JPH06169024A - 半導体装置のパッケージの封止方法 - Google Patents

半導体装置のパッケージの封止方法

Info

Publication number
JPH06169024A
JPH06169024A JP12331693A JP12331693A JPH06169024A JP H06169024 A JPH06169024 A JP H06169024A JP 12331693 A JP12331693 A JP 12331693A JP 12331693 A JP12331693 A JP 12331693A JP H06169024 A JPH06169024 A JP H06169024A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing
package
semiconductor device
heating
seal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12331693A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Nakada
信一 中田
Taizo Takachi
泰三 高地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP12331693A priority Critical patent/JPH06169024A/ja
Publication of JPH06169024A publication Critical patent/JPH06169024A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 封止構造の形成を短時間で行うことがで
き、かつインライン化や、耐湿性向上をも実現可能とし
た半導体装置の封止方法枠等の位置決め部のない被封
止面に封止部を接着する場合も、これを容易に行うこと
ができる、半導体装置の封止方法を提供する。 【構成】 半導体装置が内蔵された中空のパッケージ
本体1の被封止面に、封止部2を樹脂により熱接着して
該パッケージ本体を封止する際、ヒートブロック等の加
熱手段5上で直接パッケージ本体を加熱する。接着封
止に先立ち、封止部を被封止面に仮固着する工程を行
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置のパッケー
ジの封止方法に関し、特に、半導体装置が内蔵された中
空のパッケージ本体の被封止面上にガラスやプラスチッ
ク材料などから成る封止部を樹脂により熱接着してこの
パッケージ本体を封止する半導体装置のパッケージの封
止方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置が内蔵された中空のパッケー
ジ本体の被封止面上に封止部を樹脂により熱接着してパ
ッケージ本体を封止する封止方法は、例えばCCDデバ
イスのパッケージのシールにおいて、従来より用いられ
ている。
【0003】CCDパッケージは、従来、図4及び図5
に示す如く、パッケージ本体1にガラスやプラスチック
材料から成る蓋状の封止部2を、熱硬化性樹脂により接
着して、パッケージ封止を行っている。通常、予め熱硬
化性エポキシ樹脂が付着形成されているシールガラスを
封止部2として用い、この樹脂面を支持用の治具ベース
3上に載置したパッケージ本体1の被封止面上にセット
し、加圧治具4により封止部2の上面を加圧しつつ、オ
ーブン内にて加熱することによりシールキュアを行って
いる。
【0004】ところが、このオーブン内での熱硬化工程
は、時間がかかり、一般に100〜150℃の温度下で
5〜6時間を要していた。よって、これが、生産性を上
げることの隘路となっていた。
【0005】またオーブン内での加熱処理は、インライ
ン化が困難である。よって、自動化は困難であった。ま
た、各パッケージのタイプ毎にバッチ処理を行う必要が
あって、作業性が低い。かつバッチ処理のため治具が必
要となり、膨大なコストがかかるという問題もある。
【0006】更に従来のオーブン加熱による封止では、
耐湿性を向上させようとしても、必ずしもこれを実現で
きない。例えば、従来技術を用いる場合、小型パッケー
ジタイプではシールしろが縮少され、例えば通常は1.
2mm程度のものが0.5〜0.77mm位になって、
このため耐湿性の著しい低下が見られることがあり、従
来の技術の範囲では、これは解決できない。
【0007】また、従来は、シールガラス等の封止部を
パッケージに接着する際、封止面に対してシールガラス
等の封止部を位置決めするのに手間がかかる場合がある
という問題があった。
【0008】シールガラス等の封止部をパッケージに本
固着(接着封止)するプロセス条件は、一般に約4kg
の荷重でシールガラス等をパッケージに押え、120
℃、4時間のキュアを行わなければならないが、図6
(a)に示すように、これまでのシールガラス等の封止
部2がはめ込まれる枠1bが付いた落し込みパッケージ
の場合、パッケージにシールガラス等の封止部2を落し
込むだけで、図6(b)に示すように位置決めされるた
め、パッケージにシールガラスを押える治具にセットし
てキュア炉に入れるだけでよかった。
【0009】ところが図7に示すように、このシールガ
ラス等の封止部2のはめ込まれる枠がないフラットなパ
ッケージ1′に固着する場合、シールガラス等とパッケ
ージ両方を位置決めする構造が付いた治具が必要とな
り、治具の価格が非常に高くなり、組立コストが上昇す
る。例えば、特開平4−44265号に記載の技術は、
生産量により数多くの治具を必要とし、また治具構造が
複雑になってしまう。
【0010】フラットシールガラスは、枠部分が不要な
ので、上下方向で上部の1層目をなくして薄くでき、平
面方向で図7(b)のA,Bの分(枠の分)の縮小がで
きて有効なのであるが、図7(b)のC方向での位置決
めに手間がかかり、封止が煩雑であるという問題があっ
たものである。
【0011】
【発明の目的】本発明は、封止構造の形成を短時間で行
うことができ、かつインライン化や、耐湿性向上をも実
現可能とした半導体装置の封止方法を提供することをそ
の目的とする。
【0012】また本発明は、枠等の位置決め部のない被
封止面に封止部を接着する場合も、これを容易に行うこ
とができる半導体装置の封止方法を提供することを第2
の目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本出願の請求項1の発明
は、半導体装置が内蔵された中空のパッケージ本体の被
封止面に、封止部を樹脂により熱接着して該パッケージ
本体を封止する半導体装置のパッケージの封止方法にお
いて、加熱手段上で直接パッケージ本体を加熱する工程
を備えることを特徴とする半導体装置のパッケージの封
止方法であって、これにより上記目的を達成するもので
ある。
【0014】本出願の請求項2の発明は、加熱手段上で
の加熱を、加圧しながら行うことを特徴とする請求項1
に記載の半導体装置のパッケージの封止方法であって、
これにより上記目的を達成するものである。
【0015】本出願の請求項3の発明は、加熱手段上で
の加熱を、樹脂の溶融温度で行うことを特徴とする請求
項1に記載の半導体装置のパッケージの封止方法であっ
て、これにより上記目的を達成するものである。
【0016】本出願の請求項4の発明は、加熱手段上で
の加熱を、プリヒート工程として行い、該プリヒート工
程の後、接着を完了させる加熱工程を行うことを特徴と
する請求項1ないし3のいずれか記載の半導体装置のパ
ッケージの封止方法であって、これにより上記目的を達
成するものである。
【0017】本出願の請求項5の発明は、プリヒート工
程の後の加熱工程が、加熱手段上での加熱であることを
特徴とする請求項4に記載の半導体装置のパッケージの
封止方法であって、これにより上記目的を達成するもの
である。
【0018】本出願の請求項6の発明は、プリヒート工
程の後の加熱工程が、オーブン加熱であることを特徴と
する請求項4に記載の半導体装置のパッケージの封止方
法であって、これにより上記目的を達成するものであ
る。
【0019】本出願の請求項7の発明は、半導体装置が
内蔵された中空のパッケージ本体の被封止面に、封止部
を樹脂により熱接着して該パッケージ本体を封止する半
導体装置のパッケージの封止方法において、パッケージ
本体の被封止面上に樹脂を介して封止部を位置させ、該
封止部上から、加熱・加圧手段により押圧加熱すること
により、接着封止を行う工程を備えることを特徴とする
半導体装置のパッケージの封止方法であって、これによ
り上記目的を達成するものである。
【0020】なお、本明細書中、上下関係は相対的なも
のであり、必ずしも重力がかかる方向での上下を言うも
のではない。
【0021】本出願の請求項8の発明は、半導体装置が
内蔵された中空のパッケージ本体の被封止面に、封止部
を接着して該パッケージ本体を封止する半導体装置のパ
ッケージの封止方法において、接着封止に先立ち、封止
部を被封止面に仮固着する工程を行うことを特徴とする
半導体装置のパッケージの封止方法であって、これによ
り上記目的を達成するものである。
【0022】
【作用】本発明によれば、ヒートブロック、ヒートコラ
ムと言った加熱手段上で直接パッケージ本体を加熱する
ので、従来に比し、大幅な封止構造形成時間の短縮を実
現できる。インライン化も可能であり、自動化を図るこ
とができる。また、加圧を併用して、シール性を高める
ことができる。
【0023】また、プリヒートを用いることにより、耐
湿性の一層の向上を実現できる。
【0024】また請求項8の発明によれば、仮固着を接
着封止に先立って行うので、フラットパッケージ等につ
いても容易に封止を行え、よってフラットパッケージの
利点を生かすことができる。
【0025】
【実施例】以下本発明の実施例について、図面を参照し
て説明する。なお当然のことではあるが、本発明は実施
例により限定されるものではない。
【0026】実施例1 本実施例は、CCDパッケージのシールプロセスに本発
明を適用したものである。
【0027】本実施例では、図1に示すように、封止部
2であるシールガラスを加圧手段4により上面から加圧
しながら、パッケージ本体1の裏面よりヒートブロック
を加熱手段5として用いてこの上にパッケージ本体1を
載置し、これに接触させて直接的に加熱する。
【0028】これにより、パッケージ本体1の裏面より
パッケージシール面に熱が伝導し、シール樹脂を溶融さ
せて、封止部2(シールガラス)とパッケージ本体1が
密着し、シール樹脂が硬化する。これにより接着がなさ
れ、パッケージが封着されてシールが完了する。なお1
aは、リード脚である。6はヒーターである。
【0029】本構成によれば、従来のオーブンキュアと
比較して、はるかに急速に加熱できる。オーブン内の空
気を温める立上がり時間も不要である。速やかな加熱に
よっても、溶融粘度の低下とか、パッケージ内部圧力の
増大によるシールひけなども発生せず、問題なく完全な
シールが達成できた。
【0030】本実施例において、シール樹脂の硬化(キ
ュア)条件としては、ヒートブロックを150℃前後、
ないし150〜180℃とし、シール面温度130〜1
40℃で、10〜30分にて、シールキュアが可能であ
る。オーブンの内部空気の加熱が不要であるから、トー
タルで数10分でシールが完了し、大幅な時間短縮が実
現できる。
【0031】上記したような加熱の硬化条件により、1
回目のヒートアップ・加圧で十分に硬化がなされる温度
プロファイルと時間を設定できる。
【0032】ヒートアップ・加圧条件としては、通常5
〜10分単位でよい。一般的には、1回目のヒートアッ
プ・加圧を解除したときのシール外観が重要であり、こ
のときに、内部圧力の増大により、加圧が解除されたと
きシールガラスを押し上げてシール樹脂内部に気泡が浸
入することを防ぐことが要せられる。気泡が一旦浸入す
ると、そのまま硬化してしまい、外観及び耐湿性の問題
となるためである。これについては、本実施例の上記シ
ール面温度、加熱時間を採用したことにより、良好な結
果が得られた。シール樹脂の種類やパッケージの形態に
応じ、シール樹脂に適切な温度、及び時間−加圧力の設
定を行えば、シール外観、耐湿性の問題もなく、大幅な
時間短縮化ができる。本実施例では、ヒートサイクル、
高温高湿バイアス1000時間の規格を、十分にクリア
ーするパッケージシール構造が得られた。
【0033】本実施例では、インライン化対応を可能と
するための搬送システムでのタクトを考慮して、キュア
時間を5〜10分単位で、ヒートアップ・加圧を解除し
て(即ち、例えば一つのステーションから他のステーシ
ョンに移して、各々で加熱するようにして)、これによ
り必要時間分を繰り返し行った。このように実施して
も、シール外観について問題ないことが確認できた。
【0034】本実施例によれば、パッケージ本体1裏面
より加熱手段5により直接加熱してパッケージシール面
温度が上昇し(シール面130〜140℃ないし150
℃前後)、シール樹脂が溶融し、封止部2であるシール
ガラスとパッケージ本体1が密着する。更にヒートアッ
プを行い、樹脂を硬化させる。このようにしたので、シ
ール工程の大幅な時間短縮化が実現できた(従来の5〜
6時間に対し、10〜20分とすることができた)。
【0035】また、インライン化による治具工具廃止、
生産性の向上を図ることができた(10倍以上の生産性
の向上が可能である)。更に、ヒートサイクル実験によ
る信頼性が高く、熱による分光特性変動が小さいなど、
製品はすぐれたものであった。
【0036】実施例2 本実施例も、CCDパッケージのシールへの適用例であ
る。
【0037】本実施例においては、樹脂の硬化工程であ
るシールキュアを行う前に、加熱手段5であるヒートコ
ラム(ヒートブロック)によりプリヒートし、パッケー
ジ本体1と封止部2(シールガラス等)を予備加熱す
る。
【0038】本実施例においては、まずCCDパッケー
ジ本体1にシール樹脂付きのシールガラスをセットして
(プリヒート後にセットしても良い)、パッケージ本体
1の裏面より加熱して、熱伝導によりシール面が最下9
0〜120℃程度となるようにする(図2(a)参
照)。
【0039】本実施例におけるプリヒート時間は、30
〜300秒程度とした。プリヒートの間は、これを無加
圧で行う。このプリヒートにおいて、シール面において
樹脂が加熱され、溶融しはじめる。
【0040】プロセス条件としては、プリヒート時に十
分に樹脂を溶融させ、かつ、この段階では硬化が進行し
ないように条件設定する。このため、樹脂特性に合わせ
て温度・時間を設定した。このプリヒートでゲル化して
しまうと、プリヒート後のシールキュアで十分なぬれ性
が得られず、耐湿性劣化を招くことがあるからである。
【0041】プリヒート温度を90〜100℃の低めの
温度に設定すれば、プリヒート時間300秒程度でも、
硬化反応に影響なく、安定なプロセスを実現できる。こ
れにより、インライン化にも対応可能になる。
【0042】プリヒート終了後、樹脂が溶融した状態
で、プリヒート時と同様に加熱手段5(ヒートコラム)
にて加熱する。このとき、封止部3であるガラスを、上
面より加圧手段4により1〜4kg程度加圧する(図2
(b)参照)。
【0043】シール面の温度は、硬化を進行させるため
に、130〜150℃とし、加熱時間3〜20分に設定
する。
【0044】この段階では、プリヒートによりすでに樹
脂は十分に溶融しているため、樹脂は加圧・ヒートアッ
プと同時に速やかにぬれ広がり、温度上昇とともに硬化
が進行し、封止が完了する。本実施例では、4〜5分で
硬化して封止が完了した。
【0045】ヒートコラムのみによるシールキュアでは
ぬれ性が低下するおそれがあり、耐湿性向上を図れない
可能性があるが、プリヒートを用いると、オーブンキュ
アよりもぬれ性が向上し、耐湿性もプレッシャークッカ
ーテストによると約20%アップすることができた。
【0046】図3に、各方法によるシールキュアでの樹
脂溶融粘度変化を示す。Iは加熱手段による直接加熱
(ヒートコラムないしヒートブロックによるキュア)、
IIはオーブンキュアの場合である。オーブンキュアの
場合に比し、直接加熱の場合Iの反応速度が大であるこ
とがわかる。その中で、プリヒートなしの場合Ibに比
べ、プリヒートありの場合Iaの方が、粘度の低下が著
しく、シール性について有利であることがわかる。
【0047】即ち、プリヒートなしの場合Ibは、温度
上昇に伴い、硬化が早く進行し、粘度が低くならずぬれ
性の向上は顕著ではないが、プリヒートありの場合では
硬化加熱(本キュア)前に粘度が十分に低下し、ぬれ性
が著しく向上し、耐湿性向上が実現される。
【0048】上記実施例では、封止部2であるシールガ
ラスをプリヒート前にパッケージ本体1にセットした
が、プリヒート後にセットしてもよい。
【0049】上記のように、プリヒートを用いることに
より、キュア時間短縮及び耐湿性の向上が実現できた。
【0050】実施例3 実施例2では、樹脂硬化用加熱処理(本キュア)を、プ
リヒート同様、加熱手段5であるヒートコラム上にて行
ったが、本実施例では、プリヒート後に、キュア炉(オ
ーブン)内で加熱・加圧して、シールを完成させた。本
実施例は、実施例2よりはリードタイムが長くなる可能
性があるが、同様の効果が得られる。
【0051】実施例4 図8を参照して、実施例4を説明する。この実施例は、
請求項8の発明を具体化したものである。
【0052】図8において、ICチップ1cを内蔵する
パッケージ本体1は、位置決めされた状態で、80℃位
にヒーター6によって加熱されている。その状態で、熱
硬化型エポキシ接着材が半硬化した状態で塗布されてい
る封止部2(ここではシールガラス)をステージ8(通
称Bステージと称されている)上から、バキュームヘッ
ド7で位置決めされた状態で約300g加圧する。する
と、Bステージ8のパッケージとの接触面9が溶融し、
封止部2であるシールガラスとパッケージ本体1は取り
出して常温に戻すと、仮固着されている。
【0053】この接着力は非常に弱く、500g程度の
接着力であるが、治具への移載等本固着(接着封止)ま
での作業上では問題とならない。
【0054】本実施例において、Bステージ8の特性
は、接触面9において50℃からゲル化(溶融)が始ま
り、130℃にてある時間を越えた時より、こんどは硬
化し始める設定になっている。この硬化温度よりもかな
り低い80℃を使い、Bステージ8も表面のみゲル化し
た状態の時に加圧することで、弱い接着力が起きるのを
利用したのがこの仮固着である。硬化温度よりもかなり
低い温度で短時間で仮固着を行うので、本固着でのプロ
セスには影響を及ばない。また短時間に高精度に仮固着
できるため生産性が良い。
【0055】本実施例によれば、フラットパッケージに
おいて生産性の良いプロセスを実現でき、落し込みパッ
ケージに較べて生産コストのアップを見ないため、枠に
相当するパッケージ上部一層目をなくすことができ、こ
れによりパッケージのローコスト化ができる。
【0056】更に、例えばCCDはカメラ一体型8mm
ビデオ等に使用されるため、縮小化の要求が高いので、
フラットパッケージを使用して精度が良い仮固着を行う
ことで、従来までの枠の部分であった図7のA,Bの部
分をなくし、CCD等の縮小化が実現できる。
【0057】このように本実施例では、仮固着のプロセ
スを行うことで、フラットパッケージの本固着を従来の
治具で生産が可能となった。かつフラットパッケージの
生産が組立コストが高くならずに可能で、パッケージが
枠の部分がなくなるフラットパッケージにより、ローコ
スト化ができる。更に、パッケージの枠がなくなり、高
精度な位置決めで固着できるので、枠の部分の寸法を小
さくすることができ、製品の縮小化が図れる。
【0058】
【発明の効果】本発明によれば、半導体装置の封止にお
いて、封止構造の形成を短時間に行うことができ、かつ
インライン化や、耐湿性向上をも実現可能にできる。
【0059】また、本発明によれば、低価格、かつ小型
化可能なフラットパッケージを用いて、容易な封止を実
現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1を示す図である。
【図2】実施例2を示す図である。
【図3】作用説明図である。
【図4】従来技術を示す。
【図5】従来技術を示す。
【図6】従来の落とし込みパッケージを示す図面であ
る。
【図7】フラットパッケージの問題点を示す図である。
【図8】実施例4を示す図であって、仮固着状態の断面
図である。
【符号の説明】
1 パッケージ本体 2 封止部 4 加圧手段 5 加熱手段

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体装置が内蔵された中空のパッケージ
    本体の被封止面に、封止部を樹脂により熱接着して該パ
    ッケージ本体を封止する半導体装置のパッケージの封止
    方法において、 加熱手段上で直接パッケージ本体を加熱する工程を備え
    ることを特徴とする半導体装置のパッケージの封止方
    法。
  2. 【請求項2】加熱手段上での加熱を、加圧しながら行う
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置のパッケ
    ージの封止方法。
  3. 【請求項3】加熱手段上での加熱を、樹脂の溶融温度で
    行うことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置のパ
    ッケージの封止方法。
  4. 【請求項4】加熱手段上での加熱を、プリヒート工程と
    して行い、該プリヒート工程の後、接着を完了させる加
    熱工程を行うことを特徴とする請求項1ないし3のいず
    れか記載の半導体装置のパッケージの封止方法。
  5. 【請求項5】プリヒート工程の後の加熱工程が、加熱手
    段上での加熱であることを特徴とする請求項4に記載の
    半導体装置のパッケージの封止方法。
  6. 【請求項6】プリヒート工程の後の加熱工程が、オーブ
    ン加熱であることを特徴とする請求項4に記載の半導体
    装置のパッケージの封止方法。
  7. 【請求項7】半導体装置が内蔵された中空のパッケージ
    本体の被封止面に、封止部を樹脂により熱接着して該パ
    ッケージ本体を封止する半導体装置のパッケージの封止
    方法において、 パッケージ本体の被封止面上に樹脂を介して封止部を位
    置させ、該封止部上から、加熱・加圧手段により押圧加
    熱することにより、接着封止を行う工程を備えることを
    特徴とする半導体装置のパッケージの封止方法。
  8. 【請求項8】半導体装置が内蔵された中空のパッケージ
    本体の被封止面に、封止部を接着して該パッケージ本体
    を封止する半導体装置のパッケージの封止方法におい
    て、 接着封止に先立ち、封止部を被封止面に仮固着する工程
    を行うことを特徴とする半導体装置のパッケージの封止
    方法。
JP12331693A 1992-09-30 1993-04-27 半導体装置のパッケージの封止方法 Pending JPH06169024A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12331693A JPH06169024A (ja) 1992-09-30 1993-04-27 半導体装置のパッケージの封止方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28505192 1992-09-30
JP4-289579 1992-10-02
JP4-285051 1992-10-02
JP28957992 1992-10-02
JP12331693A JPH06169024A (ja) 1992-09-30 1993-04-27 半導体装置のパッケージの封止方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06169024A true JPH06169024A (ja) 1994-06-14

Family

ID=27314692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12331693A Pending JPH06169024A (ja) 1992-09-30 1993-04-27 半導体装置のパッケージの封止方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06169024A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101388753B1 (ko) Flip 칩 패키징 내에 몰딩된 언더필을 위한 장치 및 방법
JPH08274204A (ja) ハーメチックシールシステムおよびデバイスのハーメチックシール方法
JP2000294673A (ja) 半導体装置の製造方法
US20060175710A1 (en) Consolidated flip chip BGA assembly process and apparatus
JPH0296343A (ja) 混成集積回路装置の製造方法
US20040084784A1 (en) Packaged electronic component and method for packaging an electronic component
JPH06169024A (ja) 半導体装置のパッケージの封止方法
US6869832B2 (en) Method for planarizing bumped die
JP2001007256A (ja) 半導体集積回路装置および半導体集積回路装置の製造方法
JPH06163612A (ja) 半導体装置の製造方法及び製造装置
TW200534409A (en) Method for manufacturing a semiconductor tip mounting object and a semiconductor tip mounting object
JP3022910B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2540942B2 (ja) 混成集積回路のパッケ―ジ方法
JPH10154764A (ja) 固体撮像装置用パッケージのシール方法
JPH06132414A (ja) 半導体装置の封着方法
JP2658602B2 (ja) 半導体装置の組立方法および組立装置
JPS61281540A (ja) 半導体装置用封止治具
US20050266592A1 (en) Method of fabricating an encapsulated chip and chip produced thereby
KR0183640B1 (ko) 접착제 접착부의 표면조도 향상방법
CN116264167A (zh) 通过使用反应性带制造半导体器件模块的方法和半导体器件模块
JP2772470B2 (ja) 電子部品の封止方法
JPS63107149A (ja) マルチチツプモジユ−ル
JPH02174135A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JPS58164230A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2000332054A (ja) Icチップの実装方法