JPH06140498A - 静電吸着装置 - Google Patents
静電吸着装置Info
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- JPH06140498A JPH06140498A JP6141892A JP6141892A JPH06140498A JP H06140498 A JPH06140498 A JP H06140498A JP 6141892 A JP6141892 A JP 6141892A JP 6141892 A JP6141892 A JP 6141892A JP H06140498 A JPH06140498 A JP H06140498A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明の目的は、吸着面に被処理物が吸着し
ているか否かを判別することの可能な静電吸着装置を提
供することである。 【構成】この発明は、所定の間隔で並設された一対の電
極間に電圧を印加することによって、上記一対の電極を
覆う絶縁物の表面に配置された被処理物を静電的に吸着
する静電吸着装置において、上記被処理物の吸着面側に
気体を噴出させる気体噴出孔を上記絶縁物に設け、途中
に流量調節器と第１開閉弁を設けた気体導入管を気体噴
出管と気体排気管とに分岐し、その気体噴出管の途中に
第２開閉弁を設けたうえ、その気体噴出管を上記気体噴
出孔に接続し、また、上記気体排気管の途中に流量調整
弁を設けたうえ、上記気体排気管に排気ポンプを接続
し、更に、上記分岐した点の近傍に検出器を設けたこと
を特徴とするものである。
ているか否かを判別することの可能な静電吸着装置を提
供することである。 【構成】この発明は、所定の間隔で並設された一対の電
極間に電圧を印加することによって、上記一対の電極を
覆う絶縁物の表面に配置された被処理物を静電的に吸着
する静電吸着装置において、上記被処理物の吸着面側に
気体を噴出させる気体噴出孔を上記絶縁物に設け、途中
に流量調節器と第１開閉弁を設けた気体導入管を気体噴
出管と気体排気管とに分岐し、その気体噴出管の途中に
第２開閉弁を設けたうえ、その気体噴出管を上記気体噴
出孔に接続し、また、上記気体排気管の途中に流量調整
弁を設けたうえ、上記気体排気管に排気ポンプを接続
し、更に、上記分岐した点の近傍に検出器を設けたこと
を特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ドライエッチング装
置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリング装置、イオン
注入装置等の半導体処理装置に使用される静電チャック
の吸着面に、シリコンウエハ等の被処理物が吸着されて
いるか否かの判別を可能にする静電吸着装置に関するも
のである。
置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリング装置、イオン
注入装置等の半導体処理装置に使用される静電チャック
の吸着面に、シリコンウエハ等の被処理物が吸着されて
いるか否かの判別を可能にする静電吸着装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ドライエッチング装置、プラズマＣＶＤ
装置、スパッタリング装置、イオン注入装置等の半導体
処理装置に使用される静電吸着装置は、静電チャックの
電極に高電圧を印加することによって発生する静電的吸
着力によって被処理物を吸着させる一方で、静電チャッ
クの吸着面と被処理物との隙間に気体を熱媒体として流
し、被処理物の温度を制御をしている。静電チャックの
吸着面に被処理物を吸着させる静電的吸着力が静電チャ
ックの突発的あるいは経時的変化等に起因して減衰した
場合、或いは静電チャックの吸着面に被処理物が未接触
の場合、静電チャックは被処理物との間で静電的吸着不
良が起きる。したがって、仮に、静電チャックの吸着面
に被処理物が吸着していない場合には、冷却機構からの
熱伝導による被処理物の温度制御が不可能になる。
装置、スパッタリング装置、イオン注入装置等の半導体
処理装置に使用される静電吸着装置は、静電チャックの
電極に高電圧を印加することによって発生する静電的吸
着力によって被処理物を吸着させる一方で、静電チャッ
クの吸着面と被処理物との隙間に気体を熱媒体として流
し、被処理物の温度を制御をしている。静電チャックの
吸着面に被処理物を吸着させる静電的吸着力が静電チャ
ックの突発的あるいは経時的変化等に起因して減衰した
場合、或いは静電チャックの吸着面に被処理物が未接触
の場合、静電チャックは被処理物との間で静電的吸着不
良が起きる。したがって、仮に、静電チャックの吸着面
に被処理物が吸着していない場合には、冷却機構からの
熱伝導による被処理物の温度制御が不可能になる。
【０００３】そこで、静電チャックの吸着面に被処理物
が吸着しているか否かを判別するこことが必要となる。
しかしながら、従来の静電吸着装置においては、そのよ
うな判別を行う構成を持つものが存在していなかった。
が吸着しているか否かを判別するこことが必要となる。
しかしながら、従来の静電吸着装置においては、そのよ
うな判別を行う構成を持つものが存在していなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の静電吸着装置
は、上記のように静電チャックの吸着面に被処理物が吸
着しているか否かを判別する構成をもっていなかったか
ら、静電チャックの吸着面に被処理物を吸着させる静電
的吸着力が静電チャックの突発的あるいは経時的変化等
に起因して減衰した場合、或いは静電チャックの吸着面
に被処理物が未接触の場合、静電チャックは被処理物と
の間で静電的吸着不良が起きたり、あるいは、冷却機構
からの熱伝導による被処理物の温度制御が不可能になる
等の問題が発生していた。
は、上記のように静電チャックの吸着面に被処理物が吸
着しているか否かを判別する構成をもっていなかったか
ら、静電チャックの吸着面に被処理物を吸着させる静電
的吸着力が静電チャックの突発的あるいは経時的変化等
に起因して減衰した場合、或いは静電チャックの吸着面
に被処理物が未接触の場合、静電チャックは被処理物と
の間で静電的吸着不良が起きたり、あるいは、冷却機構
からの熱伝導による被処理物の温度制御が不可能になる
等の問題が発生していた。
【０００５】この発明の目的は、上記問題を解決して、
吸着面に被処理物が吸着しているか否かを判別すること
の可能な静電吸着装置を提供するものである。
吸着面に被処理物が吸着しているか否かを判別すること
の可能な静電吸着装置を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、所定の間隔で並設された一対の電極間
に電圧を印加することによって、上記一対の電極を覆う
絶縁物の表面に配置された被処理物を静電的に吸着する
静電吸着装置において、上記被処理物の吸着面側に気体
を噴出させる気体噴出孔を上記絶縁物に設け、途中に流
量調節器と第１開閉弁を設けた気体導入管を気体噴出管
と気体排気管とに分岐し、その気体噴出管の途中に第２
開閉弁を設けたうえ、その気体噴出管を上記気体噴出孔
に接続し、また、上記気体排気管の途中に流量調整弁を
設けたうえ、上記気体排気管に排気ポンプを接続し、更
に、上記分岐したところに検出器を設けたことを特徴と
するものである。
に、この発明は、所定の間隔で並設された一対の電極間
に電圧を印加することによって、上記一対の電極を覆う
絶縁物の表面に配置された被処理物を静電的に吸着する
静電吸着装置において、上記被処理物の吸着面側に気体
を噴出させる気体噴出孔を上記絶縁物に設け、途中に流
量調節器と第１開閉弁を設けた気体導入管を気体噴出管
と気体排気管とに分岐し、その気体噴出管の途中に第２
開閉弁を設けたうえ、その気体噴出管を上記気体噴出孔
に接続し、また、上記気体排気管の途中に流量調整弁を
設けたうえ、上記気体排気管に排気ポンプを接続し、更
に、上記分岐したところに検出器を設けたことを特徴と
するものである。
【０００７】
【作用】この発明においては、一対の電極を覆う絶縁物
の表面に配置された被処理物を静電的に吸着している状
態で、まず、気体導入管の第１開閉弁を開、気体噴出管
の第２開閉弁を閉にしたとき、分岐した点における気体
の圧力又は流量を検出器で測定する。次に、気体噴出管
の第２開閉弁を閉から開にしたときの分岐した点におけ
る気体の圧力又は流量の変化を検出器で測定し、その測
定より、絶縁物の表面に被処理物を静電的に吸着してい
る状態の良否を判別する。
の表面に配置された被処理物を静電的に吸着している状
態で、まず、気体導入管の第１開閉弁を開、気体噴出管
の第２開閉弁を閉にしたとき、分岐した点における気体
の圧力又は流量を検出器で測定する。次に、気体噴出管
の第２開閉弁を閉から開にしたときの分岐した点におけ
る気体の圧力又は流量の変化を検出器で測定し、その測
定より、絶縁物の表面に被処理物を静電的に吸着してい
る状態の良否を判別する。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。この発明の実施例の静電吸着装置は
図１に示されている。同図において、冷却水配管等の冷
却機構１ａを備えたアルミニウム製の基体１の上部に
は、アルミナ製の絶縁物４ａ、４ｂと、これらの絶縁物
４ａ、４ｂによって覆われている所定の間隔で並設され
た一対の電極２ａ、２ｂとで構成された静電チャック３
が設けられている。一対の電極２ａ、２ｂ間には直流電
源６が接続され、この直流電源６より一対の電極２ａ、
２ｂに電位を与えると、静電チャック３に静電気が発生
して、静電チャック３の絶縁物４ａの表面にシリコンウ
エハ等の被処理物５が吸着されるようになる。静電チャ
ック３の絶縁物４ａ、４ｂには熱伝導効率を高めるため
のガスを噴出する気体噴出孔７が設けられ、この気体噴
出孔７より噴出したガスは静電チャック３の絶縁物４ａ
と被処理物５との隙間を流れるようになっている。気体
導入管８の途中にはガスの流量を調節するためのマスフ
ローコントローラ９と圧空バルブの開閉弁１０とが設け
られ、更に、気体導入管８はその先端部において気体噴
出管１１と気体排気管１２とに分岐されている。気体噴
出管１１はその途中においてストップバルブの開閉弁１
３が設けられたうえ、先端部が気体噴出孔７に接続され
ている。一方、気体排気管１２はその途中においてニー
ルドバルブの流量調整弁１４が設けられたうえ、先端部
にガス排気用のロータリーポンプ１５が接続されてい
る。また、気体導入管８の先端部の分岐する点において
はガスの圧力を測定する検出器１６、即ち、隔膜真空計
が設けられている。
しながら説明する。この発明の実施例の静電吸着装置は
図１に示されている。同図において、冷却水配管等の冷
却機構１ａを備えたアルミニウム製の基体１の上部に
は、アルミナ製の絶縁物４ａ、４ｂと、これらの絶縁物
４ａ、４ｂによって覆われている所定の間隔で並設され
た一対の電極２ａ、２ｂとで構成された静電チャック３
が設けられている。一対の電極２ａ、２ｂ間には直流電
源６が接続され、この直流電源６より一対の電極２ａ、
２ｂに電位を与えると、静電チャック３に静電気が発生
して、静電チャック３の絶縁物４ａの表面にシリコンウ
エハ等の被処理物５が吸着されるようになる。静電チャ
ック３の絶縁物４ａ、４ｂには熱伝導効率を高めるため
のガスを噴出する気体噴出孔７が設けられ、この気体噴
出孔７より噴出したガスは静電チャック３の絶縁物４ａ
と被処理物５との隙間を流れるようになっている。気体
導入管８の途中にはガスの流量を調節するためのマスフ
ローコントローラ９と圧空バルブの開閉弁１０とが設け
られ、更に、気体導入管８はその先端部において気体噴
出管１１と気体排気管１２とに分岐されている。気体噴
出管１１はその途中においてストップバルブの開閉弁１
３が設けられたうえ、先端部が気体噴出孔７に接続され
ている。一方、気体排気管１２はその途中においてニー
ルドバルブの流量調整弁１４が設けられたうえ、先端部
にガス排気用のロータリーポンプ１５が接続されてい
る。また、気体導入管８の先端部の分岐する点において
はガスの圧力を測定する検出器１６、即ち、隔膜真空計
が設けられている。
【０００９】このような実施例において、ガスとして用
いられているヘリウムはマスフローコントローラ９で１
０ｓｃｃｍの流量に設定され、また、ガス排気用のロー
タリーポンプ１５は排気速度を２０リットル／ｍｉｎに
している。更に、開閉弁１０を開け、開閉弁１３を閉じ
たとき、検出器１６で測定する圧力が平衡状態で１０．
０Ｔｏｒｒになるようにニールドバルブの流量調整弁１
４を調整する。そして、開閉弁１０と開閉弁１３とを共
に閉じた場合、検出器１６で測定する圧力が下がり、平
衡状態で０．４Ｔｏｒｒ以下になるようにする。なお、
静電チャック３を配置している真空室（図示せず）内圧
力は２×１０-5Ｔｏｒｒ以下である。
いられているヘリウムはマスフローコントローラ９で１
０ｓｃｃｍの流量に設定され、また、ガス排気用のロー
タリーポンプ１５は排気速度を２０リットル／ｍｉｎに
している。更に、開閉弁１０を開け、開閉弁１３を閉じ
たとき、検出器１６で測定する圧力が平衡状態で１０．
０Ｔｏｒｒになるようにニールドバルブの流量調整弁１
４を調整する。そして、開閉弁１０と開閉弁１３とを共
に閉じた場合、検出器１６で測定する圧力が下がり、平
衡状態で０．４Ｔｏｒｒ以下になるようにする。なお、
静電チャック３を配置している真空室（図示せず）内圧
力は２×１０-5Ｔｏｒｒ以下である。
【００１０】次に、図２は実施例の静電チャック３の絶
縁物４ａの表面に被処理物５が正常に静電吸着されてい
る場合と、反対に正常に静電吸着されていない場合との
一例を示している。図中、横軸は時間、縦軸は検出器１
６で測定する圧力を示し、正常な静電吸着の場合を実線
で示し、正常でない静電吸着の場合を点線で示してい
る。
縁物４ａの表面に被処理物５が正常に静電吸着されてい
る場合と、反対に正常に静電吸着されていない場合との
一例を示している。図中、横軸は時間、縦軸は検出器１
６で測定する圧力を示し、正常な静電吸着の場合を実線
で示し、正常でない静電吸着の場合を点線で示してい
る。
【００１１】最初、実線で示される正常な静電吸着の場
合について説明する。まず、開閉弁１０を開け、開閉弁
１３を閉じ、時間が０になるまでは、圧力は平衡状態に
あり、検出器１６で測定される圧力は１０．０Ｔｏｒｒ
であるが、開閉弁１３より先の気体噴出孔７内の圧力は
少なくとも０．４Ｔｏｒｒ以下になっている。この状態
で直流電源６の電圧を３ＫＶにし、静電チャック３の絶
縁物４ａの表面に被処理物５を正常に静電吸着したと仮
定する。次に、時間が０のときに開閉弁１３を開ける
と、ガスは開閉弁１３を通って気体噴出孔７の方向に流
れようとするが、これまで気体噴出孔７内の圧力が少な
くとも０．４Ｔｏｒｒ以下になってため、検出器１６で
測定される圧力は一旦下がるようになる。しかしなが
ら、静電チャック３の絶縁物４ａの表面に被処理物５を
正常に静電吸着しているので、静電チャック３の絶縁物
４ａと被処理物５との間の隙間が極めて狭いため、この
隙間より真空室側に漏れるガスの漏れ量はほとんどな
い。そのため、検出器１６で測定される圧力は再び平衡
状態になり、１０．０Ｔｏｒｒになる。
合について説明する。まず、開閉弁１０を開け、開閉弁
１３を閉じ、時間が０になるまでは、圧力は平衡状態に
あり、検出器１６で測定される圧力は１０．０Ｔｏｒｒ
であるが、開閉弁１３より先の気体噴出孔７内の圧力は
少なくとも０．４Ｔｏｒｒ以下になっている。この状態
で直流電源６の電圧を３ＫＶにし、静電チャック３の絶
縁物４ａの表面に被処理物５を正常に静電吸着したと仮
定する。次に、時間が０のときに開閉弁１３を開ける
と、ガスは開閉弁１３を通って気体噴出孔７の方向に流
れようとするが、これまで気体噴出孔７内の圧力が少な
くとも０．４Ｔｏｒｒ以下になってため、検出器１６で
測定される圧力は一旦下がるようになる。しかしなが
ら、静電チャック３の絶縁物４ａの表面に被処理物５を
正常に静電吸着しているので、静電チャック３の絶縁物
４ａと被処理物５との間の隙間が極めて狭いため、この
隙間より真空室側に漏れるガスの漏れ量はほとんどな
い。そのため、検出器１６で測定される圧力は再び平衡
状態になり、１０．０Ｔｏｒｒになる。
【００１２】次に、点線で示される正常でない静電吸着
の場合について説明する。まず、開閉弁１０を開け、開
閉弁１３を閉じ、時間が０になるまでは、圧力は平衡状
態にあり、検出器１６で測定される圧力は１０．０Ｔｏ
ｒｒであるが、開閉弁１３より先の気体噴出孔７内の圧
力は少なくとも０．４Ｔｏｒｒ以下になっている。この
状態で直流電源６の電圧を０ＫＶにすれば、静電チャッ
ク３の絶縁物４ａの表面に被処理物５を静電吸着しなく
なる。この状態で、時間が０のときに開閉弁１３を開け
ると、ガスは開閉弁１３を通って気体噴出孔７の方向に
流れようとするが、これまで気体噴出孔７内の圧力が少
なくとも０．４Ｔｏｒｒ以下になっていたため、検出器
１６で測定される圧力は下がるようになる。その後、静
電チャック３の絶縁物４ａの表面に被処理物５を静電吸
着していないため、静電チャック３の絶縁物４ａと被処
理物５との間の隙間よりガスが真空室側に漏れる量が多
くなる。そのため、検出器１６で測定される圧力は１
０．０Ｔｏｒｒ以下で平衡状態になり、３．５Ｔｏｒｒ
になる。
の場合について説明する。まず、開閉弁１０を開け、開
閉弁１３を閉じ、時間が０になるまでは、圧力は平衡状
態にあり、検出器１６で測定される圧力は１０．０Ｔｏ
ｒｒであるが、開閉弁１３より先の気体噴出孔７内の圧
力は少なくとも０．４Ｔｏｒｒ以下になっている。この
状態で直流電源６の電圧を０ＫＶにすれば、静電チャッ
ク３の絶縁物４ａの表面に被処理物５を静電吸着しなく
なる。この状態で、時間が０のときに開閉弁１３を開け
ると、ガスは開閉弁１３を通って気体噴出孔７の方向に
流れようとするが、これまで気体噴出孔７内の圧力が少
なくとも０．４Ｔｏｒｒ以下になっていたため、検出器
１６で測定される圧力は下がるようになる。その後、静
電チャック３の絶縁物４ａの表面に被処理物５を静電吸
着していないため、静電チャック３の絶縁物４ａと被処
理物５との間の隙間よりガスが真空室側に漏れる量が多
くなる。そのため、検出器１６で測定される圧力は１
０．０Ｔｏｒｒ以下で平衡状態になり、３．５Ｔｏｒｒ
になる。
【００１３】このように検出器１６で測定される圧力の
変動を測定することによって、絶縁物４ａの表面に被処
理物５を静電吸着しているか否かを判別している。
変動を測定することによって、絶縁物４ａの表面に被処
理物５を静電吸着しているか否かを判別している。
【００１４】なお、上記実施例の開閉弁１０にストップ
バルブや電磁弁を用いてもよく、また、開閉弁１３に圧
空バルブや電磁弁を用いてもよい。更に、検出器１６に
ピラニ真空計や熱電対型真空計などを用いてもよい。ガ
スは熱伝導率の大きいヘリウムを使用しているが、これ
に限ることなく、使用温度で凝縮しないものであれば、
効率の大小があっても、如何なる種類のものを使用して
もよい。
バルブや電磁弁を用いてもよく、また、開閉弁１３に圧
空バルブや電磁弁を用いてもよい。更に、検出器１６に
ピラニ真空計や熱電対型真空計などを用いてもよい。ガ
スは熱伝導率の大きいヘリウムを使用しているが、これ
に限ることなく、使用温度で凝縮しないものであれば、
効率の大小があっても、如何なる種類のものを使用して
もよい。
【００１５】更に、上記実施例は検出器１６に圧力計を
使用しているが、この代わりに、流量計を用い、圧力を
一定にした場合の流量変動を測定して、絶縁物４ａの表
面に被処理物５を静電吸着しているか否かを判別しても
よい。また、開閉弁１０を開したうえ、開閉弁１３から
気体噴出孔７に至るまでを真空にした場合には、開閉弁
１３の開閉操作によって変動する開閉弁１３を流れる流
量を測定して、絶縁物４ａの表面に被処理物５を静電吸
着しているか否かを判別してもよい。
使用しているが、この代わりに、流量計を用い、圧力を
一定にした場合の流量変動を測定して、絶縁物４ａの表
面に被処理物５を静電吸着しているか否かを判別しても
よい。また、開閉弁１０を開したうえ、開閉弁１３から
気体噴出孔７に至るまでを真空にした場合には、開閉弁
１３の開閉操作によって変動する開閉弁１３を流れる流
量を測定して、絶縁物４ａの表面に被処理物５を静電吸
着しているか否かを判別してもよい。
【００１６】ところで、上記実施例の静電吸着装置はド
ライエッチング装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリ
ング装置、イオン注入装置、蒸着装置等にも利用できる
ことはいうまでもない。
ライエッチング装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリ
ング装置、イオン注入装置、蒸着装置等にも利用できる
ことはいうまでもない。
【００１７】
【発明の効果】この発明においては、上記のように気体
噴出管の第２開閉弁を閉から開にしたときの分岐した点
における気体の圧力又は流量の変化を検出器で測定して
いるので、その測定より、絶縁物の表面に被処理物を静
電的に吸着しているか否かを判別することが出来る効果
を奏する。
噴出管の第２開閉弁を閉から開にしたときの分岐した点
における気体の圧力又は流量の変化を検出器で測定して
いるので、その測定より、絶縁物の表面に被処理物を静
電的に吸着しているか否かを判別することが出来る効果
を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施例を示す説明図
【図２】この発明の実施例において気体の圧力の変化を
検出器で測定したグラフ
検出器で測定したグラフ
１・・・・・・・・・・基体 １ａ・・・・・・・・・冷却機構 ２ａ、２ｂ・・・・・・電極 ３・・・・・・・・・・静電チャック ４ａ、４ｂ・・・・・・絶縁物 ５・・・・・・・・・・被処理物 ６・・・・・・・・・・直流電源 ７・・・・・・・・・・気体噴出孔 ８・・・・・・・・・・気体導入管 ９・・・・・・・・・・マスフローコントローラ １０・・・・・・・・・開閉弁 １１・・・・・・・・・気体噴出管 １２・・・・・・・・・気体排気管 １３・・・・・・・・・開閉弁 １４・・・・・・・・・流量調整弁 １５・・・・・・・・・ロータリーポンプ １６・・・・・・・・・検出器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｈ０１Ｌ 21/203 Ｓ 8422−4Ｍ 21/302 Ｂ 9277−4Ｍ (72)発明者 田辺 正文 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 水野 栄一 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 林 俊雄 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】所定の間隔で並設された一対の電極間に電
圧を印加することによって、上記一対の電極を覆う絶縁
物の表面に配置された被処理物を静電的に吸着する静電
吸着装置において、上記被処理物の吸着面側に気体を噴
出させる気体噴出孔を上記絶縁物に設け、途中に流量調
節器と第１開閉弁を設けた気体導入管を気体噴出管と気
体排気管とに分岐し、その気体噴出管の途中に第２開閉
弁を設けたうえ、その気体噴出管を上記気体噴出孔に接
続し、また、上記気体排気管の途中に流量調整弁を設け
たうえ、上記気体排気管に排気ポンプを接続し、更に、
上記分岐したところに検出器を設けたことを特徴とする
静電吸着装置。 - 【請求項２】上記検出器は圧力計であることを特徴とす
る請求項１記載の静電吸着装置。 - 【請求項３】上記検出器は流量計であることを特徴とす
る請求項１記載の静電吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6141892A JPH06140498A (ja) | 1992-02-16 | 1992-02-16 | 静電吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6141892A JPH06140498A (ja) | 1992-02-16 | 1992-02-16 | 静電吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06140498A true JPH06140498A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=13170537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6141892A Pending JPH06140498A (ja) | 1992-02-16 | 1992-02-16 | 静電吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06140498A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002184850A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-06-28 | Rohm Co Ltd | プロセス装置におけるウェハ温度の制御方法 |
| WO2019069531A1 (ja) * | 2017-10-03 | 2019-04-11 | 旭ファイバーグラス株式会社 | 真空断熱材 |
| JP2019161082A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | ヤマハ発動機株式会社 | 基板検出装置及び基板処理装置 |
| CN115255983A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-11-01 | 宁波明德机械自动化有限公司 | 一种汽车轮毂加工用夹具 |
-
1992
- 1992-02-16 JP JP6141892A patent/JPH06140498A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002184850A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-06-28 | Rohm Co Ltd | プロセス装置におけるウェハ温度の制御方法 |
| WO2019069531A1 (ja) * | 2017-10-03 | 2019-04-11 | 旭ファイバーグラス株式会社 | 真空断熱材 |
| JP2019065995A (ja) * | 2017-10-03 | 2019-04-25 | 旭ファイバーグラス株式会社 | 真空断熱材 |
| JP2019161082A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | ヤマハ発動機株式会社 | 基板検出装置及び基板処理装置 |
| CN115255983A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-11-01 | 宁波明德机械自动化有限公司 | 一种汽车轮毂加工用夹具 |
| CN115255983B (zh) * | 2022-07-18 | 2024-04-05 | 杭州邦磊汽车零部件有限公司 | 一种汽车轮毂加工用夹具 |
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