JPH06170168A

JPH06170168A - 窒素酸化物の除去方法

Info

Publication number: JPH06170168A
Application number: JP4324464A
Authority: JP
Inventors: Senji Kasahara; 泉司笠原; Kazuo Sekiya; 和夫関谷; Kazuhiko Sekizawa; 和彦関沢
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 1992-12-03
Filing date: 1992-12-03
Publication date: 1994-06-21

Abstract

(57)【要約】【目的】酸素過剰の排ガスを効率よく浄化し、かつ水蒸
気の存在する高温での耐久性に優れる排ガス浄化用触媒
を用いて排ガスを浄化する方法を提供する。【構成】アルコキシシランあるいはアルコキシアルキル
シラン蒸気で処理された１５以上であるゼオライトと、
一種以上の活性金属とからなる触媒を用いて、窒素酸化
物及び炭化水素を含有する酸素過剰の排ガスから窒素酸
化物を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ボイラー，自動車エン
ジン等から排出される窒素酸化物を含有する酸素過剰の
排ガスを触媒を用いて処理する方法に関し、更に詳細に
は、活性及び耐久性の非常に優れた触媒を用いて窒素酸
化物を除去する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ボイラー，自動車エンジン等から排出さ
れる排ガス中の窒素酸化物を除去する方法として、触媒
の存在下でアンモニアを用いる選択的接触還元法、ま
た、排ガスを触媒に通し、未燃焼の一酸化炭素及び炭化
水素により還元する非選択的接触還元法等が実用化され
ている。

【０００３】特開昭６０−１２５２５０号公報には、還
元剤非共存下で窒素酸化物を直接接触分解できる触媒と
して銅イオン交換したゼオライトが提案されている。

【０００４】また、ディーゼルエンジン，低燃費化を目
的とした希薄燃焼エンジンの排ガス浄化用に、酸素過剰
下でも、未燃焼の一酸化炭素，炭化水素等の還元成分に
より窒素酸化物を選択的に還元できる触媒として、卑金
属をゼオライト等に含有させた触媒が提案されている
（特開昭６３−１００９１９号公報）。

【０００５】しかしながら、これらの提案されている触
媒は、特に高温での耐久性に問題があり、実用化される
に至っていない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アン
モニア等の還元剤を使用することなく、自動車等の内燃
機関から排出される、特に酸素過剰の排ガスを、効率良
く浄化し、且つ、水蒸気が存在する高温での耐久性に優
れる排ガス浄化用触媒を用いて排ガスを浄化する方法を
提供するものである。

【０００７】

【課題を解決する為の手段】本発明者等は、上記課題に
ついて鋭意検討した結果、ゼオライトをアルコキシシラ
ンあるいはアルコキシアルキルシラン気相処理した触媒
を用いることにより、高温で使用された後も効率良く排
ガス浄化ができることを見出し、本発明を完成するに至
った。

【０００８】すなわち本発明は、アルコキシシランある
いはアルコキシアルキルシラン蒸気で処理された、Ｓｉ
Ｏ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比が少なくとも１５以上であるゼオ
ライトと、一種以上の活性金属とからなる触媒を用い
て、窒素酸化物及び炭化水素を含有する酸素過剰の排ガ
スから窒素酸化物を除去する方法を提供するものであ
る。

【０００９】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気で気相処理することにより触媒の耐久性
が向上する理由は明らかではないが、これらの気相処理
によりゼオライト表面にＳｉが均一に蒸着され、高温の
水蒸気存在下でのゼオライト破壊の原因となるゼオライ
ト表面附近のＡｌが保護され、更には、ゼオライト表面
疎水化による細孔内への触媒劣化原因となる水蒸気の侵
入が防止され、触媒の耐久性が向上したと推定される。

【００１０】以下、本発明をより詳細に説明する。

【００１１】本発明で用いられる触媒は、アルコキシシ
ランあるいはアルコキシアルキルシラン蒸気で処理され
た、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比が少なくとも１５である
ゼオライトと、一種以上の活性金属とからなる。

【００１２】本発明において用いられる原料ゼオライト
のＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比は、アルコキシシランある
いはアルコキシアルキルシラン蒸気で処理した後に１５
以上であれば良く、１５以上のものが使用される。ま
た、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比はその上限が限定される
ものではない。ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比が１５未満で
あると、十分な耐久性が得られない。

【００１３】また、ゼオライトの種類は特に限定されな
いが、例えば、モルデナイト，フェリエライト，ＺＳＭ
−５，ＺＳＭ−８，ＺＳＭ−１１，ＺＳＭ−１２，ＺＳ
Ｍ−２０，ＺＳＭ−３５等のゼオライトが使用できる
が、その中でもＺＳＭ−５が好適に用いられる。またこ
れらのゼオライトの製造方法は限定されるものではな
い。またゼオライトＹ，ゼオライトＬ等のゼオライトを
脱アルミニウムしたものであっても良い。

【００１４】原料ゼオライトは、合成品あるいはそのか
焼品等が用いられるが、原料ゼオライト中のＮａ等のイ
オンをアンモニウム塩あるいは鉱酸等で処理し、Ｈ型あ
るいはアンモニウム型として用いることもできる。更に
は、Ｋ，Ｃｓ，Ｂａ等でイオン交換して用いることもで
きる。

【００１５】原料ゼオライトは、アルコキシシランある
いはアルコキシアルキルシラン蒸気で処理され、且つ、
一種以上の活性金属が導入される。

【００１６】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気処理および活性金属導入の順序は特に制
限されず、原料ゼオライトをアルコキシシランあるいは
アルコキシアルキルシラン蒸気処理した後、活性金属を
導入しても良く、また、活性金属導入後アルコキシシラ
ンあるいはアルコキシアルキルシラン蒸気処理すること
もできる。

【００１７】本発明で用い得るアルコキシシランとはテ
トラアルコキシシランであり、アルコキシアルキルシラ
ンとはアルコキシトリアルキルシラン，ジアルコキシジ
アルキルシラン，トリアルコキシアルキルシランであ
る。アルコキシル基としてはメトキシル基，エトキシル
基，プロポキシル基，ブトキシル基等、また、アルキル
基としてはメチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基
等が使用できる。

【００１８】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気処理の条件は特に限定されず、アルコキ
シシランあるいはアルコキシアルキルシランを含むガス
を、原料ゼオライトあるいは一種以上の活性金属を含有
するゼオライトと接触させ、気相で処理を行えば良い。

【００１９】処理ガス中のアルコキシシランあるいはア
ルコキシアルキルシラン濃度は特に限定されないが、操
作性の点から希釈ガスでアルコキシシランあるいはアル
コキシアルキルシラン濃度１〜５０％に希釈して用いる
ことが好ましい。希釈ガスとしては、アルコキシシラン
あるいはアルコキシアルキルシランが安定に存在するガ
スであれば良く、Ｎ₂，Ｈｅ等が用いられる。希釈ガス
中にＨ₂Ｏが含まれていると、アルコキシシランあるい
はアルコキシアルキルシランが酸化物等に変化しゼオラ
イト表面に均一に蒸着されなくなる可能性がある為、処
理ガス中のＨ₂Ｏはできるだけ少なくすることが望まし
い。

【００２０】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気処理の温度は特に限定されないが、アル
コキシシランあるいはアルコキシアルキルシランが気体
として安定に存在すれば良く、また高温ではアルコキシ
ル基と反応するゼオライト表面のＯＨ基が不安定になる
危険性がある為、室温〜８００℃の温度が好ましい。ア
ルコキシシランあるいはアルコキシアルキルシラン蒸気
処理の方法は特に限定されないが、アルコキシシランあ
るいはアルコキシアルキルシラン含有ガスを充填した密
閉容器中でゼオライトを処理、あるいは、ゼオライトを
充填した層にアルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン含有ガスを流通させる等の方法が用いられ
る。アルコキシシランあるいはアルコキシアルキルシラ
ン含有ガスを流通させる場合の空間速度は１０〜１００
００ｈｒ^-1程度で良い。また、処理時間は、１０分〜３
０時間の時間で良い。

【００２１】また、アルコキシシランあるいはアルコキ
シアルキルシラン蒸気処理する際、ゼオライト中に吸着
しているＨ₂Ｏを除去し、且つ、アルコキシル基と反応
するゼオライト表面のＯＨ基を活性な状態で存在させる
為に、真空下あるいは不活性ガス雰囲気下で３００〜８
００℃で前処理を行うことが好ましい。

【００２２】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気処理されたゼオライトは、ゼオライト表
面のＳｉコ−ト層をより安定化する為に、１００℃〜８
００℃の温度、真空下あるいは不活性ガス雰囲気下ある
いは空気で熱処理しても良い。

【００２３】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気処理したゼオライトのＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ
₃モル比は１５以上であることが必須である。ＳｉＯ₂／
Ａｌ₂Ｏ₃モル比が１５未満であると十分な高温での耐久
性が得られない。また、その上限は特に限定されない
が、十分な触媒活性を有する為には２００以下であるこ
とが好ましい。

【００２４】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気で処理すると、Ｓｉがゼオライト表面に
蒸着する為、若干のＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比の上昇が
起る。

【００２５】本発明で用いられる触媒は、一種以上の活
性金属が導入される。活性金属としては通常排ガス浄化
に使用される金属であれば良く、例えば、Ｃｕ，Ａｇ，
Ａｕ等のＩｂ族、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐ
ｄ，Ｐｔ等のＶＩＩＩ族、Ｃｒ，Ｍｏ等のＶＩａ族、あ
るいは、Ｍｎ等のＶＩＩａ族が用いられる。特に好まし
くはＣｕあるいはＣｏである。

【００２６】活性金属の導入方法は特に限定されず、含
浸担持法，蒸発乾固法，イオン交換法等の手法を用いる
ことができる。活性金属はゼオライト表面に担持された
状態でも高活性を示すが、ゼオライトのイオン交換サイ
トに存在する場合に、より高活性，高耐久性となる為
に、イオン交換法で活性金属を導入することが好まし
い。

【００２７】イオン交換は、原料ゼオライトあるいはア
ルコキシシランあるいはアルコキシアルキルシラン蒸気
処理されたゼオライトを、活性金属の塩を含む水溶液中
に混合し、攪拌、洗浄して行われる。

【００２８】活性金属の塩としては、活性金属の塩化
物，硝酸塩，硫酸塩，酢酸塩等の塩が好適に用いられ
る。また、活性金属のアンミン錯塩等も好適に用い得
る。

【００２９】イオン交換の際の活性金属の添加量，濃
度，交換温度，時間等は特に限定されず、一般的に行わ
れている方法で良い。活性金属の添加量は、十分な活
性，耐久性を持たせる為には、原料ゼオライトあるいは
アルコキシシランあるいはアルコキシアルキルシラン蒸
気処理されたゼオライト中のＡｌに対し、０．５〜２０
倍当量が好ましい。また、イオン交換のスラリ−濃度
は、通常行われる５〜５０％が好ましい。また、イオン
交換温度，時間は、十分な活性，耐久性を持たせる為
に、室温〜１００℃の温度、５分〜３日の時間であるこ
とが好ましい。また、必要に応じて、イオン交換操作を
繰り返し行うこともできる。

【００３０】以上の様にして、本発明で用いられる排ガ
ス浄化触媒を調製することができる。

【００３１】本発明で用いられる活性金属を導入した排
ガス浄化用触媒のＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比は、活性金
属導入前後で実質的に変化しない。また、排ガス浄化用
触媒の結晶構造もアルコキシシランあるいはアルコキシ
アルキルシラン蒸気処理前後及び活性金属導入前後で本
質的に異なるものではない。

【００３２】本発明で用いられる排ガス浄化用触媒は、
粘土鉱物等のバインダーと混合し成形して使用すること
もできる。また、予め原料ゼオライトあるいはアルコキ
シシランあるいはアルコキシアルキルシラン蒸気処理し
たゼオライトを成形し、その成形体をアルコキシシラン
あるいはアルコキシアルキルシラン蒸気処理あるいは活
性金属を導入させることもできる。ゼオライトを成形す
る際に用いられるバインダーとしては、カオリン，アタ
パルガイト，モンモリロナイト，ベントナイト，アロフ
ェン，セピオライト等の粘土鉱物である。あるいは、バ
インダーを用いずに成形体を直接合成したバインダレス
ゼオライト成形体であっても良い。また、コージェライ
ト製あるいは金属製のハニカム状基材に本発明で用いら
れる排ガス浄化用触媒をウォッシュコートして用いるこ
ともできる。

【００３３】この様にして調製された排ガス浄化触媒
は、窒素酸化物及び炭化水素を含む酸素過剰の排ガスと
接触させ、窒素酸化物除去を行う。本発明で用いられる
排ガスは、窒素酸化物及び炭化水素を含み酸素過剰であ
ることが必須であるが、一酸化炭素，水素，アンモニア
等が含まれている場合にも有効である。酸素過剰の排ガ
スとは、排ガス中に含まれる一酸化炭素，炭化水素，水
素を完全に酸化するのに必要な酸素量よりも過剰な酸素
が含まれていることを示す。例えば、自動車等の内燃機
関から排出される排ガスの場合には、空燃費が大きい状
態（リーン領域）である。

【００３４】窒素酸化物を除去する際の空間速度、温度
等は特に限定されないが、空間速度１００〜５００００
０ｈｒ^-1、温度２００〜８００℃であることが好まし
い。

【００３５】

【実施例】以下、実施例において本発明を更に詳細に説
明する。しかし、本発明はこれら実施例のみに限定され
るものではない。

【００３６】実施例１攪拌状態にある実容積２リットルのオーバーフロータイ
プの反応槽に、珪酸ソーダ水溶液（ＳｉＯ₂；２５０ｇ
／リットル，Ｎａ₂Ｏ；８２ｇ／リットル，Ａｌ₂Ｏ₃；
２．８ｇ／リットル）と、硫酸アルミニウム水溶液（Ａ
ｌ₂Ｏ₃；８．８ｇ／リットル，Ｈ₂ＳＯ₄；３７０ｇ／リ
ットル）とをそれぞれ３リットル／ｈｒ，１リットル／
ｈｒの速度で連続的に供給した。反応温度は３０〜３２
℃、排出されるスラリーのｐＨは６．７〜７．０であっ
た。

【００３７】排出スラリーを固液分離し十分水洗した
後、Ｎａ₂Ｏ；０．７５ｗｔ％，Ａｌ₂Ｏ₃；０．７７ｗ
ｔ％，ＳｉＯ₂；３６．１ｗｔ％，Ｈ₂Ｏ；６２．５ｗｔ
％の粒状無定形アルミノ珪酸塩均一化合物を得た。該均
一化合物２，８６０ｇと３．２ｗｔ％のＮａＯＨ水溶液
６，１５０ｇとをオートクレーブに仕込み、１６０℃で
７２時間攪拌下で結晶化した。生成物を固液分離、水
洗、乾燥してＺＳＭ−５型ゼオライトを得た。化学分析
の結果、その組成は無水ベースにおける酸化物のモル比
で表わして次の組成を有していた。

【００３８】１．３Ｎａ₂Ｏ，Ａｌ₂Ｏ₃，４１ＳｉＯ₂ このゼオライト１０ｇを、ＮＨ₄Ｃｌ；２ｇを含む水溶
液１００ｃｃに添加し、６０℃にて２０時間攪拌した
後、洗浄、乾燥してアンモニウムイオン交換を行ない、
アンモニウム型ゼオライトを得た。

【００３９】このアンモニウム型ゼオライト；１０ｇ
を、反応管に充填し、Ｈｅ流通下、５００℃で１時間前
処理を行い、ゼオライトに吸着しているＨ₂Ｏを除去し
た。次いで、テトラメトキシシランを５％含有するＨｅ
ガス；６０ｃｃ／ｍｉｎを、７０℃で１時間ゼオライト
層に流通させた。その後、空気流通下で５００℃、２時
間焼成した。処理したゼオライトのＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃
モル比は４２であった。

【００４０】テトラメトキシシラン蒸気処理したゼオラ
イトを、０．１ｍｏｌ／リットル酢酸銅水溶液４１ｃｃ
に添加し、アンモニア水によりｐＨ＝１０．５に調整
し、室温で２０時間攪拌した後、洗浄し、Ｃｕイオン交
換操作を行った。この操作を２回繰返した後、乾燥して
触媒１を得た。化学分析の結果、その組成は無水ベース
における酸化物のモル比で表わして次の組成を有してい
た。

【００４１】１．０６ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４２ＳｉＯ₂ 実施例２アンモニウムイオン交換の代りにＫイオン交換を行った
こと以外は実施例１と同様に行い、触媒２を調製した。
Ｋイオン交換は、ＺＳＭ−５型ゼオライト；１０ｇを、
ＫＣｌ；２．８ｇを含む水溶液１００ｃｃに添加し、６
０℃にて２０時間攪拌した後、洗浄し、この操作を２回
繰返した後、乾燥して行った。

【００４２】テトラメトキシシラン蒸気処理したゼオラ
イトのＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比は４２であった。

【００４３】また、Ｃｕイオン交換後の触媒２は、無水
ベースにおける酸化物のモル比で表わして次の組成を有
していた。

【００４４】１．０２ＣｕＯ，０．１２Ｋ₂Ｏ，Ａｌ₂Ｏ
₃，４２ＳｉＯ₂ 実施例３テトラメトキシシラン蒸気処理の代りに、メトキシトリ
メチルシラン；１０％を含有するＨｅガスを６０ｃｃ／
ｍｉｎで流通させ、室温で１時間のメトキシトリメチル
シラン処理を行ったこと以外は、実施例１と同様にし
て、触媒３を調製した。

【００４５】メトキシトリメチルシラン蒸気処理したゼ
オライトのＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比は４２であった。

【００４６】また、Ｃｕイオン交換後の触媒３は、無水
ベースにおける酸化物のモル比で表わして次の組成を有
していた。

【００４７】１．２０ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４２ＳｉＯ₂ 実施例４テトラメトキシシラン蒸気処理の代りに、ジメトキシジ
メチルシラン；１０％を含有するＨｅガスを６０ｃｃ／
ｍｉｎで流通させ、室温で１時間のジメトキシジメチル
シラン処理を行ったこと以外は、実施例１と同様にし
て、触媒４を調製した。

【００４８】ジメトキシジメチルシラン蒸気処理したゼ
オライトのＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比は４２であった。

【００４９】また、Ｃｕイオン交換後の触媒４は、無水
ベースにおける酸化物のモル比で表わして次の組成を有
していた。

【００５０】１．１２ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４２ＳｉＯ₂ 実施例５テトラメトキシシラン蒸気処理の代りに、テトラエトキ
シシラン；５％を含有するＨｅガスを６０ｃｃ／ｍｉｎ
で流通させ、７０℃で１時間のテトラエトキシシラン処
理を行ったこと以外は、実施例１と同様にして、触媒５
を調製した。

【００５１】テトラエトキシシラン蒸気処理したゼオラ
イトのＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル比は４２であった。

【００５２】また、Ｃｕイオン交換後の触媒５は、無水
ベースにおける酸化物のモル比で表わして次の組成を有
していた。

【００５３】１．１０ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４２ＳｉＯ₂ 実施例６Ｃｕイオン交換の代わりにＣｏイオン交換を行ったこと
以外は、実施例１と同様に行い、触媒６を調製した。Ｃ
ｏイオン交換は以下のように行った。

【００５４】トリメチルクロロシラン蒸気処理したゼオ
ライトを、０．２２ｍｏｌ／リットルの酢酸Ｃｏ（Ｉ
Ｉ）水溶液９０ｃｃに添加し、６０℃で２０時間攪拌し
た後、洗浄し、Ｃｏイオン交換を行った。この操作を２
回繰り返した後、乾燥して触媒６を得た。

【００５５】触媒６は、無水ベースにおける酸化物のモ
ル比で表わして次の組成を有していた。

【００５６】１．４３ＣｏＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４２ＳｉＯ₂ 実施例７実施例１〜６で得られた触媒１〜６を用いて活性および
耐久性評価を行った。各触媒をプレス成形した後粉砕し
て１２〜２０メッシュに整粒した。その２ｃｃを常圧固
定床流通式反応管に充填し、リーンバーンエンジンの排
ガスを模擬したガス（表１）を空間速度１２０，０００
／ｈｒで流した。５５０℃で３０分の前処理を行なった
後、各温度での定常浄化活性を測定した。定常浄化活性
は、各温度で１時間保持した後のＮＯ浄化率とした。

【００５７】また、各触媒について、表１の組成のガス
を空間速度１２０，０００／ｈｒで流しながら８００℃
で５時間耐久処理した。その後、上記と同様の方法で定
常浄化活性を測定し耐久性の試験を行なった。

【００５８】得られた結果を表２に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】

【表２】

【００６１】比較例１実施例１において、テトラメトキシシラン蒸気処理を行
わなかったこと以外は実施例１と同様にして、Ｃｕ型Ｚ
ＳＭ−５（比較触媒１）を得た。化学分析の結果、その
組成は無水ベースにおける酸化物のモル比で表わして次
の組成を有していた。

【００６２】１．０３ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４１ＳｉＯ₂ 比較例２実施例５において、テトラメトキシシラン蒸気処理を行
わなかったこと以外は実施例５と同様にして、Ｃｕ型Ｚ
ＳＭ−５（比較触媒２）を得た。化学分析の結果、その
組成は無水ベースにおける酸化物のモル比で表わして次
の組成を有していた。

【００６３】１．４０ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４１ＳｉＯ₂ 比較例３比較例１及び２で得られた比較触媒１及び２を用いて、
実施例７と同様にして触媒活性および耐久性評価を行っ
た。得られた結果を表３に示す。

【００６４】

【表３】

【００６５】

【発明の効果】表２及び表３より明らかなように、本発
明の方法によれば、効率良く窒素酸化物を除去すること
ができ、触媒が高温で使用された後にも、効率良く窒素
酸化物を除去することができる。

【手続補正書】

【提出日】平成５年１１月１７日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５４】テトラメトキシシラン蒸気処理したゼオラ
イトを、０．２２ｍｏｌ／リットルの酢酸Ｃｏ（ＩＩ）
水溶液９０ｃｃに添加し、６０℃で２０時間攪拌した
後、洗浄し、Ｃｏイオン交換を行った。この操作を２回
繰り返した後、乾燥して触媒６を得た。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００６２】１．０３ＣｕＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４１ＳｉＯ₂ 比較例２実施例６において、テトラメトキシシラン蒸気処理を行
わなかったこと以外は実施例６と同様にして、Ｃｏ型Ｚ
ＳＭ−５（比較触媒２）を得た。化学分析の結果、その
組成は無水ベースにおける酸化物のモル比で表わして次
の組成を有していた。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００６３】１．４０ＣｏＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，４１ＳｉＯ₂ 比較例３比較例１及び２で得られた比較触媒１及び２を用いて、
実施例７と同様にして触媒活性および耐久性評価を行っ
た。得られた結果を表３に示す。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルコキシシランあるいはアルコキシアル
キルシラン蒸気で処理された、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃モル
比が少なくとも１５以上であるゼオライトと、一種以上
の活性金属とからなる触媒を用いて、窒素酸化物及び炭
化水素を含有する酸素過剰の排ガスから窒素酸化物を除
去する方法。