JPH06192159A - 光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法 - Google Patents
光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法Info
- Publication number
- JPH06192159A JPH06192159A JP5236174A JP23617493A JPH06192159A JP H06192159 A JPH06192159 A JP H06192159A JP 5236174 A JP5236174 A JP 5236174A JP 23617493 A JP23617493 A JP 23617493A JP H06192159 A JPH06192159 A JP H06192159A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optically active
- biphos
- binap
- general formula
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Biological Depolymerization Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 γ−ジケトン類（１）をルテニウム−光学活
性ホスフィン錯体を触媒として不斉水素化して光学活性
γ−ヒドロキシケトン類（２）を製造する方法。 【化１】 【効果】 この方法によれば、医薬品を合成するための
中間体、生分解性ポリマー、香料等の光学活性部分の合
成において有用な光学活性γ−ヒドロキシケトン類を効
率よく製造することができる。
性ホスフィン錯体を触媒として不斉水素化して光学活性
γ−ヒドロキシケトン類（２）を製造する方法。 【化１】 【効果】 この方法によれば、医薬品を合成するための
中間体、生分解性ポリマー、香料等の光学活性部分の合
成において有用な光学活性γ−ヒドロキシケトン類を効
率よく製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医薬中間体、生分解性ポ
リマー、香料等の光学活性部分として有用な光学活性テ
トラヒドロフラン類の製造中間体として利用し得る光学
活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法に関する。
リマー、香料等の光学活性部分として有用な光学活性テ
トラヒドロフラン類の製造中間体として利用し得る光学
活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性なγ−ヒドロキシケトン類は分
子内でアセタ−ル化することにより、種々の化合物の光
学活性部分として有用な光学活性テトラヒドロフラン類
へと導くことができることから、工業原料として重要で
ある。
子内でアセタ−ル化することにより、種々の化合物の光
学活性部分として有用な光学活性テトラヒドロフラン類
へと導くことができることから、工業原料として重要で
ある。
【０００３】かかる光学活性なγ- ヒドロキシケトン類
を合成する方法として次の二法が知られている。 （ｉ）光学活性なγ- ジオールを酸化して得る方法。 すなわち、J.Chem.Soc.Perkin Trans.,2148-2154頁(197
7年) においては、(2R,5R)-2, 5- ヘキサンジオールを
炭酸銀−セライトで酸化し、(R)-5-ヒドロキシヘキサン
-2-オンを収率46％で得ている。 （ｉｉ）化学修飾されたニッケルを触媒として用いて、
γ−ジケトンを不斉水素化して光学活性なγ−ヒドロキ
シケトンを合成する方法。 すなわち、Bull.Soc.Chem.Belg.,100、 585-595頁(1991
年) においては、2,5-ヘキサンジオンを用いて不斉還元
し、(R)-5-ヒドロキシヘキサン-2-オンを10.1％ee、78.
7％の収率で得ている。
を合成する方法として次の二法が知られている。 （ｉ）光学活性なγ- ジオールを酸化して得る方法。 すなわち、J.Chem.Soc.Perkin Trans.,2148-2154頁(197
7年) においては、(2R,5R)-2, 5- ヘキサンジオールを
炭酸銀−セライトで酸化し、(R)-5-ヒドロキシヘキサン
-2-オンを収率46％で得ている。 （ｉｉ）化学修飾されたニッケルを触媒として用いて、
γ−ジケトンを不斉水素化して光学活性なγ−ヒドロキ
シケトンを合成する方法。 すなわち、Bull.Soc.Chem.Belg.,100、 585-595頁(1991
年) においては、2,5-ヘキサンジオンを用いて不斉還元
し、(R)-5-ヒドロキシヘキサン-2-オンを10.1％ee、78.
7％の収率で得ている。
【０００４】ここで（ｉ）の方法では、出発物質として
光学活性なγ−ジオールが用いられているが、この光学
活性γ−ジオールの合成法としては、J.Org.Chem.54,17
55-1756頁(1989年)、Tetrahedron Asymmetry,７(2),569
頁(1991年)、TetrahedronLett.,28(50),6335-6338頁(19
87年)、Tetrahedron Asymmetry,３(3),333-336頁(1992
年)に報告があるが、いずれも反応工程が長い、収率が
低い、光学純度が低い等の問題がある。また、（ｉｉ）
の方法は光学純度が低すぎるため、工業的に採用し得る
ものではない。
光学活性なγ−ジオールが用いられているが、この光学
活性γ−ジオールの合成法としては、J.Org.Chem.54,17
55-1756頁(1989年)、Tetrahedron Asymmetry,７(2),569
頁(1991年)、TetrahedronLett.,28(50),6335-6338頁(19
87年)、Tetrahedron Asymmetry,３(3),333-336頁(1992
年)に報告があるが、いずれも反応工程が長い、収率が
低い、光学純度が低い等の問題がある。また、（ｉｉ）
の方法は光学純度が低すぎるため、工業的に採用し得る
ものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、より
簡便で工程数が少なく、さらに光学純度の高い光学活性
γ−ヒドロキシケトン類の製造法を提供するものであ
る。
簡便で工程数が少なく、さらに光学純度の高い光学活性
γ−ヒドロキシケトン類の製造法を提供するものであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる実情において本発
明者らは、原料としてγ−ジケトン類に着目し、この不
斉水素化反応について鋭意研究を行なった結果、触媒と
して比較的安価なルテニウム−光学活性ホスフィン錯体
を使用して不斉水素化を行なえば、高い光学純度のγ−
ヒドロキシケトン類が得られることを見い出し本発明を
完成した。
明者らは、原料としてγ−ジケトン類に着目し、この不
斉水素化反応について鋭意研究を行なった結果、触媒と
して比較的安価なルテニウム−光学活性ホスフィン錯体
を使用して不斉水素化を行なえば、高い光学純度のγ−
ヒドロキシケトン類が得られることを見い出し本発明を
完成した。
【０００７】すなわち、本発明は次の一般式（１）、
【０００８】
【化９】
【０００９】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は置換基を有してい
てもよいアルキル又はフェニル基を示す）で表されるγ
- ジケトン類をルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を
触媒として不斉水素化することを特徴とする次の一般式
（２）、
てもよいアルキル又はフェニル基を示す）で表されるγ
- ジケトン類をルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を
触媒として不斉水素化することを特徴とする次の一般式
（２）、
【００１０】
【化１０】
【００１１】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じ意味を
示す）で表される光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製
造法である。
示す）で表される光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製
造法である。
【００１２】本発明方法の原料を示す一般式（１）中、
Ｒ1 及びＲ2 で示されるアルキル基としては炭素数１〜
８のものが好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ
る。当該アルキル基に置換し得る基としては、フェニル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。ま
た、フェニル基に置換し得る基としては、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
ここで低級アルキル基及び低級アルキル基の炭素数は１
〜６が好ましい。当該γ−ジケトン類（１）の具体例と
しては、例えば、2,5-ヘキサンジオン、2,5-ヘプタンジ
オン、2,5-オクタンジオン、2,5-ノナンジオン、2,5-デ
カンジオン、2,5-ウンデカンジオン、2,5-ドデカンジオ
ン、2,5-トリデカンジオン、3,6-オクタジオン、3,6-ノ
ナンジオン、3,6-デカンジオン、4,7-デカンジオン、4,
7-ドデカンジオン、5,8-ウンデカンジオン、1-フェニル
-1,4-ペンタンジオン、1-フェニル-1,4-ヘキサンジオ
ン、1-フェニル-1,4-ヘプタンジオン、1-フェニル-1,4-
オクタンジオン、1-（p-メトキシフェニル）-1,4-ペン
タンジオン、1-（p-トリル）-1,4-ペンタンジオン、1-
フェニル-2,5-ヘキサンジオン、1-フェニル-2,5-ヘプタ
ンジオン、1-フェニル-2,5-オクタンジオン、1-フェニ
ル-2,5-ノナンジオン、1-（p-メトキシフェニル）-2,5-
ヘキサンジオン、1-（p-トリル）-2,5-ヘキサンジオ
ン、1 ,6-ジフェニル-2,5-ヘキサンジオン等が挙げられ
る。
Ｒ1 及びＲ2 で示されるアルキル基としては炭素数１〜
８のものが好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ
る。当該アルキル基に置換し得る基としては、フェニル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。ま
た、フェニル基に置換し得る基としては、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
ここで低級アルキル基及び低級アルキル基の炭素数は１
〜６が好ましい。当該γ−ジケトン類（１）の具体例と
しては、例えば、2,5-ヘキサンジオン、2,5-ヘプタンジ
オン、2,5-オクタンジオン、2,5-ノナンジオン、2,5-デ
カンジオン、2,5-ウンデカンジオン、2,5-ドデカンジオ
ン、2,5-トリデカンジオン、3,6-オクタジオン、3,6-ノ
ナンジオン、3,6-デカンジオン、4,7-デカンジオン、4,
7-ドデカンジオン、5,8-ウンデカンジオン、1-フェニル
-1,4-ペンタンジオン、1-フェニル-1,4-ヘキサンジオ
ン、1-フェニル-1,4-ヘプタンジオン、1-フェニル-1,4-
オクタンジオン、1-（p-メトキシフェニル）-1,4-ペン
タンジオン、1-（p-トリル）-1,4-ペンタンジオン、1-
フェニル-2,5-ヘキサンジオン、1-フェニル-2,5-ヘプタ
ンジオン、1-フェニル-2,5-オクタンジオン、1-フェニ
ル-2,5-ノナンジオン、1-（p-メトキシフェニル）-2,5-
ヘキサンジオン、1-（p-トリル）-2,5-ヘキサンジオ
ン、1 ,6-ジフェニル-2,5-ヘキサンジオン等が挙げられ
る。
【００１３】これらのγ−ジケトン類（１）は、例え
ば、Angew.Chem.Int.Ed.Engl.,15(11),639-712頁(1976
年)記載のようにアルデヒドとビニルケトンの反応によ
り、あるいは、Chem.ber.,118(3),1115-1125頁(1985年)
記載のようにα−ケト酸とビニルケトンの反応により製
造することができる。
ば、Angew.Chem.Int.Ed.Engl.,15(11),639-712頁(1976
年)記載のようにアルデヒドとビニルケトンの反応によ
り、あるいは、Chem.ber.,118(3),1115-1125頁(1985年)
記載のようにα−ケト酸とビニルケトンの反応により製
造することができる。
【００１４】本発明に使用する触媒のルテニウム- 光学
活性ホスフィン錯体としては次の一般式（３）、
（４）、（５）及び（６）で表されるものが挙げられ
る。
活性ホスフィン錯体としては次の一般式（３）、
（４）、（５）及び（６）で表されるものが挙げられ
る。
【００１５】
【化１１】 ＲｕxＨyＣｌz（ＢＩＰＨＯＳ）2（Ｓ）p ・・・・・（３）
【００１６】（式中、ＢＩＰＨＯＳは式（ａ）、（ｂ）
又は（ｃ）で表わされる三級ホスフィンを示し、
又は（ｃ）で表わされる三級ホスフィンを示し、
【００１７】
【化１２】
【００１８】Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ
10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜
４のアルコキシ基を示し、（Ｓ）は三級アミンを示し、
ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１の
ときｘは１、ｚは１、ｐは０を示す）
10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜
４のアルコキシ基を示し、（Ｓ）は三級アミンを示し、
ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１の
ときｘは１、ｚは１、ｐは０を示す）
【００１９】
【化１３】 ［ＲｕＡK（Ｂ）m（ＢＩＰＨＯＳ）］Ｙn ・・・・・（４）
【００２０】（式中、Ａはハロゲン原子を示し、Ｂは置
換基を有していてもよいベンゼン又はアセトニトリルを
示し、Ｙはハロゲン原子、ClO4、PF6、BPh4又はBF4を示
し、ＢＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示し、Ｂが置換基
を有していてもよいベンゼンの場合、ｋが１、ｍが１、
ｎが１であり、アセトニトリルの場合、ｋが１のとき
は、ｍが２、ｎが１、ｋが０のときは、ｍが４、ｎが２
である）
換基を有していてもよいベンゼン又はアセトニトリルを
示し、Ｙはハロゲン原子、ClO4、PF6、BPh4又はBF4を示
し、ＢＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示し、Ｂが置換基
を有していてもよいベンゼンの場合、ｋが１、ｍが１、
ｎが１であり、アセトニトリルの場合、ｋが１のとき
は、ｍが２、ｎが１、ｋが０のときは、ｍが４、ｎが２
である）
【００２１】
【化１４】 ［ＲｕＩ（ｐ−シメン）（ＢＩＰＨＯＳ）］Ｉ3 ・・・・・（５） （式中、ＢＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示す）
【００２２】
【化１５】 Ｒｕ（ＯＣＯ−Ｒ15）2（ＢＩＰＨＯＳ） ・・・・・（６） （式中、Ｒ15は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｂ
ＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示す）
ＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示す）
【００２３】前記ＢＩＰＨＯＳのうち、式（ａ）の三級
ホスフィンが特に好ましい。また、Ｒ3〜Ｒ14で示され
るハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素原
子が挙げられるが、このうち塩素原子及びフッ素原子が
好ましい。炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基等が挙げ
られるが、このうちメチル基及びｔ−ブチル基が好まし
い。炭素数１〜４のアルコキシ基としてはメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ
基等が挙げられるが、このうちメトキシ基が特に好まし
い。さらにＲ15で示される低級アルキル基としては、炭
素数１〜６のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基等が挙げられる。
ホスフィンが特に好ましい。また、Ｒ3〜Ｒ14で示され
るハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、フッ素原
子が挙げられるが、このうち塩素原子及びフッ素原子が
好ましい。炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基等が挙げ
られるが、このうちメチル基及びｔ−ブチル基が好まし
い。炭素数１〜４のアルコキシ基としてはメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ
基等が挙げられるが、このうちメトキシ基が特に好まし
い。さらにＲ15で示される低級アルキル基としては、炭
素数１〜６のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基等が挙げられる。
【００２４】さらに前記式（ａ）の三級ホスフィンのう
ち、下記（ａ−１）で示される化合物が特に好ましい。
ち、下記（ａ−１）で示される化合物が特に好ましい。
【００２５】
【化１６】
【００２６】（式中、Ｒ16は水素原子、メチル基又はｔ
−ブチル基を示す）
−ブチル基を示す）
【００２７】一般式（３）の化合物は、J.Chem.Soc.,Ch
em.Commun.,922-924頁、(1985年) 、特開昭61-63690号公
報、特開昭63-135397号公報又は特開平4-131940号公報
に開示されている方法により得られる。例えば、y=０の
場合の一般式（３）の錯体はルテニウムクロライドとシ
クロオクタ-1,5-ジエン（以下CODと略す）をエタノ−ル
溶液中で反応させることにより得られる[RuCl2(COD)]c
（ｃは自然数を示す）１モル当量と、2,2'-ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルで代表されるBIPH
OS 1.05〜1.2 モル当量をトリエチルアミンのような三
級アミン４モル当量の存在下、トルエン又はエタノ−ル
等の溶媒中で反応させることにより得られる。
em.Commun.,922-924頁、(1985年) 、特開昭61-63690号公
報、特開昭63-135397号公報又は特開平4-131940号公報
に開示されている方法により得られる。例えば、y=０の
場合の一般式（３）の錯体はルテニウムクロライドとシ
クロオクタ-1,5-ジエン（以下CODと略す）をエタノ−ル
溶液中で反応させることにより得られる[RuCl2(COD)]c
（ｃは自然数を示す）１モル当量と、2,2'-ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルで代表されるBIPH
OS 1.05〜1.2 モル当量をトリエチルアミンのような三
級アミン４モル当量の存在下、トルエン又はエタノ−ル
等の溶媒中で反応させることにより得られる。
【００２８】さらに、一般式（４）の化合物は特開平2-
192189号又は特開平4-139140号公報に開示されている方
法により得ることができる。例えばＢが置換基を有して
いてもよいベンゼン（以下Arと略す）である錯体は、次
のようにして得ることができる。例えばＡ、Ｙがともに
塩素原子の場合、すなわち、[RuCl(Ar)(BIPHOS)]Clは、
J.Org.Chem.,７,487頁(1976年)、あるいはCan.J.Chem.,
50,3643頁(1972年）記載の方法により調製した[RuCl2(A
r)]2を原料とし、これとBIPHOSをメタノール、エタノー
ル、ベンゼン、塩化メチレン等の単独溶媒かあるいはこ
れらの混合溶媒中25〜50℃で30分〜３時間反応させた
後、溶媒を減圧下にて留去することによって得ることが
できる。また、Ａ、Ｙがともに臭素原子あるいはヨウ素
原子の場合、すなわち、[RuBr(Ar)(BIPHOS)]Br又は[RuI
(Ar)(BIPHOS)]Iは、例えば、[RuCl2(Ar)]2 を原料と
し、これに一般式（７）
192189号又は特開平4-139140号公報に開示されている方
法により得ることができる。例えばＢが置換基を有して
いてもよいベンゼン（以下Arと略す）である錯体は、次
のようにして得ることができる。例えばＡ、Ｙがともに
塩素原子の場合、すなわち、[RuCl(Ar)(BIPHOS)]Clは、
J.Org.Chem.,７,487頁(1976年)、あるいはCan.J.Chem.,
50,3643頁(1972年）記載の方法により調製した[RuCl2(A
r)]2を原料とし、これとBIPHOSをメタノール、エタノー
ル、ベンゼン、塩化メチレン等の単独溶媒かあるいはこ
れらの混合溶媒中25〜50℃で30分〜３時間反応させた
後、溶媒を減圧下にて留去することによって得ることが
できる。また、Ａ、Ｙがともに臭素原子あるいはヨウ素
原子の場合、すなわち、[RuBr(Ar)(BIPHOS)]Br又は[RuI
(Ar)(BIPHOS)]Iは、例えば、[RuCl2(Ar)]2 を原料と
し、これに一般式（７）
【００２９】
【化１７】 Ｍ1Ｚ ・・・・（７）
【００３０】（式中、M1はリチウム、ナトリウム又はカ
リウム原子を示し、Ｚは臭素原子又はヨウ素原子を示
す）で表される塩を、溶媒として水を用いて反応させる
か、あるいは、[RuCl2(Ar)]2とM1Zとを水と塩化メチレ
ンの溶媒中次の一般式（８）、
リウム原子を示し、Ｚは臭素原子又はヨウ素原子を示
す）で表される塩を、溶媒として水を用いて反応させる
か、あるいは、[RuCl2(Ar)]2とM1Zとを水と塩化メチレ
ンの溶媒中次の一般式（８）、
【００３１】
【化１８】 Ｒ17Ｒ18Ｒ19Ｒ20ＱＸ ・・・・（８）
【００３２】（式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20は炭素
数１〜16のアルキル基、フェニル基又はベンジル基を示
し、Ｑは窒素原子又は燐原子を示し、Ｘはハロゲン原子
を示す）で表される四級アンモニウム塩又は四級ホスホ
ニウム塩を相間移動触媒として使用し、室温で反応させ
ることにより[RuZ2(Ar)]2を得る。ここで相間移動触媒
（８）としては、例えばW.P.Weber,G.W.Gokel 共著、田
伏岩夫、西谷孝子共訳「相間移動触媒」（株）化学同人
（1978-9-5）第一版に記載されているものが使用され
る。次いで、得られた[RuZ2(Ar)]2とBIPHOSとをメタノ
ール、エタノール、ベンゼン、塩化メチレンのような単
独溶媒中かあるいはこれらの混合溶媒中25〜50℃で30分
〜３時間反応させた後、溶媒を減圧下にて留去すること
によっても定量的に[RuBr(Ar)(BIPHOS)]Br又は[RuI(Ar)
(BIPHOS)]Iを合成することができる。さらに、例えばＡ
が塩素原子、ＹがClO4、PF6、BPh4又はBF4の場合は、[R
uCl(Ar)(BIPHOS)]Clをメタノール、エタノール、アセト
ン、塩化メチレン等に溶解しておき、これにM2Y（ここ
でM2はナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウ
ム、銀原子を示し、Ｙはハロゲン原子、ClO4、PF6、BPh
4又はBF4を示す）で表される塩を加えて攪拌し、その後
少量の不溶物を濾別して濾液を濃縮、乾燥すると、目的
の錯体[RuA(Ar)(BIPHOS)]Yを得ることができる。
数１〜16のアルキル基、フェニル基又はベンジル基を示
し、Ｑは窒素原子又は燐原子を示し、Ｘはハロゲン原子
を示す）で表される四級アンモニウム塩又は四級ホスホ
ニウム塩を相間移動触媒として使用し、室温で反応させ
ることにより[RuZ2(Ar)]2を得る。ここで相間移動触媒
（８）としては、例えばW.P.Weber,G.W.Gokel 共著、田
伏岩夫、西谷孝子共訳「相間移動触媒」（株）化学同人
（1978-9-5）第一版に記載されているものが使用され
る。次いで、得られた[RuZ2(Ar)]2とBIPHOSとをメタノ
ール、エタノール、ベンゼン、塩化メチレンのような単
独溶媒中かあるいはこれらの混合溶媒中25〜50℃で30分
〜３時間反応させた後、溶媒を減圧下にて留去すること
によっても定量的に[RuBr(Ar)(BIPHOS)]Br又は[RuI(Ar)
(BIPHOS)]Iを合成することができる。さらに、例えばＡ
が塩素原子、ＹがClO4、PF6、BPh4又はBF4の場合は、[R
uCl(Ar)(BIPHOS)]Clをメタノール、エタノール、アセト
ン、塩化メチレン等に溶解しておき、これにM2Y（ここ
でM2はナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウ
ム、銀原子を示し、Ｙはハロゲン原子、ClO4、PF6、BPh
4又はBF4を示す）で表される塩を加えて攪拌し、その後
少量の不溶物を濾別して濾液を濃縮、乾燥すると、目的
の錯体[RuA(Ar)(BIPHOS)]Yを得ることができる。
【００３３】一般式（４）で表される化合物のうち、Ｂ
がアセトニトリルである錯体は例えばＡ、Ｙがともに塩
素原子の場合、すなわち、[RuCl(アセトニトリル)2(BIP
HOS)]Cl は、[RuCl(Ar)(BIPHOS)]Cl錯体をアセトニトリ
ルに溶解し、50℃で10〜24時間還流させ、過剰のアセト
ニトリルを留去し、乾燥する。この粗製錯体を塩化メチ
レンから再結晶することによって[RuCl(アセトニトリ
ル)2(BIPHOS)]Cl 錯体を得ることができる。また、例え
ば[RuCl(Ar)(BIPHOS)]Cl錯体をアセトニトリルとメタノ
ール、エタノール、アセトン、塩化メチレン等の混合溶
媒に溶解しておき、これにM2Y（M2及びＹは前記と同
じ）を加えて25〜50℃で10〜24時間加熱攪拌し、溶媒を
留去し、乾燥する。この粗製錯体を塩化メチレンにより
再結晶することによって[Ru(アセトニトリル)4(BIPHO
S)]Y2 錯体を得ることができる。
がアセトニトリルである錯体は例えばＡ、Ｙがともに塩
素原子の場合、すなわち、[RuCl(アセトニトリル)2(BIP
HOS)]Cl は、[RuCl(Ar)(BIPHOS)]Cl錯体をアセトニトリ
ルに溶解し、50℃で10〜24時間還流させ、過剰のアセト
ニトリルを留去し、乾燥する。この粗製錯体を塩化メチ
レンから再結晶することによって[RuCl(アセトニトリ
ル)2(BIPHOS)]Cl 錯体を得ることができる。また、例え
ば[RuCl(Ar)(BIPHOS)]Cl錯体をアセトニトリルとメタノ
ール、エタノール、アセトン、塩化メチレン等の混合溶
媒に溶解しておき、これにM2Y（M2及びＹは前記と同
じ）を加えて25〜50℃で10〜24時間加熱攪拌し、溶媒を
留去し、乾燥する。この粗製錯体を塩化メチレンにより
再結晶することによって[Ru(アセトニトリル)4(BIPHO
S)]Y2 錯体を得ることができる。
【００３４】さらに、一般式（５）の化合物は特開平5-
111639号又は特開平4-139140号公報に記載の様に、[RuI
(p-シメン)(BIPHOS)]I の錯体を３モル当量のヨウ素と
メタノール等の適当な溶媒中、15〜30℃にて１〜５時間
攪拌し、溶媒を留去、乾燥することによって得られる。
111639号又は特開平4-139140号公報に記載の様に、[RuI
(p-シメン)(BIPHOS)]I の錯体を３モル当量のヨウ素と
メタノール等の適当な溶媒中、15〜30℃にて１〜５時間
攪拌し、溶媒を留去、乾燥することによって得られる。
【００３５】さらに、一般式（６）の化合物は、上記一
般式（３）で表される化合物のうち、ｘが２、ｙが０、
ｚが２、Ｓがトリエチルアミンを示し、ｐが１の時の錯
体、すなわち、Ru2Cl4(BIPHOS)2（トリエチルアミン）
を原料とし、これとカルボン酸塩をメタノール、エタノ
ール、ｔ−ブタノール等のアルコール溶媒中で、約20〜
110℃の温度で３〜15時間反応させた後、溶媒を留去し
て、エーテル、エタノール等の溶媒で目的の錯体を抽出
した後、乾燥すれば粗製の錯体が得られる。さらに、酢
酸エチル等で再結晶して精製品を得ることができる。式
（６）中、Ｒ15が低級アルキル基である化合物は、用い
るカルボン酸の種類を変えることにより得ることができ
る。例えば上記の錯体を原料とし、酢酸ナトリウムを用
いた場合は、Ru(OCOCH3)2(BIPHOS)を得る。また、トリ
フルオロ酢酸を有する錯体を製造する場合は、特開昭62
-265293号公報に記載のように、前記のようにして得た
ジアセテート錯体にトリフルオロ酢酸を塩化メチレンを
溶媒として約25℃で約12時間反応させることによって得
ることができる。
般式（３）で表される化合物のうち、ｘが２、ｙが０、
ｚが２、Ｓがトリエチルアミンを示し、ｐが１の時の錯
体、すなわち、Ru2Cl4(BIPHOS)2（トリエチルアミン）
を原料とし、これとカルボン酸塩をメタノール、エタノ
ール、ｔ−ブタノール等のアルコール溶媒中で、約20〜
110℃の温度で３〜15時間反応させた後、溶媒を留去し
て、エーテル、エタノール等の溶媒で目的の錯体を抽出
した後、乾燥すれば粗製の錯体が得られる。さらに、酢
酸エチル等で再結晶して精製品を得ることができる。式
（６）中、Ｒ15が低級アルキル基である化合物は、用い
るカルボン酸の種類を変えることにより得ることができ
る。例えば上記の錯体を原料とし、酢酸ナトリウムを用
いた場合は、Ru(OCOCH3)2(BIPHOS)を得る。また、トリ
フルオロ酢酸を有する錯体を製造する場合は、特開昭62
-265293号公報に記載のように、前記のようにして得た
ジアセテート錯体にトリフルオロ酢酸を塩化メチレンを
溶媒として約25℃で約12時間反応させることによって得
ることができる。
【００３６】以上の錯体の例として次のものが挙げられ
る。 Ru2Cl4(BINAP)2(NEt3)、（BINAPは、2,2'-ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルを示す） Ru2Cl4(T-BINAP)2(NEt3)、（T-BINAPは、2,2'-ビス（ジ
-p-トリルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルを示す） Ru2Cl4(t-Bu-BINAP)2(NEt3)、（t-Bu-BINAPは、2,2'-ビ
ス（ジ-p-ターシャリーブチルフェニルホスフィノ）-1,
1'-ビナフチルを示す） Ru2Cl4(p-MeO-BINAP)2(NEt3) （p-MeO-BINAPは2,2'-ビス（ジ-p-メトキシフェニルホ
スフィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(3,5-DiMe-BINAP)2(NEt3) （3,5-DiMe-BINAPは2,2'-ビス（ジ-3,5-キシリルホスフ
ィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(3,5-Di-t-Bu-BINAP)2(NEt3) （3,5-Di-t-Bu-BINAP は2,2'-ビス（ジ−3,5-ジ-tert-
ブチルフェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルを意味す
る） Ru2Cl4(3-Me-BINAP)2(NEt3) （3-Me-BINAPは2,2'-ビス（ジ-m-トリルホスフィノ）-
1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(p-Cl-BINAP)2(NEt3) （p-Cl-BINAPは2,2'-ビス（ジ-p-クロロフェニルホスフ
ィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(p-F-BINAP)2(NEt3) （p-F-BINAPは2,2'-ビス（ジ-p-フルオロフェニルホス
フィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(MeBIPH)2(NEt3) （MeBIPHは6,6'-ジメチル-2,2'-ビス（ジフェニルホス
フィノ）-1,1'-ビフェニルを意味する） Ru2Cl4(BIHNAP)2(NEt3) （BIHNAPは2,2'-ビス（ジフェニルホスフィノ）-5,6,7,
8,5',6',7',8'-オクタヒドロ-1,1'-ビナフチルを意味す
る） RuHCl(BINAP)2、RuHCl(T-BINAP)2、RuHCl(t-Bu-BINA
P)2、RuHCl(p-MeO-BINAP)2、RuHCl(3,5-DiMe-BINAP)2、
RuHCl(3,5-Di-t-Bu-BINAP)2、RuHCl(3-Me-BINAP)2、RuH
Cl(p-Cl-BINAP)2、RuHCl(p-F-BINAP)2、RuHCl(MeBIP
H)2、RuHCl(BIHNAP)2、[RuCl(ベンゼン)(BINAP)]Cl、[R
uCl(p-シメン)(T-BINAP)]Cl、[RuBr(ベンゼン)(BINAP)]
Br、[RuBr(ベンゼン)(T-BINAP)]Br、[RuBr(p-シメン)(t
-Bu-BINAP)]Br、[RuI(ベンゼン)(BINAP)]I、[RuI(ベン
ゼン)(T-BINAP)]I、[RuI(ベンゼン)(t-Bu-BINAP)]I、[R
uI(p-シメン)(BINAP)]I、[RuI(p-シメン)(T-BINAP)]I、
[RuI(p-シメン)(t-Bu-BINAP)]I、[RuI(安息香酸メチル)
(BINAP)]I、[RuI(安息香酸メチル)(T-BINAP)]I、[RuI
(安息香酸メチル)(t-Bu-BINAP)]I、[RuCl(ベンゼン)(BI
NAP)]ClO4、[RuCl(ベンゼン)(t-Bu-BINAP)]ClO4、[RuCl
(p-シメン)(BINAP)]PF6、[RuCl(p-シメン)(BINAP)]B
F3、[RuCl(安息香酸メチル)(BINAP)]BPh4、[Ru(アセト
ニトリル)4(BINAP)](BF4)2、[RuCl(アセトニトリル)2(B
INAP)]Cl、[RuI(p-シメン)(BINAP)]I3、[RuI(p-シメン)
(T-BINAP)]I3、[RuI(p-シメン)(t-Bu-BINAP)]I3、Ru(OC
OCH3)2(BINAP)、Ru(OCOCH3)2(T-BINAP)、Ru(OCOCH3)2(t
-Bu-BINAP)、Ru(OCOCF3)2(BINAP)、Ru(OCOCF3)2(T-BINA
P)、Ru(OCOCF3)2(t-Bu-BINAP)。
る。 Ru2Cl4(BINAP)2(NEt3)、（BINAPは、2,2'-ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルを示す） Ru2Cl4(T-BINAP)2(NEt3)、（T-BINAPは、2,2'-ビス（ジ
-p-トリルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルを示す） Ru2Cl4(t-Bu-BINAP)2(NEt3)、（t-Bu-BINAPは、2,2'-ビ
ス（ジ-p-ターシャリーブチルフェニルホスフィノ）-1,
1'-ビナフチルを示す） Ru2Cl4(p-MeO-BINAP)2(NEt3) （p-MeO-BINAPは2,2'-ビス（ジ-p-メトキシフェニルホ
スフィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(3,5-DiMe-BINAP)2(NEt3) （3,5-DiMe-BINAPは2,2'-ビス（ジ-3,5-キシリルホスフ
ィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(3,5-Di-t-Bu-BINAP)2(NEt3) （3,5-Di-t-Bu-BINAP は2,2'-ビス（ジ−3,5-ジ-tert-
ブチルフェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチルを意味す
る） Ru2Cl4(3-Me-BINAP)2(NEt3) （3-Me-BINAPは2,2'-ビス（ジ-m-トリルホスフィノ）-
1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(p-Cl-BINAP)2(NEt3) （p-Cl-BINAPは2,2'-ビス（ジ-p-クロロフェニルホスフ
ィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(p-F-BINAP)2(NEt3) （p-F-BINAPは2,2'-ビス（ジ-p-フルオロフェニルホス
フィノ）-1,1'-ビナフチルを意味する） Ru2Cl4(MeBIPH)2(NEt3) （MeBIPHは6,6'-ジメチル-2,2'-ビス（ジフェニルホス
フィノ）-1,1'-ビフェニルを意味する） Ru2Cl4(BIHNAP)2(NEt3) （BIHNAPは2,2'-ビス（ジフェニルホスフィノ）-5,6,7,
8,5',6',7',8'-オクタヒドロ-1,1'-ビナフチルを意味す
る） RuHCl(BINAP)2、RuHCl(T-BINAP)2、RuHCl(t-Bu-BINA
P)2、RuHCl(p-MeO-BINAP)2、RuHCl(3,5-DiMe-BINAP)2、
RuHCl(3,5-Di-t-Bu-BINAP)2、RuHCl(3-Me-BINAP)2、RuH
Cl(p-Cl-BINAP)2、RuHCl(p-F-BINAP)2、RuHCl(MeBIP
H)2、RuHCl(BIHNAP)2、[RuCl(ベンゼン)(BINAP)]Cl、[R
uCl(p-シメン)(T-BINAP)]Cl、[RuBr(ベンゼン)(BINAP)]
Br、[RuBr(ベンゼン)(T-BINAP)]Br、[RuBr(p-シメン)(t
-Bu-BINAP)]Br、[RuI(ベンゼン)(BINAP)]I、[RuI(ベン
ゼン)(T-BINAP)]I、[RuI(ベンゼン)(t-Bu-BINAP)]I、[R
uI(p-シメン)(BINAP)]I、[RuI(p-シメン)(T-BINAP)]I、
[RuI(p-シメン)(t-Bu-BINAP)]I、[RuI(安息香酸メチル)
(BINAP)]I、[RuI(安息香酸メチル)(T-BINAP)]I、[RuI
(安息香酸メチル)(t-Bu-BINAP)]I、[RuCl(ベンゼン)(BI
NAP)]ClO4、[RuCl(ベンゼン)(t-Bu-BINAP)]ClO4、[RuCl
(p-シメン)(BINAP)]PF6、[RuCl(p-シメン)(BINAP)]B
F3、[RuCl(安息香酸メチル)(BINAP)]BPh4、[Ru(アセト
ニトリル)4(BINAP)](BF4)2、[RuCl(アセトニトリル)2(B
INAP)]Cl、[RuI(p-シメン)(BINAP)]I3、[RuI(p-シメン)
(T-BINAP)]I3、[RuI(p-シメン)(t-Bu-BINAP)]I3、Ru(OC
OCH3)2(BINAP)、Ru(OCOCH3)2(T-BINAP)、Ru(OCOCH3)2(t
-Bu-BINAP)、Ru(OCOCF3)2(BINAP)、Ru(OCOCF3)2(T-BINA
P)、Ru(OCOCF3)2(t-Bu-BINAP)。
【００３７】本発明を実施するには、γ−ジケトン類
（１）をメタノール、エタノール、イソプロパノール等
のプロトン性溶媒の単独、あるいは、テトラヒドロフラ
ン、アセトンの単独、あるいは、それらの混合溶媒、あ
るいは、それらに少量の水を加えた溶媒（好ましくはメ
タノ−ル、エタノ−ル）に溶解し、溶液をオートクレー
ブに入れ、これにルテニウム−光学活性ホスフィン錯体
を加えて不斉水素化反応を行なわせることによって所望
のγ−ヒドロキシケトン類が得られる。また、本発明の
方法ではルテニウム化合物とBIPHOSを別々に反応系に加
え、その系の中でルテニウム−光学活性ホスフィン錯体
を形成させてもよい。また、本発明に用いられる光学活
性ホスフィン錯体の立体配置を（Ｒ）あるいは（Ｓ）に
適宜変えることによって、所望の立体配置を有するγ−
ヒドロキシケトンを得ることができる。触媒量は上記の
γ−ジケトン類（１）に対して1/50〜1/5000倍モル、好
ましくは1/100〜1/1000倍モル加えて、水素圧５〜50kg/
cm2、好ましくは30〜50kg/cm 2、反応温度５〜100℃、好
ましくは30〜50℃で1 時間から72時間、好ましくは８時
間から２０時間攪拌して水素化を行なう。反応終了後、
生成物の単離は溶媒を留去して残渣を減圧下で蒸留する
か又は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで処理す
ることによって、目的とする光学活性なγ−ヒドロキシ
ケトン類が50〜90％の収率で得られる。
（１）をメタノール、エタノール、イソプロパノール等
のプロトン性溶媒の単独、あるいは、テトラヒドロフラ
ン、アセトンの単独、あるいは、それらの混合溶媒、あ
るいは、それらに少量の水を加えた溶媒（好ましくはメ
タノ−ル、エタノ−ル）に溶解し、溶液をオートクレー
ブに入れ、これにルテニウム−光学活性ホスフィン錯体
を加えて不斉水素化反応を行なわせることによって所望
のγ−ヒドロキシケトン類が得られる。また、本発明の
方法ではルテニウム化合物とBIPHOSを別々に反応系に加
え、その系の中でルテニウム−光学活性ホスフィン錯体
を形成させてもよい。また、本発明に用いられる光学活
性ホスフィン錯体の立体配置を（Ｒ）あるいは（Ｓ）に
適宜変えることによって、所望の立体配置を有するγ−
ヒドロキシケトンを得ることができる。触媒量は上記の
γ−ジケトン類（１）に対して1/50〜1/5000倍モル、好
ましくは1/100〜1/1000倍モル加えて、水素圧５〜50kg/
cm2、好ましくは30〜50kg/cm 2、反応温度５〜100℃、好
ましくは30〜50℃で1 時間から72時間、好ましくは８時
間から２０時間攪拌して水素化を行なう。反応終了後、
生成物の単離は溶媒を留去して残渣を減圧下で蒸留する
か又は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで処理す
ることによって、目的とする光学活性なγ−ヒドロキシ
ケトン類が50〜90％の収率で得られる。
【００３８】
【実施例】次に実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実
施例中の分析値は次の分析機器を用いて測定した。 ガスクロマトグラフ；HITACHI 263-80 株式会社日立
製作所製 カラム；シリコンOV-101 シリカキャピラリー φ0.25
mm×25ｍ（ジーエルサイエンス株式会社製） ；HEWLETT PACKARD 5890 SERIES II（HHEWLETT PACKARD
製） カラム；ニュートラボンド１ シリカキャピラリー φ
0.25mm×25ｍ 測定温度；初期温度50〜150℃で、昇温速度１〜10℃/mi
n 高速液体クロマトグラフ（以下、HPLCと略す）；665-A-
11（株式会社日立製作所製） カラム；COSMOSIL 5SL φ4.6mm×250mm （ナカライ
テスク株式会社製） 展開溶媒；ヘキサン／エーテル=8/1〜10/1 0.5〜1.5ml
/min 検出器；UV検出器 635M (UV-254nm) （株式会社日立製
作所製）1 H-核磁気共鳴スペクトル（以下1H-NMRと略す）；AM-40
0型装置（400MHz）（ブルッカー社製） 内部標準物質；テトラメチルシラン 施光度；DIP-４型装置 （日本分光工業株式会社製）
明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実
施例中の分析値は次の分析機器を用いて測定した。 ガスクロマトグラフ；HITACHI 263-80 株式会社日立
製作所製 カラム；シリコンOV-101 シリカキャピラリー φ0.25
mm×25ｍ（ジーエルサイエンス株式会社製） ；HEWLETT PACKARD 5890 SERIES II（HHEWLETT PACKARD
製） カラム；ニュートラボンド１ シリカキャピラリー φ
0.25mm×25ｍ 測定温度；初期温度50〜150℃で、昇温速度１〜10℃/mi
n 高速液体クロマトグラフ（以下、HPLCと略す）；665-A-
11（株式会社日立製作所製） カラム；COSMOSIL 5SL φ4.6mm×250mm （ナカライ
テスク株式会社製） 展開溶媒；ヘキサン／エーテル=8/1〜10/1 0.5〜1.5ml
/min 検出器；UV検出器 635M (UV-254nm) （株式会社日立製
作所製）1 H-核磁気共鳴スペクトル（以下1H-NMRと略す）；AM-40
0型装置（400MHz）（ブルッカー社製） 内部標準物質；テトラメチルシラン 施光度；DIP-４型装置 （日本分光工業株式会社製）
【００３９】実施例１ （−）-5-ヒドロキシヘキサン-2-オンの合成 あらかじめ窒素置換した100mlのステンレスオートクレ
ーブに、2,5-へキサンジオン5g(0.0438mol)とメタノー
ル10mlを加えて、これにRu2Cl4((R)-T-BINAP)2(NEt3)0.
197g(0.109mmol)を塩化メチレン２mlに溶解して加え、
水素圧50kg/cm2、50℃の反応温度で８時間反応を行な
い、溶媒を留去した後、ヘキサン／酢酸エチル=5/1の展
開溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、4.35gの（−）-5-ヒドロキシヘキサン-2-オ
ンを得た。収率85.6％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;1.2(3H,d)、1.68〜1.76(2H,m)、2.
1(3H,s)、2.6(2H,m)、3.8(1H,m) [α]D 25：−10.09(C.1.03 エタノール)
ーブに、2,5-へキサンジオン5g(0.0438mol)とメタノー
ル10mlを加えて、これにRu2Cl4((R)-T-BINAP)2(NEt3)0.
197g(0.109mmol)を塩化メチレン２mlに溶解して加え、
水素圧50kg/cm2、50℃の反応温度で８時間反応を行な
い、溶媒を留去した後、ヘキサン／酢酸エチル=5/1の展
開溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、4.35gの（−）-5-ヒドロキシヘキサン-2-オ
ンを得た。収率85.6％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;1.2(3H,d)、1.68〜1.76(2H,m)、2.
1(3H,s)、2.6(2H,m)、3.8(1H,m) [α]D 25：−10.09(C.1.03 エタノール)
【００４０】得られたヒドロキシケトンと(R)-あるいは
(S)-のα−メトキシ−α−トリフルオロメチルフェニル
酢酸（以下、MTPAと略す）からエステルを合成しヘキサ
ン／エーテル=9/1の展開溶媒でHPLCを用いて分析した結
果、光学純度は100％eeであった。
(S)-のα−メトキシ−α−トリフルオロメチルフェニル
酢酸（以下、MTPAと略す）からエステルを合成しヘキサ
ン／エーテル=9/1の展開溶媒でHPLCを用いて分析した結
果、光学純度は100％eeであった。
【００４１】実施例２〜８ 実施例１において触媒及び反応条件を変えたほかは、実
施例１に準じた操作を行なった結果を表１に示す。
施例１に準じた操作を行なった結果を表１に示す。
【００４２】
【表１】
【００４３】実施例９ （−）-4-ヒドロキシ-1-フェニルペンタン-1-オンの合
成 あらかじめ窒素置換した100mlのステンレスオートクレ
ーブに、5-フェニル-2,5-ペンタンジオン5g(0.0284mol)
とメタノール10mlを加えて、これに[RuI(p-シメン)((R)
-T-BINAP)]I3 0.2g(0.142mmol)を塩化メチレン２mlに溶
解して加え、水素圧50kg/cm2、50℃の反応温度で40時間
反応を行ない、溶媒を留去した後、ヘキサン／酢酸エチ
ル=5/1の展開溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、4.5gの（−）-4-ヒドロキシ-1-フ
ェニルペンタン-1-オンを得た。収率90.0％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;1.26(2H,d,J=6Hz)、 1.7〜1.9(2H,
m)、3.148,3.15(2H,dt,J=7.08Hz)、3.9(1H,m)、7.46(2
H,m)、7.55(1H,m)、7.98(2H,m) [α]D 25：−14.31 (C.1.02 エタノ−ル）
成 あらかじめ窒素置換した100mlのステンレスオートクレ
ーブに、5-フェニル-2,5-ペンタンジオン5g(0.0284mol)
とメタノール10mlを加えて、これに[RuI(p-シメン)((R)
-T-BINAP)]I3 0.2g(0.142mmol)を塩化メチレン２mlに溶
解して加え、水素圧50kg/cm2、50℃の反応温度で40時間
反応を行ない、溶媒を留去した後、ヘキサン／酢酸エチ
ル=5/1の展開溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、4.5gの（−）-4-ヒドロキシ-1-フ
ェニルペンタン-1-オンを得た。収率90.0％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;1.26(2H,d,J=6Hz)、 1.7〜1.9(2H,
m)、3.148,3.15(2H,dt,J=7.08Hz)、3.9(1H,m)、7.46(2
H,m)、7.55(1H,m)、7.98(2H,m) [α]D 25：−14.31 (C.1.02 エタノ−ル）
【００４４】得られたγ−ヒドロキシケトンと(R)-ある
いは(S)-のMTPAからエステルを合成し、ヘキサン／エ−
テル＝9/1 の展開溶媒でHPLCを用いて分析した結果、光
学純度は99.6％eeであった。
いは(S)-のMTPAからエステルを合成し、ヘキサン／エ−
テル＝9/1 の展開溶媒でHPLCを用いて分析した結果、光
学純度は99.6％eeであった。
【００４５】実施例１０〜１６ 実施例９において触媒及び反応条件を変えたほかは、実
施例９に準じた操作を行なった結果を表２に示す。
施例９に準じた操作を行なった結果を表２に示す。
【００４６】
【表２】
【００４７】実施例１７ （−）-2-ヒドロキシノナン-5-オンの合成 あらかじめ窒素置換した100mlのステンレスオートクレ
ーブに、2,5-ノナンジオン5g(0.032mol)とメタノール10
mlを加えて、これにRu2Cl4((R)-T-BINAP)2(NEt 3)0.144g
(0.08mmol)を塩化メチレン２mlに溶解して加え、水素圧
50kg/cm2、50℃の反応温度で２０時間反応を行ない、溶
媒を留去した後、ヘキサン／酢酸エチル=4/1の展開溶媒
を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、3.3gの（−）-2-ヒドロキシノナン-5-オンを得た。
収率65.6％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;0.9(3H,t,J=7.4Hz)、1.2(3H,d,J=
6.2Hz)、1.3(2H,m)、1.55〜1.78(3H,m)、2.43(2H,t,J=
7.6Hz)、2.56(2H,t,J=7Hz)、3.8(1H,m) [α]D 25：−10.19(C.1.05 エタノール)
ーブに、2,5-ノナンジオン5g(0.032mol)とメタノール10
mlを加えて、これにRu2Cl4((R)-T-BINAP)2(NEt 3)0.144g
(0.08mmol)を塩化メチレン２mlに溶解して加え、水素圧
50kg/cm2、50℃の反応温度で２０時間反応を行ない、溶
媒を留去した後、ヘキサン／酢酸エチル=4/1の展開溶媒
を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、3.3gの（−）-2-ヒドロキシノナン-5-オンを得た。
収率65.6％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;0.9(3H,t,J=7.4Hz)、1.2(3H,d,J=
6.2Hz)、1.3(2H,m)、1.55〜1.78(3H,m)、2.43(2H,t,J=
7.6Hz)、2.56(2H,t,J=7Hz)、3.8(1H,m) [α]D 25：−10.19(C.1.05 エタノール)
【００４８】得られたアルコールと(R)-あるいは(S)-の
MTPAからエステルを合成しヘキサン／エーテル=95/5 の
展開溶媒でHPLCを用いて分析した結果、光学純度は99.8
％eeであった。
MTPAからエステルを合成しヘキサン／エーテル=95/5 の
展開溶媒でHPLCを用いて分析した結果、光学純度は99.8
％eeであった。
【００４９】実施例１８ （−）-5-ヒドロキシ-6-フェニルヘキサン-2-オンの合
成 あらかじめ窒素置換した100mlのステンレスオートクレ
ーブに、6-フェニル-2,5-ヘキサンジオン5g(0.0261mol)
とメタノール10mlを加えて、これに[RuI(p-シメン)
((R)-T-BINAP)]I3 0.185g(0.13mmol)を塩化メチレン２m
lに溶解して加え、水素圧50kg/cm2、50℃の反応温度で3
6時間反応を行ない、溶媒を留去した後、ヘキサン／酢
酸エチル=5/1の展開溶媒を用いて、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、3.03gの（−）-5-ヒドロキ
シ-6-フェニルヘキサン-2-オンを得た。収率60.2％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;1.72(1H,m)、1.87(1H,m)、2.16(3
H,s)、2.625,2.633(2H,dt,J=7Hz)、2.69,2.71(1H,dd,J=
13.6Hz)、2.811,2.823(1H,dd,J=13.6Hz) [α]D 25：−3.57(C.1.05 エタノール)
成 あらかじめ窒素置換した100mlのステンレスオートクレ
ーブに、6-フェニル-2,5-ヘキサンジオン5g(0.0261mol)
とメタノール10mlを加えて、これに[RuI(p-シメン)
((R)-T-BINAP)]I3 0.185g(0.13mmol)を塩化メチレン２m
lに溶解して加え、水素圧50kg/cm2、50℃の反応温度で3
6時間反応を行ない、溶媒を留去した後、ヘキサン／酢
酸エチル=5/1の展開溶媒を用いて、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、3.03gの（−）-5-ヒドロキ
シ-6-フェニルヘキサン-2-オンを得た。収率60.2％。1 H-NMR(CDCl3)δppm;1.72(1H,m)、1.87(1H,m)、2.16(3
H,s)、2.625,2.633(2H,dt,J=7Hz)、2.69,2.71(1H,dd,J=
13.6Hz)、2.811,2.823(1H,dd,J=13.6Hz) [α]D 25：−3.57(C.1.05 エタノール)
【００５０】得られたアルコールと(R)-あるいは(S)-の
MTPAからエステルを合成しヘキサン／エーテル=8/2の展
開溶媒でHPLCを用いて分析した結果、光学純度は68.5％
eeであった。
MTPAからエステルを合成しヘキサン／エーテル=8/2の展
開溶媒でHPLCを用いて分析した結果、光学純度は68.5％
eeであった。
【００５１】
【発明の効果】本発明は、ルテニウム−光学活性ホスフ
ィン錯体を触媒として用いて、γ−ジケトン類に不斉水
素化反応を行なうことにより、医薬品を合成するための
中間体、生分解性ポリマー、香料等の光学活性部分の合
成において有用な光学活性なγ−ヒドロキシケトン類を
効率よく製造することのできる優れた方法である。
ィン錯体を触媒として用いて、γ−ジケトン類に不斉水
素化反応を行なうことにより、医薬品を合成するための
中間体、生分解性ポリマー、香料等の光学活性部分の合
成において有用な光学活性なγ−ヒドロキシケトン類を
効率よく製造することのできる優れた方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 雲林 秀徳 神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号 高 砂香料工業株式会社ファインケミカル研究 所内
Claims (6)
- 【請求項１】 下記一般式（１）、 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は置換基を有していてもよいアル
キル又はフェニル基を示す）で表されるγ−ジケトン類
を、ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒として
不斉水素化することを特徴とする下記一般式（２）、 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じ意味を示す）で表さ
れる光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法。 - 【請求項２】 ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体が
次の一般式（３）、 【化３】 ＲｕxＨyＣｌz（ＢＩＰＨＯＳ）2（Ｓ）p ・・・・（３） 〔式中、ＢＩＰＨＯＳは下記一般式（ａ）、（ｂ）又は
（ｃ）で表わされる三級ホスフィンを示し、 【化４】 Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ
12、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキ
シ基を示し、（Ｓ）は三級アミンを示し、ｙが０のとき
ｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１のときｘは１、
ｚは１、ｐは０を示す〕で表わされる化合物である請求
項１記載の製造法。 - 【請求項３】 ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体が
次の一般式（４）、 【化５】 ［ＲｕＡk（Ｂ）m（ＢＩＰＨＯＳ）］Ｙn ・・・・（４） （式中、Ａはハロゲン原子を示し、Ｂは置換基を有して
いてもよいベンゼン、又はアセトニトリルを示し、Ｙは
ハロゲン原子、ClO4、PF6、BPh4又はBF4を示し、ＢＩＰ
ＨＯＳは上記と同じ意味を示し、Ｂが置換基を有してい
てもよいベンゼンの場合、ｋが１、ｍが１、ｎが１であ
り、Ｂがアセトニトリルの場合、ｋが１のときは、ｍが
１、ｎが１、ｋが０のときはｍが４、ｎが２である）で
表される化合物である請求項１記載の製造法。 - 【請求項４】 ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体が
次の一般式（５）、 【化６】 ［ＲｕＩ（ｐ−シメン）（ＢＩＰＨＯＳ）］Ｉ3 ・・・・・（５） （式中、ＢＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示す）で表さ
れる化合物である請求項１記載の製造法。 - 【請求項５】 ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体が
次の一般式（６）、 【化７】 Ｒｕ（ＯＣＯ−Ｒ15）2（ＢＩＰＨＯＳ） ・・・・・（６） （式中、Ｒ15は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｂ
ＩＰＨＯＳは前記と同じ意味を示す）で表される化合物
である請求項１記載の製造法。 - 【請求項６】 ＢＩＰＨＯＳが次の一般式（ａ−１） 【化８】 （式中、Ｒ16は水素原子、メチル基又はｔ−ブチル基を
示す）で表わされる三級ホスフィンである請求項２〜５
いずれかの項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23617493A JP3450386B2 (ja) | 1992-10-05 | 1993-09-22 | 光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26587992 | 1992-10-05 | ||
| JP4-265879 | 1992-10-05 | ||
| JP23617493A JP3450386B2 (ja) | 1992-10-05 | 1993-09-22 | 光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06192159A true JPH06192159A (ja) | 1994-07-12 |
| JP3450386B2 JP3450386B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=26532526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23617493A Expired - Fee Related JP3450386B2 (ja) | 1992-10-05 | 1993-09-22 | 光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3450386B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022516972A (ja) * | 2019-01-11 | 2022-03-03 | アーチャー－ダニエルズ－ミッドランド カンパニー | カルボニル炭素原子を有する化合物の選択的水素化のためのプロセス及び触媒 |
-
1993
- 1993-09-22 JP JP23617493A patent/JP3450386B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022516972A (ja) * | 2019-01-11 | 2022-03-03 | アーチャー－ダニエルズ－ミッドランド カンパニー | カルボニル炭素原子を有する化合物の選択的水素化のためのプロセス及び触媒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3450386B2 (ja) | 2003-09-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5066815A (en) | Process for preparing optically active alcohol | |
| US4962230A (en) | Process for producing optically active carboxylic acid | |
| EP0245959A2 (en) | Ruthenium-phosphine complexes | |
| EP0643065A1 (de) | Neue Bisphosphine für asymmetrische Hydrierkatalysatoren | |
| JPS63145291A (ja) | ルテニウム−ホスフイン錯体 | |
| US4916252A (en) | Process for preparing optically active alcohol | |
| EP0478147B1 (en) | Process for producing optically active gamma-butyrolactone derivatives | |
| FR2830254A1 (fr) | Nouvelles diphosphines, leurs complexes avec des metaux de transition et leur utilisation en synthese asymetrique | |
| JP3310056B2 (ja) | 光学活性４−メチル−２−オキセタノンの製造方法 | |
| EP0258967B2 (en) | Process for producing optically active alcohols | |
| JP3020128B2 (ja) | 光学活性カルボン酸の製造法 | |
| EP0592881B1 (en) | Process for producing optically active gamma-hydroxyketones | |
| JP2950696B2 (ja) | 光学活性ムスコンの製造方法 | |
| US5919962A (en) | Process for preparing ruthenium-phosphine complex | |
| JP3450386B2 (ja) | 光学活性γ−ヒドロキシケトン類の製造法 | |
| JP2850068B2 (ja) | ルテニウム−ホスフィン錯体及びこれを触媒とする光学活性１−置換−１，３−プロパンジオールの製造方法 | |
| JPH1149787A (ja) | ２，２’−ビス（ジアリールホスフィノ）−６，６’−ビス（トリフルオロメチル）−１，１’−ビフェニル、これを配位子とする遷移金属錯体および光学活性な３−ヒドロキシ酪酸エステル誘導体あるいはβ−ブチロラクトンの製造方法 | |
| JPH08245664A (ja) | 光学活性非対称ジホスフィン及び該化合物の存在下にて光学活性体を得る方法 | |
| JP2006089493A (ja) | 光学活性コバルト（ｉｉ）錯体 | |
| JP3437623B2 (ja) | ルテニウム−ヨード−光学活性ホスフィン錯体の製法、およびこの錯体を用いた光学活性４−メチル−２−オキセタノンの製法 | |
| JPH0720910B2 (ja) | 光学活性カルボン酸の製法 | |
| JPH0753680B2 (ja) | 光学活性ケトンの製造法 | |
| CN114736108B (zh) | 烯丙基羰基烯醇类化合物及其合成方法 | |
| JP3292559B2 (ja) | カテコール誘導体の製造方法 | |
| JPH11302226A (ja) | 光学活性アルコ−ルの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |