JPH06180349A - 実力評価試験装置 - Google Patents

実力評価試験装置

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JPH06180349A
JPH06180349A JP4334083A JP33408392A JPH06180349A JP H06180349 A JPH06180349 A JP H06180349A JP 4334083 A JP4334083 A JP 4334083A JP 33408392 A JP33408392 A JP 33408392A JP H06180349 A JPH06180349 A JP H06180349A
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Koichiro Ueda
浩一郎 上田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体装置の実力評価試験の所要時間を短縮化
する。 【構成】電源電圧制御用ローカルプロセッサ14、論理
電圧制御用ローカルプロセッサ24及びタイミング制御
用ローカルプロセッサ18はそれぞれ、ホストプロセッ
サ30からの実力試験開始信号に応答して、ホストプロ
セッサ30で設定された基本値及びデジタルコンパレー
タ28からの一致判定結果EQに基づき出力を変化させ
て、電源13の出力電圧、ドライバ22から出力される
論理値‘1’と‘0’の電圧VHとVL、アナログコン
パレータ26の2値化のための論理値‘1’と‘0’の
判定基準電圧VTHとVTL及びタイミングジェネレー
タ17からのクロック出力のタイミングをプログラム制
御し、被測定デバイス10の実力を試験する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の実力を評
価するための実力評価試験装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の従来の試験装置では、パターン
ジェネレータからの入力パターンを被測定デバイスへ供
給し、被測定デバイスからの出力パターンがパターンジ
ェネレータからの期待値パターンに一致しているかどう
かを判定し、例えば、論理値‘1’の電圧高レベル電圧
VHをΔVずつ変化させてこの判定を繰り返し行い、出
力パターンと期待値パターンとの不一致が検出されたと
きの高レベル電圧VHにより被測定デバイスの実力を評
価する。
【0003】一方、半導体集積回路の大規模化、高集積
化及び高機能化に伴って、このような実力評価試験に長
時間を要するようになった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来では、1
つのテスト用プロセッサを用いて各種試験処理を行って
いたので、被測定デバイスが高速動作する特徴を充分生
かすことができず、試験所要時間を長くする原因となっ
ていた。
【0005】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、半導体装置の実力評価試験の所要時間を短縮化する
ことができる実力評価試験装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明に係
る実力評価試験装置を、実施例図中の対応する構成要素
の符号を引用して説明する。
【0007】第1発明の実力評価試験装置では、例えば
図1〜3に示す如く、PG開始信号に応答して、入力パ
ターンIPTNと期待値パターンEPTNの組を順次出
力するパターンジェネレータ16と、被測定デバイス1
0が装着され、入力パターンIPTNを被測定デバイス
10に供給し、被測定デバイス10から出力パターンを
取り出すテストヘッド12と、取り出された該出力パタ
ーンを期待値パターンEPTNと比較して比較結果EQ
を出力するデジタルコンパレータ28と、条件信号に応
じて被測定デバイス10に与える条件を変化させる複数
の条件可変手段13、17、22、26(1つの条件可
変手段の範囲は任意であり、例えば、ドライバ22とア
ナログコンパレータ26を1つの条件可変手段としても
よい)と、各条件可変手段に対して備えられ、実力試験
開始信号に応答して、基本値に基づき該条件信号を設定
して出力し該PG開始信号をパターンジェネレータ16
に供給し比較結果EQを受け取るループ処理を繰り返
し、該ループ処理を1回行う毎に、該条件信号の設定を
該基本値に基づいて変化させ、比較結果EQが反転した
ときに該ループ処理を終了し、このときの該条件信号を
被測定デバイス10の実力試験結果として出力するロー
カルプロセッサ14、18、24と、ローカルプロセッ
サ14、18、24に対し該基本値を設定し該実力試験
開始信号を供給し、ローカルプロセッサ14、18、2
4から該実力試験結果を受け取るホストプロセッサ30
と、を備えている。
【0008】第2発明の実力評価試験装置では、上記ロ
ーカルプロセッサの代わりに次のようなローカルプロセ
ッサを備えている。
【0009】このローカルプロセッサは、例えば図1、
図2及び図4に示す如く、各条件可変手段に対して備え
られ、実力試験開始信号に応答して、基本値に基づき該
条件信号を設定して出力し該PG開始信号をパターンジ
ェネレータ16に供給し比較結果EQを受け取るループ
処理を繰り返し、該ループ処理を1回行う毎に、バイナ
リサーチ法に従って該条件信号の設定を該基本値と比較
結果EQに基づき変化させ、該条件信号の設定が収束し
たときに該ループ処理を終了し、このときの該条件信号
を被測定デバイス10の実力試験結果として出力する。
【0010】本第1発明及び第2発明では、ホストプロ
セッサ30はローカルプロセッサ14、18及び24に
対し基本値を設定し、実力試験を開始させるだけでよ
く、従来のように電源13、タイミングジェネレータ1
7、ドライバ22及びアナログコンパレータ26等の条
件可変手段に対する設定値を1つのテストプロセッサで
頻繁に変化させる必要がなく、複数のローカルプロセッ
サで各種実力試験が分散処理されるので、半導体装置の
実力評価試験の所要時間を短縮化することができる。
【0011】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説
明する。
【0012】図1は、実力評価試験装置の構成を示す。
【0013】論理LSI等の被測定デバイス10は、テ
ストヘッド12に装着されている。被測定デバイス10
には、電源13からテストヘッド12を介して電源電圧
が供給される。電源13の出力電圧は、電源電圧制御用
ローカルプロセッサ14によりプログラム制御される。
【0014】一方、パターンジェネレータ16は、PG
開始信号に応答して、記憶装置に格納されている全テス
トパターンをクロックに同期して順次出力する。このテ
ストパターンは、入力パターンIPTNと期待値パター
ンEPTNの組からなり、入力パターンIPTNはタイ
ミングジェネレータ17からのタイミングクロックと共
にフォーマッタ20へ供給される。このクロック出力の
タイミングは、タイミング制御用ローカルプロセッサ1
8によりプログラム制御される。フォーマッタ20は、
このタイミングクロックと入力パターンIPTNとを合
成して新たにリード信号やライト信号等を生成し、これ
らをドライバ22及びテストヘッド12を介し被測定デ
バイス10へ供給する。ドライバ22から出力される論
理値‘1’と‘0’の電圧VHとVLは、論理電圧制御
用ローカルプロセッサ24によりプログラム制御され
る。
【0015】被測定デバイス10の出力は、テストヘッ
ド12を介しアナログコンパレータ26へ供給されて2
値化され、出力パターンOPTNが得られる。この2値
化のための論理値‘1’と‘0’の判定基準電圧VTH
とVTLは、論理電圧制御用ローカルプロセッサ24に
よりプログラム制御される。
【0016】デジタルコンパレータ28は、パターンジ
ェネレータ16からの期待値パターンEPTNとアナロ
グコンパレータ26からの出力パターンOPTNとが完
全一致しているかどうか、すなわち、試験結果がパスP
であるかフェイルFであるかを判定し、一致判定結果E
Qを出力する。例えば、一致判定結果EQが‘1’のと
きパスPとし、一致判定結果EQが‘0’のときフェイ
ルFとする。一致判定結果EQは、電源電圧制御ローカ
ルプロセサ14、タイミング制御用ローカルプロセッサ
18及び論理電圧制御用ローカルプロセッサ24へ供給
される。
【0017】電源電圧制御用ローカルプロセッサ14、
論理電圧制御用ローカルプロセッサ24及びタイミング
制御用ローカルプロセッサ18は、後述するように、ホ
ストプロセッサ30により設定される基本値とデジタル
コンパレータ28からの一致判定結果EQとに基づき出
力を変化させて実力試験を行う。この出力変化の直後
に、出力を変化させた電源電圧制御用ローカルプロセッ
サ14、タイミング制御用ローカルプロセッサ18又は
論理電圧制御用ローカルプロセッサ24からPG開始信
号がオアゲート32を介してパターンジェネレータ16
へ供給される。各種実力試験の実行順はホストプロセッ
サ30により定められ、電源電圧制御用ローカルプロセ
ッサ14、論理電圧制御用ローカルプロセッサ24及び
タイミング制御用ローカルプロセッサ18はそれぞれ、
ホストプロセッサ30からの実力試験開始信号に応答し
て実力試験を実行し、実力試験終了時にホストプロセッ
サ30へ実力試験終了信号及び実力試験結果をホストプ
ロセッサ30へ供給する。
【0018】説明の簡単化のため、論理電圧制御用ロー
カルプロセッサ24の構成のうち、ドライバ22から出
力される論理値‘1’の電圧VHをプログラム制御する
構成を図2に示す。
【0019】このローカルプロセッサ要部24aは、A
LU40、クロック発生器42、カウンタ44、プログ
ラムROM46、D/A変換器48及びレジスタR1〜
R4を備えている。レジスタR1〜R4にはホストプロ
セッサ30から基本値が設定される。クロック発生器4
2からのクロックφ2がカウンタ44で計数され、その
計数値でプログラムROM46がアドレス指定されてそ
の記憶内容が順次読み出され、ALU40へ供給され
る。ALU40は、クロック発生器42からの動作クロ
ックφ1に基づき、プログラムROM46から読み出さ
れたプログラムに従って処理を実行する。すなわち、A
LU40は、ホストプロセッサ30からの実力試験開始
信号で割込みがかけられ、これに応答して、後述するよ
うにレジスタR1〜R4をアクセスし、演算を行い、そ
の結果を出力することにより、実力試験を実行し、実力
試験終了時に実力試験終了信号を出力してホストプロセ
ッサ30に割込みをかけ、レジスタの内容を実力試験結
果としてホストプロセッサ30へ転送する。D/A変換
器48は、ALU40の出力をアナログ電圧に変換す
る。
【0020】1).電圧制御用ローカルプロセッサ要部
24aの第1動作例 次に、DO−LOOP法を実行する電圧制御用ローカル
プロセッサ要部24aの動作例を、図3に基づいて説明
する。以下、括弧内の数値は、図中のステップ識別番号
を表す。
【0021】(50)ホストプロセッサ30によりレジ
スタR1〜R4に基本値が設定される。この基本値は、
例えば、 レジスタR1:高レベル電圧VHの初期値 レジスタR2:高レベル電圧VHの増減値ΔV レジスタR3:ループ抜け出し判定フラグJ(パスP又
はフェイルF) レジスタR4:高レベル電圧VHの終値VM となっている。
【0022】以下の処理は、ホストプロセッサ30から
の実力試験開始信号による割込みがかけられた後に実行
される。
【0023】(51)レジスタR1の内容VHとレジス
タR4の内容VMとを比較し、VH<VMであれば次の
ステップ52へ進む。
【0024】(52)レジスタR1の内容VHを、D/
A変換器48を介して出力し、ドライバ22の論理値
‘1’の出力電圧とする。
【0025】(53)PG開始信号を出力して、オアゲ
ート32を介しパターンジェネレータ16へ供給する。
パターンジェネレータ16はこれに応答して、一連の全
テストパターンを順次出力する。
【0026】(54)デジタルコンパレータ28からの
一致判定結果EQを受信する。
【0027】(55)全テストパターンについてJ≠R
であれば、次のステップ56へ進む。なお、本例でのV
Hの初期値は、一致判定結果EQが確実にパスPになる
と考えられ値にし、ΔV>0とし、ループ抜け出し判定
フラグJをフェイルFとしておく。VHの初期値を、一
致判定結果EQが確実にフェイルFになると考えられ値
にし、ΔV<0とする場合には、ループ抜け出し判定フ
ラグJをパスPとしておく。
【0028】(56)レジスタR1の内容VHとレジス
タR2の内容ΔVとの差を求め、これを新たな高レベル
電圧VHとしてレジスタR1に書き込み、上記ステップ
51へ戻る。
【0029】(57)ステップ51でVH≧VMと判定
された場合には、レジスタR3中の実力試験結果フラグ
Tに‘0’(パスPとフェイルFの境界不明)を設定
し、実力試験終了信号を出力してホストプロセッサ30
に割込みをかけ、レジスタR1及びR3の内容を高レベ
ル電圧VHに関する実力試験結果としてホストプロセッ
サ30へ送信する。
【0030】(58)ステップ55でJ=Rと判定され
た場合には、レジスタR3の実力試験結果フラグTに
‘1’(パスPとフェイルFの境界検出)を設定し、実
力試験終了信号を出力してホストプロセッサ30に割込
みをかけ、レジスタR1及びR3の内容を実力試験結果
としてホストプロセッサ30へ送信する。
【0031】2)、電圧制御用ローカルプロセッサ要部
24aの第2動作例 次に、バイナリサーチ法を実行する電圧制御用ローカル
プロセッサ要部24aの動作例を、図4に基づいて説明
する。
【0032】(60)ホストプロセッサ30によりレジ
スタR1〜R3に基本値が設定される。この基本値は、
例えば、 レジスタR1:一致判定結果EQが確実にパスPになる
と考えられる高レベルVHP、通常は高レベルVHの標
準値 レジスタR2:一致判定結果EQが確実にフェイルFに
なると考えられる高レベルVHL レジスタR3:許容誤差ΔE となっている。
【0033】以下の処理は、ホストプロセッサ30から
の実力試験開始信号による割込みがかけられた後に実行
される。
【0034】(61)レジスタR1の内容VHPとレジ
スタR2の内容VHLの平均値VH=(VHP+VH
F)/2を算出し、これをレジスタR4に格納する。
【0035】(62)レジスタR1の内容VHPとレジ
スタR2の内容VHFとの差をレジスタR3の内容ΔE
と比較する。(VHP−VHF)>ΔEであれば、次の
ステップ63へ進む。
【0036】(63)レジスタR4の内容VHを、D/
A変換器48を介して出力し、ドライバ22の論理値
‘1’の出力電圧とする。
【0037】(64)PG開始信号を出力して、オアゲ
ート32を介しパターンジェネレータ16へ供給する。
パターンジェネレータ16はこれに応答して、一連の全
テストパターンを順次出力する。
【0038】(65)デジタルコンパレータ28からの
一致判定結果EQを受信する。
【0039】(66、67、68)一致判定結果EQが
パスPであれば、レジスタR4の内容VHをレジスタR
1に転送し、一致判定結果EQがフェイルFであれば、
レジスタR4の内容VHをレジスタR2に転送し、上記
ステップ61へ戻る。
【0040】(69)上記ステップ62で(VHP−V
HF)≦ΔEと判定された場合には、実力試験終了信号
を出力してホストプロセッサ30に割込みをかけ、レジ
スタR4の内容を実力試験結果としてホストプロセッサ
30へ送信する。
【0041】論理電圧制御用ローカルプロセッサ24
は、図2においてレジスタの数及びD/A変換器48の
数を増やした構成により、以上のような1).又は
2).の処理を、ドライバ22の低レベル出力電圧V
L、アナログコンパレータ26の論理値‘1’と‘0’
の判定基準電圧VTHとVTLについても同様に実行す
る。電源電圧制御用ローカルプロセッサ14について
も、論理電圧制御用ローカルプロセッサ要部24aと同
様の構成により、被測定デバイス10に供給する電源電
圧を変化させて上記同様の処理を行う。タイミング制御
用ローカルプロセッサ18は、図2においてD/A変換
器48の代わりに、ALU40の出力により遅延時間の
設定が可変である遅延回路を備えた構成により、クロッ
ク出力のタイミングを変化させて上記同様の処理を行
う。
【0042】本実施例では、ホストプロセッサ30は電
源電圧制御用ローカルプロセッサ14、タイミング制御
用ローカルプロセッサ18及び論理電圧制御用ローカル
プロセッサ24に対し基本値を設定し、実力試験を開始
させるだけでよく、従来のように1つのテストプロセッ
サで電源13、タイミングジェネレータ17、ドライバ
22及びアナログコンパレータ26に対する設定値を頻
繁に変化させる必要がないので、半導体装置の実力評価
試験の所要時間を短縮化することができる。
【0043】
【発明の効果】以上説明した如く、本第1発明及び第2
発明に係る実力評価試験装置によれば、ホストプロセッ
サはローカルプロセッサに対し基本値を設定し、実力試
験を開始させるだけでよく、従来のように1つのテスト
プロセッサで電源、タイミングジェネレータ、ドライバ
及びアナログコンパレータ等の条件可変手段に対する設
定値を頻繁に変化させる必要がなく、複数のローカルプ
ロセッサで各種実力試験が分散処理されるので、半導体
装置の実力評価試験の所要時間を短縮化することができ
るという効果を奏し、半導体装置の試験コスト低減に寄
与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の実力評価試験装置の構成図
である。
【図2】図1の電圧制御用ローカルプロセッサの要部構
成図である。
【図3】図2の装置の第1動作例を示すフローチャート
である。
【図4】図2の装置の第2動作例を示すフローチャート
である。
【符号の説明】
10 被測定デバイス 12 テストヘッド 14 電源 16 パターンジェネレータ 18 タイミングジェネレータ 20 フォーマッタ 22 ドライバ 24 電圧制御用ローカルプロセッサ 26 アナログコンパレータ 28 デジタルコンパレータ 30 ホストプロセッサ 24a 電圧制御用ローカルプロセッサ要部 40 ローカルプロセッサ 46 プログラムROM 48 D/A変換器 R1〜R4 レジスタ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 PG開始信号に応答して、入力パターン
    (IPTN)と期待値パターン(EPTN)の組を順次
    出力するパターンジェネレータ(16)と、 被測定デバイス(10)が装着され、該入力パターンを
    被測定デバイスに供給し、該被測定デバイスから出力パ
    ターンを取り出すテストヘッド(12)と、 取り出された該出力パターンを該期待値パターンと比較
    して比較結果(EQ)を出力するデジタルコンパレータ
    (28)と、 条件信号に応じて該被測定デバイスに与える条件を変化
    させる複数の条件可変手段(13、17、22、26)
    と、 各条件可変手段に対して備えられ、実力試験開始信号に
    応答して、基本値に基づき該条件信号を設定して出力し
    該PG開始信号を該パターンジェネレータに供給し該比
    較結果を受け取るループ処理を繰り返し、該ループ処理
    を1回行う毎に、該条件信号の設定を該基本値に基づい
    て変化させ、該比較結果が反転したときに該ループ処理
    を終了し、このときの該条件信号を該被測定デバイスの
    実力試験結果として出力するローカルプロセッサ(1
    4、18、24)と、 該ローカルプロセッサに対し該基本値を設定し該実力試
    験開始信号を供給し、該ローカルプロセッサから該実力
    試験結果を受け取るホストプロセッサ(30)と、 を有することを特徴とする実力評価試験装置。
  2. 【請求項2】 PG開始信号に応答して、入力パターン
    (IPTN)と期待値パターン(EPTN)の組を順次
    出力するパターンジェネレータ(16)と、 被測定デバイス(10)が装着され、該入力パターンを
    被測定デバイスに供給し、該被測定デバイスから出力パ
    ターンを取り出すテストヘッド(12)と、 取り出された該出力パターンを該期待値パターンと比較
    して比較結果(EQ)を出力するデジタルコンパレータ
    (28)と、 条件信号に応じて該被測定デバイスに与える条件を変化
    させる複数の条件可変手段(13、17、22、26)
    と、 各条件可変手段に対して備えられ、実力試験開始信号に
    応答して、基本値に基づき該条件信号を設定して出力し
    該PG開始信号を該パターンジェネレータに供給し該比
    較結果を受け取るループ処理を繰り返し、該ループ処理
    を1回行う毎に、バイナリサーチ法に従って該条件信号
    の設定を該基本値と該比較結果に基づき変化させ、該条
    件信号の設定が収束したときに該ループ処理を終了し、
    このときの該条件信号を該被測定デバイスの実力試験結
    果として出力するローカルプロセッサ(14、18、2
    4)と、 該ローカルプロセッサに対し該基本値を設定し該実力試
    験開始信号を供給し、該ローカルプロセッサから該実力
    試験結果を受け取るホストプロセッサ(30)と、 を有することを特徴とする実力評価試験装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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