JPH0617341B2 - アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 - Google Patents
アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤Info
- Publication number
- JPH0617341B2 JPH0617341B2 JP12458185A JP12458185A JPH0617341B2 JP H0617341 B2 JPH0617341 B2 JP H0617341B2 JP 12458185 A JP12458185 A JP 12458185A JP 12458185 A JP12458185 A JP 12458185A JP H0617341 B2 JPH0617341 B2 JP H0617341B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- linear
- alkyl group
- branched alkyl
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式(I)： （式中、Ｒ１は式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｐは３または４を表わす）で示される基または
式： （式中、ｑは１を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは窒素原子を表わす）で
示される基を表わす。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ
水素原子または炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす。Ｒ５は式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ７は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｒは３、４または５を表わす）で示される基ま
たは式： （式中、Ｘは窒素原子を表わす）で示される基を表わ
す。ｍおよびｎはそれぞれ０、１または２を表わす。た
だしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされるアミン化合
物またはその酸付加塩、およびそれを有効成分とする抗
真菌剤に関する。
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｐは３または４を表わす）で示される基または
式： （式中、ｑは１を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは窒素原子を表わす）で
示される基を表わす。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ
水素原子または炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす。Ｒ５は式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ７は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｒは３、４または５を表わす）で示される基ま
たは式： （式中、Ｘは窒素原子を表わす）で示される基を表わ
す。ｍおよびｎはそれぞれ０、１または２を表わす。た
だしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされるアミン化合
物またはその酸付加塩、およびそれを有効成分とする抗
真菌剤に関する。
一般式(I)においてＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基ま
たはニトロ基を表わす）で示される基であり、Ｒ２が水
素原子またはアルキル基であり、Ｒ３がアルキル基であ
り、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７はアルキル基またはシクロアルキル基を表
わす）で示される基であり、かつｍおよびｎが１である
ばあいの化合物については、特願昭59−118636号（特公
平２−32268号）においてすでに出願した。
たはニトロ基を表わす）で示される基であり、Ｒ２が水
素原子またはアルキル基であり、Ｒ３がアルキル基であ
り、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７はアルキル基またはシクロアルキル基を表
わす）で示される基であり、かつｍおよびｎが１である
ばあいの化合物については、特願昭59−118636号（特公
平２−32268号）においてすでに出願した。
式中、Ｒ６におけるハロゲン原子としては塩素、臭素、
フッ素またはヨウ素を意味する。
フッ素またはヨウ素を意味する。
一般式(I)で示されるアミン化合物の付加塩としては、
たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸
塩シュウ酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩および
メタンスルホン酸塩などの医薬品として許容される酸付
加塩があげられる。
たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸
塩シュウ酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩および
メタンスルホン酸塩などの医薬品として許容される酸付
加塩があげられる。
Ｒ１およびＲ５における結合の位置は任意の位置であ
り、Ｒ１およびＲ２における置換基、Ｒ６およびＲ７の
置換の位置は任意の位置とする。
り、Ｒ１およびＲ２における置換基、Ｒ６およびＲ７の
置換の位置は任意の位置とする。
本発明の化合物は、たとえば (a)一般式(II)： （式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ、Ａは離脱基を示
す。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、か
つｍが１であるばあいを除く。）で表わされる化合物と
一般式(III)： （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびｎは前記と同じ。ただ
しＲ３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル
基であり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｎが１で
あるばあいを除く。）で表わされる化合物とを反応させ
るか、または (b)一般式(IV)： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびｍは前記と同じ。ただ
しＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、かつｍが１であるばあいを除く。）で表わされる
化合物と一般式(V)： （式中、Ｒ４、Ｒ５、Ａおよびｎは前記と同じ。ただし
Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｎが１で
あるばあいを除く。）で表わされる化合物とを反応させ
るか、または (c)一般式(VI)： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびｍは前記
と同じでｎは１または２を表わす。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされる化合物を還
元するか、または (d)一般式(VII)： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびｎは前記
と同じでｍは１または２を表わす。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされる化合物を還
元することによってそれぞれえられる化合物を遊離塩基
または酸付加塩として回収することによって製造しう
る。
す。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、か
つｍが１であるばあいを除く。）で表わされる化合物と
一般式(III)： （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびｎは前記と同じ。ただ
しＲ３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル
基であり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｎが１で
あるばあいを除く。）で表わされる化合物とを反応させ
るか、または (b)一般式(IV)： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびｍは前記と同じ。ただ
しＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、かつｍが１であるばあいを除く。）で表わされる
化合物と一般式(V)： （式中、Ｒ４、Ｒ５、Ａおよびｎは前記と同じ。ただし
Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｎが１で
あるばあいを除く。）で表わされる化合物とを反応させ
るか、または (c)一般式(VI)： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびｍは前記
と同じでｎは１または２を表わす。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされる化合物を還
元するか、または (d)一般式(VII)： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびｎは前記
と同じでｍは１または２を表わす。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされる化合物を還
元することによってそれぞれえられる化合物を遊離塩基
または酸付加塩として回収することによって製造しう
る。
上記方法(a)および(b)、または(c)および(d)はそれぞれ
通常の方法で実施しうる。
通常の方法で実施しうる。
(a)および(b)のばあい： たとえば芳香族炭化水素（ベンゼンまたはトルエンな
ど）、エーテル類（ジエチルエーテルまたはジオキサン
など）またはカルボン酸アルキルアミド（ジメチルホル
ムアミドなど）などの反応溶媒中、室温と溶媒の沸点の
あいだの反応温度（好ましくは室温から60℃まで）で実
施しうる。離脱基Ａとしてハロゲン原子（塩素または臭
素など）または炭素数１〜10を有する有機スルホニルオ
キシ基（トシルオキシまたはメシルオキシなど）などが
あげられる。反応は適すれば酸結合剤すなわちアルカリ
金属またはアルカリ土類金属の水酸化物（水酸化ナトリ
ウムまたは水酸化カリウムなど）、または炭酸塩（炭酸
ナトリウムまたは炭酸カリウムなど）の存在下で実施す
ることが有利である。
ど）、エーテル類（ジエチルエーテルまたはジオキサン
など）またはカルボン酸アルキルアミド（ジメチルホル
ムアミドなど）などの反応溶媒中、室温と溶媒の沸点の
あいだの反応温度（好ましくは室温から60℃まで）で実
施しうる。離脱基Ａとしてハロゲン原子（塩素または臭
素など）または炭素数１〜10を有する有機スルホニルオ
キシ基（トシルオキシまたはメシルオキシなど）などが
あげられる。反応は適すれば酸結合剤すなわちアルカリ
金属またはアルカリ土類金属の水酸化物（水酸化ナトリ
ウムまたは水酸化カリウムなど）、または炭酸塩（炭酸
ナトリウムまたは炭酸カリウムなど）の存在下で実施す
ることが有利である。
(c)および(d)のばあい： たとえば還元剤として水素化リチウムアルミニウムを用
い、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンまたはジオキサンなど）などの不活性溶媒中、室温ま
たは室温と溶媒の沸点のあいだの反応温度で実施しう
る。
い、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンまたはジオキサンなど）などの不活性溶媒中、室温ま
たは室温と溶媒の沸点のあいだの反応温度で実施しう
る。
一般式(I)で表わされる本発明の化合物を遊離塩基から
酸付加温に変換したり、またその逆の反応は、それぞれ
通常の方法で実施しうる。一般式(I)で表わされる本発
明の化合物を製造するのに用いられる出発物質である式
(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)および(VII)で表わされ
る化合物は、ほとんどが公知化合物であるが新規化合物
についても通常の方法で容易に製造しうる。それらの製
造例をつぎに示す。
酸付加温に変換したり、またその逆の反応は、それぞれ
通常の方法で実施しうる。一般式(I)で表わされる本発
明の化合物を製造するのに用いられる出発物質である式
(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)および(VII)で表わされ
る化合物は、ほとんどが公知化合物であるが新規化合物
についても通常の方法で容易に製造しうる。それらの製
造例をつぎに示す。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｍおよびｎは
前記と同じ。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。） 反応条件はかかる反応に通常採用されるものでよく、中
間体は適すれば単離することなくさらに反応させること
ができる。単離を行なうばあいであっても通常の方法で
これを実施することができる。
前記と同じ。ただしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。） 反応条件はかかる反応に通常採用されるものでよく、中
間体は適すれば単離することなくさらに反応させること
ができる。単離を行なうばあいであっても通常の方法で
これを実施することができる。
本発明の化合物は優れた抗真菌活性を示す。とくに毛瘡
白癬菌（Trichophyton mentagrophytes）、趾間白癬菌
（Trichophyton interdigitale）、猩紅色白癬菌（Tri
chophyton rubrum、イヌ小胞子菌（Microsporum cani
s）、石膏状小胞子菌（Microsporum gypseum）、有毛
表皮菌（Epidermophyton floccosum）、クリプトコッ
カスス・ネオホルマンス（Cryptococuss neoforman
s）、スポロトリックス・シェンキー（Sporothrix sch
enckii）、アスペルギルス・フミガーツス（Aspergillu
s fumigatus）、カンジダ・アルビカンス（Candida a
lbicans）などの真菌に対し、in vitro試験では0.025
〜100μｇ／mlの抗真菌活性を示す。
白癬菌（Trichophyton mentagrophytes）、趾間白癬菌
（Trichophyton interdigitale）、猩紅色白癬菌（Tri
chophyton rubrum、イヌ小胞子菌（Microsporum cani
s）、石膏状小胞子菌（Microsporum gypseum）、有毛
表皮菌（Epidermophyton floccosum）、クリプトコッ
カスス・ネオホルマンス（Cryptococuss neoforman
s）、スポロトリックス・シェンキー（Sporothrix sch
enckii）、アスペルギルス・フミガーツス（Aspergillu
s fumigatus）、カンジダ・アルビカンス（Candida a
lbicans）などの真菌に対し、in vitro試験では0.025
〜100μｇ／mlの抗真菌活性を示す。
また、モルモットを用いた皮膚真菌症モデルでのin vi
vo試験（酒井純雄：真菌と真菌症第１巻 252頁（昭35
年））においても、本発明の化合物が真菌に対して優れ
た活性を有することが判明した。
vo試験（酒井純雄：真菌と真菌症第１巻 252頁（昭35
年））においても、本発明の化合物が真菌に対して優れ
た活性を有することが判明した。
本発明の化合物は液剤、軟膏剤またはクリーム剤などの
剤形にて抗真菌剤として提供しうる。有効成分の濃度
は、対象となる真菌、疾病の程度、用いる化合物の種
類、剤形などによって異なるが、一般的には0.01〜５％
の濃度で抗真菌剤として提供しうる。
剤形にて抗真菌剤として提供しうる。有効成分の濃度
は、対象となる真菌、疾病の程度、用いる化合物の種
類、剤形などによって異なるが、一般的には0.01〜５％
の濃度で抗真菌剤として提供しうる。
以下、参考例、実施例および試験例に基づいて本発明を
さらに詳しく説明するが、もとより本発明はかかる実施
例のみに限定されるものではない。
さらに詳しく説明するが、もとより本発明はかかる実施
例のみに限定されるものではない。
なお、以下に示すNMRスペクトルは、特にことわりのな
い限り全てTMSを基準物質として用い、CDCl３中で測定
したときのδ値である。また実施例化合物の融点は塩酸
塩の融点を、NMRスペクトルは遊離塩基をそれぞれ示し
てある。
い限り全てTMSを基準物質として用い、CDCl３中で測定
したときのδ値である。また実施例化合物の融点は塩酸
塩の融点を、NMRスペクトルは遊離塩基をそれぞれ示し
てある。
参考例１ Ｎ−メチル−４−tert−ブチルベンジルアミンの製造 ４−tert−ブチル安息香酸178ｇとチオニールクロライ
ド360ｇを混合し、50℃で５時間攪拌した。ついで減圧
下で過剰のチオニールクロライドを留去したのち、40％
メチルアミン水溶液300mlに滴下し、３時間攪拌した。
塩酸で酸性にすることによりＮ−メチル−４−tert−ブ
チル安息香酸アミド（融点99〜100℃）171ｇが析出し
た。
ド360ｇを混合し、50℃で５時間攪拌した。ついで減圧
下で過剰のチオニールクロライドを留去したのち、40％
メチルアミン水溶液300mlに滴下し、３時間攪拌した。
塩酸で酸性にすることによりＮ−メチル−４−tert−ブ
チル安息香酸アミド（融点99〜100℃）171ｇが析出し
た。
このアミド体76.5ｇを水素化リチウムアルミニウムと無
水ジエチルエーテル１ｌとよりなる混液に加え６時間環
流した。冷時、過剰の水素化リチウムアルミニウムを水
を滴下することにより分解し、エーテル層を分取した。
エーテルを留去したのち、減圧蒸留で無色液体Ｎ−メチ
ル−４−tert−ブチルベンジルアミン（沸点点93〜95℃
／６mmHg）をえた。
水ジエチルエーテル１ｌとよりなる混液に加え６時間環
流した。冷時、過剰の水素化リチウムアルミニウムを水
を滴下することにより分解し、エーテル層を分取した。
エーテルを留去したのち、減圧蒸留で無色液体Ｎ−メチ
ル−４−tert−ブチルベンジルアミン（沸点点93〜95℃
／６mmHg）をえた。
NMRスペクトル：7.26（ｓ，4H）、3.68（ｓ，2H）、2.4
2（Ｓ，3H）、1.29（Ｓ，9H） 塩酸塩の融点：208.5〜209.5℃ つぎの化合物も同様にして製造することができた。
2（Ｓ，3H）、1.29（Ｓ，9H） 塩酸塩の融点：208.5〜209.5℃ つぎの化合物も同様にして製造することができた。
Ｎ−エチル−４−tert−ブチルベンジルアミン（無色液
体） 沸 点：105〜107℃／３mmHg NMRスペクトル：7.28（ｓ，4H）、3.75（ｓ，2H）、2.6
7（ｇ，Ｊ＝3.5Hz、2H）、1.33（ｓ，9H）、1.12（ｔ，
Ｊ＝7.5Hz，3H） Ｎ−プロピル−１−ナフチルメチルアミン（無色液体） 沸点：133〜134℃／1.5mmHg NMRスペクトル：8.2〜7.2（ｍ，7H）、4.20（ｓ，2
H）、2.69（ｔ，Ｊ＝7Hz,2H)、1.86〜1.15（ｍ，2H)、
0.9（ｔ，Ｊ＝7Hz，3H） 参考例２ Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ナフチルメチル）４−tert−ブ
チルフエニールアセトアミドの製造 ４−tert−ブチルフェニール酢酸1.92ｇと塩化チオニー
ル3.6ｇを50℃で３時間攪拌させた。反応後、減圧下で
減圧チオニールを留去して酸クロライドをえた。
体） 沸 点：105〜107℃／３mmHg NMRスペクトル：7.28（ｓ，4H）、3.75（ｓ，2H）、2.6
7（ｇ，Ｊ＝3.5Hz、2H）、1.33（ｓ，9H）、1.12（ｔ，
Ｊ＝7.5Hz，3H） Ｎ−プロピル−１−ナフチルメチルアミン（無色液体） 沸点：133〜134℃／1.5mmHg NMRスペクトル：8.2〜7.2（ｍ，7H）、4.20（ｓ，2
H）、2.69（ｔ，Ｊ＝7Hz,2H)、1.86〜1.15（ｍ，2H)、
0.9（ｔ，Ｊ＝7Hz，3H） 参考例２ Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ナフチルメチル）４−tert−ブ
チルフエニールアセトアミドの製造 ４−tert−ブチルフェニール酢酸1.92ｇと塩化チオニー
ル3.6ｇを50℃で３時間攪拌させた。反応後、減圧下で
減圧チオニールを留去して酸クロライドをえた。
Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミン1.71ｇ、トリエ
チルアミン２mlおよび無水ベンゼン10mlの混液に先の酸
クロライドを無水ベンゼン10mlに溶した溶液を滴下し、
４時間攪拌させた。反応物を水に注ぎ、ベンゼンで抽出
し、３％塩酸、３％炭酸水素ナトリウム水溶液でそれぞ
れ洗い水洗後、硫酸ナトリウムで脱水した。ベンゼンを
留去して褐色粘稠物のアミド体をえた。
チルアミン２mlおよび無水ベンゼン10mlの混液に先の酸
クロライドを無水ベンゼン10mlに溶した溶液を滴下し、
４時間攪拌させた。反応物を水に注ぎ、ベンゼンで抽出
し、３％塩酸、３％炭酸水素ナトリウム水溶液でそれぞ
れ洗い水洗後、硫酸ナトリウムで脱水した。ベンゼンを
留去して褐色粘稠物のアミド体をえた。
つぎの化合物も同様にして製造することができた。
Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−１−
ナフチルアセトアミド NMRスペクトル（CCl3中）：８〜７（ｍ，11H）、4.58、
4.47（ｓ，ｓ，2H）、4.14（ｓ，2H）、2.97、2.86
（ｓ，ｓ，3H）、1.27（ｓ，9H） Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）１−ナフトアミド 沸点：197〜198℃ Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−４−
キノリンカルボン酸アミド NMRスペクトル：8.90〜6.84（ｍ，10H）、4.79、4.17
（ｓ，ｓ，2H、3.09、2.55（ｓ，ｓ，3H）、1.29、1.23
（ｓ，ｓ，9H） 実施例１ Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−３−
ベンゾチオフエンメチルアミンの製造 Ｎ−メチル−４−tert−ブチルベンジルアミン 0.89ｇ、炭酸ナトリウム0.6ｇおよびジメチルホルムア
ミド20mlの混液に、３−クロロメチルベンゾチオフェン
0.91ｇを加え室温で攪拌させた。反応液を水に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出、水洗いした。ベンゼン溶液に濃塩酸１ml
を加え、減圧下でベンゼンを留去後、エタノールより再
結晶した無色針状晶1.4ｇ（融点：216〜217.5℃）をえ
た。
ナフチルアセトアミド NMRスペクトル（CCl3中）：８〜７（ｍ，11H）、4.58、
4.47（ｓ，ｓ，2H）、4.14（ｓ，2H）、2.97、2.86
（ｓ，ｓ，3H）、1.27（ｓ，9H） Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）１−ナフトアミド 沸点：197〜198℃ Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−４−
キノリンカルボン酸アミド NMRスペクトル：8.90〜6.84（ｍ，10H）、4.79、4.17
（ｓ，ｓ，2H、3.09、2.55（ｓ，ｓ，3H）、1.29、1.23
（ｓ，ｓ，9H） 実施例１ Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−３−
ベンゾチオフエンメチルアミンの製造 Ｎ−メチル−４−tert−ブチルベンジルアミン 0.89ｇ、炭酸ナトリウム0.6ｇおよびジメチルホルムア
ミド20mlの混液に、３−クロロメチルベンゾチオフェン
0.91ｇを加え室温で攪拌させた。反応液を水に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出、水洗いした。ベンゼン溶液に濃塩酸１ml
を加え、減圧下でベンゼンを留去後、エタノールより再
結晶した無色針状晶1.4ｇ（融点：216〜217.5℃）をえ
た。
NMRスペクトル：８〜7.2（ｍ，9H）、3.74（ｓ，2H）、
3.54（ｓ，2H）、2.21（ｓ，Ｈ）、1.30（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：147（基準ピーク）、148、176、232
（Ｍ＋） 実施例２〜８ それぞれ実施例１と同様にして各種アミン化合物の塩酸
塩をえた。各化合物の融点をあわせて第１表に示す。
3.54（ｓ，2H）、2.21（ｓ，Ｈ）、1.30（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：147（基準ピーク）、148、176、232
（Ｍ＋） 実施例２〜８ それぞれ実施例１と同様にして各種アミン化合物の塩酸
塩をえた。各化合物の融点をあわせて第１表に示す。
以下、各化合物のNMRスペクトルおよびMSスペクトル（m
/e）をあげる。
/e）をあげる。
実施例２でえられた化合物 NMRスペクトル：８〜7.2（ｍ，9H）、3.76（ｓ，2H）、
3.55（ｓ，2H）、2.54（ｔ，Ｊ＝7.2Hz，2H）、1.28
（ｓ，9H）、（ｔ，Ｊ＝7.2Hz，3H） ＭＳスペクトル：147（基準ピーク）、148、190、322、
337（Ｍ＋） 実施例３でえられた化合物 NMRスペクトル：7.9〜7.4（ｍ，8H）、3.72（ｓ，2
H）、2.52（ｓ，3H）、2.20（ｓ，2H）、1.29（ｓ，9
H） ＭＳスペクトル：161（基準ピーク）、162、176、190、
337（Ｍ＋） 実施例４でえられた化合物 NMRスペクトル：7.83〜7.23（ｍ，9H）、3.78（ｓ，2
H）、3.53（ｓ，2H）、2.17（ｓ，3H）、1.32（ｓ，9
H） ＭＳスペクトル：147（基準ピーク）、148、176、190、
323（Ｍ＋） 実施例５でえられた化合物 NMRスペクトル：7.64（ｍ，8H）、3.73（ｓ，2H）、3.5
7（ｓ，2H）、2.15（ｓ，3H）、1.31（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：147、176（基準ピーク）、225、227、
254、256、401（Ｍ＋）、403（Ｍ＋） 実施例６でえられた化合物 NMRスペクトル：7.28〜7.12（ｍ，7H）、3.47（ｓ，4
H）、2.88（ｔ，Ｊ＝7Hz，4H）、2.17（ｓ，3H）、2.02
（ｔ，Ｊ＝7Hz，2H）、1.30（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：131（基準ピーク）、132、147、160、
176、307（Ｍ＋） 実施例７でえられた化合物 NMRスペクトル：7.27〜6.93（ｍ，7H）、3.48、3.45
（ｓ，ｓ，4H）、2.95〜2.62（ｍ，4H）、2.13（ｓ，3
H）、1.88〜1.67（ｍ，4H）、1.32（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：129、144（基準ピーク）、145、147、
176、178、321（Ｍ＋） 実施例８でえられた化合物 NMRスペクトル：7.27（ｓ，4H）、7.03（ｓ，3H）、3.4
8，3.45（ｓ，ｓ，4H）、2.9〜2.6（ｍ，4H）、2.16
（ｓ，3H）、1.88〜1.67（ｍ，4H）、1.29（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：139、140、141、174、176（基準ピー
ク）、321（Ｍ＋） 実施例９ （Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−１
−アセナフテニルアミン塩酸塩の製造） Ｎ−メチル−４−tert−ブチルベンジルアミン1.71ｇ、
炭酸ナトリウム2.12ｇおよびジメチルホルムアミド10ml
の混液に、１−ブロモアセナフテン3.89ｇを加え、室温
で19時間撹拌させた。反応液を水に注ぎ、ベンゼンだ抽
出し、水洗した。ベンゼンを除去後、残留物を少量のア
セトンで溶し、冷時、濃温酸２mlを加えた。減圧下でア
セトンおよび濃塩酸を除去し、アセトン−メタノール混
液より再結晶して白色板状晶の標題化合物2.8ｇをえ
た。
3.55（ｓ，2H）、2.54（ｔ，Ｊ＝7.2Hz，2H）、1.28
（ｓ，9H）、（ｔ，Ｊ＝7.2Hz，3H） ＭＳスペクトル：147（基準ピーク）、148、190、322、
337（Ｍ＋） 実施例３でえられた化合物 NMRスペクトル：7.9〜7.4（ｍ，8H）、3.72（ｓ，2
H）、2.52（ｓ，3H）、2.20（ｓ，2H）、1.29（ｓ，9
H） ＭＳスペクトル：161（基準ピーク）、162、176、190、
337（Ｍ＋） 実施例４でえられた化合物 NMRスペクトル：7.83〜7.23（ｍ，9H）、3.78（ｓ，2
H）、3.53（ｓ，2H）、2.17（ｓ，3H）、1.32（ｓ，9
H） ＭＳスペクトル：147（基準ピーク）、148、176、190、
323（Ｍ＋） 実施例５でえられた化合物 NMRスペクトル：7.64（ｍ，8H）、3.73（ｓ，2H）、3.5
7（ｓ，2H）、2.15（ｓ，3H）、1.31（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：147、176（基準ピーク）、225、227、
254、256、401（Ｍ＋）、403（Ｍ＋） 実施例６でえられた化合物 NMRスペクトル：7.28〜7.12（ｍ，7H）、3.47（ｓ，4
H）、2.88（ｔ，Ｊ＝7Hz，4H）、2.17（ｓ，3H）、2.02
（ｔ，Ｊ＝7Hz，2H）、1.30（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：131（基準ピーク）、132、147、160、
176、307（Ｍ＋） 実施例７でえられた化合物 NMRスペクトル：7.27〜6.93（ｍ，7H）、3.48、3.45
（ｓ，ｓ，4H）、2.95〜2.62（ｍ，4H）、2.13（ｓ，3
H）、1.88〜1.67（ｍ，4H）、1.32（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：129、144（基準ピーク）、145、147、
176、178、321（Ｍ＋） 実施例８でえられた化合物 NMRスペクトル：7.27（ｓ，4H）、7.03（ｓ，3H）、3.4
8，3.45（ｓ，ｓ，4H）、2.9〜2.6（ｍ，4H）、2.16
（ｓ，3H）、1.88〜1.67（ｍ，4H）、1.29（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：139、140、141、174、176（基準ピー
ク）、321（Ｍ＋） 実施例９ （Ｎ−（４−tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−１
−アセナフテニルアミン塩酸塩の製造） Ｎ−メチル−４−tert−ブチルベンジルアミン1.71ｇ、
炭酸ナトリウム2.12ｇおよびジメチルホルムアミド10ml
の混液に、１−ブロモアセナフテン3.89ｇを加え、室温
で19時間撹拌させた。反応液を水に注ぎ、ベンゼンだ抽
出し、水洗した。ベンゼンを除去後、残留物を少量のア
セトンで溶し、冷時、濃温酸２mlを加えた。減圧下でア
セトンおよび濃塩酸を除去し、アセトン−メタノール混
液より再結晶して白色板状晶の標題化合物2.8ｇをえ
た。
融点：233〜234.5℃ ＮＭＲスペクトル：７．７〜7.29（ｍ，10H）、5.05〜
4.86（ｍ，1H、3.49（ｓ，2H）、3.38〜3.26（ｍ，2
H）、2.15（ｓ，3H）、1.27（ｓ，9H ＭＳスペクトル：144、182（基準ピーク）、314、329
（Ｍ＋） 実施例１０ （Ｎ−（４−tert−ブチル−α−メチルベンジル）−Ｎ
−メチル−１−ナフチルメチルアミンの製造） Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミン1.71ｇ、炭酸ナ
トリウム1.17ｇ、ジメチルホルムアミド10mlの混液に４
−tert−ブチル−α−メチルベンジルクロライド2.07ｇ
を加え、70〜80℃で24時間撹拌させた。反応液を水に注
ぎ、ベンゼンで抽出し、水洗した。ベンゼン溶液に濃塩
酸２mlを加え、減圧下でベンゼンを留去後、アセトン−
メタノール溶液より再結晶して白色結晶2.5ｇ（融点：2
27.5〜228.5℃）をえた。
4.86（ｍ，1H、3.49（ｓ，2H）、3.38〜3.26（ｍ，2
H）、2.15（ｓ，3H）、1.27（ｓ，9H ＭＳスペクトル：144、182（基準ピーク）、314、329
（Ｍ＋） 実施例１０ （Ｎ−（４−tert−ブチル−α−メチルベンジル）−Ｎ
−メチル−１−ナフチルメチルアミンの製造） Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミン1.71ｇ、炭酸ナ
トリウム1.17ｇ、ジメチルホルムアミド10mlの混液に４
−tert−ブチル−α−メチルベンジルクロライド2.07ｇ
を加え、70〜80℃で24時間撹拌させた。反応液を水に注
ぎ、ベンゼンで抽出し、水洗した。ベンゼン溶液に濃塩
酸２mlを加え、減圧下でベンゼンを留去後、アセトン−
メタノール溶液より再結晶して白色結晶2.5ｇ（融点：2
27.5〜228.5℃）をえた。
ＮＭＲスペクトル：8.23〜7.32（ｍ，11H）、3.92
（ｓ，2H）、3.76（ｑ，Ｊ＝6.5Hz、1H）、2.11（ｓ，3
H）、1.47（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H）、1.30（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、150、316、331
（Ｍ＋） 実施例１１ （Ｎ−（５−インダンメチル）−Ｎ−メチル−１−ナフ
チルメチルアミン塩酸塩の製造） Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミン1.03ｇ、炭酸ナ
トリウム0.76ｇおよびジメチルホルムアミド10mlの混液
に、５−クロロメチルインダン0.76ｇを加え、50℃で17
時間攪拌させた。反応液を水に注ぎ、ベンゼンで抽出
し、水洗した。ベンゼンを除去後、残留の油状物を少量
のアセトンで溶し、冷時、濃塩酸１mlを加えた。減圧下
でアセトンおよび濃塩酸を除去し、アセトン−エタノー
ル混液より再結晶して白色板状晶の標題化合物1.14ｇを
えた。
（ｓ，2H）、3.76（ｑ，Ｊ＝6.5Hz、1H）、2.11（ｓ，3
H）、1.47（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H）、1.30（ｓ，9H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、150、316、331
（Ｍ＋） 実施例１１ （Ｎ−（５−インダンメチル）−Ｎ−メチル−１−ナフ
チルメチルアミン塩酸塩の製造） Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミン1.03ｇ、炭酸ナ
トリウム0.76ｇおよびジメチルホルムアミド10mlの混液
に、５−クロロメチルインダン0.76ｇを加え、50℃で17
時間攪拌させた。反応液を水に注ぎ、ベンゼンで抽出
し、水洗した。ベンゼンを除去後、残留の油状物を少量
のアセトンで溶し、冷時、濃塩酸１mlを加えた。減圧下
でアセトンおよび濃塩酸を除去し、アセトン−エタノー
ル混液より再結晶して白色板状晶の標題化合物1.14ｇを
えた。
融点：192〜194℃ ＮＭＲスペクトル：8.37〜7.02（ｍ，10H）、3.85
（ｓ，2H）、3.47（ｓ，2H）、2.81（ｔ，Ｊ＝7Hz，４
Ｈ）、2.13（ｓ，3H）、2.01（ｔ，Ｊ＝7Hz,2H） ＭＳスペクトル：131、137（基準ピーク）、150、170、
301（Ｍ＋） 実施例１２〜２１ それぞれ実施例１０および１１と同様にして各種アミン
化合物の塩酸塩をえた。各化合物の融点をあわせて第２
表に示す。
（ｓ，2H）、3.47（ｓ，2H）、2.81（ｔ，Ｊ＝7Hz，４
Ｈ）、2.13（ｓ，3H）、2.01（ｔ，Ｊ＝7Hz,2H） ＭＳスペクトル：131、137（基準ピーク）、150、170、
301（Ｍ＋） 実施例１２〜２１ それぞれ実施例１０および１１と同様にして各種アミン
化合物の塩酸塩をえた。各化合物の融点をあわせて第２
表に示す。
実施例１２でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.0〜6.8（ｍ、10H）、3.73（ｓ、2
H）、3.36（ｓ、2H）、2.9〜2.5（ｍ、4H）、2.07
（ｓ、3H）、1.8〜1.5（ｍ、4H） ＭＳスペクトル：129、137、139（基準ピーク）、172、
315、（Ｍ＋） 実施例１３でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.26〜6.86（ｍ、10H）、3.80
（ｓ、2H）、3.42（ｓ、2H）、2.8〜2.5（ｍ、4H）、2.
11（ｓ、3H）、1.9〜1.6（ｍ、4H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、170、174、
315（Ｍ＋） 実施例１４でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.09〜6.94（ｍ、10H）、3.91
（ｓ、2H）、3.54（ｓ、2H）、2.9〜2.5（ｍ、4H）、2.
51（ｑ、Ｊ＝7Hz、2H）、1.9〜1.6（ｍ、4H）、1.05
（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137、138（基準ピーク）、184、186、
329（Ｍ＋） 実施例１５でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.38〜7.01（ｍ、10H）、3.99
（ｓ、2H）、3.56（ｓ、2H）、2.9〜2.38（ｍ、6H）、
1.9〜1.6（ｍ、4H）、1.07（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、184、188、
314、188、314、329（Ｍ＋） 実施例１６でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.12（ｍ、10H）、3.94（ｓ、2
H）、3.56（ｓ、2H）、３〜2.33（ｍ、6H）、1.9〜1.28
（ｍ、6H）、0.77（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、198、200、
314、343 実施例１７でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.35〜7.03（ｍ、10H）、3.98
（ｓ、2H）、3.57（ｓ、2H）、2.9〜2.34（ｍ、6H）、
1.9〜1.3（ｍ、6H）、0.78（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、314、343
（Ｍ＋） 実施例１８でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.1〜6.9（ｍ、10H）、3.92（ｓ、2
H）、3.55（ｓ、2H）、2.9〜3.33（ｍ、6H）、1.9〜1.0
（ｍ、8H）、0.76（ｔ、Ｊ＝6Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、212、214、
314、357（Ｍ＋） 実施例１９でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.35〜7.04（ｍ、10H）、3.95
（ｓ、2H）、3.54（ｓ、2H）、2.9〜2.37（ｍ、6H）、
1.9〜1.0（ｍ、8H）、0.79（ｔ、Ｊ＝6Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、314、357、
（Ｍ＋） 実施例２０でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.44〜7.2（ｍ、13H）、4.02（ｓ、
2H）、3.91（ｓ、2H）、2.28（ｓ、3H） ＭＳスペクトル：138（基準ピーク）、170、312
（Ｍ＋） 実施例２１で得られた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.4〜6.7（ｍ、9H）、3.95（ｓ、2
H）、3.76（ｓ、2H）、2.25(ｓ、3H）1.33）（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：137、141（基準ピーク）、144、182、
190、323（Ｍ＋） 実施例２２ （Ｎ−［２−（４−tert−ブチルフエニル）エチル〕−
Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミンの製造） 水素化リチウムアルミニウム0.76ｇと無水エーテル10ml
との混液に、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ナフチルメチル）
４−tert−ブチルフェニール酢酸アミド2.6ｇの無水エ
ーテル10ml溶液を滴下して５時間還流させた。反応後、
水を滴下して過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解
し、エーテルで抽出した。エーテル溶液に濃塩酸２mlを
加え、減圧下で溶媒を留去後、アセトン−メタノール溶
液より再結晶して白色板状晶1.20ｇ（融点：223〜225
℃）をえた。
H）、3.36（ｓ、2H）、2.9〜2.5（ｍ、4H）、2.07
（ｓ、3H）、1.8〜1.5（ｍ、4H） ＭＳスペクトル：129、137、139（基準ピーク）、172、
315、（Ｍ＋） 実施例１３でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.26〜6.86（ｍ、10H）、3.80
（ｓ、2H）、3.42（ｓ、2H）、2.8〜2.5（ｍ、4H）、2.
11（ｓ、3H）、1.9〜1.6（ｍ、4H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、170、174、
315（Ｍ＋） 実施例１４でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.09〜6.94（ｍ、10H）、3.91
（ｓ、2H）、3.54（ｓ、2H）、2.9〜2.5（ｍ、4H）、2.
51（ｑ、Ｊ＝7Hz、2H）、1.9〜1.6（ｍ、4H）、1.05
（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137、138（基準ピーク）、184、186、
329（Ｍ＋） 実施例１５でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.38〜7.01（ｍ、10H）、3.99
（ｓ、2H）、3.56（ｓ、2H）、2.9〜2.38（ｍ、6H）、
1.9〜1.6（ｍ、4H）、1.07（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、184、188、
314、188、314、329（Ｍ＋） 実施例１６でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.12（ｍ、10H）、3.94（ｓ、2
H）、3.56（ｓ、2H）、３〜2.33（ｍ、6H）、1.9〜1.28
（ｍ、6H）、0.77（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、198、200、
314、343 実施例１７でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.35〜7.03（ｍ、10H）、3.98
（ｓ、2H）、3.57（ｓ、2H）、2.9〜2.34（ｍ、6H）、
1.9〜1.3（ｍ、6H）、0.78（ｔ、Ｊ＝7Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、314、343
（Ｍ＋） 実施例１８でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.1〜6.9（ｍ、10H）、3.92（ｓ、2
H）、3.55（ｓ、2H）、2.9〜3.33（ｍ、6H）、1.9〜1.0
（ｍ、8H）、0.76（ｔ、Ｊ＝6Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、212、214、
314、357（Ｍ＋） 実施例１９でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.35〜7.04（ｍ、10H）、3.95
（ｓ、2H）、3.54（ｓ、2H）、2.9〜2.37（ｍ、6H）、
1.9〜1.0（ｍ、8H）、0.79（ｔ、Ｊ＝6Hz、3H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、139、314、357、
（Ｍ＋） 実施例２０でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.44〜7.2（ｍ、13H）、4.02（ｓ、
2H）、3.91（ｓ、2H）、2.28（ｓ、3H） ＭＳスペクトル：138（基準ピーク）、170、312
（Ｍ＋） 実施例２１で得られた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.4〜6.7（ｍ、9H）、3.95（ｓ、2
H）、3.76（ｓ、2H）、2.25(ｓ、3H）1.33）（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：137、141（基準ピーク）、144、182、
190、323（Ｍ＋） 実施例２２ （Ｎ−［２−（４−tert−ブチルフエニル）エチル〕−
Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミンの製造） 水素化リチウムアルミニウム0.76ｇと無水エーテル10ml
との混液に、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ナフチルメチル）
４−tert−ブチルフェニール酢酸アミド2.6ｇの無水エ
ーテル10ml溶液を滴下して５時間還流させた。反応後、
水を滴下して過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解
し、エーテルで抽出した。エーテル溶液に濃塩酸２mlを
加え、減圧下で溶媒を留去後、アセトン−メタノール溶
液より再結晶して白色板状晶1.20ｇ（融点：223〜225
℃）をえた。
ＮＭＲスペクトル：8.26〜7.11（ｍ、11H）、3.89
（ｓ、2H）、2.78（ｓ、4H）、2.26（ｓ、3H）、1.27
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、184、331
（Ｍ＋） 実施例２３ （Ｎ−（４tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−２−
（１−ナフチル）−エチルアミンの製造） 水素化リチウムアルミニウム0.76ｇと無水エーテルと混
液にＮ−（４−tet−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル
（１−ナフチル）酢酸アミド2.8ｇの無水エーテル10ml
溶液を滴下して加え４時間還流させた。反応後、水を滴
下して過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解し、エ
ーテルで抽出した。エーテル溶液に濃塩酸２mlを加え、
減圧下で溶媒を留去後、アセトンより再結晶して白色プ
リズム晶2.12ｇ（融点：217〜218.5℃）をえた。
（ｓ、2H）、2.78（ｓ、4H）、2.26（ｓ、3H）、1.27
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、184、331
（Ｍ＋） 実施例２３ （Ｎ−（４tert−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル−２−
（１−ナフチル）−エチルアミンの製造） 水素化リチウムアルミニウム0.76ｇと無水エーテルと混
液にＮ−（４−tet−ブチルベンジル）−Ｎ−メチル
（１−ナフチル）酢酸アミド2.8ｇの無水エーテル10ml
溶液を滴下して加え４時間還流させた。反応後、水を滴
下して過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解し、エ
ーテルで抽出した。エーテル溶液に濃塩酸２mlを加え、
減圧下で溶媒を留去後、アセトンより再結晶して白色プ
リズム晶2.12ｇ（融点：217〜218.5℃）をえた。
ＮＭＲスペクトル：8.0〜7.26（ｍ、11H）、3.55（ｓ、
2H）、3.41〜2.58（ｍ、4H）、2.36（ｓ、3H）、1.30
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：141（基準ピーク）、190、316、331
（Ｍ＋） 実施例２４〜２５ それぞれ実施例２３と同様にしてアミン化合物の塩酸塩
をえた。各化合物の融点をあわせて第３表に示す。
2H）、3.41〜2.58（ｍ、4H）、2.36（ｓ、3H）、1.30
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：141（基準ピーク）、190、316、331
（Ｍ＋） 実施例２４〜２５ それぞれ実施例２３と同様にしてアミン化合物の塩酸塩
をえた。各化合物の融点をあわせて第３表に示す。
以下、各化合物のNMRおよびMSスペクトルのデータをあ
げる。
げる。
実施例２４でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.13〜7.28（ｍ、9H）、4.19（ｓ、
2H）、3.83（ｓ、2H）、1.74（ブロードｓ、1H）、1.29
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、138、141、147、
151、303（Ｍ＋） 実施例２５でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.82〜7.26（ｍ、10H）、3.85
（ｓ、2H）、3.54（ｓ、2H）、2.17（ｓ、3H）、1.27
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：141（基準ピーク）、171、176、190、
318（Ｍ＋） 製剤例１ 500mlのエタノールに50ｇのマクロゴール400と実施例１
で製造したＮ−（４−tertブチルベンジル）−Ｎ−メチ
ル−３−ベンゾチオフェンメチルアミン塩酸塩10ｇを加
えて溶解し、ついで精製水400ｇを少量ずつ加えて溶解
し、さらにエタノールを加えて全量を1000mlとした。
2H）、3.83（ｓ、2H）、1.74（ブロードｓ、1H）、1.29
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：137（基準ピーク）、138、141、147、
151、303（Ｍ＋） 実施例２５でえられた化合物 ＮＭＲスペクトル：8.82〜7.26（ｍ、10H）、3.85
（ｓ、2H）、3.54（ｓ、2H）、2.17（ｓ、3H）、1.27
（ｓ、9H） ＭＳスペクトル：141（基準ピーク）、171、176、190、
318（Ｍ＋） 製剤例１ 500mlのエタノールに50ｇのマクロゴール400と実施例１
で製造したＮ−（４−tertブチルベンジル）−Ｎ−メチ
ル−３−ベンゾチオフェンメチルアミン塩酸塩10ｇを加
えて溶解し、ついで精製水400ｇを少量ずつ加えて溶解
し、さらにエタノールを加えて全量を1000mlとした。
製剤例２（軟膏剤） 白色ワセリン 400ｇ、セタノール180ｇ、セスキオレイ
ン酸ソルビタン50ｇ、ラウロマクロゴール５ｇおよびパ
ラオキシ安息香酸プロピル１ｇよりなる混合物を水浴上
で80℃に保ちながら、実施例１で製造したＮ−（４−te
rtブチルベンジル）−Ｎ−メチル−３−ベンゾチオフェ
ンメチルアミン塩酸塩10ｇを加えて溶解した。さらにパ
ラオキシ安息香酸メチル１ｇに精製水353ｇを加え、80
℃に加温して溶解した液を徐々に加えたのち充分攪拌し
た。加温を止め、冷却しながら固まるまでさらに充分攪
拌した。
ン酸ソルビタン50ｇ、ラウロマクロゴール５ｇおよびパ
ラオキシ安息香酸プロピル１ｇよりなる混合物を水浴上
で80℃に保ちながら、実施例１で製造したＮ−（４−te
rtブチルベンジル）−Ｎ−メチル−３−ベンゾチオフェ
ンメチルアミン塩酸塩10ｇを加えて溶解した。さらにパ
ラオキシ安息香酸メチル１ｇに精製水353ｇを加え、80
℃に加温して溶解した液を徐々に加えたのち充分攪拌し
た。加温を止め、冷却しながら固まるまでさらに充分攪
拌した。
製剤例３（クリーム剤） 白色ワセリン15ｇ、流動パラフィン200ｇ、ステアリル
アルコール50ｇ、モノステアリン酸グリセリン40ｇ、プ
ロピレングリコール145ｇおよびパラオキシ安息香酸プ
ロピル１ｇよりなる混合物を水浴上で80℃に保ちながら
溶解し、実施例１で製造したＮ−（４−tertブチルベン
ジル）−Ｎ−メチル−３−ベンゾチオフェンメチルアミ
ン塩酸塩10ｇを加えて溶解した。さらに40ｇのステアリ
ン酸ポリオキシ40および１ｇのパラオキシ安息香酸メチ
ル１ｇに精製水498ｇを加え、80℃に加温して溶解した
液を加えたのち充分攪拌した。攪拌後、冷却水を用いて
冷却しながら固まるでさらに充分攪拌した。
アルコール50ｇ、モノステアリン酸グリセリン40ｇ、プ
ロピレングリコール145ｇおよびパラオキシ安息香酸プ
ロピル１ｇよりなる混合物を水浴上で80℃に保ちながら
溶解し、実施例１で製造したＮ−（４−tertブチルベン
ジル）−Ｎ−メチル−３−ベンゾチオフェンメチルアミ
ン塩酸塩10ｇを加えて溶解した。さらに40ｇのステアリ
ン酸ポリオキシ40および１ｇのパラオキシ安息香酸メチ
ル１ｇに精製水498ｇを加え、80℃に加温して溶解した
液を加えたのち充分攪拌した。攪拌後、冷却水を用いて
冷却しながら固まるでさらに充分攪拌した。
試験例１（試験管内抗真菌試験） サブロー寒天培地を用い、毛瘡白癬菌および猩紅色白癬
菌に対する抗菌力を試験した。
菌に対する抗菌力を試験した。
第４表に示す各被検化合物をエタノール１mlで溶解した
のち、蒸溜水を加え1000μｇ／mlの濃度に調整し、以下
２倍段階希釈系列を作製し、その１mlをシャーレに取
り、サブロー寒天培地９mlを添加して混和し、平板培地
をそれぞれ作製した。
のち、蒸溜水を加え1000μｇ／mlの濃度に調整し、以下
２倍段階希釈系列を作製し、その１mlをシャーレに取
り、サブロー寒天培地９mlを添加して混和し、平板培地
をそれぞれ作製した。
２×10６胞子／mlに調整した各試験菌をミクロプランタ
ーMIP−２（佐久間製作所製）で0.005mlずつ接種し、27
℃で７目間培養したのち結果を最小発育阻止濃度（MI
C、μｇ／ml）で表わした。えられた結果を第４表に示
す。
ーMIP−２（佐久間製作所製）で0.005mlずつ接種し、27
℃で７目間培養したのち結果を最小発育阻止濃度（MI
C、μｇ／ml）で表わした。えられた結果を第４表に示
す。
試験の結果、第４表に示した被検化合物のすべてが抗真
菌活性を有することが判明した。
菌活性を有することが判明した。
試験例２（（抗白癬治療試験） Hartley系モルモット雄（体重600〜700ｇ）の背部４ケ
所をそれぞれ４cm２ずつ抜毛し、軽くサンドペーパーで
擦過したのち、予め別のモルモットから逆培養した２代
目の毛瘡白癬菌を１感染面あたり１×10５胞子を感染さ
せた。感染48時間後から、エタノールで溶解した被検化
合物０．２mlを１日１回計10回塗布した。最終治療の２
日後にモルモットを屠殺し、各感染面よりそれぞれ10個
の組織片をシクロヘキシミドおよびカナマイシン含有サ
ブロー平板に置き、27℃で７日間培養しのたのち白癬菌
の有無を判定し抑制率をつぎのように百分率で表した。
所をそれぞれ４cm２ずつ抜毛し、軽くサンドペーパーで
擦過したのち、予め別のモルモットから逆培養した２代
目の毛瘡白癬菌を１感染面あたり１×10５胞子を感染さ
せた。感染48時間後から、エタノールで溶解した被検化
合物０．２mlを１日１回計10回塗布した。最終治療の２
日後にモルモットを屠殺し、各感染面よりそれぞれ10個
の組織片をシクロヘキシミドおよびカナマイシン含有サ
ブロー平板に置き、27℃で７日間培養しのたのち白癬菌
の有無を判定し抑制率をつぎのように百分率で表した。
えられた結果を第５表に示す。
試験例３（副作用試験） 被検化合物の副作用を検討するため、Hartley系モルモ
ット雄（体重600〜700ｇ）の背部２ケ所をそれぞれ４cm
２ずつ抜毛し、翌日抜毛部位をサンドペーパーで擦過し
たのち、被検化合物として実施例１および４の化合物を
それぞれエタノールで０．５〜２．０％濃度に溶解した
溶液を抜毛部位のうちの１つに、エタノールのみを他の
抜毛部位にそれぞれ１日１回０．２mlずつ10日間塗布し
た。
ット雄（体重600〜700ｇ）の背部２ケ所をそれぞれ４cm
２ずつ抜毛し、翌日抜毛部位をサンドペーパーで擦過し
たのち、被検化合物として実施例１および４の化合物を
それぞれエタノールで０．５〜２．０％濃度に溶解した
溶液を抜毛部位のうちの１つに、エタノールのみを他の
抜毛部位にそれぞれ１日１回０．２mlずつ10日間塗布し
た。
その結果、被検化合物によると考えられる紅斑、丘疹な
どの副作用は認められなかった。
どの副作用は認められなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/38 ＡＤＺ 31/47 ＡＤＺ Ｃ０７Ｃ 211/27 9280−4Ｈ 211/57 9280−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 215/12 333/20 333/58 (72)発明者 山本 俊之 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内 (72)発明者 佐々木 和也 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内 (72)発明者 有可 正 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内 (72)発明者 横尾 守 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内 (72)発明者 橋本 理恵子 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内 (72)発明者 雨宮 功治 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内 (72)発明者 越川 栄 東京都文京区本駒込２丁目28番８号 科研 製薬株式会社東京研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】一般式(I)： （式中、Ｒ１は式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｐは３または４を表わす）で示される基または
式： （式中、ｑは１を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは窒素原子を表わす）で
示される基を表わす。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ
水素原子または炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす。Ｒ５は式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ７は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｒは３、４または５を表わす）で示される基ま
たは式： （式中、Ｘは窒素原子を表わす）で示される基を表わ
す。ｍおよびｎはそれぞれ０、１または２を表わす。た
だしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされるアミン化合
物またはその酸付加塩。 - 【請求項２】一般式(I)： （式中、Ｒ１は式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｐは３または４を表わす）で示される基または
式： （式中、ｑは１を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ６は前記と同じ、Ｘは窒素原子を表わす）で
示される基を表わす。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ
水素原子または炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす。Ｒ５は式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基または式： （式中、Ｒ７は前記と同じ、Ｘは硫黄原子を表わす）で
示される基または式： （式中、ｒは３、４または５を表わす）で示される基ま
たは式： （式中、Ｘは窒素原子を表わす）で示される基を表わ
す。ｍおよびｎはそれぞれ０、１または２を表わす。た
だしＲ１が式： （式中、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０の直鎖または分枝鎖状アルキル基またはニトロ基を表
わす）で示される基であり、Ｒ２が水素原子または炭素
数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、Ｒ
３が炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状アルキル基で
あり、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５が式： （式中、Ｒ７は炭素数１〜１０の直鎖または分枝鎖状ア
ルキル基を表わす）で示される基であり、かつｍおよび
ｎが１であるばあいを除く。）で表わされるアミン化合
物またはその酸付加塩を有効成分として含有する抗真菌
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12458185A JPH0617341B2 (ja) | 1985-06-08 | 1985-06-08 | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12458185A JPH0617341B2 (ja) | 1985-06-08 | 1985-06-08 | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4312183A Division JPH0768186B2 (ja) | 1992-11-20 | 1992-11-20 | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61282348A JPS61282348A (ja) | 1986-12-12 |
| JPH0617341B2 true JPH0617341B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=14889009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12458185A Expired - Lifetime JPH0617341B2 (ja) | 1985-06-08 | 1985-06-08 | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617341B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| HU211997B (en) * | 1986-01-29 | 1996-01-29 | Sandoz Ag | Process to prepare n-methyl-n-(1-naphtyl-methyl)-4-(2-phenyl-propyl)-benzylamine and pharmaceutical compns. contg. it |
| DE3702039A1 (de) * | 1986-01-29 | 1987-07-30 | Sandoz Ag | Neue aminderivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| US5300642A (en) * | 1986-04-10 | 1994-04-05 | The Du Pont Merck Pharmaceutical Company | α, α-disubstituted aromatics and heteroaromatics as cognition enhancers |
| US5173489A (en) * | 1986-04-10 | 1992-12-22 | The Dupont Merck Pharmaceutical Co. | α,α-disubstituted aromatics and heteroaromatics as cognition enhancers |
| JPS63230610A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-27 | Kaken Pharmaceut Co Ltd | 農園芸用殺菌剤 |
| US5434264A (en) * | 1988-08-23 | 1995-07-18 | The Du Pont Merck Pharmaceutical Company | α,α-disubstituted aromatics and heteroaromatics as cognition enhancers |
| JPH0768186B2 (ja) * | 1992-11-20 | 1995-07-26 | 科研製薬株式会社 | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 |
-
1985
- 1985-06-08 JP JP12458185A patent/JPH0617341B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61282348A (ja) | 1986-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6660756B2 (en) | N-phenpropylcyclopentyl-substituted glutaramide derivatives as inhibitors of neutral endopeptidase | |
| JPS6342612B2 (ja) | ||
| EP0178874B1 (en) | Alkylsulfonamidophenylalkylamines | |
| CA2226214C (en) | Antifungal agent, compound therefor, process for producing the same, and method for using the same | |
| CA2437113A1 (en) | N-phenpropylcyclopentyl-substituted glutaramide derivatives as nep inhibitors for fsad | |
| KR840002434B1 (ko) | 이미다졸 유도체의 제조방법 | |
| JPH057382B2 (ja) | ||
| Fitt et al. | . alpha.-Alkylation and Michael addition of amino acids-a practical method | |
| BG107229A (bg) | Циклопентил-заместени глутарамидни производни като инхибитори на неутрална ендопептидаза | |
| JP3278738B2 (ja) | 抗真菌剤 | |
| US4083978A (en) | Oxime ethers | |
| JPH0617341B2 (ja) | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 | |
| JP3606326B2 (ja) | 欝病、不安神経症およびパーキンソン病を治療するための１−アリールシクロアルキルスルフィド、スルホキシドおよびスルホン | |
| FR2597475A1 (fr) | Utilisation d'amines aromatiques et heterocycliques comme medicaments et produits agrochimiques. | |
| USRE34770E (en) | Amine derivatives, processes for preparing the same and fungicides containing the same | |
| JPH05255205A (ja) | アミン化合物およびそれを有効成分とする抗真菌剤 | |
| US3997608A (en) | N-substituted-dihydroxyphenethylamines | |
| CA1136635A (en) | Basic ethers, pharmaceutical preparation thereof and processes for preparing them | |
| JPH02236A (ja) | 選択的セロトニン摂取抑制剤 | |
| JPH0454668B2 (ja) | ||
| KR950013104B1 (ko) | 아민유도체 및 그것을 함유하는 약학조성물 | |
| JPH0149690B2 (ja) | ||
| JPH0912574A (ja) | 抗真菌剤 | |
| ZA200305721B (en) | N-phenpropylcyclopentyl-substituted glutaramide derivatives as NEP inhibitors for FSAD. | |
| IL91261A (en) | Anti-inflammatory pharmaceutical preparations containing carbinoolimidazoles |