JPH0616814A - ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法 - Google Patents
ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0616814A JPH0616814A JP20045992A JP20045992A JPH0616814A JP H0616814 A JPH0616814 A JP H0616814A JP 20045992 A JP20045992 A JP 20045992A JP 20045992 A JP20045992 A JP 20045992A JP H0616814 A JPH0616814 A JP H0616814A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- diorganopolysiloxane
- formula
- same
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 分子鎖片末端にケイ素原子結合２級アミノ基
を有するジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法
を提供する。 【構成】 一般式： 【化１】 （式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素基、Ｒ1お
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される有機基である。）で示されるジオルガノポ
リシロキサン、および２級アミンのリチウム塩を開始剤
にして、環状ジオルガノトリシロキサンを重合させ、ハ
ロシランで重合を停止する該ポリシロキサンの製造方
法。
を有するジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法
を提供する。 【構成】 一般式： 【化１】 （式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素基、Ｒ1お
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される有機基である。）で示されるジオルガノポ
リシロキサン、および２級アミンのリチウム塩を開始剤
にして、環状ジオルガノトリシロキサンを重合させ、ハ
ロシランで重合を停止する該ポリシロキサンの製造方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は分子鎖片末端にケイ素原
子結合２級アミノ基を有するジオルガノポリシロキサン
およびその製造方法に関するものである。詳しくは、非
平衡重合により製造される、片方の末端にケイ素原子結
合２級アミノ基を有する新規なジオルガノポリシロキサ
ンおよびその製造方法に関する。
子結合２級アミノ基を有するジオルガノポリシロキサン
およびその製造方法に関するものである。詳しくは、非
平衡重合により製造される、片方の末端にケイ素原子結
合２級アミノ基を有する新規なジオルガノポリシロキサ
ンおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】環状ジオルガノトリシロキサンをアルカ
リ金属触媒を用いて開環重合することはよく知られてい
る。例えば、環状ジオルガノトリシロキサンをｎ−ブチ
ルリチウムあるいはリチウムトリメチルシラノレート等
のリチウム触媒を用いて、非平衡重合させた後、官能性
基含有モノクロロシランで重合を停止させ、片末端にの
み官能性基を有するジオルガノポリシロキサンを製造す
る方法が知られている。また、Macromolecules 第３
巻，第１号，１ページ（１９７０年）には、ブチルリチ
ウムによりヘキサメチルシクロトリシロキサンを開環さ
せ、ジメチルビニルクロロシランで処理することにより
重合を停止し、片末端にビニル基を有すジメチルポリシ
ロキサンを得る方法が開示されている。このようなプロ
セスは、一般に、「停止法」と呼ばれる。本発明者は、
先に、片末端がアルケニル基で封鎖され、もう一方の片
末端がメタクリロキシプロピル基で封鎖されたジオルガ
ノポリシロキサンの製造方法を提案した（特開平１−２
５２６１６号公報参照）。この方法はアルケニル基およ
びリチウムシラノレート含有開始剤を用いることを特徴
とし、このようなプロセスは、一般に、「開始法」と呼
ばれている。
リ金属触媒を用いて開環重合することはよく知られてい
る。例えば、環状ジオルガノトリシロキサンをｎ−ブチ
ルリチウムあるいはリチウムトリメチルシラノレート等
のリチウム触媒を用いて、非平衡重合させた後、官能性
基含有モノクロロシランで重合を停止させ、片末端にの
み官能性基を有するジオルガノポリシロキサンを製造す
る方法が知られている。また、Macromolecules 第３
巻，第１号，１ページ（１９７０年）には、ブチルリチ
ウムによりヘキサメチルシクロトリシロキサンを開環さ
せ、ジメチルビニルクロロシランで処理することにより
重合を停止し、片末端にビニル基を有すジメチルポリシ
ロキサンを得る方法が開示されている。このようなプロ
セスは、一般に、「停止法」と呼ばれる。本発明者は、
先に、片末端がアルケニル基で封鎖され、もう一方の片
末端がメタクリロキシプロピル基で封鎖されたジオルガ
ノポリシロキサンの製造方法を提案した（特開平１−２
５２６１６号公報参照）。この方法はアルケニル基およ
びリチウムシラノレート含有開始剤を用いることを特徴
とし、このようなプロセスは、一般に、「開始法」と呼
ばれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
停止法では、片末端にしか官能基を導入できないため、
一官能性ジオルガノポリシロキサンしか得られないとい
う欠点があった。また、後者の開始法では異種二官能性
基を同一分子内に含有するジオルガノポリシロキサンを
得ることが可能であるが、使用できる開始剤が限定さ
れ、その官能基の種類に制限があるという欠点があっ
た。このため、広範な有機官能性基を導入できるジオル
ガノポリシロキサン前駆体およびそれらの製造方法の出
現が望まれていた。本発明者らは上記のような問題点を
解決するために鋭意研究した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の目的は、広範な有機官能性基を導入でき
るジオルガノポリシロキサン前駆体、即ち、分子鎖片末
端にケイ素原子結合２級アミノ基を有するジオルガノポ
リシロキサンおよびその製造方法を提供することにあ
る。
停止法では、片末端にしか官能基を導入できないため、
一官能性ジオルガノポリシロキサンしか得られないとい
う欠点があった。また、後者の開始法では異種二官能性
基を同一分子内に含有するジオルガノポリシロキサンを
得ることが可能であるが、使用できる開始剤が限定さ
れ、その官能基の種類に制限があるという欠点があっ
た。このため、広範な有機官能性基を導入できるジオル
ガノポリシロキサン前駆体およびそれらの製造方法の出
現が望まれていた。本発明者らは上記のような問題点を
解決するために鋭意研究した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の目的は、広範な有機官能性基を導入でき
るジオルガノポリシロキサン前駆体、即ち、分子鎖片末
端にケイ素原子結合２級アミノ基を有するジオルガノポ
リシロキサンおよびその製造方法を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段とその作用】本発明の目的
は、一般式：
は、一般式：
【化４】 （式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素基、Ｒ1お
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される有機基である。）で示されるジオルガノポ
リシロキサン、および一般式：Ｒ2ＮＬｉ（式中、Ｒは
前記と同じである。）で示される２級アミンのリチウム
金属塩を開始剤にして一般式：
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される有機基である。）で示されるジオルガノポ
リシロキサン、および一般式：Ｒ2ＮＬｉ（式中、Ｒは
前記と同じである。）で示される２級アミンのリチウム
金属塩を開始剤にして一般式：
【化５】 （式中Ｒ1は前記と同じである。）で示される環状トリ
シロキサンを重合させ、式：Ｘ−ＳｉＲ2ｍＹｐ（式
中、Ｘは塩素原子，臭素原子，フッ素原子またはヨウ素
原子であり、Ｒ，Ｙ，ｍおよびｐは前記と同じであ
る。）で示されるハロシランで重合を停止することを特
徴とする、一般式：
シロキサンを重合させ、式：Ｘ−ＳｉＲ2ｍＹｐ（式
中、Ｘは塩素原子，臭素原子，フッ素原子またはヨウ素
原子であり、Ｒ，Ｙ，ｍおよびｐは前記と同じであ
る。）で示されるハロシランで重合を停止することを特
徴とする、一般式：
【化６】 （式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素基、Ｒ1お
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される基である。）で示されるジオルガノポリシ
ロキサンの製造方法により達成される。
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される基である。）で示されるジオルガノポリシ
ロキサンの製造方法により達成される。
【０００５】以下に、本発明のジオルガノポリシロキサ
ンについて詳しく説明する。本発明のジオルガノポリシ
ロキサンは、一般式：
ンについて詳しく説明する。本発明のジオルガノポリシ
ロキサンは、一般式：
【化７】 で示される。式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素
基であり、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル
基，ペンチル基，ヘキシル基のようなアルキル基；フェ
ニル基，トリル基，キシリル基のようなアリール基；ベ
ンジル基，フェネチル基のようなアラルキル基；ビニル
基，ブテニル基，ヘキセニル基のようなアルケニル基が
例示されるが、合成のし易さおよび経済性から、エチル
基，プロピル基，イソプロピル基，シクロヘキシル基が
好ましい。Ｒ1およびＲ2は同種または異種の一価炭化水
素基であるが、製造の容易さから、メチル基であること
が好ましい。メチル基以外のケイ素原子結合有機基とし
ては、上記Ｒと同様な一価炭化水素基が例示される。Ｙ
は水素原子、アルケニル基、メタクリロキシ基含有一価
有機基または一価ハロゲン化炭化水素基より選択される
基である。アルケニル基としては、ビニル基、ブテニル
基、ヘキセニル基が例示される。メタクリロキシ基含有
一価有機基としては、３−メタクリロキシプロピル基、
６−メタクリロキシヘキシル基、（メタクリロキシ）エ
トキシプロピル基が例示される。一価ハロゲン化炭化水
素基としては、クロロメチル基、３−クロロプロピル
基、３,３,３−トリフルオロプロピル基のようなハロゲ
ン化アルキル基が例示される。ｎは１〜１０００の整
数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝３である。
基であり、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル
基，ペンチル基，ヘキシル基のようなアルキル基；フェ
ニル基，トリル基，キシリル基のようなアリール基；ベ
ンジル基，フェネチル基のようなアラルキル基；ビニル
基，ブテニル基，ヘキセニル基のようなアルケニル基が
例示されるが、合成のし易さおよび経済性から、エチル
基，プロピル基，イソプロピル基，シクロヘキシル基が
好ましい。Ｒ1およびＲ2は同種または異種の一価炭化水
素基であるが、製造の容易さから、メチル基であること
が好ましい。メチル基以外のケイ素原子結合有機基とし
ては、上記Ｒと同様な一価炭化水素基が例示される。Ｙ
は水素原子、アルケニル基、メタクリロキシ基含有一価
有機基または一価ハロゲン化炭化水素基より選択される
基である。アルケニル基としては、ビニル基、ブテニル
基、ヘキセニル基が例示される。メタクリロキシ基含有
一価有機基としては、３−メタクリロキシプロピル基、
６−メタクリロキシヘキシル基、（メタクリロキシ）エ
トキシプロピル基が例示される。一価ハロゲン化炭化水
素基としては、クロロメチル基、３−クロロプロピル
基、３,３,３−トリフルオロプロピル基のようなハロゲ
ン化アルキル基が例示される。ｎは１〜１０００の整
数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝３である。
【０００６】このような本発明のジオルガノポリシロキ
サンは、式：Ｒ2ＮＬｉ（式中、Ｒは前記と同じであ
る。）で示される２級アミンのリチウム金属塩を開始剤
にして
サンは、式：Ｒ2ＮＬｉ（式中、Ｒは前記と同じであ
る。）で示される２級アミンのリチウム金属塩を開始剤
にして
【化８】 で示される環状トリシロキサンを重合させた後、式：Ｘ
−ＳｉＲ2ｍＹｐ（式中、Ｘは塩素原子，臭素原子，フ
ッ素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ，Ｙ，ｍおよびｐ
は前記と同じである。）で示されるハロシランで重合を
停止することにより製造される。ここで、重合開始剤と
して用いられる式：Ｒ2ＮＬｉで示される２級アミンの
リチウム塩は市販されており、対応する２級アミンを低
温下オルガノリチウムで処理することにより容易に得ら
れる。このようなものの例として、リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムイソプ
ロピルシクロヘキシルアミド、リチウム２,２,６,６−
テトラメチルピペリジン等が例示される。
−ＳｉＲ2ｍＹｐ（式中、Ｘは塩素原子，臭素原子，フ
ッ素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ，Ｙ，ｍおよびｐ
は前記と同じである。）で示されるハロシランで重合を
停止することにより製造される。ここで、重合開始剤と
して用いられる式：Ｒ2ＮＬｉで示される２級アミンの
リチウム塩は市販されており、対応する２級アミンを低
温下オルガノリチウムで処理することにより容易に得ら
れる。このようなものの例として、リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムイソプ
ロピルシクロヘキシルアミド、リチウム２,２,６,６−
テトラメチルピペリジン等が例示される。
【０００７】本発明に使用される式；
【化９】 で示される環状トリシロキサンは非平衡重合用モノマー
としては公知のものである。ケイ素に結合した置換基Ｒ
1は先に述べたように同種または異種の一価炭化水素基
であるが、入手のしやすさおよび経済性からＲ1はメチ
ル基かフェニル基が好ましく、メチル基が特に好まし
い。
としては公知のものである。ケイ素に結合した置換基Ｒ
1は先に述べたように同種または異種の一価炭化水素基
であるが、入手のしやすさおよび経済性からＲ1はメチ
ル基かフェニル基が好ましく、メチル基が特に好まし
い。
【０００８】重合反応の条件は使用するモノマーによっ
て異なるが、例えばヘキサメチルシクロトリシロキサン
の場合、溶媒中、０〜４０℃の温度下、１〜５０時間反
応させるのが好ましい。溶媒としては、非プロトン性で
あり、出発物質および生成する本発明のジオルガノポリ
シロキサンを良好に溶解するものであれば良い。溶媒と
してはベンゼン，トルエン，キシレンのような芳香族炭
化水素類；ヘキサン，ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類；テトラヒドロフラン，ジエチルエーテルのようなエ
ーテル類；アセトン，メチルエチルケトンのようなケト
ン類；酢酸エチル，酢酸ブチルのようなエステル類；さ
らにはジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシド，
ヘキサメチルリン酸トリアミド等が例示される。また、
２種類以上の溶媒を組み合わせて用いることがしばしば
良い結果をもたらす。例えば、トルエンのような極性の
低い溶媒を使用する場合、反応を促進させるために、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等の極性の高い溶媒を混合するこ
とが例示される。
て異なるが、例えばヘキサメチルシクロトリシロキサン
の場合、溶媒中、０〜４０℃の温度下、１〜５０時間反
応させるのが好ましい。溶媒としては、非プロトン性で
あり、出発物質および生成する本発明のジオルガノポリ
シロキサンを良好に溶解するものであれば良い。溶媒と
してはベンゼン，トルエン，キシレンのような芳香族炭
化水素類；ヘキサン，ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類；テトラヒドロフラン，ジエチルエーテルのようなエ
ーテル類；アセトン，メチルエチルケトンのようなケト
ン類；酢酸エチル，酢酸ブチルのようなエステル類；さ
らにはジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシド，
ヘキサメチルリン酸トリアミド等が例示される。また、
２種類以上の溶媒を組み合わせて用いることがしばしば
良い結果をもたらす。例えば、トルエンのような極性の
低い溶媒を使用する場合、反応を促進させるために、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等の極性の高い溶媒を混合するこ
とが例示される。
【０００９】重合反応のうち反応温度および時間は、再
分配反応が起こらないように十分注意して調節する必要
がある。特に、片方の末端のみにケイ素原子結合２級ア
ミノ基を有するジオルガノポリシロキサンを製造する場
合には十分な注意が必要である。というのは、重合反応
が非平衡化重合でなく、再分配反応による平衡化反応に
なると、片方の末端だけにケイ素原子結合２級アミノ基
を保持できなくなるからである。言い替えれば、平衡化
反応が起きると、両末端にケイ素原子結合２級アミノ基
を有するジオルガノポリシロキサンと両末端共にケイ素
原子結合２級アミノ基が存在しないポリマーとが副生す
るからである。重合反応の進行は、通常、ガスクロマト
グラフィーなどで出発モノマーの減少量を追跡できる。
そして、反応率が一定の値に達したところで中和操作に
より反応を停止することが好ましい。一般に転化率が７
０〜１００％に達した時に、重合を停止することが好ま
しい。
分配反応が起こらないように十分注意して調節する必要
がある。特に、片方の末端のみにケイ素原子結合２級ア
ミノ基を有するジオルガノポリシロキサンを製造する場
合には十分な注意が必要である。というのは、重合反応
が非平衡化重合でなく、再分配反応による平衡化反応に
なると、片方の末端だけにケイ素原子結合２級アミノ基
を保持できなくなるからである。言い替えれば、平衡化
反応が起きると、両末端にケイ素原子結合２級アミノ基
を有するジオルガノポリシロキサンと両末端共にケイ素
原子結合２級アミノ基が存在しないポリマーとが副生す
るからである。重合反応の進行は、通常、ガスクロマト
グラフィーなどで出発モノマーの減少量を追跡できる。
そして、反応率が一定の値に達したところで中和操作に
より反応を停止することが好ましい。一般に転化率が７
０〜１００％に達した時に、重合を停止することが好ま
しい。
【００１０】本発明による製造方法では、得られるジオ
ルガノポリシロキサンの分子量は重合開始剤と消費され
た環状トリシロキサンのとの比率で決定されるが、良好
な片末端性を維持するためには、ｎで示される重合度
が、１〜１０００の範囲内であることが必要である。
ルガノポリシロキサンの分子量は重合開始剤と消費され
た環状トリシロキサンのとの比率で決定されるが、良好
な片末端性を維持するためには、ｎで示される重合度
が、１〜１０００の範囲内であることが必要である。
【００１１】反応の停止に用いる停止剤は、式：Ｘ−Ｓ
ｉＲ2ｍＹｐで示されるハロシランである。式中、Ｘは
ハロゲン原子であり、塩素原子，臭素原子，フッ素原
子，ヨウ素原子が例示されるが、合成または入手のしや
すさおよび経済性から、塩素原子であることが好まし
い。この停止反応により、上式からＸを除いた残基であ
る式：−ＳｉＲ2ｍＹｐで示されるオルガノシリル基を
ジオルガノポリシロキサンの末端に導入することができ
る。このようなハロシランとしては、ジメチルビニルク
ロロシラン，ジメチルヘキセニルクロロシラン，ジメチ
ルメタクリロキシプロピルクロロシラン，ジメチルアク
リロキシプロピルクロロシラン，ジメチルクロロシラン
が挙げられる。
ｉＲ2ｍＹｐで示されるハロシランである。式中、Ｘは
ハロゲン原子であり、塩素原子，臭素原子，フッ素原
子，ヨウ素原子が例示されるが、合成または入手のしや
すさおよび経済性から、塩素原子であることが好まし
い。この停止反応により、上式からＸを除いた残基であ
る式：−ＳｉＲ2ｍＹｐで示されるオルガノシリル基を
ジオルガノポリシロキサンの末端に導入することができ
る。このようなハロシランとしては、ジメチルビニルク
ロロシラン，ジメチルヘキセニルクロロシラン，ジメチ
ルメタクリロキシプロピルクロロシラン，ジメチルアク
リロキシプロピルクロロシラン，ジメチルクロロシラン
が挙げられる。
【００１２】以上のような本発明のジオルガノポリシロ
キサンは、分子鎖片末端に反応性の高いケイ素原子結合
２級アミノ基を有するので、耐久性のある撥水剤，離型
剤，潤滑剤として使用できる。さらには、加水分解によ
り容易に片末端にシラノール基を導入できるので、この
ようにして製造された片末端シラノール官能性ジオルガ
ノポリシロキサンを各種有機官能性ハロシラン、シラザ
ン、アミノシラン、シリルアミド、アルコキシシランで
処理することにより、容易に対応する官能性基を導入す
ることができる。また、該シラノール官能性ジオルガノ
ポリシロキサンをジメチルクロロシランで処理すること
により片末端にケイ素原子結合水素原子を含有するジオ
ルガノポリシロキサンに容易に変換できるが、このよう
にして得られたジオルガノポリシロキサンと有機官能性
脂肪族不飽和化合物とのヒドロシリル化反応により、対
応する有機官能性基を容易に導入することができる。
キサンは、分子鎖片末端に反応性の高いケイ素原子結合
２級アミノ基を有するので、耐久性のある撥水剤，離型
剤，潤滑剤として使用できる。さらには、加水分解によ
り容易に片末端にシラノール基を導入できるので、この
ようにして製造された片末端シラノール官能性ジオルガ
ノポリシロキサンを各種有機官能性ハロシラン、シラザ
ン、アミノシラン、シリルアミド、アルコキシシランで
処理することにより、容易に対応する官能性基を導入す
ることができる。また、該シラノール官能性ジオルガノ
ポリシロキサンをジメチルクロロシランで処理すること
により片末端にケイ素原子結合水素原子を含有するジオ
ルガノポリシロキサンに容易に変換できるが、このよう
にして得られたジオルガノポリシロキサンと有機官能性
脂肪族不飽和化合物とのヒドロシリル化反応により、対
応する有機官能性基を容易に導入することができる。
【００１３】
【実施例】以下に実施例を示して本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されない。また、実施例中、Ｖｉ
はビニル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉ−Ｐ
ｒはイソプロピル基を示す。
本発明はこれらに限定されない。また、実施例中、Ｖｉ
はビニル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉ−Ｐ
ｒはイソプロピル基を示す。
【００１４】
【実施例１】攪拌装置付きの４つ口フラスコにジイソプ
ロピルアミン１４.６１グラム（１４４.０９ミリモ
ル）、テトラヒドロフラン８０ミリリットルを投入し
た。０℃以下に冷却し、反応温度が０℃を越えないよう
にしてｎ−ブチルリチウムの１.６１Ｎヘキサン溶液８
９.５ミリリットル（１４４.０９ミリモル）を滴下し
た。滴下終了後そのまま１５分間攪拌し、ヘキサメチル
シクロトリシロキサン２６６.７グラムとテトラヒドロ
フラン２６６.７グラムの混合溶液を投入した。冷却を
止め、室温で５時間攪拌した。ガスクロマトグラフィー
により転化率が９８％になった時点でトリエチルアミン
１.４６グラム（１４.４３ミリモル）、ジメチルクロロ
シラン１５.０グラム（１５８.５ミリモル）を順に添加
して重合を停止させた。副生した塩をろ過により除去
し、減圧蒸留により溶剤および低沸点物を除去し、ポリ
マーを得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
（ＧＰＣ）、核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）、赤外分光分析
（ＩＲ）、ヨードメトリーによるＳｉＨ基の定量によ
り、このポリマーは次の平均式で示されるジオルガノポ
リシロキサンであることが確認された。
ロピルアミン１４.６１グラム（１４４.０９ミリモ
ル）、テトラヒドロフラン８０ミリリットルを投入し
た。０℃以下に冷却し、反応温度が０℃を越えないよう
にしてｎ−ブチルリチウムの１.６１Ｎヘキサン溶液８
９.５ミリリットル（１４４.０９ミリモル）を滴下し
た。滴下終了後そのまま１５分間攪拌し、ヘキサメチル
シクロトリシロキサン２６６.７グラムとテトラヒドロ
フラン２６６.７グラムの混合溶液を投入した。冷却を
止め、室温で５時間攪拌した。ガスクロマトグラフィー
により転化率が９８％になった時点でトリエチルアミン
１.４６グラム（１４.４３ミリモル）、ジメチルクロロ
シラン１５.０グラム（１５８.５ミリモル）を順に添加
して重合を停止させた。副生した塩をろ過により除去
し、減圧蒸留により溶剤および低沸点物を除去し、ポリ
マーを得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
（ＧＰＣ）、核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）、赤外分光分析
（ＩＲ）、ヨードメトリーによるＳｉＨ基の定量によ
り、このポリマーは次の平均式で示されるジオルガノポ
リシロキサンであることが確認された。
【化１０】
【００１５】
【実施例２】ジイソプロピルアミン５.４７グラム（５
４.０５ミリモル）、テトラヒドロフラン３０ミリリッ
トル、ｎ−ブチルリチウムの１.６８Ｎヘキサン溶液３
２.２ミリリットル（５４.０５ミリモル）から、実施例
１と同様にしてリチウムジイソプロピルアミドのテトラ
ヒドロフラン溶液を調製した。ヘキサメチルシクロトリ
シロキサン１００グラムとテトラヒドロフラン１００グ
ラムの混合溶液を投入し、室温で４時間攪拌した。ガス
クロマトグラフィーにより転化率が９８.３％になった
時点でトリエチルアミン０.５５グラム（５.４１ミリモ
ル）、ジメチルビニルクロロシラン７.１６グラム（５
９.４６ミリモル）を順に添加して重合を停止させた。
副生した塩をろ過により除去し、減圧蒸留により、溶剤
および低沸点物を除去して、ポリマーを得た。ＧＰＣ、
ＮＭＲ、ＩＲ、ヨードメトリーによるビニル基の定量に
より、このポリマーは次の平均式で示されるジオルガノ
ポリシロキサンであることが確認された。
４.０５ミリモル）、テトラヒドロフラン３０ミリリッ
トル、ｎ−ブチルリチウムの１.６８Ｎヘキサン溶液３
２.２ミリリットル（５４.０５ミリモル）から、実施例
１と同様にしてリチウムジイソプロピルアミドのテトラ
ヒドロフラン溶液を調製した。ヘキサメチルシクロトリ
シロキサン１００グラムとテトラヒドロフラン１００グ
ラムの混合溶液を投入し、室温で４時間攪拌した。ガス
クロマトグラフィーにより転化率が９８.３％になった
時点でトリエチルアミン０.５５グラム（５.４１ミリモ
ル）、ジメチルビニルクロロシラン７.１６グラム（５
９.４６ミリモル）を順に添加して重合を停止させた。
副生した塩をろ過により除去し、減圧蒸留により、溶剤
および低沸点物を除去して、ポリマーを得た。ＧＰＣ、
ＮＭＲ、ＩＲ、ヨードメトリーによるビニル基の定量に
より、このポリマーは次の平均式で示されるジオルガノ
ポリシロキサンであることが確認された。
【化１１】
【００１６】
【実施例３】実施例２と同じ反応スケールでリチウムジ
イソプロピルアミドの調製および重合を行った。室温で
４時間攪拌するとガスクロマトグラフィーにより、転化
率が９８.４％になった時点でトリエチルアミン０.５５
グラム（５.４１ミリモル）、メタクリロキシプロピル
ジメチルクロロシラン１２.８グラム（５６.７５ミリモ
ル）を順に添加して反応を停止させた。その後、実施例
２と同様の後処理をすることによりポリマーを得た。Ｇ
ＰＣ、ＮＭＲ、ＩＲより、このポリマーは以下の平均式
で示されるジオルガノポリシロキサンであることが確認
された。
イソプロピルアミドの調製および重合を行った。室温で
４時間攪拌するとガスクロマトグラフィーにより、転化
率が９８.４％になった時点でトリエチルアミン０.５５
グラム（５.４１ミリモル）、メタクリロキシプロピル
ジメチルクロロシラン１２.８グラム（５６.７５ミリモ
ル）を順に添加して反応を停止させた。その後、実施例
２と同様の後処理をすることによりポリマーを得た。Ｇ
ＰＣ、ＮＭＲ、ＩＲより、このポリマーは以下の平均式
で示されるジオルガノポリシロキサンであることが確認
された。
【化１２】
【００１７】
【実施例４】実施例２と同じ反応スケールでリチウムジ
イソプロピルアミドの調製および重合を行った。室温で
３時間攪拌するとガスクロマトグラフィーにより、転化
率が９５％になった時点でトリエチルアミン０.５５グ
ラム（５.４１ミリモル）、（３,３,３−トリフルオロ
プロピル）ジメチルクロロシラン１０.８グラム（５６.
７５ミリモル）を順に添加して反応を停止させた。その
後、実施例２と同様の後処理をすることによりポリマー
を得た。ＧＰＣ、ＮＭＲ、ＩＲより、このポリマーは以
下の平均式で示されるジオルガノポリシロキサンである
ことが確認された。
イソプロピルアミドの調製および重合を行った。室温で
３時間攪拌するとガスクロマトグラフィーにより、転化
率が９５％になった時点でトリエチルアミン０.５５グ
ラム（５.４１ミリモル）、（３,３,３−トリフルオロ
プロピル）ジメチルクロロシラン１０.８グラム（５６.
７５ミリモル）を順に添加して反応を停止させた。その
後、実施例２と同様の後処理をすることによりポリマー
を得た。ＧＰＣ、ＮＭＲ、ＩＲより、このポリマーは以
下の平均式で示されるジオルガノポリシロキサンである
ことが確認された。
【化１３】
【００１８】
【実施例５】攪拌装置付きの４つ口フラスコにジエチル
アミン０.２グラム（２.７３ミリモル）、テトラヒドロ
フラン５ミリリットルを投入した。０℃以下に冷却し、
反応温度が０℃を越えないようにしてｎ−ブチルリチウ
ムの２.６８Ｎヘキサン溶液１.０ミリリットル（２.６
８ミリモル）を滴下した。滴下終了後そのまま１時間攪
拌し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン８.１グラム
とテトラヒドロフラン８.１グラムの混合溶液を投入し
た。冷却を止め、室温で５時間攪拌した。ガスクロマト
グラフィーにより転化率が８０％になった時点でジメチ
ルビニルクロロシラン０.５５グラム（４.５５ミリモ
ル）を添加して重合を停止させた。副生した塩をろ過に
より除去し、減圧蒸留により溶剤および低沸点物を除去
し、ポリマーを得た。ＧＰＣ、ＮＭＲ、ＩＲ、ヨードメ
トリーによるビニル基の定量により、このポリマーは次
の平均式で示されるジオルガノポリシロキサンであるこ
とが確認された。
アミン０.２グラム（２.７３ミリモル）、テトラヒドロ
フラン５ミリリットルを投入した。０℃以下に冷却し、
反応温度が０℃を越えないようにしてｎ−ブチルリチウ
ムの２.６８Ｎヘキサン溶液１.０ミリリットル（２.６
８ミリモル）を滴下した。滴下終了後そのまま１時間攪
拌し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン８.１グラム
とテトラヒドロフラン８.１グラムの混合溶液を投入し
た。冷却を止め、室温で５時間攪拌した。ガスクロマト
グラフィーにより転化率が８０％になった時点でジメチ
ルビニルクロロシラン０.５５グラム（４.５５ミリモ
ル）を添加して重合を停止させた。副生した塩をろ過に
より除去し、減圧蒸留により溶剤および低沸点物を除去
し、ポリマーを得た。ＧＰＣ、ＮＭＲ、ＩＲ、ヨードメ
トリーによるビニル基の定量により、このポリマーは次
の平均式で示されるジオルガノポリシロキサンであるこ
とが確認された。
【化１４】
【００１９】
【実施例６】攪拌装置付きの４つ口フラスコにジエチル
アミン１.９３グラム（２６.４ミリモル）、テトラヒド
ロフラン１０ミリリットルを投入した。−７８℃に冷却
し、ｎ−ブチルリチウムの２.６８Ｎヘキサン溶液１０
ミリリットル（２６.８ミリモル）を滴下した。室温に
戻し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン６.１グラム
とテトラヒドロフラン６.１グラムの混合溶液を投入す
ると、発熱が認められた。室温に戻るまでそのまま攪拌
を続け、トリメチルクロロシラン３.５グラム（５９.７
ミリモル）を添加した。副生した塩をろ過により除去
し、ろ液を減圧蒸留し、６０℃／０.１mmHgの留分３.１
グラムを得た。このものはＧＬＣ、ＮＭＲ、ＩＲより以
下の構造式で示されるジオルガノポリシロキサンである
ことが確認された。
アミン１.９３グラム（２６.４ミリモル）、テトラヒド
ロフラン１０ミリリットルを投入した。−７８℃に冷却
し、ｎ−ブチルリチウムの２.６８Ｎヘキサン溶液１０
ミリリットル（２６.８ミリモル）を滴下した。室温に
戻し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン６.１グラム
とテトラヒドロフラン６.１グラムの混合溶液を投入す
ると、発熱が認められた。室温に戻るまでそのまま攪拌
を続け、トリメチルクロロシラン３.５グラム（５９.７
ミリモル）を添加した。副生した塩をろ過により除去
し、ろ液を減圧蒸留し、６０℃／０.１mmHgの留分３.１
グラムを得た。このものはＧＬＣ、ＮＭＲ、ＩＲより以
下の構造式で示されるジオルガノポリシロキサンである
ことが確認された。
【化１５】
【００２０】
【発明の効果】本発明のジオルガノポリシロキサンは新
規な化合物であり、このジオルガノポリシロキサンは、
広範な有機官能基を導入できるジオルガノポリシロキサ
ン前駆体として工業上極めて有用である。また、本発明
の製造方法によれば、このようなジオルガノポリシロキ
サンを容易に製造することが可能である。
規な化合物であり、このジオルガノポリシロキサンは、
広範な有機官能基を導入できるジオルガノポリシロキサ
ン前駆体として工業上極めて有用である。また、本発明
の製造方法によれば、このようなジオルガノポリシロキ
サンを容易に製造することが可能である。
【図１】 実施例１で得られたジオルガノポリシロキサ
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
【図２】 実施例１で得られたジオルガノポリシロキサ
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
【図３】 実施例２で得られたジオルガノポリシロキサ
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
【図４】 実施例２で得られたジオルガノポリシロキサ
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
【図５】 実施例３で得られたジオルガノポリシロキサ
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
【図６】 実施例３で得られたジオルガノポリシロキサ
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
【図７】 実施例４で得られたジオルガノポリシロキサ
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
【図８】 実施例４で得られたジオルガノポリシロキサ
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
ンのＩＲスペクトルを示したものである。
【図９】 実施例５で得られたジオルガノポリシロキサ
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
ンの1ＨＮＭＲスペクトルを示したものである。
【図１０】 実施例５で得られたジオルガノポリシロキ
サンの29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを示したものである。
サンの29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを示したものである。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 （式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素基、Ｒ1お
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される有機基である。）で示されるジオルガノポ
リシロキサン。 - 【請求項２】 一般式：Ｒ2ＮＬｉ（式中、Ｒは前記と
同じである。）で示される２級アミンのリチウム金属塩
を開始剤にして一般式： 【化２】 （式中Ｒ1は前記と同じである。）で示される環状トリ
シロキサンを重合させ、式：Ｘ−ＳｉＲ2ｍＹｐ（式
中、Ｘは塩素原子，臭素原子，フッ素原子またはヨウ素
原子であり、Ｒ，Ｙ，ｍおよびｐは前記と同じであ
る。）で示されるハロシランで重合を停止することを特
徴とする、一般式： 【化３】 （式中、Ｒは同種または異種の一価炭化水素基、Ｒ1お
よびＲ2は同種または異種の一価炭化水素基、ｎは１〜
１０００の整数、ｍおよびｐは０〜３の整数、ｍ＋ｐ＝
３である。Ｙは水素原子、アルケニル基、メタクリロキ
シ基含有一価有機基および一価ハロゲン化炭化水素基よ
り選択される基である。）で示されるジオルガノポリシ
ロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20045992A JPH0616814A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20045992A JPH0616814A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616814A true JPH0616814A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=16424661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20045992A Pending JPH0616814A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0616814A (ja) |
-
1992
- 1992-07-03 JP JP20045992A patent/JPH0616814A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2842443B2 (ja) | 片方の末端に重合性官能基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JPH0411633A (ja) | ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体の製造方法 | |
| JPH06172535A (ja) | クラスターアザシラシクロアルキル官能性ポリシロキサンの調製方法 | |
| JP2826939B2 (ja) | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JPH06172534A (ja) | 有機官能シロキサンの調製のための縮合方法 | |
| JP3739477B2 (ja) | オルガノシロキサンの縮合生成物を官能化する方法 | |
| JP2538308B2 (ja) | オルガノシロキサン | |
| JP2678371B2 (ja) | 末端にアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP3015145B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP2588724B2 (ja) | 分子鎖中央の側鎖にアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP2003517072A (ja) | トリフル酸又はトリフル酸誘導体を主体とした触媒系で触媒された重合によるポリオルガノシロキサンを製造するための方法 | |
| JPH0370737A (ja) | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
| KR20010104953A (ko) | 할로겐으로 치환된 다가 반응성 폴리실록산 화합물 및 그제조방법 | |
| JPH0616814A (ja) | ジオルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
| JPH0834855A (ja) | ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体の製造方法 | |
| JPH08239479A (ja) | 単分散オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP4603635B2 (ja) | ジハロシランからオルガノシロキサンを製造する方法 | |
| JP3453431B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP2627769B2 (ja) | 鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 | |
| JP2000103860A (ja) | オルガノポリシロキサン系ポリマーおよびその製造方法 | |
| JP2841158B2 (ja) | 高重合度ジオルガノポリシロキサン分散液の製造方法 | |
| JPH0931199A (ja) | オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 | |
| JP3131216B2 (ja) | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
| JP3257414B2 (ja) | 環状エーテル基を有するオルガノポリシロキサン | |
| JP3136957B2 (ja) | 高重合ポリシロキサン分散体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020305 |