JPH06172567A - 芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の製造方法 - Google Patents
芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の製造方法Info
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- JPH06172567A JPH06172567A JP32799292A JP32799292A JPH06172567A JP H06172567 A JPH06172567 A JP H06172567A JP 32799292 A JP32799292 A JP 32799292A JP 32799292 A JP32799292 A JP 32799292A JP H06172567 A JPH06172567 A JP H06172567A
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- polysulfone resin
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式 −（Ｐｈ−Ｘ1 −Ｐｈ−Ｘ2 −──
──Ｐｈ−Ｘi ）− （但し、Ｘ1 〜Ｘi は、芳香環を繋ぐ結合基または直接
結合で、少なくとも 1個はＳＯ2 基であり、Ｐｈは芳香
環を示す) で表される繰り返し単位を有する芳香族ポリ
スルホン樹脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後
に、シリコーン樹脂系ハードコート剤を塗布する。 【効果】 密着性が改善され、表面硬度、耐擦傷性及び
耐光性が優れている。
──Ｐｈ−Ｘi ）− （但し、Ｘ1 〜Ｘi は、芳香環を繋ぐ結合基または直接
結合で、少なくとも 1個はＳＯ2 基であり、Ｐｈは芳香
環を示す) で表される繰り返し単位を有する芳香族ポリ
スルホン樹脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後
に、シリコーン樹脂系ハードコート剤を塗布する。 【効果】 密着性が改善され、表面硬度、耐擦傷性及び
耐光性が優れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面をシリコーン樹脂
系ハードコート剤で被覆された芳香族ポリスルホン樹脂
構造体の製造方法に関する。
系ハードコート剤で被覆された芳香族ポリスルホン樹脂
構造体の製造方法に関する。
【０００２】
【０００３】プラスチック材料は一般的に表面が傷つき
やすくまた耐光性が乏しいため、その改善のためハード
コート剤で被覆処理する方法が知られている。なかで
も、シリコーン系ハードコート剤は、表面硬度、耐擦傷
性、及び耐候性などに優れているため、よく利用されて
いる。しかしながら、プラスチック基材とシリコーン樹
脂系ハードコート剤との接着性、密着性が十分でないた
め、下塗り剤としてアクリル樹脂系等のプライマーが使
用されている。さらに、これらのプライマーにアミノ
基、アミド基、ヒドロキシ基あるいはカルボキシル基等
の官能基を導入して密着性を向上させる方法も知られて
いる（特開昭 53-138476号公報、特開昭 57-137154号公
報など) 。しかし、下塗り剤としてプライマーを使用す
ることは、塗装作業性を低下させ、また、コストアップ
の要因となる問題点がある。プラスチック材料の中で
も、ポリアリールスルホンあるいはポリアリールエーテ
ルスルホンなどの芳香族ポリスルホン樹脂は耐熱性、透
明性などの特性に優れたエンジニアリングプラスチック
として知られている。しかし、表面硬度、耐擦傷性及び
耐光性などの改善のために、上記のようにシリコーン樹
脂ハードコート剤で被覆処理する方法を用いると、密着
性が不十分でありプライマーによる前処理が必要であっ
た。
やすくまた耐光性が乏しいため、その改善のためハード
コート剤で被覆処理する方法が知られている。なかで
も、シリコーン系ハードコート剤は、表面硬度、耐擦傷
性、及び耐候性などに優れているため、よく利用されて
いる。しかしながら、プラスチック基材とシリコーン樹
脂系ハードコート剤との接着性、密着性が十分でないた
め、下塗り剤としてアクリル樹脂系等のプライマーが使
用されている。さらに、これらのプライマーにアミノ
基、アミド基、ヒドロキシ基あるいはカルボキシル基等
の官能基を導入して密着性を向上させる方法も知られて
いる（特開昭 53-138476号公報、特開昭 57-137154号公
報など) 。しかし、下塗り剤としてプライマーを使用す
ることは、塗装作業性を低下させ、また、コストアップ
の要因となる問題点がある。プラスチック材料の中で
も、ポリアリールスルホンあるいはポリアリールエーテ
ルスルホンなどの芳香族ポリスルホン樹脂は耐熱性、透
明性などの特性に優れたエンジニアリングプラスチック
として知られている。しかし、表面硬度、耐擦傷性及び
耐光性などの改善のために、上記のようにシリコーン樹
脂ハードコート剤で被覆処理する方法を用いると、密着
性が不十分でありプライマーによる前処理が必要であっ
た。
【０００４】
【発明の目的】本発明は、表面をシリコーン樹脂系ハー
ドコート剤で被覆された芳香族ポリスルホン樹脂構造体
の製造方法において、塗装作業性に優れた簡便な被覆方
法を提供することにある。
ドコート剤で被覆された芳香族ポリスルホン樹脂構造体
の製造方法において、塗装作業性に優れた簡便な被覆方
法を提供することにある。
【０００５】
【問題解決のための技術的手段】本発明は、一般式 −（Ｐｈ−Ｘ1 −Ｐｈ−Ｘ2 −────Ｐｈ−Ｘi ）− （但し、Ｘ1 〜Ｘi は、芳香環を繋ぐ結合基または直接
結合で、少なくとも 1個はＳＯ2 基であり、Ｐｈは芳香
環を示す) で表される繰り返し単位を有する芳香族ポリ
スルホン樹脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後
に、シリコーン樹脂系ハードコート剤を塗布することを
特徴とする、芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の
製造方法に関する。
結合で、少なくとも 1個はＳＯ2 基であり、Ｐｈは芳香
環を示す) で表される繰り返し単位を有する芳香族ポリ
スルホン樹脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後
に、シリコーン樹脂系ハードコート剤を塗布することを
特徴とする、芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の
製造方法に関する。
【０００６】本発明における芳香族ポリスルホン系樹脂
の繰り返し単位中には、少なくとも１個のＳＯ2 基が存
在する。芳香環を繋ぐものとしては、ＳＯ2 基以外で
は、脂肪族基、Ｏ，Ｓ，ＣＯ，ＣＯＯ，ＣＯＮＨなどの
結合基、または、芳香環の直接結合などがある。特に、
本発明の芳香族ポリスルホン系樹脂に用いられるもので
は、ＳＯ2 ，Ｏ，芳香環の直接結合などが好ましい。
の繰り返し単位中には、少なくとも１個のＳＯ2 基が存
在する。芳香環を繋ぐものとしては、ＳＯ2 基以外で
は、脂肪族基、Ｏ，Ｓ，ＣＯ，ＣＯＯ，ＣＯＮＨなどの
結合基、または、芳香環の直接結合などがある。特に、
本発明の芳香族ポリスルホン系樹脂に用いられるもので
は、ＳＯ2 ，Ｏ，芳香環の直接結合などが好ましい。
【０００７】本発明の芳香族ポリスルホン系樹脂は、具
体的には以下のような繰り返し単位を有するものを挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。
体的には以下のような繰り返し単位を有するものを挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。
【０００８】−（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｃ
（Ｍｅ）2 −Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐ
ｈ−Ｏ）−
（Ｍｅ）2 −Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｏ）− −（Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｐｈ−ＳＯ2 −Ｐｈ−Ｏ−Ｐ
ｈ−Ｏ）−
【０００９】本発明の芳香族ポリスルホン系樹脂は、一
般に、有機極性溶媒中、アルカリ金属化合物の存在下、
ジハロゲノジフェニルスルホン化合物と二価フェノール
化合物との重縮合反応、あるいは、予め合成した二価フ
ェノールのアルカリ金属二塩とジハロゲノジフェニルス
ルホン化合物との重縮合反応より製造できる。
般に、有機極性溶媒中、アルカリ金属化合物の存在下、
ジハロゲノジフェニルスルホン化合物と二価フェノール
化合物との重縮合反応、あるいは、予め合成した二価フ
ェノールのアルカリ金属二塩とジハロゲノジフェニルス
ルホン化合物との重縮合反応より製造できる。
【００１０】二価フェノール化合物の具体例としては、
例えば、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシン、
４，４’−ビフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）
アルカン類、ジヒドロキシジフェニルスルホン類、ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル類、あるいはそれらのベン
ゼン環の水素の少なくとも一つが、適当な置換基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキ
ル基、あるいは、メトキシ基、エトキシ基などの低級ア
ルコキシ基などの置換基）で置換されたものを挙げるこ
とができる。上記の二価フェノール化合物を二種類以上
混合して用いることもできる。
例えば、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシン、
４，４’−ビフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）
アルカン類、ジヒドロキシジフェニルスルホン類、ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル類、あるいはそれらのベン
ゼン環の水素の少なくとも一つが、適当な置換基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキ
ル基、あるいは、メトキシ基、エトキシ基などの低級ア
ルコキシ基などの置換基）で置換されたものを挙げるこ
とができる。上記の二価フェノール化合物を二種類以上
混合して用いることもできる。
【００１１】本発明においては、二価フェノール化合物
としてハイドロキノンと 4,4'-ビフェノールを特定の仕
込み比率で製造された芳香族ポリスルホン系樹脂が、耐
熱性及び耐衝撃性などの機械的特性が優れており、好ま
しく用いられる。
としてハイドロキノンと 4,4'-ビフェノールを特定の仕
込み比率で製造された芳香族ポリスルホン系樹脂が、耐
熱性及び耐衝撃性などの機械的特性が優れており、好ま
しく用いられる。
【００１２】すなわち、ハイドロキノンとジハロゲノジ
フェニルスルホン化合物との縮合により生成する下式の
反復単位(I) 、
フェニルスルホン化合物との縮合により生成する下式の
反復単位(I) 、
【化１】
【００１３】及び、 4,4'-ビフェノールとジハロゲノジ
フェニルスルホン化合物との縮合により生成する下式の
反復単位(II)
フェニルスルホン化合物との縮合により生成する下式の
反復単位(II)
【化２】
【００１４】の比率が、0 〜70：30〜 100（モル％）、
特に、10〜60：40〜90（モル％）である芳香族ポリスル
ホン系樹脂が好ましい。
特に、10〜60：40〜90（モル％）である芳香族ポリスル
ホン系樹脂が好ましい。
【００１５】二価フェノール化合物は、ジハロゲノジフ
ェニルスルホン化合物と実質上等モル量で使用されるこ
とが好ましい。製造する芳香族ポリスルホン系樹脂の分
子量を調節するために、二価フェノール化合物を等モル
から僅かに過剰量あるいは過少量で使用してもよい。こ
の目的のために、少量のモノハロゲノジフェニル化合物
あるいは一価フェノール化合物を重合溶液中に添加する
ことができる。
ェニルスルホン化合物と実質上等モル量で使用されるこ
とが好ましい。製造する芳香族ポリスルホン系樹脂の分
子量を調節するために、二価フェノール化合物を等モル
から僅かに過剰量あるいは過少量で使用してもよい。こ
の目的のために、少量のモノハロゲノジフェニル化合物
あるいは一価フェノール化合物を重合溶液中に添加する
ことができる。
【００１６】ジハロゲノジフェニルスルホン化合物とし
ては、 4,4'-ジクロロジフェニルスルホン、 4,4'-ジフ
ルオロジフェニルスルフォンを挙げることができる。
ては、 4,4'-ジクロロジフェニルスルホン、 4,4'-ジフ
ルオロジフェニルスルフォンを挙げることができる。
【００１７】本発明の芳香族ポリスルホン系樹脂の分子
量は特に限定されないが、N-メチル-2- ピロリドンを溶
媒とした0.5g/100ml濃度の溶液について30℃で測定した
還元粘度（ηsp/c）が、 0.2〜 2のものが好ましく、
0.4〜 1.5のものが特に好ましく使用される。分子量が
上記の範囲より小さいと、芳香族ポリスルホン系樹脂の
機械的物性などが低下し、また、上記の範囲より大きい
と成形性が悪くなり好ましくない。
量は特に限定されないが、N-メチル-2- ピロリドンを溶
媒とした0.5g/100ml濃度の溶液について30℃で測定した
還元粘度（ηsp/c）が、 0.2〜 2のものが好ましく、
0.4〜 1.5のものが特に好ましく使用される。分子量が
上記の範囲より小さいと、芳香族ポリスルホン系樹脂の
機械的物性などが低下し、また、上記の範囲より大きい
と成形性が悪くなり好ましくない。
【００１８】本発明の芳香族ポリスルホン系樹脂は、フ
ィルム、フィラメント、繊維、成形体などの種々の形状
をとることができる。本発明の芳香族ポリスルホン系樹
脂をフィルムとして用いる場合は、その作成方法は、溶
液流延法、押出成形法などの公知の方法を用いることが
できる。
ィルム、フィラメント、繊維、成形体などの種々の形状
をとることができる。本発明の芳香族ポリスルホン系樹
脂をフィルムとして用いる場合は、その作成方法は、溶
液流延法、押出成形法などの公知の方法を用いることが
できる。
【００１９】溶液流延法においてフィルムを作成する場
合は、芳香族ポリスルホン系樹脂を二塩化メチレンなど
の溶媒に溶かした溶液を、回転ドラムまたはベルトに流
延し、乾燥させてフィルムを得ることができる。
合は、芳香族ポリスルホン系樹脂を二塩化メチレンなど
の溶媒に溶かした溶液を、回転ドラムまたはベルトに流
延し、乾燥させてフィルムを得ることができる。
【００２０】本発明においては、芳香族ポリスルホン樹
脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後に、シリコー
ン樹脂系ハードコート剤を塗布する。紫外線照射の方法
としては、通常水銀ランプが用いられる。又、水銀の他
に金属化合物を同時に封入したメタルハライドランプな
ども用いることができる。
脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後に、シリコー
ン樹脂系ハードコート剤を塗布する。紫外線照射の方法
としては、通常水銀ランプが用いられる。又、水銀の他
に金属化合物を同時に封入したメタルハライドランプな
ども用いることができる。
【００２１】紫外線照射量としては、特に制限はない
が、例えば、ランプ電力が400Wで、アークの長さが15cm
の水銀ランプで、照射距離30cmで 0.5〜20分間照射する
量が好ましい。
が、例えば、ランプ電力が400Wで、アークの長さが15cm
の水銀ランプで、照射距離30cmで 0.5〜20分間照射する
量が好ましい。
【００２２】本発明のシリコーン樹脂系ハードコート剤
としては、一般的に３官能性、必要に応じて２官能性あ
るいは４官能性アルコキシシラン、若しくはコロイダル
金属酸化物を出発原料とし、これらを水あるいは酸など
により部分加水分解したものを用いることができる。必
要に応じて、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ギ酸ナト
リウム等のアルカリ金属塩、環状３級アミンまたはそれ
の酢酸中和物等の潜在性の触媒を含有せしめてもよい。
としては、一般的に３官能性、必要に応じて２官能性あ
るいは４官能性アルコキシシラン、若しくはコロイダル
金属酸化物を出発原料とし、これらを水あるいは酸など
により部分加水分解したものを用いることができる。必
要に応じて、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ギ酸ナト
リウム等のアルカリ金属塩、環状３級アミンまたはそれ
の酢酸中和物等の潜在性の触媒を含有せしめてもよい。
【００２３】シリコーン樹脂系ハードコート剤には、必
要に応じて、紫外線吸収剤、硬化触媒、酸化防止剤など
を少量含有せしめてもよい。
要に応じて、紫外線吸収剤、硬化触媒、酸化防止剤など
を少量含有せしめてもよい。
【００２４】上記の紫外線吸収剤としては、無機系化合
物及び有機系化合物を用いることができる。有機系紫外
線吸収剤の具体例としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2-ヒドロキシ -4-メトキシベンゾフェノンなど
のベンゾフェノン系化合物、2-[2'-ヒドロキシ -3',5'-
ビス( α, α- ジメチルベンジル) フェニル]-ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t- アミル)-
ベンゾトリアゾール、2,2'メチレンビス[4-(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)-6-(2N-ベンゾトリアゾール-2- イ
ル) フェノール] などのベンゾトリアゾール系化合物な
どが挙げられる。これらの有機系吸収剤に、ビス-[2,2,
6,6-テトラメチル-4- ピペリジニル] セバケートなどの
ヒンダードアミン系化合物あるいはNi系化合物のクエン
チャーなどを混合して用いてもよい。無機系紫外線吸収
剤の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタンなどが挙げ
られる。
物及び有機系化合物を用いることができる。有機系紫外
線吸収剤の具体例としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2-ヒドロキシ -4-メトキシベンゾフェノンなど
のベンゾフェノン系化合物、2-[2'-ヒドロキシ -3',5'-
ビス( α, α- ジメチルベンジル) フェニル]-ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t- アミル)-
ベンゾトリアゾール、2,2'メチレンビス[4-(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)-6-(2N-ベンゾトリアゾール-2- イ
ル) フェノール] などのベンゾトリアゾール系化合物な
どが挙げられる。これらの有機系吸収剤に、ビス-[2,2,
6,6-テトラメチル-4- ピペリジニル] セバケートなどの
ヒンダードアミン系化合物あるいはNi系化合物のクエン
チャーなどを混合して用いてもよい。無機系紫外線吸収
剤の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタンなどが挙げ
られる。
【００２５】上記のシリコーン樹脂系を溶媒に溶解して
ハードコート剤溶液を調製する。シリコーン樹脂系溶液
の溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ルなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン類、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブなどのエーテル類などが挙げられる。上
記のハードコート剤溶液の濃度は特に制限はないが、通
常 1〜40重量％である。
ハードコート剤溶液を調製する。シリコーン樹脂系溶液
の溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ルなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン類、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブなどのエーテル類などが挙げられる。上
記のハードコート剤溶液の濃度は特に制限はないが、通
常 1〜40重量％である。
【００２６】表面にあらかじめ紫外線を照射した芳香族
ポリスルホン樹脂に、上記のハードコート剤溶液を塗布
また含浸し、乾燥、硬化して、シリコーン樹脂系ハード
コート剤で被覆されている芳香族ポリスルホン樹脂が得
られる。塗布また含浸方法としては、スプレー法、スピ
ンコート法、ドクターブレード法、グラビヤコート法、
ディップ法などの通常の方法が用いられる。
ポリスルホン樹脂に、上記のハードコート剤溶液を塗布
また含浸し、乾燥、硬化して、シリコーン樹脂系ハード
コート剤で被覆されている芳香族ポリスルホン樹脂が得
られる。塗布また含浸方法としては、スプレー法、スピ
ンコート法、ドクターブレード法、グラビヤコート法、
ディップ法などの通常の方法が用いられる。
【００２７】硬化方法としては、シリコーン樹脂系ハー
ドコート剤の場合、通常、50〜 150℃で30分〜10時間程
度加熱して硬化する。シリコーン樹脂系ハードコート剤
塗膜の厚みは、特に制限はないが、 0.1μm 〜30μm が
好ましい。
ドコート剤の場合、通常、50〜 150℃で30分〜10時間程
度加熱して硬化する。シリコーン樹脂系ハードコート剤
塗膜の厚みは、特に制限はないが、 0.1μm 〜30μm が
好ましい。
【００２８】
実施例１ （芳香族ポリスルホン系樹脂の製造）4,4'-ジクロルジ
フェニルスルホン 73.3g、ハイドロキノン 13.7g及び
4,4'-ビフェノール 23.2gを、窒素雰囲気下で共沸脱水
用トルエン30ml及びN-メチル -2-ピロリドン 300mlに加
え溶解した後、窒素中で70℃で30分間加熱処理した炭酸
カリウム 37.9gを、窒素雰囲気下で温度 180℃、 8時間
攪拌反応し、重合溶液を得た。反応終了後、無機物を重
合溶液から分離するため、窒素圧1.5kg/cm2 で濾過し、
重合溶液を得た。重合溶液300gをエタノール2000mlに注
ぎ、5000rpm で攪拌しながら重合体を析出させ、濾過、
分離した後、重合体を得た。この重合体 50gをエタノー
ル 500mlで洗浄後、90℃で乾燥し、芳香族ポリスルホン
系樹脂の粉体を得た。
フェニルスルホン 73.3g、ハイドロキノン 13.7g及び
4,4'-ビフェノール 23.2gを、窒素雰囲気下で共沸脱水
用トルエン30ml及びN-メチル -2-ピロリドン 300mlに加
え溶解した後、窒素中で70℃で30分間加熱処理した炭酸
カリウム 37.9gを、窒素雰囲気下で温度 180℃、 8時間
攪拌反応し、重合溶液を得た。反応終了後、無機物を重
合溶液から分離するため、窒素圧1.5kg/cm2 で濾過し、
重合溶液を得た。重合溶液300gをエタノール2000mlに注
ぎ、5000rpm で攪拌しながら重合体を析出させ、濾過、
分離した後、重合体を得た。この重合体 50gをエタノー
ル 500mlで洗浄後、90℃で乾燥し、芳香族ポリスルホン
系樹脂の粉体を得た。
【００２９】得られた芳香族ポリスルホン系樹脂の還元
粘度（ηsp/c）（N-メチル-2- ピロリドンを溶媒とした
0.5g/100ml濃度の溶液について30℃で測定）は、0.52で
あった。
粘度（ηsp/c）（N-メチル-2- ピロリドンを溶媒とした
0.5g/100ml濃度の溶液について30℃で測定）は、0.52で
あった。
【００３０】反復単位(I) と反復単位(II)の比率は、5
0:50(モル％) あった。
0:50(モル％) あった。
【００３１】芳香族ポリスルホン系樹脂をＴダイ溶融押
し出し法（樹脂温度 350℃）によって、約 100μm 厚さ
にフィルム化した。
し出し法（樹脂温度 350℃）によって、約 100μm 厚さ
にフィルム化した。
【００３２】フィルム面に、以下の条件で紫外線を照射
した。ランプ電力 400W 、アークの長さ 150mm、最強ス
ペクトル 365nmである水銀ランプ（東芝光化学用水銀ラ
ンプH400-P 、東芝ライテック製）を用い、フィルムと
光源の距離 30cm で 1分間照射した。その後に、シリコ
ーン樹脂系ハードコート剤メタノール溶液（商品名：Ｋ
Ｐ−８５：信越化学製、樹脂分約20wt% ）中に、上記の
芳香族ポリスルホン系樹脂フィルムをディッピングし、
溶剤乾燥、熱硬化処理(120℃× 2時間) により、厚さ約
10μm のシリコーン樹脂塗膜を形成した。
した。ランプ電力 400W 、アークの長さ 150mm、最強ス
ペクトル 365nmである水銀ランプ（東芝光化学用水銀ラ
ンプH400-P 、東芝ライテック製）を用い、フィルムと
光源の距離 30cm で 1分間照射した。その後に、シリコ
ーン樹脂系ハードコート剤メタノール溶液（商品名：Ｋ
Ｐ−８５：信越化学製、樹脂分約20wt% ）中に、上記の
芳香族ポリスルホン系樹脂フィルムをディッピングし、
溶剤乾燥、熱硬化処理(120℃× 2時間) により、厚さ約
10μm のシリコーン樹脂塗膜を形成した。
【００３３】シリコーン樹脂塗膜の密着性の評価とし
て、テーバー摩耗試験機で 100回転（荷重 500g 、摩耗
輪ＣＳ−１０Ｆ）させ、試験前後のヘイズ変化率を測定
した。ヘイズ変化率は、1.0%であった。
て、テーバー摩耗試験機で 100回転（荷重 500g 、摩耗
輪ＣＳ−１０Ｆ）させ、試験前後のヘイズ変化率を測定
した。ヘイズ変化率は、1.0%であった。
【００３４】実施例２〜４ 実施例１において、水銀ランプの照射時間を変えた以外
は、実施例１と同様に製造したシリコーン樹脂被覆芳香
族ポリスルホン樹脂フィルムのテーバー摩耗試験のヘイ
ズ変化率を測定した。結果を表１に示した。
は、実施例１と同様に製造したシリコーン樹脂被覆芳香
族ポリスルホン樹脂フィルムのテーバー摩耗試験のヘイ
ズ変化率を測定した。結果を表１に示した。
【００３５】比較例１ 実施例１において、水銀ランプを照射しなかった以外
は、実施例１と同様に製造したシリコーン樹脂被覆芳香
族ポリスルホン樹脂フィルムのテーバー摩耗試験のヘイ
ズ変化率を測定した。結果を表１に示した。
は、実施例１と同様に製造したシリコーン樹脂被覆芳香
族ポリスルホン樹脂フィルムのテーバー摩耗試験のヘイ
ズ変化率を測定した。結果を表１に示した。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【発明の効果】実施例及び比較例から明らかなように、
あらかじめ紫外線照射した後にシリコーン樹脂で被覆し
たポリスルホン樹脂フィルムは、紫外線照射せずにシリ
コーン樹脂で被覆したポリスルホン樹脂フィルムと比較
して、テーバー摩耗試験のヘイズ変化率が小さい。すな
わち、本発明の方法により、シリコーン樹脂被膜とポリ
スルホン樹脂表面との密着性が改善され、耐熱性、耐衝
撃性、透明性などの特性に優れ、かつ表面硬度、耐擦傷
性及び耐光性の改良された芳香族ポリスルホン樹脂を得
ることができる。
あらかじめ紫外線照射した後にシリコーン樹脂で被覆し
たポリスルホン樹脂フィルムは、紫外線照射せずにシリ
コーン樹脂で被覆したポリスルホン樹脂フィルムと比較
して、テーバー摩耗試験のヘイズ変化率が小さい。すな
わち、本発明の方法により、シリコーン樹脂被膜とポリ
スルホン樹脂表面との密着性が改善され、耐熱性、耐衝
撃性、透明性などの特性に優れ、かつ表面硬度、耐擦傷
性及び耐光性の改良された芳香族ポリスルホン樹脂を得
ることができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 −（Ｐｈ−Ｘ1 −Ｐｈ−Ｘ2 −────Ｐｈ−Ｘi ）− （但し、Ｘ1 〜Ｘi は、芳香環を繋ぐ結合基または直接
結合で、少なくとも 1個はＳＯ2 基であり、Ｐｈは芳香
環を示す) で表される繰り返し単位を有する芳香族ポリ
スルホン樹脂の表面にあらかじめ紫外線を照射した後
に、シリコーン樹脂系ハードコート剤を塗布することを
特徴とする、芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32799292A JPH06172567A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32799292A JPH06172567A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06172567A true JPH06172567A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18205300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32799292A Pending JPH06172567A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 芳香族ポリスルホン樹脂表面被覆構造体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06172567A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1116342C (zh) * | 2000-04-21 | 2003-07-30 | 吉林大学 | 高含固量聚醚砜树脂的合成 |
-
1992
- 1992-12-08 JP JP32799292A patent/JPH06172567A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1116342C (zh) * | 2000-04-21 | 2003-07-30 | 吉林大学 | 高含固量聚醚砜树脂的合成 |
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