原本に対して９０°だけハーフフ
レーム原本の像を回転させる再形成系の創製に関する。
同時に、該再形成系は、要求される反射表面の調整に必
要な精度に関しては特に、できるだけ安価であるべきで
ある。
ハーフフレーム原本の像が像の回転の必要のないフルフ
レーム原本の像と同じ位置で紙テープ上に再形成される
ように、フルフレーム原本に対して９０°だけハーフフ
レーム原本の像を回転させる再形成系の創製に関する。
同時に、該再形成系は、要求される反射表面の調整に必
要な精度に関しては特に、できるだけ安価であるべきで
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、わずか４つの
反射表面からなる光学再形成系でもって上記課題を解決
する。ここで反射表面は特別な様式で配置されている。
光路における第１の反射表面は入射光軸の最初の鏡像を
形成する。この入射光軸の最初の鏡像は入射光軸と一緒
になって第１の平面を規定する。光路において第１の反
射表面に続く第２の反射表面は入射光軸の第２の鏡像を
形成し、そしてこの入射光軸の第２の鏡像は第１の平面
を離れる。入射光軸の第１および第２の鏡像は従って第
１の平面とは異なる第２の平面を規定する。光路におい
て第２の反射表面に続く第３の反射表面は入射光軸の第
３の鏡像を形成し、そしてこの入射光軸の第３の鏡像は
第２の平面を離れ、そして入射または出射光軸の延長線
と交差する。光路において第３の反射表面に続く第４の
反射表面は最後に入射光軸の第４の反射像を形成する
が、これは出射光軸と一致する。４つのみの反射表面を
用いることにより、費用は必要な反射表面の数の点で、
そして特にその調整に要求される必要な高い精度（小さ
い許容範囲）の点で最低限に抑えられる。
反射表面からなる光学再形成系でもって上記課題を解決
する。ここで反射表面は特別な様式で配置されている。
光路における第１の反射表面は入射光軸の最初の鏡像を
形成する。この入射光軸の最初の鏡像は入射光軸と一緒
になって第１の平面を規定する。光路において第１の反
射表面に続く第２の反射表面は入射光軸の第２の鏡像を
形成し、そしてこの入射光軸の第２の鏡像は第１の平面
を離れる。入射光軸の第１および第２の鏡像は従って第
１の平面とは異なる第２の平面を規定する。光路におい
て第２の反射表面に続く第３の反射表面は入射光軸の第
３の鏡像を形成し、そしてこの入射光軸の第３の鏡像は
第２の平面を離れ、そして入射または出射光軸の延長線
と交差する。光路において第３の反射表面に続く第４の
反射表面は最後に入射光軸の第４の反射像を形成する
が、これは出射光軸と一致する。４つのみの反射表面を
用いることにより、費用は必要な反射表面の数の点で、
そして特にその調整に要求される必要な高い精度（小さ
い許容範囲）の点で最低限に抑えられる。
【００１１】反射表面は本発明の種々の有利な態様にお
いて異なった様式で配置される。入射光軸は第１の反射
表面に対する垂直面に対して４５°ないし６０°の入射
角度を規定する。第２の反射表面に対する垂直面は第１
の平面に対して４５°ないし１２０°の方位角（ａｚｉ
ｍｕｔｈ）および方位面（ａｚｉｍｕｔｈ ｐｌａｎ
ｅ）に対して４０°ないし７０°の仰角（ｅｌｅｖａｔ
ｉｏｎ）を有する。第３の反射表面に対する垂直面は第
１の平面に対して６０°ないし８５°の方位角および方
位面に対して−１０°ないし−４５°の仰角を有し、そ
して第４の反射表面に対する垂直面は第１の平面に対し
て１２０°ないし１６０°の方位角および方位面に対し
て−１５°ないし−４５°の仰角を有する。
いて異なった様式で配置される。入射光軸は第１の反射
表面に対する垂直面に対して４５°ないし６０°の入射
角度を規定する。第２の反射表面に対する垂直面は第１
の平面に対して４５°ないし１２０°の方位角（ａｚｉ
ｍｕｔｈ）および方位面（ａｚｉｍｕｔｈ ｐｌａｎ
ｅ）に対して４０°ないし７０°の仰角（ｅｌｅｖａｔ
ｉｏｎ）を有する。第３の反射表面に対する垂直面は第
１の平面に対して６０°ないし８５°の方位角および方
位面に対して−１０°ないし−４５°の仰角を有し、そ
して第４の反射表面に対する垂直面は第１の平面に対し
て１２０°ないし１６０°の方位角および方位面に対し
て−１５°ないし−４５°の仰角を有する。
【００１２】特に有利な態様において、入射光軸は第１
の反射表面に対する垂直面に対して６０°の入射角度を
規定する。この態様において、第２の反射表面に対する
垂直面は第１の平面に対して１０９°ないし１１０°の
方位角、特に１０９．７３４°の方位角および方位面に
対して６４°ないし６５°の仰角、特に６４．２９６°
の仰角を有する。第３の反射表面に対する垂直面は第１
の平面に対して７０°ないし７１°の方位角、特に７
０．５２９°の方位角および方位面に対して１６°ない
し１７°の仰角、特に１６．７７９°の仰角を有する。
最後にこの態様において、第４の反射表面に対する垂直
面は第１の平面に対して１４９°ないし１５１°の方位
角、特に１５０°の方位角および方位面に対して−３５
°ないし−３６°の仰角、特に−３５．２６０°の仰角
を有する。この態様において、第１の反射表面から第２
の表面への光路の長さ：第２の表面から第３の表面への
光路の長さ：第３の表面から第４の表面への光路の長さ
の比率は（√２）：１：１〔ここで（√２）は２の平方
根を表す〕である。
の反射表面に対する垂直面に対して６０°の入射角度を
規定する。この態様において、第２の反射表面に対する
垂直面は第１の平面に対して１０９°ないし１１０°の
方位角、特に１０９．７３４°の方位角および方位面に
対して６４°ないし６５°の仰角、特に６４．２９６°
の仰角を有する。第３の反射表面に対する垂直面は第１
の平面に対して７０°ないし７１°の方位角、特に７
０．５２９°の方位角および方位面に対して１６°ない
し１７°の仰角、特に１６．７７９°の仰角を有する。
最後にこの態様において、第４の反射表面に対する垂直
面は第１の平面に対して１４９°ないし１５１°の方位
角、特に１５０°の方位角および方位面に対して−３５
°ないし−３６°の仰角、特に−３５．２６０°の仰角
を有する。この態様において、第１の反射表面から第２
の表面への光路の長さ：第２の表面から第３の表面への
光路の長さ：第３の表面から第４の表面への光路の長さ
の比率は（√２）：１：１〔ここで（√２）は２の平方
根を表す〕である。
【００１３】別の有利な態様において、本発明に係る再
形成系は、その各々が２つの反射表面を有する第１およ
び第２の同一なハーフシステムからなる。第２のハーフ
システムはその配置が第１のハーフシステムの配置から
誘導されるように設置されており、その第１のハーフシ
ステムの配置において、第１のハーフシステムは光軸に
対して垂直である分離平面上に反射され、そしてその反
射された第１のハーフシステムは次に出射光軸の回りに
設定角度を回転される。
形成系は、その各々が２つの反射表面を有する第１およ
び第２の同一なハーフシステムからなる。第２のハーフ
システムはその配置が第１のハーフシステムの配置から
誘導されるように設置されており、その第１のハーフシ
ステムの配置において、第１のハーフシステムは光軸に
対して垂直である分離平面上に反射され、そしてその反
射された第１のハーフシステムは次に出射光軸の回りに
設定角度を回転される。
【００１４】別の特に有利な態様および上で説明した態
様のさらなる詳細において、入射光軸は第１の反射表面
に対する垂直面に対して６０°の入射角度を規定する。
第２の反射表面に対する垂直面は第１の平面に対して１
０９°ないし１１０°の方位角、特に１０９．７３５°
の方位角および方位面に対して６４°ないし６５°の仰
角、特に６４．２９６°の仰角を有する。第３の反射表
面に対する垂直面は第１の平面に対して８１°ないし８
２°の方位角、特に８１．５４８°の方位角および方位
面に対して−４°ないし−５°の仰角、特に−４．８５
０°の仰角を有する。最後に、第４の反射表面に対する
垂直面は第１の平面に対して１２１°ないし１２２°の
方位角、特に１２１．４８２°の方位角および方位面に
対して−１６°ないし−１７°の仰角、特に−１６．７
７８°の仰角を有する。この態様において、第１の反射
表面から第２の表面への光路の長さ：第２の表面から第
３の表面への光路の長さ：第３の表面から第４の表面へ
の光路の長さの比率は１：（√２）：１である。
様のさらなる詳細において、入射光軸は第１の反射表面
に対する垂直面に対して６０°の入射角度を規定する。
第２の反射表面に対する垂直面は第１の平面に対して１
０９°ないし１１０°の方位角、特に１０９．７３５°
の方位角および方位面に対して６４°ないし６５°の仰
角、特に６４．２９６°の仰角を有する。第３の反射表
面に対する垂直面は第１の平面に対して８１°ないし８
２°の方位角、特に８１．５４８°の方位角および方位
面に対して−４°ないし−５°の仰角、特に−４．８５
０°の仰角を有する。最後に、第４の反射表面に対する
垂直面は第１の平面に対して１２１°ないし１２２°の
方位角、特に１２１．４８２°の方位角および方位面に
対して−１６°ないし−１７°の仰角、特に−１６．７
７８°の仰角を有する。この態様において、第１の反射
表面から第２の表面への光路の長さ：第２の表面から第
３の表面への光路の長さ：第３の表面から第４の表面へ
の光路の長さの比率は１：（√２）：１である。
【００１５】本発明に係る再形成系の別の特に有利な態
様において、入射光軸は第１の反射表面に対する垂直面
に対して４５°の入射角度を規定する。第２の反射表面
に対する垂直面は第１の平面に対して１３８°ないし１
３９°の方位角、特に１３８．０９３°の方位角および
方位面に対して４４°ないし４６°の仰角、特に４５°
の仰角を有する。第３の反射表面に対する垂直面は第１
の平面に対して６４°ないし６５°の方位角、特に６
４．０８２°の方位角および方位面に対して３１°ない
し３２°の仰角、特に３１．８２１°の仰角を有する。
最後に、第４の反射表面に対する垂直面は第１の平面に
対して１５４°ないし１５５°の方位角、特に１５４．
２４１°の方位角および方位面に対して−３８°ないし
−３９°の仰角、特に−３８．２６８°の仰角を有す
る。この態様において、第１の反射表面から第２の表面
への光路の長さ：第２の表面から第３の表面への光路の
長さ：第３の表面から第４の表面への光路の長さの比率
は１：０．７：１．１４１７である。例えば、ｌの大き
さを有する光路の標準化された長さは約３５−３５ｍ
ｍ、とりわけ約４０ｍｍである。反射表面は全反射表面
として設計されてもよい。各反射表面が別個の表面とし
て設計される場合、それらは使用されるガラスに対して
約１．７の屈折率を有する、金属的に被覆されたガラス
表面の形態にあると理解され得る。
様において、入射光軸は第１の反射表面に対する垂直面
に対して４５°の入射角度を規定する。第２の反射表面
に対する垂直面は第１の平面に対して１３８°ないし１
３９°の方位角、特に１３８．０９３°の方位角および
方位面に対して４４°ないし４６°の仰角、特に４５°
の仰角を有する。第３の反射表面に対する垂直面は第１
の平面に対して６４°ないし６５°の方位角、特に６
４．０８２°の方位角および方位面に対して３１°ない
し３２°の仰角、特に３１．８２１°の仰角を有する。
最後に、第４の反射表面に対する垂直面は第１の平面に
対して１５４°ないし１５５°の方位角、特に１５４．
２４１°の方位角および方位面に対して−３８°ないし
−３９°の仰角、特に−３８．２６８°の仰角を有す
る。この態様において、第１の反射表面から第２の表面
への光路の長さ：第２の表面から第３の表面への光路の
長さ：第３の表面から第４の表面への光路の長さの比率
は１：０．７：１．１４１７である。例えば、ｌの大き
さを有する光路の標準化された長さは約３５−３５ｍ
ｍ、とりわけ約４０ｍｍである。反射表面は全反射表面
として設計されてもよい。各反射表面が別個の表面とし
て設計される場合、それらは使用されるガラスに対して
約１．７の屈折率を有する、金属的に被覆されたガラス
表面の形態にあると理解され得る。
【００１６】しかしながら、再形成系は、適当に配置さ
れた反射表面が備えられている１または複数のガラス体
を含むことも可能である。ガラス体に進入した後、光は
該ガラス体内に導かれるであろう。設定された反射表面
（鏡映表面）への入射光の角度が全反射が起こる臨界角
度より大きい限り、表面は金属被覆される必要がない。
しかしながら、値がこの臨界角度より低下するならば、
反射表面は金属被覆されなければならない。
れた反射表面が備えられている１または複数のガラス体
を含むことも可能である。ガラス体に進入した後、光は
該ガラス体内に導かれるであろう。設定された反射表面
（鏡映表面）への入射光の角度が全反射が起こる臨界角
度より大きい限り、表面は金属被覆される必要がない。
しかしながら、値がこの臨界角度より低下するならば、
反射表面は金属被覆されなければならない。
【００１７】任意の態様として、色彩の欠陥および／ま
たは幾何学的種類の光学的欠陥（例えば球面収差）を補
償するためにレンズが備えられてもよい。そのようなレ
ンズは第１の反射表面の前方または第４の反射表面の後
方に設置されてもよい。
たは幾何学的種類の光学的欠陥（例えば球面収差）を補
償するためにレンズが備えられてもよい。そのようなレ
ンズは第１の反射表面の前方または第４の反射表面の後
方に設置されてもよい。
【００１８】
【実施例】その他の対象および利点は、図面を参照して
記載される本発明の好ましい実施態様についての以下の
詳細な記述から明らかになるであろう。同じ部品に同じ
参照番号が与えられている各図面はそれぞれ以下のもの
を示す：図１は本発明に係る再形成系の反射表面の配置
の第１の実施態様を示す；図２ないし５は図１に示す再
形成系の反射表面の配置の第１の実施態様に係る、光線
の経路に沿って連続した個々の反射表面の各々に対する
垂直面の位置を示す；図６は本発明に係る再形成系の反
射表面の配置の第２の実施態様を示す；図７ないし１０
は図６に示す再形成系の反射表面の配置の第２の実施態
様に係る、光線の経路に沿って連続した個々の反射表面
の各々に対する垂直面の位置を示す；図１１は本発明に
係る再形成系の反射表面の配置の第３の実施態様を示
す；図１２ないし１５は図１１に示す再形成系の反射表
面の配置の第２の実施態様に係る、光線の経路に沿って
連続した個々の反射表面の各々に対する垂直面の位置を
示す。
記載される本発明の好ましい実施態様についての以下の
詳細な記述から明らかになるであろう。同じ部品に同じ
参照番号が与えられている各図面はそれぞれ以下のもの
を示す：図１は本発明に係る再形成系の反射表面の配置
の第１の実施態様を示す；図２ないし５は図１に示す再
形成系の反射表面の配置の第１の実施態様に係る、光線
の経路に沿って連続した個々の反射表面の各々に対する
垂直面の位置を示す；図６は本発明に係る再形成系の反
射表面の配置の第２の実施態様を示す；図７ないし１０
は図６に示す再形成系の反射表面の配置の第２の実施態
様に係る、光線の経路に沿って連続した個々の反射表面
の各々に対する垂直面の位置を示す；図１１は本発明に
係る再形成系の反射表面の配置の第３の実施態様を示
す；図１２ないし１５は図１１に示す再形成系の反射表
面の配置の第２の実施態様に係る、光線の経路に沿って
連続した個々の反射表面の各々に対する垂直面の位置を
示す。
【００１９】図１、６および１１において、Ｓ１は光路
における第１の反射表面を表し、Ｓ２は光路における第
２の反射表面を表し、Ｓ３は光路における第３の反射表
面を表し、そしてＳ４は光路における第４の反射表面を
表す。図２ないし５、７ないし１０および１２ないし１
５におけるＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は与えられた反射表
面Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４に対する垂直面を表し、その
垂直面の位置は小さい三次元の座標系に示されている。
図１、６および１１にはまた、破線でレンズＯが示され
ており、該レンズは第１の反射表面Ｓ１の前方または第
４の反射表面Ｓ４の後方の光路内に設置され得る。これ
らの図はまた入射光軸Ａ０、入射光軸Ａ０の第１の鏡像
Ａ１、入射光軸Ａ０の第２の鏡像Ａ２、入射光軸Ａ０の
第３の鏡像Ａ３、そして入射光軸Ａ０の第４の鏡像Ａ４
を示すが、該鏡像Ａ４は出射光軸Ａ５と一致する
における第１の反射表面を表し、Ｓ２は光路における第
２の反射表面を表し、Ｓ３は光路における第３の反射表
面を表し、そしてＳ４は光路における第４の反射表面を
表す。図２ないし５、７ないし１０および１２ないし１
５におけるＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は与えられた反射表
面Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４に対する垂直面を表し、その
垂直面の位置は小さい三次元の座標系に示されている。
図１、６および１１にはまた、破線でレンズＯが示され
ており、該レンズは第１の反射表面Ｓ１の前方または第
４の反射表面Ｓ４の後方の光路内に設置され得る。これ
らの図はまた入射光軸Ａ０、入射光軸Ａ０の第１の鏡像
Ａ１、入射光軸Ａ０の第２の鏡像Ａ２、入射光軸Ａ０の
第３の鏡像Ａ３、そして入射光軸Ａ０の第４の鏡像Ａ４
を示すが、該鏡像Ａ４は出射光軸Ａ５と一致する
【００２０】再形成系の基本的操作は図１の実施態様に
基づいて次に説明されるであう。まず、反射表面Ｓ１、
Ｓ２、Ｓ３およびＳ４は描かれた大きさにその寸法が制
限されずに、当然ながらより大きいか、もしくはより小
さいということが記載されなければならない。これらの
寸法は系の機能を明確にするために図面では選択され
た。単純化のために、光路は入射光軸Ａ０に沿って再形
成系に入る光線に基づいて説明されている。
基づいて次に説明されるであう。まず、反射表面Ｓ１、
Ｓ２、Ｓ３およびＳ４は描かれた大きさにその寸法が制
限されずに、当然ながらより大きいか、もしくはより小
さいということが記載されなければならない。これらの
寸法は系の機能を明確にするために図面では選択され
た。単純化のために、光路は入射光軸Ａ０に沿って再形
成系に入る光線に基づいて説明されている。
【００２１】上記光線は映写面にある入射光軸Ａ０に沿
って第１の反射表面Ｓ１にぶつかる。図１に示された第
１の反射表面Ｓ１は、反射光線およびそれ故に入射光軸
Ａ０の第１の鏡像Ａ１もまた映写面に沿って進む、すな
わち入射光線と第１の反射表面Ｓ１により反射される光
線、または入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１が最初の
平面を規定するように配置される。図１において、この
平面は映写面に相当する。ここで、入射光軸Ａ０に沿っ
て進む入射光線により、および第１の反射表面Ｓ１に対
する垂直面Ｌ１により確立される入射角は６０°であ
り、入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１により確立され
る全角α１は１２０°である。反射表面Ｓ１に対する垂
直面Ｌ１の位置は図２に示されている。この図から、垂
直面Ｌ１は映写面にあり、そして方位面（ドットを付し
て示す）に対してε１＝−６０°の仰角を有することが
わかるであろう。
って第１の反射表面Ｓ１にぶつかる。図１に示された第
１の反射表面Ｓ１は、反射光線およびそれ故に入射光軸
Ａ０の第１の鏡像Ａ１もまた映写面に沿って進む、すな
わち入射光線と第１の反射表面Ｓ１により反射される光
線、または入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１が最初の
平面を規定するように配置される。図１において、この
平面は映写面に相当する。ここで、入射光軸Ａ０に沿っ
て進む入射光線により、および第１の反射表面Ｓ１に対
する垂直面Ｌ１により確立される入射角は６０°であ
り、入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１により確立され
る全角α１は１２０°である。反射表面Ｓ１に対する垂
直面Ｌ１の位置は図２に示されている。この図から、垂
直面Ｌ１は映写面にあり、そして方位面（ドットを付し
て示す）に対してε１＝−６０°の仰角を有することが
わかるであろう。
【００２２】第１の反射表面Ｓ１により反射され、そし
て入射光軸の第１の鏡像Ａ１に沿って進む光線は、第２
の反射表面Ｓ２にぶつかる。この表面Ｓ２は、該面に対
する垂直面Ｌ２（図３）が第１の平面（映写面）に対し
てγ２＝１０９．３７４°の方位角および方位面（ドッ
トが付されている）に対してε２＝６４．２９６°の仰
角を有するように配置されている（図３参照）。表面Ｓ
２にぶつかる光線は反射により映写面の外、従ってこの
図面の後方にある映写面の外に回転され（図１）、一
方、第１の表面Ｓ１により反射され、表面Ｓ２にぶつか
る光線、または入射光軸の第１の鏡像Ａ１と表面Ｓ２に
より反射される光線、または入射光軸の第２の鏡像Ａ２
とはα２＝−９０°の角度をなし、そして第１の平面
（ここでは映写面）から分離した第２の平面を規定す
る。ここで、角度αｉの向きは映写面において時計回り
の方向に進行するように常に選択される。結果的にいく
つかの角度αｉは負の値となる。
て入射光軸の第１の鏡像Ａ１に沿って進む光線は、第２
の反射表面Ｓ２にぶつかる。この表面Ｓ２は、該面に対
する垂直面Ｌ２（図３）が第１の平面（映写面）に対し
てγ２＝１０９．３７４°の方位角および方位面（ドッ
トが付されている）に対してε２＝６４．２９６°の仰
角を有するように配置されている（図３参照）。表面Ｓ
２にぶつかる光線は反射により映写面の外、従ってこの
図面の後方にある映写面の外に回転され（図１）、一
方、第１の表面Ｓ１により反射され、表面Ｓ２にぶつか
る光線、または入射光軸の第１の鏡像Ａ１と表面Ｓ２に
より反射される光線、または入射光軸の第２の鏡像Ａ２
とはα２＝−９０°の角度をなし、そして第１の平面
（ここでは映写面）から分離した第２の平面を規定す
る。ここで、角度αｉの向きは映写面において時計回り
の方向に進行するように常に選択される。結果的にいく
つかの角度αｉは負の値となる。
【００２３】光路のさらに進んだ経路において、第２の
反射表面Ｓ２により反射され、そして入射光軸の第２の
鏡像Ａ２に沿って進む光線は、第３の反射表面Ｓ３にぶ
つかる。この表面Ｓ３は、該面に対する垂直面Ｌ３（図
３）が第１の平面（映写面）に対してγ３＝７０．５２
９°の方位角および方位面に対してε３＝１６．７７９
°の仰角を有するように配置されている（図４参照）。
表面Ｓ３にぶつかる光線は反射により、第２の表面Ｓ２
にぶつかる光線によるか、または入射光軸の第１の鏡像
Ａ１により、および上記表面Ｓ２により反射された光線
によるか、または入射光軸の第２の鏡像Ａ２により規定
される第２の平面の外に回転される（図１）。従って、
この図面（図１）において、空間に存在するように描か
れている表面Ｓ３は映写面の方向に後方から光線を反射
する。ここで、第２の反射表面Ｓ２により反射され、そ
して表面Ｓ３にぶつかる光線、または入射光軸の第２の
鏡像Ａ２と、この表面Ｓ３により反射された光線または
入射光軸の第３の鏡像Ａ３とはα３＝−９０°の角度を
なす。
反射表面Ｓ２により反射され、そして入射光軸の第２の
鏡像Ａ２に沿って進む光線は、第３の反射表面Ｓ３にぶ
つかる。この表面Ｓ３は、該面に対する垂直面Ｌ３（図
３）が第１の平面（映写面）に対してγ３＝７０．５２
９°の方位角および方位面に対してε３＝１６．７７９
°の仰角を有するように配置されている（図４参照）。
表面Ｓ３にぶつかる光線は反射により、第２の表面Ｓ２
にぶつかる光線によるか、または入射光軸の第１の鏡像
Ａ１により、および上記表面Ｓ２により反射された光線
によるか、または入射光軸の第２の鏡像Ａ２により規定
される第２の平面の外に回転される（図１）。従って、
この図面（図１）において、空間に存在するように描か
れている表面Ｓ３は映写面の方向に後方から光線を反射
する。ここで、第２の反射表面Ｓ２により反射され、そ
して表面Ｓ３にぶつかる光線、または入射光軸の第２の
鏡像Ａ２と、この表面Ｓ３により反射された光線または
入射光軸の第３の鏡像Ａ３とはα３＝−９０°の角度を
なす。
【００２４】光路をさらに進むと、光線は入射光軸の延
長線と交差する。この交差の点で、第３の反射表面Ｓ３
により反射され、そして入射光軸の第３の鏡像Ａ３に沿
って進む光線は、第４の反射表面Ｓ４にぶつかる。この
表面Ｓ４は、該面に対する垂直面Ｌ４が第１の平面（こ
こでは映写面）に対してγ４＝１５０°の方位角および
方位面に対してε４＝−３５．２６０°の仰角を有する
ように配置されている。この表面Ｓ４にぶつかる光線
は、反射光線または入射光軸の第４の鏡像Ａ４が入射光
軸Ａ０と同一直線上にある出射光軸Ａ５と一致するよう
に反射される。ここに示された図面において、反射表面
Ｓ４から前方に進む光線は出射光軸Ａ５の方向に反射さ
れ、一方、第３の表面Ｓ３により反射され、そして表面
Ｓ４にぶつかる光線、または入射光軸の第３の鏡像Ａ３
と、表面Ｓ４により反射された光線または入射光軸の第
４の鏡像Ａ４とはα４＝９０°の角度であると記載して
いる。反射表面Ｓ１とＳ２、Ｓ２とＳ３、およびＳ３と
Ｓ４の間の分断距離Ｄ１２、Ｄ２３およびＤ３４は本実
施例では（√２）：１：１の比率を有する。
長線と交差する。この交差の点で、第３の反射表面Ｓ３
により反射され、そして入射光軸の第３の鏡像Ａ３に沿
って進む光線は、第４の反射表面Ｓ４にぶつかる。この
表面Ｓ４は、該面に対する垂直面Ｌ４が第１の平面（こ
こでは映写面）に対してγ４＝１５０°の方位角および
方位面に対してε４＝−３５．２６０°の仰角を有する
ように配置されている。この表面Ｓ４にぶつかる光線
は、反射光線または入射光軸の第４の鏡像Ａ４が入射光
軸Ａ０と同一直線上にある出射光軸Ａ５と一致するよう
に反射される。ここに示された図面において、反射表面
Ｓ４から前方に進む光線は出射光軸Ａ５の方向に反射さ
れ、一方、第３の表面Ｓ３により反射され、そして表面
Ｓ４にぶつかる光線、または入射光軸の第３の鏡像Ａ３
と、表面Ｓ４により反射された光線または入射光軸の第
４の鏡像Ａ４とはα４＝９０°の角度であると記載して
いる。反射表面Ｓ１とＳ２、Ｓ２とＳ３、およびＳ３と
Ｓ４の間の分断距離Ｄ１２、Ｄ２３およびＤ３４は本実
施例では（√２）：１：１の比率を有する。
【００２５】破線で示され、そして第１の反射表面Ｓ１
の前方または第４の反射表面Ｓ４の後方の光路内に設置
されたレンズＯが、色彩の欠陥および／または幾何学的
性質の光学的欠陥、例えば球面収差を補償するために使
用され得る。
の前方または第４の反射表面Ｓ４の後方の光路内に設置
されたレンズＯが、色彩の欠陥および／または幾何学的
性質の光学的欠陥、例えば球面収差を補償するために使
用され得る。
【００２６】再形成系の実際の態様において、分断距離
Ｄ２３は例えば約３５−４５ｍｍ、とりわけ約４０ｍｍ
であってよい。その他の分断距離Ｄ１２およびＤ３４は
その時、上記の分断距離の比率により与えられる。全体
の再形成系は１００−１３０ｍｍ、とりわけ約１１３．
５ｍｍの入射または出射光軸の方向の長さ（光路の長さ
ではない）を有し得る。
Ｄ２３は例えば約３５−４５ｍｍ、とりわけ約４０ｍｍ
であってよい。その他の分断距離Ｄ１２およびＤ３４は
その時、上記の分断距離の比率により与えられる。全体
の再形成系は１００−１３０ｍｍ、とりわけ約１１３．
５ｍｍの入射または出射光軸の方向の長さ（光路の長さ
ではない）を有し得る。
【００２７】個々の反射表面Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３およびＳ
４は例えば金属被覆された（例えば蒸着された）ガラス
表面であってよい。原理的に、再形成系は、反射表面が
それに結合されるいくつかのガラス体を包含し得る。光
は次にガラス体に入り、ガラス体内に案内され、そして
４つの反射領域で鏡映され、そしてガラス体から出るで
あろう。２またはそれ以上のガラス体が互いに結合され
得るけれども、技術的な形成の理由で、単一のガラス体
上に反射領域を供給することは可能ではない。１つまた
はいくつかのガラス体における光の処理は、反射表面が
小さく維持され、そしてその表面が精密に磨かれ得ると
いう利点を有し、それ故に精確に調整した取付けが不要
となる。
４は例えば金属被覆された（例えば蒸着された）ガラス
表面であってよい。原理的に、再形成系は、反射表面が
それに結合されるいくつかのガラス体を包含し得る。光
は次にガラス体に入り、ガラス体内に案内され、そして
４つの反射領域で鏡映され、そしてガラス体から出るで
あろう。２またはそれ以上のガラス体が互いに結合され
得るけれども、技術的な形成の理由で、単一のガラス体
上に反射領域を供給することは可能ではない。１つまた
はいくつかのガラス体における光の処理は、反射表面が
小さく維持され、そしてその表面が精密に磨かれ得ると
いう利点を有し、それ故に精確に調整した取付けが不要
となる。
【００２８】光がガラス体内において全反射により案内
され得るという事実は、ガラスがガラス体の周囲の空気
に比べ光学的にはるかに濃密な媒質を提示するという事
実と関連づけられる。例えば、この種のガラス体はスコ
ット社から市販されている屈折率ｎ＝１．７１のＳＦ１
ガラスから製造され得る。このことは当然ながら、反射
表面が分離した表面（複合ガラス体ではない）として設
計される場合にも同様に当てはまる。この場合、それら
は金属被覆、すなわち鏡面が与えられてもよい。
され得るという事実は、ガラスがガラス体の周囲の空気
に比べ光学的にはるかに濃密な媒質を提示するという事
実と関連づけられる。例えば、この種のガラス体はスコ
ット社から市販されている屈折率ｎ＝１．７１のＳＦ１
ガラスから製造され得る。このことは当然ながら、反射
表面が分離した表面（複合ガラス体ではない）として設
計される場合にも同様に当てはまる。この場合、それら
は金属被覆、すなわち鏡面が与えられてもよい。
【００２９】図６は反射表面Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３およびＳ
４の配置の別の実施態様を示す。図６に示された第１の
反射表面は、反射光線およびそれ故に入射光軸Ａ０の第
１の鏡像Ａ１もまた映写面内を進み、そしてそれによっ
て入射光線と第１の反射表面Ｓ１により反射される光
線、または入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１が平面を
規定するように配置される。図６では図１の場合と同様
に、この平面は映写面に相当する。ここで、入射光軸Ａ
０に沿って進む入射光線と第１の反射表面Ｓ１に対する
垂直面Ｌ１とでなす入射角は６０°であり、入射光軸Ａ
０とその第１の鏡像Ａ１とでなす全角α１は１２０°で
ある。
４の配置の別の実施態様を示す。図６に示された第１の
反射表面は、反射光線およびそれ故に入射光軸Ａ０の第
１の鏡像Ａ１もまた映写面内を進み、そしてそれによっ
て入射光線と第１の反射表面Ｓ１により反射される光
線、または入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１が平面を
規定するように配置される。図６では図１の場合と同様
に、この平面は映写面に相当する。ここで、入射光軸Ａ
０に沿って進む入射光線と第１の反射表面Ｓ１に対する
垂直面Ｌ１とでなす入射角は６０°であり、入射光軸Ａ
０とその第１の鏡像Ａ１とでなす全角α１は１２０°で
ある。
【００３０】再形成系のこの態様の残りの操作は図１に
基づいて既に説明したものと全く同様である。図６およ
び図７ないし１０に関して説明されているように、反射
表面Ｓ２の典型的な該当する角度は以下のとおりであ
る：α２＝−９０°，γ２＝１０９．７３４°，ε２＝
６４．２９６°。反射表面Ｓ３に対する角度は以下のと
おりであり：α３＝−９０°，γ３＝８１．５４８°，
ε３＝−４．８５０°、そして反射表面Ｓ４に対しては
以下のとおりであり：α４＝１２０°，γ４＝１４１．
４８２°，ε４＝−１６．７７８°。反射表面間の分断
距離Ｄ１２、Ｄ２３およびＤ３４は１：（√２）：１の
比率を有する。
基づいて既に説明したものと全く同様である。図６およ
び図７ないし１０に関して説明されているように、反射
表面Ｓ２の典型的な該当する角度は以下のとおりであ
る：α２＝−９０°，γ２＝１０９．７３４°，ε２＝
６４．２９６°。反射表面Ｓ３に対する角度は以下のと
おりであり：α３＝−９０°，γ３＝８１．５４８°，
ε３＝−４．８５０°、そして反射表面Ｓ４に対しては
以下のとおりであり：α４＝１２０°，γ４＝１４１．
４８２°，ε４＝−１６．７７８°。反射表面間の分断
距離Ｄ１２、Ｄ２３およびＤ３４は１：（√２）：１の
比率を有する。
【００３１】反射表面の配置の別の実施態様は図１１に
示されている。この態様の操作は既に説明した２つのそ
の他の態様の操作と同様である。図１１に示される第１
の反射表面Ｓ１は、反射光線およびそれ故に入射光軸Ａ
０の第１の鏡像Ａ１もまた映写面に沿って進み、そして
それによって入射光線と第１の反射表面Ｓ１により反射
される光線、または入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１
が平面を規定するように配置される。図１１では図１お
よび図６の場合と同様に、この平面は映写面に相当す
る。ここで、入射光軸Ａ０に沿って進む入射光線と第１
の反射表面Ｓ１に対する垂直面とでなす入射角は４５°
であり、入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１とでなす全
角α１は９０°である。
示されている。この態様の操作は既に説明した２つのそ
の他の態様の操作と同様である。図１１に示される第１
の反射表面Ｓ１は、反射光線およびそれ故に入射光軸Ａ
０の第１の鏡像Ａ１もまた映写面に沿って進み、そして
それによって入射光線と第１の反射表面Ｓ１により反射
される光線、または入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１
が平面を規定するように配置される。図１１では図１お
よび図６の場合と同様に、この平面は映写面に相当す
る。ここで、入射光軸Ａ０に沿って進む入射光線と第１
の反射表面Ｓ１に対する垂直面とでなす入射角は４５°
であり、入射光軸Ａ０とその第１の鏡像Ａ１とでなす全
角α１は９０°である。
【００３２】図１１および図１２ないし１５に関して説
明されているように、反射表面Ｓ２の典型的な該当する
角度は以下のとおりである：α２＝−９０°，γ２＝１
３８．０９３°，ε２＝４５°。反射表面Ｓ３に対する
角度は以下のとおりであり：α３＝−６７．６８°，γ
３＝６４．０８２°，ε３＝−３１．８２１°、そして
反射表面Ｓ４に対しては以下のとおりであり：α４＝９
０°，γ４＝１５４．２４１°，ε４＝−３８．２６８
°。反射表面間の分断距離Ｄ１２、Ｄ２３およびＤ３４
は１：０．７：１の比率を有する。
明されているように、反射表面Ｓ２の典型的な該当する
角度は以下のとおりである：α２＝−９０°，γ２＝１
３８．０９３°，ε２＝４５°。反射表面Ｓ３に対する
角度は以下のとおりであり：α３＝−６７．６８°，γ
３＝６４．０８２°，ε３＝−３１．８２１°、そして
反射表面Ｓ４に対しては以下のとおりであり：α４＝９
０°，γ４＝１５４．２４１°，ε４＝−３８．２６８
°。反射表面間の分断距離Ｄ１２、Ｄ２３およびＤ３４
は１：０．７：１の比率を有する。
【００３３】その他の配置は、それらが同様の様式で全
て設計され、そして同様にして作用するので、独立した
図面には示していない。しかしながら、図６に示された
実施態様には、図６における変形が特別な特徴を示す
（すなわち、再形成系のこの変形は結合された２つの同
一なハーフシステムと見なされる得る）ので、いくつか
のその他の可能性が言及されるべきである。反射表面Ｓ
３およびＳ４からなり、そして映写面に対して垂直に伸
びる分離平面Ｔの右側にあるハーフシステムである第２
のハーフシステムは反射表面Ｓ１およびＳ２からなる第
１のハーフシステムにより形成され、そこで第１のハー
フシステムは平面Ｔ上に最初に反射される。分離平面Ｔ
上に反射されたハーフシステムは次に出射光軸Ａ５の回
りを矢印ＤＷの方向に角度βだけ回転される。
て設計され、そして同様にして作用するので、独立した
図面には示していない。しかしながら、図６に示された
実施態様には、図６における変形が特別な特徴を示す
（すなわち、再形成系のこの変形は結合された２つの同
一なハーフシステムと見なされる得る）ので、いくつか
のその他の可能性が言及されるべきである。反射表面Ｓ
３およびＳ４からなり、そして映写面に対して垂直に伸
びる分離平面Ｔの右側にあるハーフシステムである第２
のハーフシステムは反射表面Ｓ１およびＳ２からなる第
１のハーフシステムにより形成され、そこで第１のハー
フシステムは平面Ｔ上に最初に反射される。分離平面Ｔ
上に反射されたハーフシステムは次に出射光軸Ａ５の回
りを矢印ＤＷの方向に角度βだけ回転される。
【００３４】下の表１に、第１のハーフシステムと第２
のハーフシステムとから形成される再形成系がまとめて
示されており、そこでは第２のハーフシステムは、分離
平面Ｔ上に第１のハーフシステムを反射させ、次いで出
射光軸Ａ５の回りに分離平面Ｔ上に反射された第１のハ
ーフシステムを回転させることにより第１のハーフシス
テムから形成される。ここで、回転は、全体の再形成系
が出射光軸から観察される場合に時計回りの方向に角度
βを回転させて生じる。図６において、再形成系はそれ
故に、右側から観察される。ハーフシステムに関する上
記観察に基づいて、角度γ１およびε１、γ２およびε
２ならびに分断距離Ｄ１２および分断距離Ｄ２３の半分
Ｄ２３／２を示すことが十分である。分離平面Ｔ上に反
射された第１のハーフシステムが時計回りの方向で、矢
印ＤＷの方向に出射光軸の回りを回転される回転角β
が、全体の再形成系を提示するために示されなければな
らない。角度１に対する負の値は、垂直面Ｌ１が方位面
の下方を進むことを示す。よりわかりやすくするため
に、表１は入射光軸Ａ０およびその第１鏡像Ａ１によ
り、そしてＡ１と鏡像Ａ２により確立された角度α１お
よびα２を提示する。表１の実施例ｂ）が図６の実施態
様に該当することは容易に理解され得る。
のハーフシステムとから形成される再形成系がまとめて
示されており、そこでは第２のハーフシステムは、分離
平面Ｔ上に第１のハーフシステムを反射させ、次いで出
射光軸Ａ５の回りに分離平面Ｔ上に反射された第１のハ
ーフシステムを回転させることにより第１のハーフシス
テムから形成される。ここで、回転は、全体の再形成系
が出射光軸から観察される場合に時計回りの方向に角度
βを回転させて生じる。図６において、再形成系はそれ
故に、右側から観察される。ハーフシステムに関する上
記観察に基づいて、角度γ１およびε１、γ２およびε
２ならびに分断距離Ｄ１２および分断距離Ｄ２３の半分
Ｄ２３／２を示すことが十分である。分離平面Ｔ上に反
射された第１のハーフシステムが時計回りの方向で、矢
印ＤＷの方向に出射光軸の回りを回転される回転角β
が、全体の再形成系を提示するために示されなければな
らない。角度１に対する負の値は、垂直面Ｌ１が方位面
の下方を進むことを示す。よりわかりやすくするため
に、表１は入射光軸Ａ０およびその第１鏡像Ａ１によ
り、そしてＡ１と鏡像Ａ２により確立された角度α１お
よびα２を提示する。表１の実施例ｂ）が図６の実施態
様に該当することは容易に理解され得る。
【表１】
【００３５】この種類の再形成系が２つのハーフシステ
ムから構成され得るという事実のために、平面Ｔで結合
される（例えばグルー）２つのガラス体により実現され
てもよい。
ムから構成され得るという事実のために、平面Ｔで結合
される（例えばグルー）２つのガラス体により実現され
てもよい。
【００３６】
【発明の効果】本発明において、２つの同一なハーフシ
ステムからなる上記光学再形成系を例えば写真印刷機に
使用する場合には、９０°だけ回転されているハーフフ
レーム原本の像は、回転が必要でないフルフレーム原本
の像と同じ紙テープの位置で再形成または露光される。
同時に、本発明に係る再形成系は最低数の反射表面を提
示し、その結果、費用は特に個々の反射表面の精密な調
整に関して最低限に抑えられる。それは、像が印画紙上
での露光のために回転される必要のないフルフォーマッ
トの原本のための再形成系と印画紙上への露光のために
９０°最初に回転させなければならない９０°だけ回転
されたハーフフレーム原本のための再形成系の両方を備
えた印刷機の提供に特に好適である。両方のオプション
は印刷機内のジョイント再形成装置に配置され得、そこ
では原本のタイプにより要求される再形成系（９０°回
転または回転なし）が露光の間の光路に自動的に設置さ
れる。全ての複写は均一な位置と幅を有するから、この
ことは切断装置への紙供給の制御のための嵩張る手段を
不要にする。このことはまた、印刷機または写真処理経
路の効率を高める。本発明がその精神または本質的な特
徴を逸脱せずにその他の特定の形態に具体化され得るこ
とは当業者には理解され得るであろう。それ故に、本明
細書に開示された実施態様は全て説明のためのものと考
慮され、制限のためのものではない。本発明の範囲はこ
れまでの記載よりはむしろ上記の特許請求の範囲により
明示され、そしてその同等物の意味や範囲内にある全て
の変更は本発明内に包含されるものと理解されたい。
ステムからなる上記光学再形成系を例えば写真印刷機に
使用する場合には、９０°だけ回転されているハーフフ
レーム原本の像は、回転が必要でないフルフレーム原本
の像と同じ紙テープの位置で再形成または露光される。
同時に、本発明に係る再形成系は最低数の反射表面を提
示し、その結果、費用は特に個々の反射表面の精密な調
整に関して最低限に抑えられる。それは、像が印画紙上
での露光のために回転される必要のないフルフォーマッ
トの原本のための再形成系と印画紙上への露光のために
９０°最初に回転させなければならない９０°だけ回転
されたハーフフレーム原本のための再形成系の両方を備
えた印刷機の提供に特に好適である。両方のオプション
は印刷機内のジョイント再形成装置に配置され得、そこ
では原本のタイプにより要求される再形成系（９０°回
転または回転なし）が露光の間の光路に自動的に設置さ
れる。全ての複写は均一な位置と幅を有するから、この
ことは切断装置への紙供給の制御のための嵩張る手段を
不要にする。このことはまた、印刷機または写真処理経
路の効率を高める。本発明がその精神または本質的な特
徴を逸脱せずにその他の特定の形態に具体化され得るこ
とは当業者には理解され得るであろう。それ故に、本明
細書に開示された実施態様は全て説明のためのものと考
慮され、制限のためのものではない。本発明の範囲はこ
れまでの記載よりはむしろ上記の特許請求の範囲により
明示され、そしてその同等物の意味や範囲内にある全て
の変更は本発明内に包含されるものと理解されたい。
【図１】本発明に係る再形成系の反射表面の配置の第１
の実施態様を示す。
の実施態様を示す。
【図２】図１に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第１の反射表面に対する第１の垂直面の位置を示す。
第１の反射表面に対する第１の垂直面の位置を示す。
【図３】図１に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第２の反射表面に対する第２の垂直面の位置を示す。
第２の反射表面に対する第２の垂直面の位置を示す。
【図４】図１に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第３の反射表面に対する第３の垂直面の位置を示す。
第３の反射表面に対する第３の垂直面の位置を示す。
【図５】図１に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第４の反射表面に対する第４の垂直面の位置を示す。
第４の反射表面に対する第４の垂直面の位置を示す。
【図６】本発明に係る再形成系の反射表面の配置の第２
の実施態様を示す。
の実施態様を示す。
【図７】図６に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第１の反射表面に対する第１の垂直面の位置を示す。
第１の反射表面に対する第１の垂直面の位置を示す。
【図８】図６に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第２の反射表面に対する第２の垂直面の位置を示す。
第２の反射表面に対する第２の垂直面の位置を示す。
【図９】図６に示す再形成系の反射表面の配置のうちの
第３の反射表面に対する第３の垂直面の位置を示す。
第３の反射表面に対する第３の垂直面の位置を示す。
【図１０】図６に示す再形成系の反射表面の配置のうち
の第４の反射表面に対する第４の垂直面の位置を示す。
の第４の反射表面に対する第４の垂直面の位置を示す。
【図１１】本発明に係る再形成系の反射表面の配置の第
３の実施態様を示す。
３の実施態様を示す。
【図１２】図１１に示す再形成系の反射表面の配置のう
ちの第１の反射表面に対する第１の垂直面の位置を示
す。
ちの第１の反射表面に対する第１の垂直面の位置を示
す。
【図１３】図１１に示す再形成系の反射表面の配置のう
ちの第２の反射表面に対する第２の垂直面の位置を示
す。
ちの第２の反射表面に対する第２の垂直面の位置を示
す。
【図１４】図１１に示す再形成系の反射表面の配置のう
ちの第３の反射表面に対する第３の垂直面の位置を示
す。
ちの第３の反射表面に対する第３の垂直面の位置を示
す。
【図１５】図１１に示す再形成系の反射表面の配置のう
ちの第４の反射表面に対する第４の垂直面の位置を示
す。
ちの第４の反射表面に対する第４の垂直面の位置を示
す。
Ａ０ 入射光軸 Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４ 鏡像 Ａ５ 出射光軸 Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４ 反射表面 Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４ 反射表面に対する垂直面 α１，α２，α３，α４ 全角 Ｄ１２，Ｄ２３，Ｄ３４ 分断距離 Ｏ レンズ
Claims (19)
- 【請求項１】 再形成されるべき物体に対して９０°回
転される物体の像を物体面に対して平行な像平面上に形
成するための偶数の４つのみの反射表面からなり、該反
射表面は単一直線上にある入射光軸と別の出射光軸とを
有する光路を作る、光学再形成系。 - 【請求項２】 前記反射表面が、 入射光軸の第１の鏡像を形成し、そしてこの入射光軸の
第１の鏡像が入射光軸と一緒になって第１の平面を規定
する、光路内の第１の反射表面、 光路内の第１の反射表面に続き、そして第１の平面を離
れるように入射光軸の第２の鏡像を形成し、その結果、
入射光軸の第１および第２の鏡像は第１の平面とは異な
る第２の平面を規定する、第２の反射表面、 光路内の第２の反射表面に続き、そして第２の平面を離
れ、そして前記単一直線と交差する入射光軸の第３の鏡
像を形成する、第３の反射表面、および光路内の第３の
反射表面に続き、入射光軸の第４の鏡像を形成するが、
該第４の鏡像は出射光軸上に形成される、第４の反射表
面、を含む請求項１記載の光学再形成系。 - 【請求項３】 入射光軸が第１の反射表面に対する垂直
面に対して４５°ないし６０°の入射角度を規定し、第
２の反射表面に対する垂直面が第１の平面に対して４５
°ないし１２０°の方位角および方位面に対して４０°
ないし７０°の仰角を有し、第３の反射表面に対する垂
直面が第１の平面に対して６０°ないし８５°の方位角
および方位面に対して−１０°ないし４５°の仰角を有
し、そして第４の反射表面に対する垂直面が第１の平面
に対して１２０°ないし１６０°の方位角および方位面
に対して−１５°ないし−４５°の仰角を有する請求項
２記載の光学再形成系。 - 【請求項４】 入射光軸が第１の反射表面に対する垂直
面に対して６０°の入射角度を規定し、第２の反射表面
に対する垂直面が第１の平面に対して１０９．７３４°
の方位角および方位面に対して６４．２９６°の仰角を
有し、第３の反射表面に対する垂直面が第１の平面に対
して７０．５２９°の方位角および方位面に対して１
６．７７９°の仰角を有し、そして第４の反射表面に対
する垂直面が第１の平面に対して１５０°の方位角およ
び方位面に対して−３５．２６０°の仰角を有する請求
項３記載の光学再形成系。 - 【請求項５】 第１の反射表面から第２の反射表面への
光路の長さ：第２の反射表面から第３の反射表面への光
路の長さ：第３の反射表面から第４の反射表面への光路
の長さの比率が（√２）：１：１である請求項４記載の
光学再形成系。 - 【請求項６】 第１のハーフシステムと該第１のハーフ
システムと同一な第２のハーフシステムとが、その各々
が２つの反射表面を有して備えられ、第１のハーフシス
テムは光路に対して垂直である分離平面上に反射され、
そしてその反射された第１のハーフシステムは次に出射
光軸の回りに設定角度を回転される、第１のハーフシス
テムの配置から誘導される配置で前記第２のハーフシス
テムは設置される請求項１記載の光学再形成系。 - 【請求項７】 入射光軸が第１の反射表面に対する垂直
面に対して６０°の入射角度を規定し、第２の反射表面
に対する垂直面が第１の平面に対して１０９．７３４°
の方位角および方位面に対して６４．２９６°の仰角を
有し、第３の反射表面に対する垂直面が第１の平面に対
して８１．５４８°の方位角および方位面に対して−
４．８５０°の仰角を有し、そして第４の反射表面に対
する垂直面が第１の平面に対して１２１．４８２°の方
位角および方位面に対して−１６．７７８°の仰角を有
する請求項６記載の光学再形成系。 - 【請求項８】 入射光軸が第１の反射表面に対する垂直
面に対して６０°の入射角度を規定し、第２の反射表面
に対する垂直面が第１の平面に対して１０９．７３４°
の方位角および方位面に対して６４．２９６°の仰角を
有し、第３の反射表面に対する垂直面が第１の平面に対
して８１．５４８°の方位角および方位面に対して−
４．８５０°の仰角を有し、そして第４の反射表面に対
する垂直面が第１の平面に対して１２１．４８２°の方
位角および方位面に対して−１６．７７８°の仰角を有
する請求項３記載の光学再形成系。 - 【請求項９】 第１の反射表面から第２の反射表面への
光路の長さ：第２の反射表面から第３の反射表面への光
路の長さ：第３の反射表面から第４の反射表面への光路
の長さの比率は１：（√２）：１である請求項７記載の
光学再形成系。 - 【請求項１０】 第１の反射表面から第２の反射表面へ
の光路の長さ：第２の反射表面から第３の反射表面への
光路の長さ：第３の反射表面から第４の反射表面への光
路の長さの比率が１：（√２）：１である請求項８記載
の光学再形成系。 - 【請求項１１】 入射光軸が第１の反射表面に対する垂
直面に対して４５°の入射角度を規定し、第２の反射表
面に対する垂直面が第１の平面に対して１３８．０９３
°の方位角および方位面に対して４５°の仰角を有し、
第３の反射表面に対する垂直面が第１の平面に対して６
４．０８２°の方位角および方位面に対して３１．８２
１°の仰角を有し、そして第４の反射表面に対する垂直
面が第１の平面に対して１５４．２４１°の方位角およ
び方位面に対して−３８．２６８°の仰角を有する請求
項３記載の光学再形成系。 - 【請求項１２】 第１の反射表面から第２の反射表面へ
の光路の長さ：第２の反射表面から第３の反射表面への
光路の長さ：第３の反射表面から第４の反射表面への光
路の長さの比率が１：０．７：１．１４２である請求項
１１記載の光学再形成系。 - 【請求項１３】 光路のｌと定義される標準化された長
さが約４０ｍｍである請求項５記載の光学再形成系。 - 【請求項１４】 光路のｌと定義される標準化された長
さが約４０ｍｍである請求項９記載の光学再形成系。 - 【請求項１５】 光路のｌと定義される標準化された長
さが約４０ｍｍである請求項１０記載の光学再形成系。 - 【請求項１６】 光路のｌと定義される標準化された長
さが約４０ｍｍである請求項１３記載の光学再形成系。 - 【請求項１７】 前記反射表面の各々が全反射表面であ
る請求項１記載の光学再形成系。 - 【請求項１８】 前記反射表面の各々が約１．７の屈折
率を有するガラスで形成された金属被覆ガラス表面であ
る請求項１７記載の光学再形成系。 - 【請求項１９】 色彩欠陥または幾何学的種類の光学的
欠陥を補償するためのレンズであって、前記光路に対し
て第１の反射表面の前方または第４の反射表面の後方に
設置されている前記レンズをさらに含む請求項２記載の
光学再形成系。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE92810683.0 | 1992-09-07 | ||
| EP92810683A EP0586769B1 (de) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | Optisches Abbildungssystem |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06194594A true JPH06194594A (ja) | 1994-07-15 |
Family
ID=8211980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5246295A Pending JPH06194594A (ja) | 1992-09-07 | 1993-09-07 | 光学再形成系 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5993016A (ja) |
| EP (1) | EP0586769B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06194594A (ja) |
| CA (1) | CA2105531A1 (ja) |
| DE (1) | DE59208403D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001091834A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-04-06 | Olympus Optical Co Ltd | 偏心光学系 |
| US20050207006A1 (en) * | 2004-03-22 | 2005-09-22 | Molina Marc D | Orientation piece |
| US7306343B2 (en) * | 2005-04-22 | 2007-12-11 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Image rotator |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1552449A (en) * | 1922-02-18 | 1925-09-08 | Harry F Roach | Photographic apparatus |
| US3790256A (en) * | 1971-12-13 | 1974-02-05 | Singer Co | Roll and focus apparatus |
| US3971066A (en) * | 1973-03-01 | 1976-07-20 | Nippon Educational Television Company, Ltd. | Special effect generation system in an image pickup system |
| JPS5419299B2 (ja) * | 1974-06-01 | 1979-07-13 | ||
| FR2335828A1 (fr) * | 1975-12-18 | 1977-07-15 | Essilor Int | Niveau automatique |
| US4103991A (en) * | 1976-12-03 | 1978-08-01 | Xerox Corporation | Optical system for scanning during reciprocal motion providing 180°r |
| US4252410A (en) * | 1978-10-19 | 1981-02-24 | Hewlett-Packard Company | Polarization rotation method and apparatus |
| JPS57204535A (en) * | 1981-06-11 | 1982-12-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic printing device |
| EP0142959A1 (en) * | 1983-11-10 | 1985-05-29 | Solis/Color S.A. | Method for obtaining a photographic composition of two identical images in orthogonal arrangement and device for carrying out this procedure |
| US4545655A (en) * | 1984-04-02 | 1985-10-08 | Polaroid Corporation | Optical viewing system |
| US4592649A (en) * | 1984-04-04 | 1986-06-03 | Agfa-Gevaert Ag | Photographic roller copying apparatus |
| US4588269A (en) * | 1984-07-05 | 1986-05-13 | Eastman Kodak Company | Apparatus which shapes gaussian beams by spherical mirrors |
| US4743103A (en) * | 1986-05-29 | 1988-05-10 | Eastman Kodak Company | Lenses for photographic printers |
| US4729071A (en) * | 1986-11-03 | 1988-03-01 | Altman Stage Lighting Co. | Low-inertial beam direction lighting system |
| DE68917158T2 (de) * | 1988-01-07 | 1995-03-30 | Nec Corp | Vorrichtung zur Drehung eines Lichtbildes und optisches System zur Lichtstrahlbündelung auf einem Aufzeichnungsmittel. |
| JPH07104543B2 (ja) * | 1988-03-15 | 1995-11-13 | 株式会社ニコン | ケプラー式ファインダー光学系 |
| US4929040A (en) * | 1988-09-01 | 1990-05-29 | Santa Barbara Research Center | Five mirror, two perpendicular plane image derotator |
| SE467941B (sv) * | 1989-08-22 | 1992-10-05 | Rolf Stroemberg | Saett att arrangera straalgaang i ett optiskt instrument |
| US5296972A (en) * | 1992-07-31 | 1994-03-22 | Litton Systems, Inc. | Non-polarizing image rotation apparatus and method |
-
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- 1992-09-07 EP EP92810683A patent/EP0586769B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-07 DE DE59208403T patent/DE59208403D1/de not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-09-03 CA CA002105531A patent/CA2105531A1/en not_active Abandoned
- 1993-09-07 JP JP5246295A patent/JPH06194594A/ja active Pending
-
1997
- 1997-09-09 US US08/925,402 patent/US5993016A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59208403D1 (de) | 1997-05-28 |
| CA2105531A1 (en) | 1994-03-08 |
| US5993016A (en) | 1999-11-30 |
| EP0586769B1 (de) | 1997-04-23 |
| EP0586769A1 (de) | 1994-03-16 |
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