JP2604513B2 - テレセントリック走査光学系 - Google Patents

テレセントリック走査光学系

Info

Publication number
JP2604513B2
JP2604513B2 JP35325091A JP35325091A JP2604513B2 JP 2604513 B2 JP2604513 B2 JP 2604513B2 JP 35325091 A JP35325091 A JP 35325091A JP 35325091 A JP35325091 A JP 35325091A JP 2604513 B2 JP2604513 B2 JP 2604513B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
optical system
scanning
scanned
imaging optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP35325091A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05164985A (ja
Inventor
信一 永田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP35325091A priority Critical patent/JP2604513B2/ja
Publication of JPH05164985A publication Critical patent/JPH05164985A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2604513B2 publication Critical patent/JP2604513B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22Telecentric objectives or lens systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/125Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Lenses (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザービームプリ
ンターや平面走査型の製版装置、あるいはフォトプロッ
ター等に用いられる走査光学系であって、特に面倒れ補
正機能を有し、しかもテレセントリック性を備えたテレ
セントリック走査光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の走査光学系においてはテレセント
リック系でない通常のfθレンズが採用されていたため
に、走査スポットの位置誤差(主走査方向)が生じやす
く、高精度の描画を行うことができないという問題があ
った。
【0003】そこで、この問題を解決するために、テレ
セントリックなfθレンズがいくつか提案されている。
その一例としては、例えば特開昭59−195211号
公報(文献1)、特開昭62−299927号公報(文
献2)や特開平2−83511号公報(文献3)に記載
されたものがあり、各公報に記載されたfθレンズの主
な特徴は以下の通りである。
【0004】(1) 文献1に記載されたレンズは、画角4
7°、Fナンバー30である。また、フィールドレンズ
以外のレンズの口径は最大φ193となり、走査長の3
3%となっている。
【0005】(2) 文献2に開示されているテレセントリ
ックfθレンズは、画角44°、Fナンバー33.7で
あり、フィールドレンズ以外のレンズの口径は最大φ1
80(走査長の35%)である。
【0006】(3) 文献3に記載されたテレセントリック
fθレンズは、Fナンバーは20、画角50°であり、
フィールドレンズ以外のレンズの口径は走査長の55%
である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レーザービ
ームプリンタ等の装置によって微細パターンを高精度に
描くためには、単に走査光学系にテレセントリック性を
持たせて走査位置誤差を小さくするだけではなく、さら
に被走査面上でのスポットサイズを小さくする必要があ
る。そのためには、走査光学系のFナンバーを小さくし
なければならない。また、装置のコンパクト化を図るた
めに、広い画角を有する走査光学系が望まれる。さら
に、装置コストを低く抑えるために、走査光学系を構成
するレンズ枚数を少なくするとともに、それらのレンズ
径を小さくする、つまり走査長に対するレンズの最大口
径の割合を小さくする必要がある。
【0008】しかしながら、上記引例に記載されたテレ
セントリックfθレンズでは、上記必要条件のすべてを
満足するに至っていない。例えば、Fナンバー,画角の
面から見れば、文献3に記載されたfθレンズは優れて
いるが、レンズ口径が大きく、走査長に対する割合が大
きいという問題がある。
【0009】なお、偏向器としてポリゴンミラーを用い
た場合には、高精度の描画を行うためには、上記条件に
加え、ポリゴンミラーの面倒れを補正する必要がある。
【0010】この発明は、上記課題を解消するためにな
されたもので、上記必要条件のすべてを満足する、すな
わち偏向器の面倒れを補正でき、Fナンバーが小さく、
画角が広く、レンズ構成枚数が少なく、しかも走査長に
対するレンズの最大口径の割合が小さなテレセントリッ
ク走査光学系を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、光源
からの光ビームを第1結像光学系によって副走査方向に
のみ集光させて線像を形成し、その線像上または近傍に
偏向面を有する偏向器によって前記光ビームを偏向し、
偏向された光ビームを第2結像光学系を介して被走査面
上に照射することにより、前記副走査方向に対しほぼ直
交する主走査方向に前記被走査面を走査する走査光学系
であって、上記目的を達成するために、前記第2結像光
学系は、前記偏向器側から前記被走査面側へ、前側レン
ズ群及び後側レンズ群をこの順序で配列してなり、前記
前側レンズ群が、前記偏向器側に凹面を向けて配置され
たメニスカスレンズと、アッベ数が相互に異なる硝材に
よって形成された1組のレンズが接合され、前記偏向器
側に凹面を向けて配置されたメニスカス形状の接合レン
ズとで構成されるとともに、前記後側レンズ群が、前記
前側レンズ群の射出瞳とその前側焦点がほぼ一致して配
置された凸レンズと、前記凸レンズと前記被走査面との
間に配置されたシリンドリカルレンズとで構成されてい
る。
【0012】請求項2の発明は、請求項1の発明にかか
るテレセントリック走査光学系が、以下の不等式
【0013】
【数1】 10 < νd222−νd221 < 70
【0014】
【数2】 0.7 < d′22/f2 < 1.5
【0015】
【数3】 1.0 < f23/f2 < 2.4
【0016】
【数4】 0.02 < fx24/f2 < 0.3
【0017】ただし、f2 は第2結像光学系全体の主走
査方向における焦点距離であり、νd221は接合レンズを
構成する1組のレンズのうち偏向器側のレンズを形成す
る硝材のアッベ数であり、νd222は接合レンズを構成す
る1組のレンズのうち被走査面側のレンズを形成する硝
材のアッベ数であり、d′22は接合レンズと凸レンズの
間隔であり、f23は凸レンズの焦点距離であり、fx24
はシリンドリカルレンズの焦点距離である、を満足する
ように構成している。
【0018】請求項3の発明は、請求項2の発明にかか
るテレセントリック走査光学系が、さらに以下の不等式
【0019】
【数5】 0.4 < f21/f2 < 1.0
【0020】
【数6】 1.0 < r′21/r22 < 2.2
【0021】
【数7】 0.6 < r22/(r′22+d22) < 2.0
【0022】ただし、f21はメニスカスレンズの焦点距
離であり、r′21はメニスカスレンズの被走査面側の曲
率半径であり、r22は接合レンズの偏向器側の曲率半径
であり、r′22は接合レンズの被走査面側の曲率半径で
あり、d22は接合レンズの全厚である、を満足するよう
に構成している。
【0023】
【作用】請求項1の発明では、後側レンズ群においてシ
リンドリカルレンズが被走査面側に配置されている、つ
まり最も被走査面に近い位置に配置されている。そのた
め、主走査方向を含む走査面と直交する面内において、
偏向面と被走査面の横倍率が小さくなり、その結果面倒
れが補正される。その理由について、以下に説明する。
【0024】偏向器にポリゴンミラーを用いる走査光学
系においては、ポリゴンミラーの面倒れの補正が必要で
ある。この面倒れを光学的に補正するには、走査面と直
交する面内において、偏向面と被走査面を共役にする方
法が従来より知られている。しかしながら、ポリゴンミ
ラーを用いて光ビームを偏向すると、ポリゴンミラーの
回転に伴って、反射点の位置が移動する。特に大型のポ
リゴンミラーを用いた場合、例えばその移動量は2mm
前後にもなり、厳密に偏向面と被走査面とを共役な関係
に保ち続けることは困難である。ところが、その横倍率
をできるだけ小さくすれば、偏向器側の焦点深度が深く
なり、偏向点移動に起因する面倒れ補正率の低下を軽減
できる。そこで、この発明では、上記のように、第2結
像光学系のシリンドリカル面を被走査面の近傍に配置す
ることによって、走査面と直交する面内での主点を被走
査面に近付け、横倍率を小さくしている。
【0025】ところで、走査面内でこのシリンドリカル
レンズに光線が斜入射すると、シリンドリカルレンズの
焦点距離が実効的に短くなり、サジッタル像面湾曲が生
じるという問題がある。そこで、シリンドリカルレンズ
の偏向器側に、フィールドレンズとして機能する凸レン
ズが配置されている。しかも、その前側焦点を前側レン
ズ群の射出瞳に合致させることによって、前側レンズ群
とこの凸レンズからなる光学系をテレセントリック系と
し、シリンドリカルレンズに入射する光線が傾かないよ
うにしている。
【0026】また、このような構成にあっては、サジッ
タル像面はほぼフラットになるから、前側レンズ群と後
側レンズ群の凸レンズとからなる光学系には非点収差が
残存していてもかまわない。最も大切な能力は、メリデ
ィオナル像面湾曲を低減させることと、歪曲特性をfθ
特性に近づけることである。メリディオナル像面湾曲を
低減するのに、第2結像光学系に走査面内で若干の発散
光や、収束光を入射するのは有効である。偏向器によっ
て発散光束が偏向されるとき、その像面はプラスに湾曲
し、収束光束が偏向されるとマイナスに湾曲するから、
第2結像光学系に残存するメリディオナル像面湾曲を打
ち消すことができる。
【0027】請求項2の発明では、数1ないし数4の不
等式が満足されているので、好適なテレセントリック走
査光学系が得られる。すなわち、数1は色収差を適正に
補正する条件を示すものであり、数1の下限値を下回る
と、接合レンズの色収差が補正不足になり、逆に上限値
を上回ると補正過剰になる。
【0028】数2の条件は、テレセントリック性を保つ
のに必要な条件である。この数2の下限値を下回ると、
接合レンズと凸レンズとが近づきすぎて主光線が発散気
味になり、テレセントリック性が損なわれる。一方、上
限値を上回ると主光線が収束気味になり、やはりテレセ
ントリック性が損なわれる。
【0029】数3の条件は、凸レンズの焦点距離を規定
するものである。凸レンズはフィールドレンズとして機
能し、第2結像光学系をテレセントリックにするもので
ある。したがって、数3の下限値を下回ると、凸レンズ
のパワーが強くなりすぎ、主光線は収束気味となり、テ
レセントリック性が損なわれる。一方、上限値を上回る
と、凸レンズのパワーは弱くなりすぎ、主光線は発散気
味となり、やはりテレセントリック性が損なわれる。
【0030】数4は、シリンドリカルレンズのパワーを
規定するものである。シリンドリカルレンズは、フィー
ルドレンズ(凸レンズ)と被走査面の間に配置されるこ
とから、おのずとシリンドリカルレンズの取り得るパワ
ーの範囲も規定される。数4の下限値を下回ると、シリ
ンドリカルレンズと被走査面の距離を充分にとることが
できなくなる。一方、上限値を上回ると、偏向面と被走
査面を、走査面と直交する面内で共役にすることができ
なくなる。
【0031】請求項3の発明では、上記不等式に加え、
さらに数5ないし数7の不等式が満足されているので、
より好適なテレセントリック走査光学系が得られる。す
なわち、数5の条件はメニスカスレンズの焦点距離を規
定する条件である。数5の下限値を下回ると、メニスカ
スレンズの焦点距離が短くなりすぎ、球面収差が補正不
足になる。逆に、上限値を上回ると、球面収差が補正過
剰になる。
【0032】数6は、メニスカスレンズと接合レンズの
間の空気レンズのパワーを規定するものである。数6の
下限値を下回ると、空気レンズの働きが弱くなり、メリ
ディオナル像面湾曲が補正不足になる。上限値を上回る
と補正過剰になる。
【0033】数7の条件は、接合レンズのコンセントリ
ック性を規定するものである。この数7の下限値を下回
るとメリディオナル像面湾曲が補正過剰になり、逆に上
限値を上回ると補正不足になる。
【0034】
【実施例】
A.走査光学系 この発明にかかる走査光学系の説明に先立って、座標系
を以下のように定義する。すなわち、偏向器たるポリゴ
ンミラーの回転軸と平行な軸をx軸とし、各場所での光
軸方向をz軸に、またx軸及びz軸に対し直交する軸を
y軸として定義する。また、光軸中心でのyz平面内の
曲率半径を半径ry とし、xz平面内のそれを半径rx
とする。
【0035】A−1.第1実施例 図1はこの発明にかかるテレセントリック走査光学系の
第1実施例を示す平面図である。また、図2及び図3は
図1の部分拡大図である。この走査光学系では、中心波
長が780nmのレーザービームを放射する半導体レー
ザー1を備えており、この半導体レーザー1からのレー
ザービームが第1結像光学系2を介して回転軸3bまわ
りに回転するポリゴンミラー3の反射ミラー面3aに入
射される。また、ポリゴンミラー3と被走査面5との間
に第2結像光学系4が設けられ、ポリゴンミラー3によ
って偏向されたされたレーザービームが被走査面5に導
かれるように構成されている。
【0036】図2及び図3に示すように、第1結像光学
系2では、半導体レーザー1側からポリゴンミラー3側
へy方向に母線を持つシリンドリカルレンズG11と接
合レンズG12とがこの順で配置されている。これらの
レンズG11,G12のうち、シリンドリカルレンズG
11は方向x(xz平面内)にのみ屈折力を有してい
る。一方、接合レンズG12は、2枚のレンズ121,
122を相互に貼り合わせたものである。このように構
成された第1結像光学系2を通過したレーザービーム
は、yz平面でわずかに収束するほぼ平行な光束とな
り、xz平面でポリゴンミラー3の反射ミラー面3aに
おいて集光するように整形される。なお、これらの図へ
の図示は省略されているが、接合レンズG12の直前に
x方向の幅0.332mm、y方向の幅24.178m
mのアパーチャーが配置されており、レーザービームは
半導体レーザー1からの取り込みNAに換算して、 y方向のNA=0.1 x方向のNA=0.08 に規定される。
【0037】ポリゴンミラー3は6面のものであり、対
向面間距離は110mmである。また、ポリゴンミラー
3は、第1及び第2結像光学系2,4と以下の関係にな
るように配置されている。図4はその配置関係を示す図
である。同図に示すように、第1結像光学系2の光軸O
P1と第2結像光学系4の光軸OP2とは接合レンズG
12からz方向に50mmだけ離れた点P1 において8
0゜で交差している。そして、点P1からz方向に対し
40°傾いた方向uに55mmだけ離れた点P2 を考
え、さらにその点P2 から、方向uに対して垂直な方向
qに4.357mmだけ離れた点にポリゴンミラー3の
回転軸3bが配置されている。このようにポリゴンミラ
ー3を配置することによって、ポリゴンミラー3の反射
ミラー面3aの有効径が最小となり、ポリゴンミラー3
の小型化を図ることができる。なお、この実施例では、
ポリゴンミラー3の回転角27.5゜に対して有効走査
が行われる。つまり、第2結像光学系4の有効画角は5
5゜であり、有効走査率は45.8%である。
【0038】上記のように、第1結像光学系2の光軸O
P1と第2結像光学系4の光軸OP2とは、80゜をな
している。ここで、交差角度を80°に設定したのは以
下の理由からである。すなわち、この交差角度が90゜
以上になると、第2結像光学系4を構成するレンズのう
ち最もポリゴンミラー3よりに位置するレンズ(後で説
明するレンズG21)がポリゴンミラー3に近接しす
ぎ、その結果ポリゴンミラー3とレンズG21とが干渉
する。逆に、交差角度が70゜以下になると、上記レン
ズG21が第1結像光学系2からのレーザービームを妨
害してしまう。したがって、上記のような配置(図4)
をとることによって、レンズG21をポリゴンミラー3
に極力近付けることができ、第2結像光学系4の前側レ
ンズ群FLのサイズを小さくすることができる。
【0039】また、図4に示すように、第2結像光学系
4の光軸OP2は、ポリゴンミラー3が第1結像光学系
2からのレーザービームをちょうど80°偏向したとき
のレーザービームの中心から、1.722mmだけ偏心
している。このように第2結像光学系4を配置すること
によって、走査両端でのレーザービームは第2結像光学
系4の光軸OP2から等距離を通過することとなり、第
2結像光学系4を構成するレンズのレンズ径を最小にす
ることができる。
【0040】第2結像光学系4は、図1に示すように、
ポリゴンミラー3側から被走査面5側にこの順序で配置
された前側レンズ群FLと後側レンズ群RLとで構成さ
れている。前側レンズ群FLは、凹面をポリゴンミラー
3側に向けたメニスカス凸レンズG21と、同じく凹面
をポリゴンミラー3側に向けたメニスカス形状の接合レ
ンズG22からなる。この実施例では、メニスカス凸レ
ンズG21のy方向の長さは62mmであり、x方向の
高さは30mmである。また、接合レンズG22のy方
向の長さは82mmであり、x方向の高さは30mmで
ある。そして本実施例においては、有効走査長を500
mmに設定しているので、接合レンズG22のy方向の
径は走査長に対して16.4%しかなく、この第2結像
光学系4の前側レンズ群FLは従来の走査光学系に比べ
てコンパクトである。なお、接合レンズG22は、アッ
ベ数νd221が25.4のレンズ221とアッベ数νd222
が44.2のレンズ222とを貼り合わせて形成してい
る。
【0041】一方、後側レンズ群RLは、凸面を被走査
面5側に向けた平凸レンズG23と、凸面を平凸レンズ
G23側に向けた平凸シリンドリカルレンズG24から
なる。両レンズG23,G24のy方向の長さは有効走
査長(=500mm)と等しい。
【0042】表1は、上記のように構成された走査光学
系のレンズデータを示すものである。
【0043】
【表1】
【0044】なお、第2結像光学系4全体の走査面(y
z面)内での焦点距離f2 は569.9mmであり、メ
ニスカス凸レンズG21の焦点距離f21は446mmで
ある。また、平凸レンズG23の焦点距離f23は87
4.1mmであり、レンズG23の前側焦点は前側レン
ズ群FLの射出瞳にほぼ一致しているので、全系として
はテレセントリックな光学系となっている。さらに、シ
リンドリカルレンズG24のxz面内の焦点距離fx24
は67.5mmである。
【0045】したがって、上記データから νd222−νd221 = 18.8 d′22/f2 = 0.88 f23/f2 = 1.5 fx24 /f2 = 0.12 f21/f2 = 0.78 r′21/r22 = 1.6 r22/(r′22+d22) = 1.1 が求まる。これらからわかるように、第1実施例にかか
る走査光学系は数1ないし数7を満足している。
【0046】このように構成された第2結像光学系4に
よって、ポリゴンミラー3からのレーザービームはxz
面内においても,yz面内においてもNA0.022で
集光する。これはFナンバー換算で23になり、被走査
面5上に1/e2 強度直径が28μmのスポットを形成
することが可能となる。なお、「1/e2 強度直径」と
は、レーザービームの中心強度を1としたときに、その
レーザービームの強度が1/e2 (=0.135)となる直径
を示すものである。
【0047】第2結像光学系4は、xz面内でポリゴン
ミラー3のミラー面3aと被走査面5を共役にしている
ため、スポットの被走査面5におけるx方向の位置は、
ポリゴンミラー3の面倒れの影響を受けにくい。例え
ば、ポリゴンミラー3に面倒れが30秒あったときにつ
いて考えてみる。図5は、そのときのビームスポットの
被走査面5におけるx方向の位置を示したものであり、
「x=0」は面倒れが0秒の時における光軸上のビーム
スポット位置である。これに見られるように、スポット
のx方向の位置変動は、±1μm内である。なお、完全
に補正しきれないのは主としてサジッタル像面湾曲の影
響である。
【0048】また、第2結像光学系4は、走査面である
yz面内においてはfθ特性を有する。図6は走査速度
の変化を示したもので、有効走査長内で±1%内の変化
に収まっている。
【0049】図7ないし図9はそれぞれ像高0mm、像
高175mm、像高250mmでの横収差を示してい
る。図7(a) 、図8(a) 及び図9(a) は主走査方向yの
横収差を、また図7(b) 、図8(b) 及び図9(b) は副走
査方向xの横収差を示している。これらの図7ないし図
9において、点線,実線及び1点鎖線はそれぞれ波長7
75nm,780nm及び785nmのときの横収差を
示している。なお、後で説明する図14ないし図16に
ついても同様である。これらの図から明らかなように、
波長変動±5nmに対しても倍率の色収差は僅少であ
り、半導体レーザー1のモードホップに対しても充分に
対応できる。しかも、画角55°の範囲内であってもR
MS波面収差は0.055λ以内であり、通常0.07
λ以内であれば無収差と見なされていることを鑑みれ
ば、この実施例にかかる走査光学系は無収差と見なすこ
とができる。
【0050】また、本実施例は上記のような構成をと
り、テレセントリックな走査ができるから、被走査面5
に光軸方向zの位置誤差があったとしても、y方向に走
査位置誤差が生じることなく、高精度の走査を行うこと
ができる。
【0051】A−2.第2実施例 図10はこの発明にかかる走査光学系の第2実施例を示
す斜視図であり、図11は、その平面図である。この走
査光学系では、半導体レーザー1からのレーザービーム
(中心波長は780nmである)が第1及び第2レンズ
G11,G12からなる第1結像光学系2を介して偏向
器たるポリゴンミラー3に入射される。なお、図10及
び図11への図示は省略されているが、この第2実施例
では半導体レーザー1からz方向に5mmの位置に、x
方向の幅が0.437mmで、またy方向の幅が1.3
11mmのアパチャーが配置されている。その結果、第
1結像光学系2の第1レンズG11に取り込まれるレー
ザービームは、以下のように規定される。
【0052】y方向のNA=0.13 x方向のNA=0.043 この第1レンズG11はy方向に母線を持つシリンドリ
カルレンズであり、ポリゴンミラー3側を向いた面は
【0053】
【数8】
【0054】ただし、係数K,Aはそれぞれ K=−0.868 A=0 であり、
【0055】
【数9】 C=1/r
【0056】である、で表される形状に仕上げられた非
円筒面である。
【0057】一方、第2レンズG12はx方向に母線を
もった平凸シリンドリカルレンズである。半導体レーザ
ー1側の面は平面であり、逆の面(ポリゴンミラー3側
を向いた面)は数9で表される形状に仕上げられた非円
筒面である。
【0058】
【数10】
【0059】ただし、係数K,Aはそれぞれ K=−0.541 A=0.44*E−7 であり、また
【0060】
【数11】 C=1/r
【0061】である。
【0062】これら2つのレンズG11,G12によっ
て第1結像光学系2が構成され、半導体レーザー1から
のレーザービームは、yz平面内においてわずかに発散
するほぼ平行な光束となり、またxz平面内においては
ポリゴンミラー3の反射ミラー面3aに集光するように
整形される。
【0063】ポリゴンミラー3の形状と配置、第2結像
光学系4の配置される方向は、第1実施例と同じであ
る。さらに、第2結像光学系4の構成も、前側レンズ群
FLと後側レンズ群RLの間に長尺の2枚のミラーM1
,M2 が傾角10゜で配置されている点を除いて、第
1実施例に類似している。この第2実施例のように、ミ
ラーM1 ,M2 を追加することによって、図10に示す
ように、走査光学系全体をより小さな空間に納めること
ができる。
【0064】表2は、上記のように構成された走査光学
系のレンズデータを示す表である。
【0065】
【表2】
【0066】なお、第2結像光学系2の走査面(yz平
面)内での焦点距離f2 は519.6mmで、画角は5
5°である。レンズG21の焦点距離f21は321.8
mmである。また、接合レンズG22はアッベ数νd221
が25.7のレンズ221と、アッベ数νd222が49.
6のレンズ222とを接合して形成されている。前側レ
ンズ群FLと後側レンズ群RLとの間の光路長は52
6.227mmである。後側レンズ群RLは、焦点距離
f23が839.4mmの両凸レンズG23と、xz面内
での焦点距離fx24 が50.3mmで、しかも凸面を被
走査面5側に向けた平凸シリンドリカルレンズG24と
で構成されている。なお、両レンズG23,G24のy
方向の長さはともに有効走査長(=500mm)に等し
い。また、レンズG24と被走査面5との距離は50.
935mmである。
【0067】したがって、上記データから νd222−νd221 = 23.9 d′22/f2 = 1.01 f23/f2 = 1.6 fx24 /f2 = 0.10 f21/f2 = 0.62 r′21/r22 = 1.6 r22/(r′22+d22) = 1.2 が求まる。これらからわかるように、第2実施例にかか
る走査光学系も数1ないし数7を満足している。
【0068】第2結像光学系4によって、レーザービー
ムはxz面内においても,yz面内においてもNA0.
022で被走査面5上に集光する。これはFナンバー換
算で23になり、第1実施例と同様に、被走査面5上に
1/e2 強度直径が28μmのスポットを形成すること
ができる。
【0069】図12はポリゴンミラーに面倒れが30秒
あったときの、スポットの像面におけるx方向の位置を
示したものである。これに見られるように、スポットの
x方向の位置変動は、±0.6μm内であり、スポット
の被走査面5におけるx方向の位置は、ポリゴンミラー
3の面倒れの影響を受けにくいことがわかる。ただし、
完全補正されていないが、これは主としてサジッタル像
面湾曲の影響である。
【0070】図13は走査速度の変化を示したものであ
り、走査面であるyz面内における第2結像光学系4の
fθ特性がわかる。この図によれば、この第2実施例で
は、有効走査長内で1%内の変化に収まっていることが
わかる。
【0071】図14ないし図16は、図7ないし図9と
同様に、それぞれ像高0mm、像高175mm及び像高
250mmでの横収差を示している。これらの図からわ
かるように、波長変動±5nmに対しても倍率の色収差
は僅少で、半導体レーザーのモードホップに充分対応で
きる。画角55°の範囲内でのRMS波面収差は0.0
5λ以内であり、ほぼ無収差であるといえる。
【0072】B.上記走査光学系を備えた画像記録装置 次に、上記走査光学系を備えた製版装置について説明す
る。図17及び図18はその製版装置の断面図である。
この製版装置は、感材Fを副走査方向Xに搬送しなが
ら、副走査方向Xとほぼ直交する主走査方向Yにレーザ
ビームで走査することにより、感材Fに複製画像を記録
する。
【0073】この装置の主な構成について説明すると、
本体10と、フィルム供給カセット20に収納されたロ
ール状の感材Fを導入する一対の導入ローラ30と、感
材Fを副走査方向Xに搬送しながら、主走査方向Yにレ
ーザビームLを偏向して、複製画像を感材F上に記録す
る記録部40と、記録部40の排出側(下流側)に設け
られ、露光済の感材Fを切断するカッター部50と、カ
ッター部50により切断された感材片を回収カセット6
0に搬出する一対の搬出ローラ70とが設けられてい
る。また、製版装置の各部に設けられた種々のセンサか
らの信号等や操作パネル(図示省略)からの指令等に基
づいて製版装置全体を制御する制御部(図示省略)が別
途設けられている。以下、各部の詳細な構成について説
明する。
【0074】第17図からわかるように、この製版装置
の本体10には開口11が形成されている。この開口1
1はフィルム供給カセット20の装着位置に対応して設
けられており、本体10の上部に装着されたフィルム供
給カセット20から引き出された感材Fはこの開口11
を介して本体10内に引き入れられる。
【0075】また、導入ローラ30は、本体10の開口
11近傍に本体10に回転自在に取付けられている。導
入ローラ30は、本体10に固定されたモータ(図示省
略)と連結されており、相互に摺接した状態でモータが
回転すると、その回転駆動に応じて、本体10に引き入
れられた感材Fを記録部40に搬送する。
【0076】記録部40は、以下に説明する感材Fを搬
送する搬送機構40Aと、上記第2実施例と同一構成の
走査光学系40Bとで構成されている。搬送機構40A
は、本体10に回転自在に設けられた主ローラ41と、
主ローラ41に接離自在に設けられたニップローラ42
a,42bと、補助ローラ43とで構成されており、ニ
ップローラ42a,42bが主ローラ41に摺接した状
態でモーター44(図18)を駆動すると感材Fが副走
査方向Xに搬送される。一方、その感材Fの搬送と同期
して走査光学系40BからのレーザービームLによって
感材Fが走査されることによって、感材Fに所望の画像
が記録される。
【0077】こうして、記録された感材Fはカッター部
50を介して搬出ローラ70に送り出される。なお、図
示は省略されているが、カッター部50には、固定カッ
ターと可動カッターとが配置されており、可動カッター
が作動することによって、感材Fが切断されて感材片が
形成される。また、搬出ローラ70が駆動すると、上記
感材片が回収カセット60に搬出されるように構成され
ている。
【0078】次に、上記のように構成された製版装置の
動作について図19を参照しつつ説明する。まず、オペ
レータは、適当なサイズのロール状感材Fが収納された
フィルム供給カセット20を製版装置の本体10上部の
装着位置にセットした後、フィルム供給カセット20内
から感材Fを引き出し、開口11から本体10内部に挿
入する。
【0079】その後、オペレータが操作パネルに配置さ
れたスタートスイッチ(図示省略)を押動すると、制御
部によって装置の各部が以下のように制御されて、複製
画像が感材Fに露光記録される。すなわち、制御部から
の駆動指令に応じ、導入ローラ30が正回転し、導入ロ
ーラ30によって感材Fが記録部40に向けて送り出さ
れる(ステップST1)。
【0080】そして、感材Fの先端部が主ローラ41と
ニップローラ42a,42bとの間に搬送されると(ス
テップST2)、制御部から上記モータに停止指令が与
えられて、導入ローラ30による感材Fの送り出しが停
止される(ステップST3)。
【0081】次に、ニップローラ42a,42bが駆動
して感材Fが主ローラ41に押し付けられる(ステップ
ST4)。これによって、画像記録を開始することがで
きる状態となる。それに続いて、主ローラ41が回転駆
動されて感材Fが副走査方向Xに搬送されるとともに、
その主ローラ41の回転運動に同期してレーザビームL
によって感材F主走査方向Yに走査される(ステップS
T5)。このようにして、複製画像が感材Fに記録され
ていく。
【0082】そして、上記記録処理が連続的に実行され
る間、記録済感材Fは、カッター部50を介して搬出ロ
ーラ70に搬送され、記録済感材Fが順次搬出される。
【0083】次に、ステップST6で露光記録の完了が
判別されると、走査光学系40Bからのレーザービーム
の出射が停止され、さらに主ローラ41および搬出ロー
ラ70の正回転により感材Fが一定量だけ搬送され、感
材Fの露光記録領域の終端がカッター部50の切断位置
に送られる(ステップST7)。それに続いて、カッタ
ー部50によって感材Fが切断されて(ステップST
8)、複製画像が記録された感材片と未露光の感材(以
下「残留感材」という)とに分離される。
【0084】この後、ステップST9で、残留感材の先
端部が記録部40の記録位置に位置するまで、導入ロー
ラ及び主ローラ41が所定量だけ逆回転して、残留感材
が巻戻される。こうして、次の複写画像を感材F(残留
感材)に記録することができる状態に設定される。
【0085】なお、上記においてはこの発明にかかるテ
レセントリック走査光学系を製版装置に適用した場合に
ついて説明したが、適用対象がこれに限定されるわけで
はないことは言うまでもない。
【0086】
【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、後側レンズ群においてシリンドリカルレンズが被走
査面側に配置されて、主走査方向を含む走査面と直交す
る面内において、偏向面と被走査面の横倍率が小さくな
るように構成しているので、面倒れを補正することがで
きる。また、シリンドリカルレンズの偏向器側に、フィ
ールドレンズとして凸レンズを配置し、その前側焦点を
前側レンズ群の射出瞳に合致させているので、前側レン
ズ群とこの凸レンズからなる光学系がテレセントリック
となり、シリンドリカルレンズに入射する光線の傾きを
防止することができる。
【0087】こうして、偏向器の面倒れを補正でき、F
ナンバーが小さく、画角が広く、レンズ構成枚数が少な
く、しかも走査長に対するレンズの最大口径の割合が小
さなテレセントリック走査光学系を提供することができ
る。
【0088】請求項2の発明では、数1ないし数4の不
等式が満足されているので、色収差の補正やテレセント
リック性に関して好適なテレセントリック走査光学系が
得られる。
【0089】さらに、請求項3の発明では、上記不等式
に加え、さらに数5ないし数7の不等式が満足されてい
るので、球面収差やメリディオナル像面湾曲の補正に関
して好適なテレセントリック走査光学系が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかるテレセントリック走査光学系
の第1実施例を示す平面図である。
【図2】図1の部分拡大図である。
【図3】図1の部分拡大図である。
【図4】ポリゴンミラー、第1及び第2結像光学系の配
置関係を示す図である。
【図5】ポリゴンミラーに面倒れが30秒あったとき、
被走査面におけるx方向のスポット位置を示す図であ
る。
【図6】走査速度の変化を示す図である。
【図7】像高0mmでの横収差を示している。
【図8】像高175mmでの横収差を示している。
【図9】像高250mmでの横収差を示している。
【図10】この発明にかかる走査光学系の第2実施例を
示す斜視図である。
【図11】図10の平面図である。
【図12】ポリゴンミラーに面倒れが30秒あったと
き、被走査面におけるx方向のスポット位置を示す図で
ある。
【図13】走査速度の変化を示す図である。
【図14】像高0mmでの横収差を示している。
【図15】像高175mmでの横収差を示している。
【図16】像高250mmでの横収差を示している。
【図17】この発明に係る走査光学系を備えた製版装置
の断面図である。
【図18】この発明に係る走査光学系を備えた製版装置
の断面図である。
【図19】この製版装置の動作を示すフローチャートで
ある。
【符号の説明】
1 半導体レーザー 2 第1結像光学系 3 ポリゴンミラー 4 第2結像光学系 5 被走査面 FL 前側レンズ群 G21 メニスカス凸レンズ G22 接合レンズ G23 凸レンズ G24 シリンドリカルレンズ RL 後側レンズ群

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの光ビームを第1結像光学系に
    よって副走査方向にのみ集光させて線像を形成し、その
    線像上または近傍に偏向面を有する偏向器によって前記
    光ビームを偏向し、偏向された光ビームを第2結像光学
    系を介して被走査面上に照射することにより、前記副走
    査方向に対しほぼ直交する主走査方向に前記被走査面を
    走査する走査光学系において、 前記第2結像光学系は、前記偏向器側から前記被走査面
    側へ、前側レンズ群及び後側レンズ群をこの順序で配列
    してなり、 前記前側レンズ群が、前記偏向器側に凹面を向けて配置
    されたメニスカスレンズと、アッベ数が相互に異なる硝
    材によって形成された1組のレンズが接合され、前記偏
    向器側に凹面を向けて配置されたメニスカス形状の接合
    レンズとで構成されるとともに、 前記後側レンズ群が、前記前側レンズ群の射出瞳とその
    前側焦点がほぼ一致して配置された凸レンズと、前記凸
    レンズと前記被走査面との間に配置されたシリンドリカ
    ルレンズとで構成されたことを特徴とするテレセントリ
    ック走査光学系。
  2. 【請求項2】 前記テレセントリック走査光学系が、以
    下の不等式 10 < νd222−νd221 < 70 0.7 < d′22/f2 < 1.5 1.0 < f23/f2 < 2.4 0.02 < fx24/f2 < 0.3 ただし、 f2 は第2結像光学系全体の主走査方向における焦点距
    離であり、 νd221は接合レンズを構成する1組のレンズのうち偏向
    器側のレンズを形成する硝材のアッベ数であり、 νd222は接合レンズを構成する1組のレンズのうち被走
    査面側のレンズを形成する硝材のアッベ数であり、 d´22は接合レンズと凸レンズの間隔であり、 f23は凸レンズの焦点距離であり、 fx24はシリンドリカルレンズの焦点距離である、を満
    足する請求項1記載のテレセントリック走査光学系。
  3. 【請求項3】 前記テレセントリック走査光学系が、さ
    らに以下の不等式 0.4 < f21/f2 < 1.0 1.0 < r′21/r22 < 2.2 0.6 < r22/(r′22+d22) < 2.0 ただし、 f21はメニスカスレンズの焦点距離であり、 r′21はメニスカスレンズの被走査面側の曲率半径であ
    り、 r22は接合レンズの偏向器側の曲率半径であり、 r′22は接合レンズの被走査面側の曲率半径であり、 d22は接合レンズの全厚である、を満足する請求項2記
    載のテレセントリック走査光学系。
JP35325091A 1991-12-16 1991-12-16 テレセントリック走査光学系 Expired - Lifetime JP2604513B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35325091A JP2604513B2 (ja) 1991-12-16 1991-12-16 テレセントリック走査光学系

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35325091A JP2604513B2 (ja) 1991-12-16 1991-12-16 テレセントリック走査光学系

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05164985A JPH05164985A (ja) 1993-06-29
JP2604513B2 true JP2604513B2 (ja) 1997-04-30

Family

ID=18429569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35325091A Expired - Lifetime JP2604513B2 (ja) 1991-12-16 1991-12-16 テレセントリック走査光学系

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2604513B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05164985A (ja) 1993-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0869383A2 (en) Catadioptric optical system
JPH1020195A (ja) 反射屈折光学系
US6914620B2 (en) Multi-beam scanning optical system and image forming apparatus using the same
JPH077151B2 (ja) 走査装置
WO1988007698A1 (en) Optical scanner
EP1939666A1 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
JPS63141020A (ja) 光走査装置
JPH06230307A (ja) レ−ザ走査装置及び走査レンズ
JP3188053B2 (ja) 光走査装置
KR100435023B1 (ko) 멀티빔광주사광학계, 멀티빔광주사장치, 및 화상형성장치
JP2604513B2 (ja) テレセントリック走査光学系
JP3339934B2 (ja) f・θレンズ
JP3467000B2 (ja) 光走査光学装置、及び、画像形成装置
JPH0618803A (ja) 光走査装置
US6670980B1 (en) Light-scanning optical system
JP3453887B2 (ja) ビーム走査装置
JP2001264664A (ja) 光走査装置
JP2002055298A (ja) 走査光学系及び該走査光学系を用いた画像形成装置
US20220390713A1 (en) Optical arrangement with an f-theta lens
JP3766271B2 (ja) 光走査装置
JP3680921B2 (ja) 光走査装置
JP3434499B2 (ja) 光走査装置
JPH07261106A (ja) 光走査装置
JP2988084B2 (ja) レーザビーム走査光学系
JP2907292B2 (ja) 色消しレーザ走査光学系