JPH06157536A - シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法 - Google Patents

シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法

Info

Publication number
JPH06157536A
JPH06157536A JP4339689A JP33968992A JPH06157536A JP H06157536 A JPH06157536 A JP H06157536A JP 4339689 A JP4339689 A JP 4339689A JP 33968992 A JP33968992 A JP 33968992A JP H06157536 A JPH06157536 A JP H06157536A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silicon
substituted
compound
unsubstituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4339689A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Kaneko
哲也 金子
Mare Sakamoto
希 坂本
Michiko Tamano
美智子 玉野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority to JP4339689A priority Critical patent/JPH06157536A/ja
Publication of JPH06157536A publication Critical patent/JPH06157536A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/30Coordination compounds
    • H10K85/311Phthalocyanine
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/40Organosilicon compounds, e.g. TIPS pentacene
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】シリコンフタロシアニン化合物を工業的に純度
良く製造する方法を提供する。 【構成】溶媒にスルホラン、触媒に1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]−7−ウンデセンを用いて、一般式
(1)で示される1,3−ジイミノイソインドリン化合
物を原料とし、それに四塩化ケイ素を反応させ、反応終
了後、大量の水に撹拌注入し、単離を容易にすることに
より、目的のシリコンフタロシアニン化合物を製造する
方法。 [式中、A,A〜Aはベンゼン環またはナフタレン
環を;R,R〜Rは水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、(置換)アルキル基、(置換)アルコキシ基、
(置換)アリール基、(置換)アリールオキシ基、(置
換)アルキルチオ基、(置換)アリールチオ基を;Xは
Cl,OHを表す]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はオプトエレクトロニクス
材料として有用なシリコンフタロシアニン化合物または
シリコンナフタロシアニン化合物を工業的に高純度で製
造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】シリコンフタロシアニン化合物はフタロ
ニトリル化合物、あるいは、1,3−ジイミノイソイン
ドリン化合物を出発原料として、またシリコンナフタロ
シアニン化合物はナフタロニトリル化合物、あるいは、
1,3−ジイミノベンズイソインドリン化合物を出発原
料として、高沸点溶媒中、四塩化ケイ素と反応させて得
られるが、純度良く合成するには、1,3−ジイミノイ
ソインドリン化合物あるいは、1,3−ジイミノベンズ
イソインドリン化合物を出発原料とし、適当な触媒を用
いて合成するのが一般的である。例えば、1−クロロナ
フタレン、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン、
トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の非極性溶媒
にトリ−n−ブチルアミン等の高沸点の3級アミンを触
媒として四塩化ケイ素と反応させるか、あるいは、キノ
リン溶媒中、無触媒で反応させることによって得られ
る。しかしながら、こうした反応系から目的物を単離す
る際に、目的物であるシリコンフタロシアニン化合物あ
るいは、シリコンナフタロシアニン化合物の溶媒に対す
る溶解性が高い場合には、溶媒をろ過や減圧加熱留去等
によって除去することが難しいため、ヘキサン等の貧溶
媒を大量に用いて希釈析出させる必要があり、工業的製
造法としては問題が大きかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の問題点
を解決すべくなされたものであり、シリコンフタロシア
ニン化合物またはシリコンナフタロシアニン化合物を工
業的に純度良く製造することを目的とする。
【0004】本発明者らは、鋭意、研究を重ねた結果、
溶媒にスルホラン、触媒に1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセン(DBU)を用いて、
一般式(1)で示される、1,3−ジイミノイソインド
リン化合物あるいは、1,3−ジイミノベンズイソイン
ドリン化合物を1種または2種以上と四塩化ケイ素を反
応させることにより、一般式(2)で示されるシリコン
フタロシアニン化合物あるいはシリコンナフタロシアニ
ン化合物が純度良く、容易に得られることを見いだし、
本発明に至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】第一の発明は、四塩化ケ
イ素と一般式(1)で示される1,3−ジイミノイソイ
ンドリン化合物より一般式(2)で示されるシリコンフ
タロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化
合物を製造する際に、スルホランを溶媒として用い、
1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセ
ンを触媒として用いることを特徴とするシリコンフタロ
シアニン化合物またはシリコンナフタロシアニン化合物
の製造法である。 一般式(1)
【化3】 [式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、置
換または未置換のアルキル基、置換または未置換のアル
コキシ基、置換または未置換のアリ−ル基、置換または
未置換のアリ−ルオキシ基、置換または未置換のアルキ
ルチオ基、置換または未置換のアリ−ルチオ基を表す。
Aは、ベンゼン環、または、ナフタレン環を表す。] 一般式(2)
【化4】 [式中、R1 〜R4 は、それぞれ独立に水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、置換または未置換のアルキル基、
置換または未置換のアルコキシ基、置換または未置換の
アリ−ル基、置換または未置換のアリ−ルオキシ基、置
換または未置換のアルキルチオ基、置換または未置換の
アリ−ルチオ基を表す。Xは塩素原子または水酸基を表
す。A1 〜A4 は、それぞれ、独立にベンゼン環また
は、ナフタレン環を表す。]
【0006】一般式(1)中のR、および一般式(2)
中のR1 〜R4 で示される置換または未置換のアルキル
基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、iso−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブ
チル基、n−ペンチル基、neo−ペンチル基、iso
−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−
エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、2,2,2−ト
リクロロエチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2
−トリフルオロエチル基、1,2−ジブロモエチル基、
メトキシエチル基、エトキシエチル基,n−ブトキシエ
チル基等がある。置換または未置換のアルコキシ基の例
としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、
iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブ
トキシ基、n−ペントキシ基、neo−ペントキシ基、
iso−ペントキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−オ
クチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、シクロ
ヘキシルオキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ
基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオ
ロエトキシ基、2,2,3,3−テトラフルオロプロポ
キシ基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソ
プロポキシ基、2,2−ビス(トリフルオロメチル)プ
ロポキシ基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロ
ポキシ基、1H,1H−パーフルオロヘキシル基、1,
2−ジブロモエトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキ
シエトキシ基,n−ブトキシエトキシ基等がある。置換
または未置換のアリ−ル基の例としては、フェニル基、
メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニ
ル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、フル
オロフェニル基、トリクロロメチルフェニル基、トリフ
ルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、
ニトロフェニル基等がある。置換または未置換のアリ−
ルオキシ基の例としては、フェニルオキシ基、メチルフ
ェニルオキシ基、エチルフェニルオキシ基、ジメチルフ
ェニルオキシ基、ヘキシルフェニルオコシ基、p−ニト
ロフェニルオキシ基、p−tert−ブチルフェニルオ
キシ基、テトラフルオロフェニルオキシ基、メトキシフ
ェニルオキシ基、トリクロロメチルフェニルオキシ基、
トリフルオロメチルフェニルオキシ基、ペンタフルオロ
フェニルオキシ基等がある。置換または未置換のアルキ
ルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、
n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブ
チルチオ基、tert−ブチルチオ基、n−ペンチルチ
オ基、neo−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ
基、n−ヘキシルチオ基、n−オクチルチオ基、n−ド
デシルチオ基、2,2,2−トリフルオロメチルチオ
基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルチオ基、
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルチオ基、
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピ
ルチオ基、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブ
チルチオ基、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチ
ルチオ基、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル
チオ基、2−(パ−フルオロヘキシル)エチルチオ基、
6−(パ−フルオロエチル)ヘキシルチオ基等がある。
置換または未置換のアリ−ルチオ基の例としては、フェ
ニルチオ基、メチルフェニルチオ基、エチルフェニルチ
オ基、ジメチルフェニルチオ基、ヘキシルフェニルチオ
基、p−ニトロフェニルチオ基、p−tert−ブチル
フェニルチオ基、テトラフルオロフェニルチオ基、メト
キシフェニルチオ基、トリクロロメチルフェニルチオ
基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、ペンタフルオ
ロフェニルチオ基等がある。
【0007】本発明の製造方法を以下に詳細に記述す
る。溶媒のスルホラン、好ましくは無水スルホランは、
1,3−ジイミノイソインドリン化合物あるいは、1,
3−ジイミノベンズイソインドリン化合物の5〜20倍
重量、好ましくは8〜12倍重量を用いる。触媒のDB
Uは1,3−ジイミノイソインドリン化合物の1〜5倍
モル、好ましくは2〜4倍モルを用いる。このスルホラ
ン、DBU混合溶液に1,3−ジイミノイソインドリン
化合物あるいは、1,3−ジイミノベンズイソインドリ
ン化合物を20〜30℃で添加し、四塩化ケイ素を滴下
する。量は、1,3−ジイミノイソインドリン化合物あ
るいは、1,3−ジイミノベンズイソインドリン化合物
の0.5〜3倍モル、好ましくは1〜2倍モルである。
滴下する際は、反応系内温が60℃を越えると四塩化ケ
イ素が還流し始めるため、反応系外に逃げないように滴
下量を調整する。発熱が終わり、系温が60℃以下、好
ましくは50℃以下になったら昇温を開始し、130〜
180℃、好ましくは140〜160℃で4〜16時
間、好ましくは6〜10時間反応させる。反応終了後、
室温まで放冷し、用いたスルホランの5倍重量以上、好
ましくは15〜30倍重量の氷水に撹拌注入し、目的物
を析出、単離する。析出物をろ過し、大量の水で洗い、
乾燥すると緑色の粉末が得られる。この緑色粉末は、F
D−MS測定の結果、目的のシリコンフタロシアニン化
合物あるいは、シリコンナフタロシアニン化合物である
ことが確認された。
【0008】以下に本発明によって得られるシリコンフ
タロシアニン化合物および、シリコンナフタロシアニン
化合物の例を示すが、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
【0009】シリコンフタロシアニン化合物(a)
【化5】
【0010】シリコンフタロシアニン化合物(b)
【化6】
【0011】シリコンフタロシアニン化合物(c)
【化7】
【0012】シリコンフタロシアニン化合物(d)
【化8】
【0013】シリコンフタロシアニン化合物(e)
【化9】
【0014】シリコンフタロシアニン化合物(f)
【化10】
【0015】シリコンフタロシアニン化合物(g)
【化11】
【0016】シリコンフタロシアニン化合物(h)
【化12】
【0017】シリコンフタロシアニン化合物(i)
【化13】
【0018】シリコンフタロシアニン化合物(j)
【化14】
【0019】シリコンナフタロシアニン化合物(k)
【化15】
【0020】シリコンナフタロシアニン化合物(l)
【化16】
【0021】
【実施例】以下に本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0022】実施例1 シリコンフタロシアニン化合
物(a)の合成 無水スルホラン1800gに、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセン(DBU)566gを
加え撹拌する。これに、1,3−ジイミノイソインドリ
ン180gを徐々に加えた。この溶液に、滴下ロ−トよ
り四塩化ケイ素316gを発熱に注意しながら滴下し
た。滴下終了後、昇温し、150℃で8時間反応させ
た。撹拌したまま放冷し、30℃になったところで、氷
水36kg中に撹拌しながら、注入し、緑褐色のスラリ
―を得たこのスラリ―を1時間撹拌してから昇温し、8
0℃で2時間加熱処理した。ろ過後、60℃の湯で洗浄
し、乾燥して濃緑色の粉末149gを得た。収率79
%。この粉末は、FD−MS測定の結果、シリコンフタ
ロシアニン化合物(a)であることを確認した。
【0023】実施例2 シリコンフタロシアニン化合
物(b)の合成 無水スルホラン2000gに、DBU509gを加え撹
拌する。これに、5−クロロ−1,3−ジイミノイソイ
ンドリン200gを徐々に加えた。そして、この溶液
に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素284gを発熱に注意
しながら滴下した。以下、実施例1と同様に処理した。
落としの水の量は氷水40kgで行った。そして、緑色
の粉末152gを得た。収率77%。この粉末は、FD
−MS測定の結果、シリコンフタロシアニン化合物
(b)であることを確認した。
【0024】実施例3 シリコンフタロシアニン化合
物(c)の合成 無水スルホラン1900gに、DBU457gを加え撹
拌する。これに、5−ニトロ−1,3−ジイミノイソイ
ンドリン190gを徐々に加えた。そして、この溶液
に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素255gを発熱に注意
しながら滴下した。以下、実施例1と同様に処理した。
落としの水の量は氷水38kgで行った。そして、緑色
の粉末123gを得た。収率70%。この粉末は、FD
−MS測定の結果、シリコンフタロシアニン化合物
(c)であることを確認した。
【0025】実施例4 シリコンフタロシアニン化合
物(d)の合成 無水スルホラン2000gに、DBU457gを加え撹
拌する。これに、5−tert−ブチル−1,3−ジイ
ミノイソインドリン201gを徐々に加えた。そして、
この溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素255gを発
熱に注意しながら滴下した。以下、実施例1と同様に処
理した。落としの水の量は氷水40kgで行った。そし
て、緑色の粉末156gを得た。収率78%。この粉末
は、FD−MS測定の結果、シリコンフタロシアニン化
合物(d)であることを確認した。
【0026】実施例5 シリコンフタロシアニン化合
物(e)の合成 無水スルホラン2000gに、DBU457gを加え撹
拌する。これに、5−n−ブトキシ−1,3−ジイミノ
イソインドリン217gを徐々に加えた。そして、この
溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素255gを発熱に
注意しながら滴下した。以下、実施例1と同様に処理し
た。落としの水の量は氷水40kgで行った。そして、
緑色の粉末168gを得た。収率78%。この粉末は、
FD−MS測定の結果、シリコンフタロシアニン化合物
(e)であることを確認した。
【0027】実施例6 シリコンフタロシアニン化合
物(f)の合成 無水スルホラン1700gに、DBU282gを加え撹
拌する。これに、4−(2,2,3,3−テトラフルオ
ロプロポキシ)1,3−ジイミノイソインドリン170
gを徐々に加えた。そして、この溶液に、滴下ロ−トよ
り四塩化ケイ素157gを発熱に注意しながら滴下し
た。以下、実施例1と同様に処理した。落としの水の量
は氷水6kgで行った。そして、緑色の粉末142gを
得た。収率84%。この粉末は、FD−MS測定の結
果、シリコンフタロシアニン化合物(f)であることを
確認した。
【0028】実施例7 シリコンフタロシアニン化合
物(g)の合成 無水スルホラン1800gに、DBU338gを加え撹
拌する。これに、5−ジ−トリフルオロメチルメトキシ
−1,3−ジイミノイソインドリン180gを徐々に加
えた。そして、この溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケイ
素189gを発熱に注意しながら滴下した。以下、実施
例1と同様に処理した。落としの水の量は氷水36gで
行った。そして、緑色の粉末143gを得た。収率80
%。この粉末は、FD−MS測定の結果、シリコンフタ
ロシアニン化合物(g)であることを確認した。
【0029】実施例8 シリコンフタロシアニン化合
物(h)の合成 無水スルホラン1000gに、DBU192gを加え撹
拌する。これに、5−(フェニルオキシ)1,3−ジイ
ミノイソインドリン100gを徐々に加えた。そして、
この溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素107gを発
熱に注意しながら滴下した。以下、実施例1と同様に処
理した。落としの水の量は氷水25kgで行った。そし
て、緑色の粉末82gを得た。収率82%。この粉末
は、FD−MS測定の結果、シリコンフタロシアニン化
合物(h)であることを確認した。
【0030】実施例9 シリコンフタロシアニン化合
物(i)の合成 無水スルホラン1200gに、DBU176gを加え撹
拌する。これに、4−(n−ブチルチオ)1,3−ジイ
ミノイソインドリン90gを徐々に加えた。そして、こ
の溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素98gを発熱に
注意しながら滴下した。以下、実施例1と同様に処理し
た。落としの水の量は氷水25kgで行った。そして、
緑色の粉末64gを得た。収率72%。この粉末は、F
D−MS測定の結果、シリコンフタロシアニン化合物
(i)であることを確認した。
【0031】実施例10 シリコンフタロシアニン化
合物(j)の合成 無水スルホラン1200gに、DBU133gを加え撹
拌する。これに、5−(p−tert−ブチルフェニル
チオ)1,3−ジイミノイソインドリン90gを徐々に
加えた。そして、この溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケ
イ素74gを発熱に注意しながら滴下した。以下、実施
例1と同様に処理した。落としの水の量は氷水25kg
で行った。そして、緑色の粉末66gを得た。収率74
%。この粉末は、FD−MS測定の結果、シリコンフタ
ロシアニン化合物(j)であることを確認した。
【0032】実施例11 シリコンナフタロシアニン
化合物(k)の合成 無水スルホラン1000gに、DBU234gを加え撹
拌する。これに、1,3−ジイミノベンズイソインドリ
ン100gを徐々に加えた。そして、この溶液に、滴下
ロ−トより四塩化ケイ素131gを発熱に注意しながら
滴下した。以下、実施例1と同様に処理した。落としの
水の量は氷水20kgで行った。そして、緑色の粉末8
4gを得た。収率85%。この粉末は、FD−MS測定
の結果、シリコンナフタロシアニン化合物(k)である
ことを確認した。
【0033】実施例12 シリコンナフタロシアニン
化合物(l)の合成 無水スルホラン1200gに、DBU182gを加え撹
拌する。これに、tert−ブチル−1,3−ジイミノ
ベンズイソインドリン100gを徐々に加えた。そし
て、この溶液に、滴下ロ−トより四塩化ケイ素101g
を発熱に注意しながら滴下した。以下、実施例1と同様
に処理した。落としの水の量は氷水25kgで行った。
そして、緑色の粉末82gを得た。収率82%。この粉
末は、FD−MS測定の結果、シリコンナフタロシアニ
ン化合物(l)であることを確認した。
【0034】
【発明の効果】本発明では、溶媒にスルホラン、触媒に
DBUを使うことが特徴的であり、1、3―ジイミノイ
ソインドリン化合物あるいは、1,3−ジイミノベンズ
イソインドリン化合物と四塩化ケイ素を130〜180
℃で4〜16時間反応させ、反応終了後、大量の水に注
入、析出させるだけで純度良く、容易に単離できるよう
になり、工業的にシリコンフタロシアニン化合物が得ら
れるようになった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03G 5/06 370 9221−2H H01L 29/28 31/04

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】四塩化ケイ素と下記一般式(1)で示され
    る1,3−ジイミノイソインドリン化合物より下記一般
    式(2)で示されるシリコンフタロシアニン化合物およ
    びシリコンナフタロシアニン化合物を製造する際に、ス
    ルホランを溶媒として用い、1,8−ジアザビシクロ
    [5,4,0]−7−ウンデセンを触媒として用いるこ
    とを特徴とするシリコンフタロシアニン化合物またはシ
    リコンナフタロシアニン化合物の製造法。 一般式(1) 【化1】 [式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、置
    換または未置換のアルキル基、置換または未置換のアル
    コキシ基、置換または未置換のアリ−ル基、置換または
    未置換のアリ−ルオキシ基、置換または未置換のアルキ
    ルチオ基、置換または未置換のアリ−ルチオ基を表す。
    Aは、ベンゼン環、または、ナフタレン環を表す。] 一般式(2) 【化2】 [式中、R1 〜R4 は、それぞれ独立に水素原子、ハロ
    ゲン原子、ニトロ基、置換または未置換のアルキル基、
    置換または未置換のアルコキシ基、置換または未置換の
    アリ−ル基、置換または未置換のアリ−ルオキシ基、置
    換または未置換のアルキルチオ基、置換または未置換の
    アリ−ルチオ基を表す。Xは塩素原子または水酸基を表
    す。A1 〜A4 は、それぞれ、独立にベンゼン環また
    は、ナフタレン環を表す。]
JP4339689A 1992-11-26 1992-11-26 シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法 Pending JPH06157536A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4339689A JPH06157536A (ja) 1992-11-26 1992-11-26 シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4339689A JPH06157536A (ja) 1992-11-26 1992-11-26 シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06157536A true JPH06157536A (ja) 1994-06-03

Family

ID=18329870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4339689A Pending JPH06157536A (ja) 1992-11-26 1992-11-26 シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06157536A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002096913A1 (en) * 2001-05-25 2002-12-05 Gentian As Substituted di(hydroxy/alkoxy)silicon phthalocyanines and their uses
JP2003532119A (ja) * 2000-05-04 2003-10-28 デイド・ベーリング・マルブルク・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 複数のアナライトの検出において使用するための組成物
US9062225B2 (en) 2012-03-27 2015-06-23 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Production process for colorant, colorant composition, toner, ink for ink jet recording and color filter
CN114292153A (zh) * 2022-01-10 2022-04-08 南通大学 一种芳基卤化物的高效合成方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003532119A (ja) * 2000-05-04 2003-10-28 デイド・ベーリング・マルブルク・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 複数のアナライトの検出において使用するための組成物
EP1305632B1 (en) * 2000-05-04 2011-07-27 Siemens Healthcare Diagnostics Products GmbH Methods for detection of multiple analytes
JP4796259B2 (ja) * 2000-05-04 2011-10-19 シーメンス・ヘルスケア・ダイアグノスティックス・プロダクツ・ゲーエムベーハー 複数のアナライトの検出において使用するための組成物
WO2002096913A1 (en) * 2001-05-25 2002-12-05 Gentian As Substituted di(hydroxy/alkoxy)silicon phthalocyanines and their uses
US9062225B2 (en) 2012-03-27 2015-06-23 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Production process for colorant, colorant composition, toner, ink for ink jet recording and color filter
CN114292153A (zh) * 2022-01-10 2022-04-08 南通大学 一种芳基卤化物的高效合成方法
CN114292153B (zh) * 2022-01-10 2023-12-22 南通大学 一种芳基卤化物的高效合成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100852962B1 (ko) 2-하이드록시-5-페닐알킬아미노벤조산 유도체 및 이의 염의제조방법
JPS6215075B2 (ja)
JPH06157536A (ja) シリコンフタロシアニン化合物およびシリコンナフタロシアニン化合物の製造法
JPS6033109B2 (ja) 尿素誘導体の合成法
KR100584037B1 (ko) 치환된 아미도 프탈로시아닌 유도체의 제조방법 및 치환된 아미도 프탈로시아닌 유도체
WO2003104334A1 (ja) μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物及びその選択的製造方法
JP4694138B2 (ja) サブフタロシアニン化合物の製造方法
JPH08134041A (ja) ピラゾールアミド類の製造方法
JPH10251260A (ja) シリコンフタロシアニン化合物の製造方法
AU2007357071A1 (en) Method of preparing naphthalocyanines
JP4079234B2 (ja) 金属フタロシアニン類の製造方法
JPH06184109A (ja) スクアリリウム系化合物
JPH04193882A (ja) オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法
CN110804010B (zh) 靛红衍生物的合成方法
JPH029882A (ja) フタロシアニン類の製造法
JP2520476B2 (ja) β型チタニルフタロシアニンの製造方法
JPH0140832B2 (ja)
JP2003238572A (ja) ピリジン−トリ(置換又は非置換フェニル)ボランの製造法
JPH0140833B2 (ja)
JPH07103318B2 (ja) 新規フタロシアニン化合物およびその製造方法
KR800001548B1 (ko) 2-하이드록시 벤조티아졸의 제조방법
JPH0146500B2 (ja)
JPH0665200A (ja) フタルイミド化合物の製造法
JPS595146B2 (ja) 対称性4−ハロゲン−及び(4及び2−ハロゲン)−4′,4″−ジフェニルアミノ−トリフェニルメタン化合物の製造法
JPH03176427A (ja) フルオロ芳香族およびフルオロヘテロ芳香族化合物の製法