JPH06164029A - 狭帯域レーザ装置 - Google Patents
狭帯域レーザ装置Info
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- JPH06164029A JPH06164029A JP33242192A JP33242192A JPH06164029A JP H06164029 A JPH06164029 A JP H06164029A JP 33242192 A JP33242192 A JP 33242192A JP 33242192 A JP33242192 A JP 33242192A JP H06164029 A JPH06164029 A JP H06164029A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本考案は、狭帯域レーザ装置に係わり、特に
は、半導体露光装置の光源として使用されるエキシマレ
ーザ装置のスペクトル純度を向上させることに関する。 【構成】 少なくともプリズムとグレーティングを配置
したレーザ装置において、各光学素子間に寄生発振とな
る光を遮断する手段を備えている。また、各光学素子間
に寄生発振となる光を遮断する手段として、寄生発振と
なる光を吸収または反射するプレートまたはスリットを
配置している。さらに、少なくともプリズムとグレーテ
ィングを配置したレーザ装置において、プリズムまたは
グレーティングからの反射光（または回折光）を吸収ま
たは反射させる手段を備えている。これによれば、自然
発振や多波長発振のような寄生発振は起こらなくなり、
スペクトル波形がよくなり、また、スペクトル線幅の変
化もなくなる。さらに、寄生発振のないスペクトル純度
の良い出力レーザが得られ、また、プリズムを非常にコ
ンパクトにできる
は、半導体露光装置の光源として使用されるエキシマレ
ーザ装置のスペクトル純度を向上させることに関する。 【構成】 少なくともプリズムとグレーティングを配置
したレーザ装置において、各光学素子間に寄生発振とな
る光を遮断する手段を備えている。また、各光学素子間
に寄生発振となる光を遮断する手段として、寄生発振と
なる光を吸収または反射するプレートまたはスリットを
配置している。さらに、少なくともプリズムとグレーテ
ィングを配置したレーザ装置において、プリズムまたは
グレーティングからの反射光（または回折光）を吸収ま
たは反射させる手段を備えている。これによれば、自然
発振や多波長発振のような寄生発振は起こらなくなり、
スペクトル波形がよくなり、また、スペクトル線幅の変
化もなくなる。さらに、寄生発振のないスペクトル純度
の良い出力レーザが得られ、また、プリズムを非常にコ
ンパクトにできる
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は狭帯域レーザ装置に係わ
り、特には、半導体露光装置の光源として使用されるエ
キシマレーザ装置の光学系を高精度にできる狭帯域レー
ザ装置に関するものである。
り、特には、半導体露光装置の光源として使用されるエ
キシマレーザ装置の光学系を高精度にできる狭帯域レー
ザ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光の狭帯域化には用途に応じて種
々の方法があり、その中で比較的高出力が得られる方法
の一例として特開平２−１２１３８０号に、図７に示す
方法が記述されている。図７は、レーザの発振器７０で
あり、レーザの発振器７０には図示しないレーザ媒質と
このレーザ媒質の励起手段とを収納しているレーザ発振
部７１を有している。このレーザ発振部７１の両端には
それぞれスリット７２が形成された規制部材７３が配置
されている。一方の規制部材７３には出力鏡７４が離間
対向して配置され、他方の規制部材７３には拡大光学系
７５を介して上記出力鏡７４とで共振器を構成する回折
格子７６が配設されている。上記規制部材７３のスリッ
ト７２は、レーザ発振部７１から出力されるレーザ光Ｌ
の図７にＸで示す方向に拡がり角を小さく規制するよう
そのＸ方向と直交する方向に細長く形成されている。上
記拡大光学系７５は複数のプリズム７７から形成されて
いて、上記スリット７２によって拡がり角が規制された
レーザ光Ｌをその規制方向と同方向に拡大して回折格子
７６に入射させる。それによって、レーザ光Ｌが照射す
る回折格子７６の溝数が増大するから、この回折格子７
６による分解能を高めることができるようになってい
る。上記回折格子７６はレーザ光Ｌの入射角と回折光
（０次以外のもの）の反射角とが等しくなるように、つ
まり、入射光路と反射光路とが等しくなるように角度調
節されている。したがって、レーザ発振部７１から出力
されたレーザ光Ｌは出力鏡７４と回折格子７６との間の
同一光路を往復することによって狭帯域化され、上記出
力鏡７４から発振されるようになっている。
々の方法があり、その中で比較的高出力が得られる方法
の一例として特開平２−１２１３８０号に、図７に示す
方法が記述されている。図７は、レーザの発振器７０で
あり、レーザの発振器７０には図示しないレーザ媒質と
このレーザ媒質の励起手段とを収納しているレーザ発振
部７１を有している。このレーザ発振部７１の両端には
それぞれスリット７２が形成された規制部材７３が配置
されている。一方の規制部材７３には出力鏡７４が離間
対向して配置され、他方の規制部材７３には拡大光学系
７５を介して上記出力鏡７４とで共振器を構成する回折
格子７６が配設されている。上記規制部材７３のスリッ
ト７２は、レーザ発振部７１から出力されるレーザ光Ｌ
の図７にＸで示す方向に拡がり角を小さく規制するよう
そのＸ方向と直交する方向に細長く形成されている。上
記拡大光学系７５は複数のプリズム７７から形成されて
いて、上記スリット７２によって拡がり角が規制された
レーザ光Ｌをその規制方向と同方向に拡大して回折格子
７６に入射させる。それによって、レーザ光Ｌが照射す
る回折格子７６の溝数が増大するから、この回折格子７
６による分解能を高めることができるようになってい
る。上記回折格子７６はレーザ光Ｌの入射角と回折光
（０次以外のもの）の反射角とが等しくなるように、つ
まり、入射光路と反射光路とが等しくなるように角度調
節されている。したがって、レーザ発振部７１から出力
されたレーザ光Ｌは出力鏡７４と回折格子７６との間の
同一光路を往復することによって狭帯域化され、上記出
力鏡７４から発振されるようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
図７の場合のようにフロントミラーとフロント側ウイン
ドウおよびリア側ウインドウとプリズムの間にプリズム
のエキスパンド方向に対して発振を制限するスリットを
配置しただけではレーザの寄生発振を抑えることができ
ない。図８に示すように出力されるスペクトル波形は正
常の発振と多数の寄生発振（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）のスペク
トル波形が合成されたものとなる。さらに、多数の寄生
発振が競合しているために、レーザの放電の状態や光学
素子の熱的変化によって各寄生発振の強度比が変化し、
出力レーザ光のスペクトル波形が経時変化する。この寄
生発振しているレーザ光はスペクトル純度が著しく低下
しているため、露光装置の解像力を非常に悪くしてい
た。以下に、この理由を図８、図９および図１０により
説明する。図９は寄生発振の原理図であり、図１０はプ
リズム１２の拡大図である。まず、プリズムの透過面以
外の部分、たとえば、プリズム１２の低面（Ｓ）が砂目
の場合の例を示す。所定の角度でグレーティング１４に
入射した光は回折され、その回折光はあらゆる方向に回
折する。グレーティング１４を回折した回折光（点線部
Ａ、１点鎖線Ｂ、２点鎖線Ｃ）はプリスム１２に入射し
て砂目の低面（Ｓ）に照射された光は散乱されてあらゆ
る方向に反射される。そして、点線部（Ｄ）の角度で散
乱した光は、プリズム１１、スリット６、レーザチャン
バ１、スリット４、およびフロントミラー５を透過して
寄生発振する。ここで、回折光Ａ、Ｂ、Ｃに対応する寄
生発振のスペクトルが図８のスペクトル波形のＡ、Ｂ、
Ｃに対応している。さらに、寄生発振Ｅはプリズム１１
の斜面の反射光が、例えばプレート７等により再びプリ
ズム１１の斜面に戻される場合、再びプリズム１１の斜
面に対して入反射して、スリット６、レーザチャンバ
１、スリット４、およびフロントミラー５を透過して自
然発振の寄生発振として出力される。このようにして出
力レーザ光は図８に示すような多波長およびブロードな
寄生発振がおこり、スペクトル純度を落とす原因となっ
ている。そこで、プリズム１２の低面（Ｓ）の部分を光
学研磨面にすることにより、グレーティングによる回折
光ＢおよびＣの反射光は入射角に対応した角度で反射す
る。回折光ＢおよびＣの反射角は小さいため、スリット
およびスリットにより遮光され寄生発振は起こらない
（図３にて詳しく説明する）。しかし、回折光Ａについ
ては入反射角が大きくプリズム１１、スリット６、レー
ザチャンバ１、スリット４、およびフロントミラー５を
透過して寄生発振として出力される。そこで、プリズム
の低面（Ｓ）を光路に対して離す必要があり、プリズム
が大きくなり、さらには出力が小さいという問題があ
る。本発明は上記問題に鑑みたもので、狭帯域レーザ装
置に係わり、特には、半導体露光装置の光源として使用
されるエキシマレーザ装置のスペクトル純度を向上させ
ることを目的としている。
図７の場合のようにフロントミラーとフロント側ウイン
ドウおよびリア側ウインドウとプリズムの間にプリズム
のエキスパンド方向に対して発振を制限するスリットを
配置しただけではレーザの寄生発振を抑えることができ
ない。図８に示すように出力されるスペクトル波形は正
常の発振と多数の寄生発振（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）のスペク
トル波形が合成されたものとなる。さらに、多数の寄生
発振が競合しているために、レーザの放電の状態や光学
素子の熱的変化によって各寄生発振の強度比が変化し、
出力レーザ光のスペクトル波形が経時変化する。この寄
生発振しているレーザ光はスペクトル純度が著しく低下
しているため、露光装置の解像力を非常に悪くしてい
た。以下に、この理由を図８、図９および図１０により
説明する。図９は寄生発振の原理図であり、図１０はプ
リズム１２の拡大図である。まず、プリズムの透過面以
外の部分、たとえば、プリズム１２の低面（Ｓ）が砂目
の場合の例を示す。所定の角度でグレーティング１４に
入射した光は回折され、その回折光はあらゆる方向に回
折する。グレーティング１４を回折した回折光（点線部
Ａ、１点鎖線Ｂ、２点鎖線Ｃ）はプリスム１２に入射し
て砂目の低面（Ｓ）に照射された光は散乱されてあらゆ
る方向に反射される。そして、点線部（Ｄ）の角度で散
乱した光は、プリズム１１、スリット６、レーザチャン
バ１、スリット４、およびフロントミラー５を透過して
寄生発振する。ここで、回折光Ａ、Ｂ、Ｃに対応する寄
生発振のスペクトルが図８のスペクトル波形のＡ、Ｂ、
Ｃに対応している。さらに、寄生発振Ｅはプリズム１１
の斜面の反射光が、例えばプレート７等により再びプリ
ズム１１の斜面に戻される場合、再びプリズム１１の斜
面に対して入反射して、スリット６、レーザチャンバ
１、スリット４、およびフロントミラー５を透過して自
然発振の寄生発振として出力される。このようにして出
力レーザ光は図８に示すような多波長およびブロードな
寄生発振がおこり、スペクトル純度を落とす原因となっ
ている。そこで、プリズム１２の低面（Ｓ）の部分を光
学研磨面にすることにより、グレーティングによる回折
光ＢおよびＣの反射光は入射角に対応した角度で反射す
る。回折光ＢおよびＣの反射角は小さいため、スリット
およびスリットにより遮光され寄生発振は起こらない
（図３にて詳しく説明する）。しかし、回折光Ａについ
ては入反射角が大きくプリズム１１、スリット６、レー
ザチャンバ１、スリット４、およびフロントミラー５を
透過して寄生発振として出力される。そこで、プリズム
の低面（Ｓ）を光路に対して離す必要があり、プリズム
が大きくなり、さらには出力が小さいという問題があ
る。本発明は上記問題に鑑みたもので、狭帯域レーザ装
置に係わり、特には、半導体露光装置の光源として使用
されるエキシマレーザ装置のスペクトル純度を向上させ
ることを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そのために本発明の第１
発明では、少なくともプリズムとグレーティングを配置
したレーザ装置において、各光学素子間に寄生発振とな
る光を遮断する手段を備えている。
発明では、少なくともプリズムとグレーティングを配置
したレーザ装置において、各光学素子間に寄生発振とな
る光を遮断する手段を備えている。
【０００５】さらに、第１発明主体とする第２の発明で
は、各光学素子間に寄生発振となる光を遮断する手段と
して、寄生発振となる光を吸収または反射するプレート
またはスリットを配置している。
は、各光学素子間に寄生発振となる光を遮断する手段と
して、寄生発振となる光を吸収または反射するプレート
またはスリットを配置している。
【０００６】第３発明では、少なくともプリズムとグレ
ーティングを配置したレーザ装置において、プリズムま
たはグレーティングからの反射光（または回折光）を吸
収または反射させる手段を備えている。
ーティングを配置したレーザ装置において、プリズムま
たはグレーティングからの反射光（または回折光）を吸
収または反射させる手段を備えている。
【０００７】第３の発明を主体とする第４の発明では、
吸収または反射させるための手段として、反射光または
回折光の光路に吸収または反射プレートを配置してい
る。
吸収または反射させるための手段として、反射光または
回折光の光路に吸収または反射プレートを配置してい
る。
【０００８】第５の発明では、少なくともプリズムとグ
レーティングを配置したレーザ装置において、プリズム
の入射および出射面以外の少なくとも一面を光学研磨面
としている。
レーティングを配置したレーザ装置において、プリズム
の入射および出射面以外の少なくとも一面を光学研磨面
としている。
【０００９】第５の発明を主体とする第６の発明では、
プリズムの入射光軸と屈折透過光軸を含む面または屈折
透過光軸と出射光軸を含む面に対して略垂直な面を光学
研磨面としている。
プリズムの入射光軸と屈折透過光軸を含む面または屈折
透過光軸と出射光軸を含む面に対して略垂直な面を光学
研磨面としている。
【００１０】
【作用】上記の構成によれば、少なくともプリズムとグ
レーティングを配置した狭帯域レーザ装置において、各
光学素子管に寄生発振を制限するプレートまたはスリッ
トを配置したり、プリズムまたはグレーティングからの
反射光（または回折光）を吸収または反射させることに
より寄生発振がなくなり、スペクトル波形がよくなる。
また、スペクトル線幅の変化もなくなる。また、寄生発
振を防ぐためにプリズムの反射光、別の次数の回折光お
よびプリズムの低面の散乱光を吸収または反射させるこ
とにより、寄生発振のないスペクトル純度の良い出力レ
ーザが得られる。各光学素子間（プリズムおよびグレー
ティング）に寄生発振防止のためのプレートまたはスリ
ットを配置することによりプリズムを非常にコンパクト
にできる。プリズムの低面部を光学研磨面にすることに
より、さらに、プリズムを非常にコンパクトにできる。
レーティングを配置した狭帯域レーザ装置において、各
光学素子管に寄生発振を制限するプレートまたはスリッ
トを配置したり、プリズムまたはグレーティングからの
反射光（または回折光）を吸収または反射させることに
より寄生発振がなくなり、スペクトル波形がよくなる。
また、スペクトル線幅の変化もなくなる。また、寄生発
振を防ぐためにプリズムの反射光、別の次数の回折光お
よびプリズムの低面の散乱光を吸収または反射させるこ
とにより、寄生発振のないスペクトル純度の良い出力レ
ーザが得られる。各光学素子間（プリズムおよびグレー
ティング）に寄生発振防止のためのプレートまたはスリ
ットを配置することによりプリズムを非常にコンパクト
にできる。プリズムの低面部を光学研磨面にすることに
より、さらに、プリズムを非常にコンパクトにできる。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明に係わる狭帯域レーザ装置の
実施例につき、図面を参照して詳細に説明する。図１は
本発明に係わる狭帯域レーザ装置の第１実施例を示す概
略図であり、図２は図１の一部拡大図である。なお、図
１は作動原理を示す図１０とほぼ同一であるが再度説明
する。
実施例につき、図面を参照して詳細に説明する。図１は
本発明に係わる狭帯域レーザ装置の第１実施例を示す概
略図であり、図２は図１の一部拡大図である。なお、図
１は作動原理を示す図１０とほぼ同一であるが再度説明
する。
【００１２】図１、図２において、レーザチャンバ１に
は図示しないレーザ媒質とこのレーザ媒質の励起手段と
により発振したレーザ光を出力するウインドウ２、３
が、また、レーザチャンバ１の前側（図示の左側）には
スリット４とフロントミラー５が、後側には、スリット
６と狭帯域化ユニット１０が設けられ、出力するレーザ
光を狭帯域化して出力している。狭帯域化ユニット１０
は、プリズムビームエキスパンダの第１のプリズム１１
および第２のプリズム１２と、スリット１３と、グレー
ティング１４とから構成され、スリット１３は第２のプ
リズム１２とグレーティング１４との間で、第２のプリ
ズム１２の近傍に配設されている。
は図示しないレーザ媒質とこのレーザ媒質の励起手段と
により発振したレーザ光を出力するウインドウ２、３
が、また、レーザチャンバ１の前側（図示の左側）には
スリット４とフロントミラー５が、後側には、スリット
６と狭帯域化ユニット１０が設けられ、出力するレーザ
光を狭帯域化して出力している。狭帯域化ユニット１０
は、プリズムビームエキスパンダの第１のプリズム１１
および第２のプリズム１２と、スリット１３と、グレー
ティング１４とから構成され、スリット１３は第２のプ
リズム１２とグレーティング１４との間で、第２のプリ
ズム１２の近傍に配設されている。
【００１３】上記構成において作動について説明する。
ウインドウ３からスリット６、第１のプリズム１１およ
び第２のプリズム１２を経たレーザ光はグレーティング
１４により狭帯域化され、第２のプリズム１２および第
１のプリズム１１に戻るが、このとき、グレーティング
１４から第２のプリズム１２に入る回折光の内、前記の
回折光Ａはスリット１３により遮蔽され第２のプリズム
１２に入らない。従って、寄生発振となる回折光Ａは出
力されることが無く、スペクトル波形がよくなるととも
に、スペクトル線幅の変化もなくなる。
ウインドウ３からスリット６、第１のプリズム１１およ
び第２のプリズム１２を経たレーザ光はグレーティング
１４により狭帯域化され、第２のプリズム１２および第
１のプリズム１１に戻るが、このとき、グレーティング
１４から第２のプリズム１２に入る回折光の内、前記の
回折光Ａはスリット１３により遮蔽され第２のプリズム
１２に入らない。従って、寄生発振となる回折光Ａは出
力されることが無く、スペクトル波形がよくなるととも
に、スペクトル線幅の変化もなくなる。
【００１４】さらに、反射させる場合には反射光がレー
ザ共振器中に戻らないように角度をつけて配置するのが
良い。また、レーザ光が照射されても粉塵またはアウト
ガスが発生しないものが良い。また、プリスムの低面と
正常発振との光路との距離を所定量だけ離すと効果を増
すことができる。
ザ共振器中に戻らないように角度をつけて配置するのが
良い。また、レーザ光が照射されても粉塵またはアウト
ガスが発生しないものが良い。また、プリスムの低面と
正常発振との光路との距離を所定量だけ離すと効果を増
すことができる。
【００１５】図３は本発明に係わる狭帯域レーザ装置の
第２実施例の一部拡大図である。なお、第１実施例の狭
帯域化ユニット１０とは、狭帯域化ユニット２０の第２
プリズム２１が異なり、他は第１実施例と同一であり、
同一部品には同一符号を付して説明を省略する。図３に
おいて、後側の狭帯域化ユニット２０は、プリズムビー
ムエキスパンダの第１のプリズム１１および第２のプリ
ズム２１と、グレーティング１４とから構成され、第２
のプリズム２１にはプリズムの一面（Ｗ面）の周囲に反
射光（または回折光）を吸収または反射させる手段１
５、例えば、図４に示すようにコーティングが設けられ
ている。このとき、吸収または反射させる手段はレーザ
光が照射されても粉塵またはアウトガスが発生しないも
のが良い。なお、作動については、第１実施例と同様の
ため説明は省略する。
第２実施例の一部拡大図である。なお、第１実施例の狭
帯域化ユニット１０とは、狭帯域化ユニット２０の第２
プリズム２１が異なり、他は第１実施例と同一であり、
同一部品には同一符号を付して説明を省略する。図３に
おいて、後側の狭帯域化ユニット２０は、プリズムビー
ムエキスパンダの第１のプリズム１１および第２のプリ
ズム２１と、グレーティング１４とから構成され、第２
のプリズム２１にはプリズムの一面（Ｗ面）の周囲に反
射光（または回折光）を吸収または反射させる手段１
５、例えば、図４に示すようにコーティングが設けられ
ている。このとき、吸収または反射させる手段はレーザ
光が照射されても粉塵またはアウトガスが発生しないも
のが良い。なお、作動については、第１実施例と同様の
ため説明は省略する。
【００１６】図４には、本発明に係わる狭帯域レーザ装
置の第３実施例も図示されている。第２実施例に対し
て、第２のプリズム２１が３１に替わり、第２のプリズ
ム３１（図示では２１と同じ）では、入射および出射面
以外の少なくとも一面（低面Ｖ）が光学研磨をなされて
いる。
置の第３実施例も図示されている。第２実施例に対し
て、第２のプリズム２１が３１に替わり、第２のプリズ
ム３１（図示では２１と同じ）では、入射および出射面
以外の少なくとも一面（低面Ｖ）が光学研磨をなされて
いる。
【００１７】上記構成において作動について説明する。
グレーティング１４から第２のプリズム１２に入る回折
光の内、前記の回折光ＢおよごＣは第２のプリズム３１
の光学研磨面Ｖで一方向に回折されるために第１のプリ
ズム１１に入らない。従って、寄生発振となる回折光Ｂ
およびＣは出力されることが無く、さらにスペクトル波
形がよくなるとともに、スペクトル線幅の変化もなくな
る。プリズムの低面部を光学研磨面にすることにより、
寸法（Ｍ）を小さくできてプリズムを非常にコンパクト
にできる。
グレーティング１４から第２のプリズム１２に入る回折
光の内、前記の回折光ＢおよごＣは第２のプリズム３１
の光学研磨面Ｖで一方向に回折されるために第１のプリ
ズム１１に入らない。従って、寄生発振となる回折光Ｂ
およびＣは出力されることが無く、さらにスペクトル波
形がよくなるとともに、スペクトル線幅の変化もなくな
る。プリズムの低面部を光学研磨面にすることにより、
寸法（Ｍ）を小さくできてプリズムを非常にコンパクト
にできる。
【００１８】図５は本発明に係わる狭帯域レーザ装置の
第４実施例を示す図である。 図５において、後側には
狭帯域化ユニット４０は、プリズムビームエキスパンダ
の第１のプリズム１１および第２のプリズム１２と、グ
レーティング１４と、グレーティング１４からの回折光
を吸収する第１の吸収プレート４１と、第２のプリズム
１２からの回折光を吸収する第２の吸収プレート４２
と、第１のプリズム１１からの回折光を反射した後に吸
収する第３の吸収プレート４３および第１の反射プレー
ト４４とから構成され、これらの構成部品は筺体４５内
に配設されている。
第４実施例を示す図である。 図５において、後側には
狭帯域化ユニット４０は、プリズムビームエキスパンダ
の第１のプリズム１１および第２のプリズム１２と、グ
レーティング１４と、グレーティング１４からの回折光
を吸収する第１の吸収プレート４１と、第２のプリズム
１２からの回折光を吸収する第２の吸収プレート４２
と、第１のプリズム１１からの回折光を反射した後に吸
収する第３の吸収プレート４３および第１の反射プレー
ト４４とから構成され、これらの構成部品は筺体４５内
に配設されている。
【００１９】上記構成において作動について説明する。
プリズム１１、１２からの反射光は非常に強いレーザ光
であり、このレーザ光共振器中に返されると自然発振が
寄生発振となって生き残る。また、グレーティング１４
の次数の異なる回折光も共振器中に戻されると多波長発
振することになる。これらの寄生発振は露光装置の解像
力を非常に悪くする。第４実施例では、これらプリズム
１１、１２の反射光およびグレーティング１４からの別
の回折光を吸収プレート４２、４３または反射プレート
４４により受けて、自然発振させて共振器中にこれらの
光が戻らないようにしている。上記例では、スリットあ
るいは研磨は省略されているが、実施しても良いことは
いうまでもない。
プリズム１１、１２からの反射光は非常に強いレーザ光
であり、このレーザ光共振器中に返されると自然発振が
寄生発振となって生き残る。また、グレーティング１４
の次数の異なる回折光も共振器中に戻されると多波長発
振することになる。これらの寄生発振は露光装置の解像
力を非常に悪くする。第４実施例では、これらプリズム
１１、１２の反射光およびグレーティング１４からの別
の回折光を吸収プレート４２、４３または反射プレート
４４により受けて、自然発振させて共振器中にこれらの
光が戻らないようにしている。上記例では、スリットあ
るいは研磨は省略されているが、実施しても良いことは
いうまでもない。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、図
６のスペクトル波形が示すように、自然発振や多波長発
振のような寄生発振は起こらなくなり、スペクトル波形
がよくなり、また、スペクトル線幅の変化もなくなる。
さらに、寄生発振のないスペクトル純度の良い出力レー
ザが得られ、また、プリズムを非常にコンパクトにでき
る。さらに、レーザ出力のアップ向上が計れるという優
れた効果が得られる。
６のスペクトル波形が示すように、自然発振や多波長発
振のような寄生発振は起こらなくなり、スペクトル波形
がよくなり、また、スペクトル線幅の変化もなくなる。
さらに、寄生発振のないスペクトル純度の良い出力レー
ザが得られ、また、プリズムを非常にコンパクトにでき
る。さらに、レーザ出力のアップ向上が計れるという優
れた効果が得られる。
【図１】本発明に係わる狭帯域レーザ装置の第１実施例
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図２】本発明の図１の一部拡大図である。
【図３】本発明に係わる狭帯域レーザ装置の第２実施例
および第３実施例を示す一部拡大図である。
および第３実施例を示す一部拡大図である。
【図４】本発明に係わる第２実施例の一例を示すプリズ
ムーザの斜視図である。
ムーザの斜視図である。
【図５】本発明に係わる狭帯域レーザ装置の第４実施例
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図６】本発明に係わる狭帯域レーザ装置からのスペク
トル波形を示す図である。
トル波形を示す図である。
【図７】従来の狭帯域レーザ装置の実施例を示す概略図
である。
である。
【図８】従来の狭帯域レーザ装置からのスペクトル波形
を示す図である。
を示す図である。
【図９】従来の狭帯域レーザ装置の他の実施例の概略図
で回折光を説明する図である。
で回折光を説明する図である。
【図１０】従来の狭帯域レーザ装置の実施例の一部拡大
図で回折光を説明する図である。
図で回折光を説明する図である。
１ レーザチャンバ ２、３ ウインド ４、６ スリット ５ フロントミラー １１ 第１のプリズム １２、２１、３１ 第２のプリズム １３ スリット １４ グレーティング １５ 反射光（または回折光）を吸収または反射さ
せる手段 ４１ 第１の吸収プレート ４２ 第２の吸収プレート ４３ 第３の吸収プレート ４４ 第１の反射プレート ４５ 筺体
せる手段 ４１ 第１の吸収プレート ４２ 第２の吸収プレート ４３ 第３の吸収プレート ４４ 第１の反射プレート ４５ 筺体
Claims (6)
- 【請求項１】 少なくともプリズムとグレーティングを
配置したレーザ装置において、各光学素子間に寄生発振
となる光を遮断する手段を備えたことを特徴とする狭帯
域レーザ装置。 - 【請求項２】 各光学素子間に寄生発振となる光を遮断
する手段として、寄生発振となる光を吸収または反射す
るプレートまたはスリットを配置した請求項１記載の狭
帯域レーザ装置。 - 【請求項３】 少なくともプリズムとグレーティングを
配置したレーザ装置において、プリズムまたはグレーテ
ィングからの反射光（または回折光）を吸収または反射
させる手段を備えたことを特徴とする狭帯域レーザ装
置。 - 【請求項４】 吸収または反射させるための手段とし
て、反射光または回折光の光路に吸収または反射プレー
トを配置した請求項３の狭帯域レーザ装置。 - 【請求項５】 少なくともプリズムとグレーティングを
配置したレーザ装置おいて、プリズムの入射および出射
面以外の少なくとも一面を光学研磨面としたことを特徴
とする狭帯域レーザ装置。 - 【請求項６】 プリズムの入射光軸と屈折透過光軸を含
む面または屈折透過光軸と出射光軸を含む面に対して略
垂直な面を光学研磨面とした請求項５の狭帯域レーザ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4332421A JP2729447B2 (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 狭帯域レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4332421A JP2729447B2 (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 狭帯域レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06164029A true JPH06164029A (ja) | 1994-06-10 |
| JP2729447B2 JP2729447B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=18254784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4332421A Expired - Lifetime JP2729447B2 (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 狭帯域レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2729447B2 (ja) |
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| JPH04262588A (ja) * | 1991-02-18 | 1992-09-17 | Toshiba Corp | レ−ザ装置およびレ−ザ露光装置 |
-
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- 1992-11-18 JP JP4332421A patent/JP2729447B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2729447B2 (ja) | 1998-03-18 |
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