JPH06169012A - ダイサ及び半導体ペレットの製造方法 - Google Patents
ダイサ及び半導体ペレットの製造方法Info
- Publication number
- JPH06169012A JPH06169012A JP29110792A JP29110792A JPH06169012A JP H06169012 A JPH06169012 A JP H06169012A JP 29110792 A JP29110792 A JP 29110792A JP 29110792 A JP29110792 A JP 29110792A JP H06169012 A JPH06169012 A JP H06169012A
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- JP
- Japan
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- semiconductor wafer
- dicer
- sensor
- rotary blade
- semiconductor
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、半導体ウエハを個々の半導体ペレ
ットに切断分離するダイサに関する。 【構成】 本発明によるダイサは、支持テーブル2上に
支持された半導体ウエハ3を回転ブレード5にて切断し
個々の半導体ペレットに分離するダイサにおいて、上記
回転ブレード5に半導体ウエハ3上の高さ位置を検出す
るセンサ7を設けたことを特徴とする。このダイサは、
センサ7が回転ブレード5の移動方向前方に配置されて
いることを特徴とする。また、ダイサによる切断作業前
に半導体ウエハ3の表面に沿ってセンサ7を走査させ、
このセンサ7の検出出力に基づいて、回転ブレード6の
高さ位置を調整することも出来る。 【効果】 以上のように、本発明によれば、回転ブレー
ド5の高さ位置をウエハ3表面の湾曲に沿わせることが
可能で、切込み量が安定する。
ットに切断分離するダイサに関する。 【構成】 本発明によるダイサは、支持テーブル2上に
支持された半導体ウエハ3を回転ブレード5にて切断し
個々の半導体ペレットに分離するダイサにおいて、上記
回転ブレード5に半導体ウエハ3上の高さ位置を検出す
るセンサ7を設けたことを特徴とする。このダイサは、
センサ7が回転ブレード5の移動方向前方に配置されて
いることを特徴とする。また、ダイサによる切断作業前
に半導体ウエハ3の表面に沿ってセンサ7を走査させ、
このセンサ7の検出出力に基づいて、回転ブレード6の
高さ位置を調整することも出来る。 【効果】 以上のように、本発明によれば、回転ブレー
ド5の高さ位置をウエハ3表面の湾曲に沿わせることが
可能で、切込み量が安定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】 本発明は、半導体ウエハを個々
の半導体ペレットに切断分離するダイサに関する。
の半導体ペレットに切断分離するダイサに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置は、同じパターンで多数個の
半導体素子を形成した半導体ウエハの半導体素子領域の
隣接部分より切断して分離された個々の半導体ペレット
を組み込んで製造される。
半導体素子を形成した半導体ウエハの半導体素子領域の
隣接部分より切断して分離された個々の半導体ペレット
を組み込んで製造される。
【0003】半導体ウエハの分割装置として一般的に用
いられている回転ブレード式ダイサを図2から説明す
る。
いられている回転ブレード式ダイサを図2から説明す
る。
【0004】図において、1はXY方向の往復動可能か
つZ軸周りに回転可能なベース、2はベースに固定さ
れ、上面に半導体ウエハ3を貼り付けたシート4を吸着
して半導体ウエハ3を保持する支持テーブル、5はベー
ス1の近傍に配置され上下位置が微調整可能な回転ブレ
ードで、図示しないが、切削時の冷却と切粉を洗い流す
ための放水管が付設されている。
つZ軸周りに回転可能なベース、2はベースに固定さ
れ、上面に半導体ウエハ3を貼り付けたシート4を吸着
して半導体ウエハ3を保持する支持テーブル、5はベー
ス1の近傍に配置され上下位置が微調整可能な回転ブレ
ードで、図示しないが、切削時の冷却と切粉を洗い流す
ための放水管が付設されている。
【0005】この装置は、支持テーブル2上に保持した
半導体ウエハ3の切断予定部を回転ブレード5の相対的
移動経路上に位置させ、回転ブレード5の下端を半導体
ウエハ3の表面に当接させこの高さ位置を基準に半導体
ウエハ3の外方で半導体ウエハの厚さ分、回転ブレード
5の高さ位置を下げ、回転ブレード5を回転させつつベ
ース1をX方向に移動させて切断し、テーブル2即ち半
導体ウエハ3をY方向にピッチ送りして、回転ブレード
5を相対的に逆X方向に移動させ、これを繰り返してX
方向に平行に切断していく。そしてX方向の切断が完了
すると、ベース1を90度回転させて、回転ブレード5
をX方向の往復動させるとともに、逆Y方向に移動させ
ることにより、半導体ウエハ3を平行に切断し、矩形状
の半導体ペレットを得る。
半導体ウエハ3の切断予定部を回転ブレード5の相対的
移動経路上に位置させ、回転ブレード5の下端を半導体
ウエハ3の表面に当接させこの高さ位置を基準に半導体
ウエハ3の外方で半導体ウエハの厚さ分、回転ブレード
5の高さ位置を下げ、回転ブレード5を回転させつつベ
ース1をX方向に移動させて切断し、テーブル2即ち半
導体ウエハ3をY方向にピッチ送りして、回転ブレード
5を相対的に逆X方向に移動させ、これを繰り返してX
方向に平行に切断していく。そしてX方向の切断が完了
すると、ベース1を90度回転させて、回転ブレード5
をX方向の往復動させるとともに、逆Y方向に移動させ
ることにより、半導体ウエハ3を平行に切断し、矩形状
の半導体ペレットを得る。
【0006】回転ブレード5は半導体ウエハ3の表面か
らその厚さ分だけ切り込んでいるため、半導体ウエハ3
はシート4の界面部分で切断される。
らその厚さ分だけ切り込んでいるため、半導体ウエハ3
はシート4の界面部分で切断される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、実際に切断
してみると、部分的に切り残しがあったり、または切り
込み過ぎるとシート4の一部が切断され、シート4から
ペレット3を剥離する際に、剥がれ難くなったり、取り
出し予定の半導体ペレットと近接した不所望の半導体ペ
レットまで剥がれてしまうという問題があった。
してみると、部分的に切り残しがあったり、または切り
込み過ぎるとシート4の一部が切断され、シート4から
ペレット3を剥離する際に、剥がれ難くなったり、取り
出し予定の半導体ペレットと近接した不所望の半導体ペ
レットまで剥がれてしまうという問題があった。
【0008】この問題は、ネジ6によってベース1に支
持テーブル2をネジ締めする際に、ネジ締め力によっ
て、支持テーブル2の中央部が引き下げられ周辺部に対
して20ミクロン程度凹湾曲するためで、これに、半導
体ウエハ3及びシート4の厚さのばらつきが加わるため
回転ブレード5の切込み量のばらつきはある程度仕方が
なかった。
持テーブル2をネジ締めする際に、ネジ締め力によっ
て、支持テーブル2の中央部が引き下げられ周辺部に対
して20ミクロン程度凹湾曲するためで、これに、半導
体ウエハ3及びシート4の厚さのばらつきが加わるため
回転ブレード5の切込み量のばらつきはある程度仕方が
なかった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題の解
決を目的として提案されたもので、支持テーブル上に支
持された半導体ウエハを回転ブレードにて切断し個々の
半導体ペレットに分離するダイサにおいて、上記回転ブ
レードに半導体ウエハからの高さ位置を検出するセンサ
を設けたことを特徴とするダイサを提供する。
決を目的として提案されたもので、支持テーブル上に支
持された半導体ウエハを回転ブレードにて切断し個々の
半導体ペレットに分離するダイサにおいて、上記回転ブ
レードに半導体ウエハからの高さ位置を検出するセンサ
を設けたことを特徴とするダイサを提供する。
【0010】また、ダイサによる切断作業前に半導体ウ
エハの表面に沿ってセンサを走査させ、このセンサの検
出出力に基づいて、ダイサの高さ位置を調整するように
したことを特徴とする半導体ペレットの製造方法を提供
する。
エハの表面に沿ってセンサを走査させ、このセンサの検
出出力に基づいて、ダイサの高さ位置を調整するように
したことを特徴とする半導体ペレットの製造方法を提供
する。
【0011】
【作用】 本発明によれば、センサによって半導体ウエ
ハの表面の高さ位置を検出し、この検出出力に基づいて
回転ブレードの高さ位置を調節するようにしたから、切
込み量を一定にして半導体ウエハを切断できる。
ハの表面の高さ位置を検出し、この検出出力に基づいて
回転ブレードの高さ位置を調節するようにしたから、切
込み量を一定にして半導体ウエハを切断できる。
【0012】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図1から説明す
る。図において図2と同一符号は同一物を示し説明を省
略する。本発明によるダイサは、回転ブレード5に半導
体ウエハ3からの高さ位置を検出するセンサ7を設けた
ことを特徴とし、このセンサ7の出力に基づいて回転ブ
レード5の高さ位置を調節可能にしたことにある。
る。図において図2と同一符号は同一物を示し説明を省
略する。本発明によるダイサは、回転ブレード5に半導
体ウエハ3からの高さ位置を検出するセンサ7を設けた
ことを特徴とし、このセンサ7の出力に基づいて回転ブ
レード5の高さ位置を調節可能にしたことにある。
【0013】このセンサ7はブレード5の前後に設けら
れブレード5の切断作業に先行して半導体ウエハ3の高
さ位置を検出する。ブレード5は図示しないが微小上下
機構が設けられ、このセンサ7の出力に基づいて高さ位
置を微小調整している。
れブレード5の切断作業に先行して半導体ウエハ3の高
さ位置を検出する。ブレード5は図示しないが微小上下
機構が設けられ、このセンサ7の出力に基づいて高さ位
置を微小調整している。
【0014】その結果、回転ブレード5は半導体ウエハ
3の表面に沿って移動し、半導体ウエハ3の切込み量が
一定になる。
3の表面に沿って移動し、半導体ウエハ3の切込み量が
一定になる。
【0015】上記実施例では、回転ブレード5が半導体
ウエハ3を切断する直前にセンサ7にて半導体ウエハ3
の高さ位置を検出するようにしたが、センサ7を半導体
ウエハ3の直径以上離隔させ支持テーブル2のみ移動さ
せて、センサ7を半導体ウエハ3の全面に走査させ表面
全体の湾曲状態を検出しておいてこの検出出力をメモリ
に記憶させ、このメモリの出力に基づいて回転ブレード
5の制御を行なうことも出来る。
ウエハ3を切断する直前にセンサ7にて半導体ウエハ3
の高さ位置を検出するようにしたが、センサ7を半導体
ウエハ3の直径以上離隔させ支持テーブル2のみ移動さ
せて、センサ7を半導体ウエハ3の全面に走査させ表面
全体の湾曲状態を検出しておいてこの検出出力をメモリ
に記憶させ、このメモリの出力に基づいて回転ブレード
5の制御を行なうことも出来る。
【0016】これによればセンサ7が冷却や水洗のため
の水による影響を受けることなく正確に回転テーブル5
の制御が出来る。
の水による影響を受けることなく正確に回転テーブル5
の制御が出来る。
【0017】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、回転ブ
レードの高さ位置をウエハ表面の湾曲に沿わせることが
可能で、切込み量が安定する。
レードの高さ位置をウエハ表面の湾曲に沿わせることが
可能で、切込み量が安定する。
【図1】 本発明の実施例を示すダイサの側面図
【図2】 従来のダイサを示す側面図
2 支持テーブル 3 半導体ウエハ 5 回転ブレード 7 センサ
Claims (3)
- 【請求項1】支持テーブル上に支持された半導体ウエハ
を回転ブレードにて切断し個々の半導体ペレットに分離
するダイサにおいて、上記回転ブレードに半導体ウエハ
上の高さ位置を検出するセンサを設けたことを特徴とす
るダイサ。 - 【請求項2】センサが回転ブレードの移動方向前方に配
置されていることを特徴とする請求項1記載のダイサ。 - 【請求項3】回転ブレードによる切断作業前に半導体ウ
エハの表面に沿ってセンサを走査させ、このセンサの検
出出力に基づいて、ダイサの高さ位置を調整するように
したことを特徴とする半導体ペレットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29110792A JPH06169012A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | ダイサ及び半導体ペレットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29110792A JPH06169012A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | ダイサ及び半導体ペレットの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06169012A true JPH06169012A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=17764547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29110792A Pending JPH06169012A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | ダイサ及び半導体ペレットの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06169012A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000349050A (ja) * | 1999-06-09 | 2000-12-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法及び切削装置 |
JP2010245446A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法 |
-
1992
- 1992-10-29 JP JP29110792A patent/JPH06169012A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000349050A (ja) * | 1999-06-09 | 2000-12-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法及び切削装置 |
JP2010245446A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法 |
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