JPH06139984A - 電子顕微鏡の真空リーク機構 - Google Patents
電子顕微鏡の真空リーク機構Info
- Publication number
- JPH06139984A JPH06139984A JP4285680A JP28568092A JPH06139984A JP H06139984 A JPH06139984 A JP H06139984A JP 4285680 A JP4285680 A JP 4285680A JP 28568092 A JP28568092 A JP 28568092A JP H06139984 A JPH06139984 A JP H06139984A
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- JP
- Japan
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- gas
- pressure
- atmospheric pressure
- valve
- vacuum
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- Pending
Links
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 28
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【構成】鏡体１，観察室５，カメラ室６は大気圧時にリ
ークバルブ１２，１３，１４の夫々のバルブを開き、減
圧弁２１により減圧されたＮ2 ガスがＮ2 ガスリーク弁
２０により供給される各部位の大気圧検出は１５，１
６，１７の大気圧検出器で行い、大気圧を検出後Ｎ2 ガ
スリーク弁２０を閉じる事により各部位のＮ2 ガスによ
る異常な圧力上昇を防ぐ事が可能となる。 【効果】鏡体に設けた真空度モニターによってＮ2 ガス
リーク時の圧力上昇を防ぐ事が可能となる為、圧力の異
常上昇に伴い発生するＥＤＸ検出器の破損や、可動部分
の脱落といった問題の解決が図られる。
ークバルブ１２，１３，１４の夫々のバルブを開き、減
圧弁２１により減圧されたＮ2 ガスがＮ2 ガスリーク弁
２０により供給される各部位の大気圧検出は１５，１
６，１７の大気圧検出器で行い、大気圧を検出後Ｎ2 ガ
スリーク弁２０を閉じる事により各部位のＮ2 ガスによ
る異常な圧力上昇を防ぐ事が可能となる。 【効果】鏡体に設けた真空度モニターによってＮ2 ガス
リーク時の圧力上昇を防ぐ事が可能となる為、圧力の異
常上昇に伴い発生するＥＤＸ検出器の破損や、可動部分
の脱落といった問題の解決が図られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子顕微鏡等に用いる、
真空リーク機構の機能向上に係り、特に、電子顕微鏡に
設けられた真空ゲージによって圧力を検出し、これに同
期しＮ2 ガスリーク弁を制御可能な機構を設け、可動部
品の脱落やＥＤＸ検出器の破損防止を目的とする真空リ
ーク機構に関する。
真空リーク機構の機能向上に係り、特に、電子顕微鏡に
設けられた真空ゲージによって圧力を検出し、これに同
期しＮ2 ガスリーク弁を制御可能な機構を設け、可動部
品の脱落やＥＤＸ検出器の破損防止を目的とする真空リ
ーク機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の加圧防止は加圧防止の為、ジャパ
ンコントロールスカタログＮo.Ｃ−８４ＣＲ，９０，９
３Ｍ.Ｐ.Ｄ.Ｋ のようなリリースバルブを設けていたが
構造上一定以上の加圧状態になってしまうといった問題
や、真空排気時にリリースバルブよりの真空洩れ等の問
題が有り使用上の制約があった。
ンコントロールスカタログＮo.Ｃ−８４ＣＲ，９０，９
３Ｍ.Ｐ.Ｄ.Ｋ のようなリリースバルブを設けていたが
構造上一定以上の加圧状態になってしまうといった問題
や、真空排気時にリリースバルブよりの真空洩れ等の問
題が有り使用上の制約があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、リ
リースバルブの構造上の問題があり高真空排気時に真空
洩れを起こす可能性や、リリースバルブのバネ圧によ
り、加圧状態となってしまうといった問題が有った。
リースバルブの構造上の問題があり高真空排気時に真空
洩れを起こす可能性や、リリースバルブのバネ圧によ
り、加圧状態となってしまうといった問題が有った。
【０００４】本発明の目的は、電子顕微鏡に用いるＮ2
ガスリーク機構の機構改善に係り、特に真空ゲージを用
い大気圧検出を行いこれに同期しＮ2 ガスリーク弁を制
御する事により、真空排気容器が加圧状態になる事を解
決する事に有る。
ガスリーク機構の機構改善に係り、特に真空ゲージを用
い大気圧検出を行いこれに同期しＮ2 ガスリーク弁を制
御する事により、真空排気容器が加圧状態になる事を解
決する事に有る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、電子顕微鏡の真空排気容器に真空ゲージを用い大気
圧の検出を行いこの信号に同期し、Ｎ2 ガスリーク弁を
制御する事により達成される。
に、電子顕微鏡の真空排気容器に真空ゲージを用い大気
圧の検出を行いこの信号に同期し、Ｎ2 ガスリーク弁を
制御する事により達成される。
【０００６】
【作用】電子顕微鏡等に用いる真空リーク機構は、真空
リーク時に大気中のガス分子の混入によって、再排気後
これ等のガスが残留する事により、試料汚染源となる
為、Ｎ2 ガスリークを行う様にしている。
リーク時に大気中のガス分子の混入によって、再排気後
これ等のガスが残留する事により、試料汚染源となる
為、Ｎ2 ガスリークを行う様にしている。
【０００７】一方電子顕微鏡の真空排気容器（鏡体）部
にはＥＤＸ検出器や可動部分が組込まれており、Ｎ2 ガ
スによるリークを経続するとＮ2 ガスボンベの圧力まで
加圧されてしまい、ＥＤＸ検出器のウィンドー破損や可
動部分が圧力によって脱落するといった問題が有った。
これ等の問題を解決する手段として、電子顕微鏡の鏡体
に内蔵の真空ゲージにより大気圧の検出を行い、この大
気圧時の信号に同期しＮ2 リークバルブを制御する事に
より、鏡体部の圧力上昇を防止する事が可能となる為、
可動部分の脱落やＥＤＸ検出器のウィンドー破損を防ぐ
事が可能となる。
にはＥＤＸ検出器や可動部分が組込まれており、Ｎ2 ガ
スによるリークを経続するとＮ2 ガスボンベの圧力まで
加圧されてしまい、ＥＤＸ検出器のウィンドー破損や可
動部分が圧力によって脱落するといった問題が有った。
これ等の問題を解決する手段として、電子顕微鏡の鏡体
に内蔵の真空ゲージにより大気圧の検出を行い、この大
気圧時の信号に同期しＮ2 リークバルブを制御する事に
より、鏡体部の圧力上昇を防止する事が可能となる為、
可動部分の脱落やＥＤＸ検出器のウィンドー破損を防ぐ
事が可能となる。
【０００８】
【実施例】以上本発明の一実施例を図１を用いて説明す
る。
る。
【０００９】図１は電子顕微鏡等に用いるＮ2 ガスリー
ク機構のバルブ制御により、可動部の脱落やＥＤＸ検出
器のウィンドー破損防止を図る為の機構図で有る。電子
顕微鏡の鏡体１には試料２より発生したＸ線より元素分
析を行うＥＤＸ検出器８が組込まれている。このＥＤＸ
検出器先端にはＥＤＸ検出器ウィンドー７が有り、Ｂｅ
製の数十μｍの薄膜がはられている。この薄膜のウィン
ドーは、薄膜を薄くする事によってＢｅ膜によるＸ線の
吸収を低減する事が出来る為薄くする程良いが、耐真空
圧に対してこの強度が弱くなってくる。一方試料汚染等
の問題を出来るだけ少なくする為、鏡体各部の真空リー
クはＮ2 ガスを用い、鏡体内部への大気中のガス分子の
流入を極力低減する様な対処を行っている。しかし、Ｎ
2 ガスリーク時に鏡体各部が密封構造となってしまう
為、鏡体各部の状態は差圧状態よりＮ2 ガス圧までの加
圧状態となってしまう為、検出器ウィンドー膜へ異常な
圧力が加わり、ウィンドーの破損といった問題があっ
た。又、鏡体には可動絞り２３が組込まれており電子線
を制御する為のθリングシール構造が成されており、任
意に出し入れが可能となっているが、前述の様Ｎ2 ガス
によるリークを行うと加圧状態となり可動絞りが鏡体よ
り脱落するといった問題も有った。
ク機構のバルブ制御により、可動部の脱落やＥＤＸ検出
器のウィンドー破損防止を図る為の機構図で有る。電子
顕微鏡の鏡体１には試料２より発生したＸ線より元素分
析を行うＥＤＸ検出器８が組込まれている。このＥＤＸ
検出器先端にはＥＤＸ検出器ウィンドー７が有り、Ｂｅ
製の数十μｍの薄膜がはられている。この薄膜のウィン
ドーは、薄膜を薄くする事によってＢｅ膜によるＸ線の
吸収を低減する事が出来る為薄くする程良いが、耐真空
圧に対してこの強度が弱くなってくる。一方試料汚染等
の問題を出来るだけ少なくする為、鏡体各部の真空リー
クはＮ2 ガスを用い、鏡体内部への大気中のガス分子の
流入を極力低減する様な対処を行っている。しかし、Ｎ
2 ガスリーク時に鏡体各部が密封構造となってしまう
為、鏡体各部の状態は差圧状態よりＮ2 ガス圧までの加
圧状態となってしまう為、検出器ウィンドー膜へ異常な
圧力が加わり、ウィンドーの破損といった問題があっ
た。又、鏡体には可動絞り２３が組込まれており電子線
を制御する為のθリングシール構造が成されており、任
意に出し入れが可能となっているが、前述の様Ｎ2 ガス
によるリークを行うと加圧状態となり可動絞りが鏡体よ
り脱落するといった問題も有った。
【００１０】この問題を解決する手段として、鏡体リー
クバルブ１２，観察室リークバルブ１３、及びカメラ室
リークバルブ１４の系統にＮ2 ガス配管２４を接続する
と共に夫々に鏡体大気圧検出１５，観察室大気圧１６，
カメラ室大気圧検出１７等排気構造に応じ大気圧検出器
を設けておく。又、Ｎ2 ガス供給はＮ2 ガスボンベ２２
より減圧弁２１と大気圧検出用真空計１８により制御さ
れるＮ2 ガスリーク弁２０より構成される。鏡体各部は
排気装置ＴＭＰ９や、ＲＰ１０とメインバルブ１１によ
り構成され各部の真空排気を行っている。
クバルブ１２，観察室リークバルブ１３、及びカメラ室
リークバルブ１４の系統にＮ2 ガス配管２４を接続する
と共に夫々に鏡体大気圧検出１５，観察室大気圧１６，
カメラ室大気圧検出１７等排気構造に応じ大気圧検出器
を設けておく。又、Ｎ2 ガス供給はＮ2 ガスボンベ２２
より減圧弁２１と大気圧検出用真空計１８により制御さ
れるＮ2 ガスリーク弁２０より構成される。鏡体各部は
排気装置ＴＭＰ９や、ＲＰ１０とメインバルブ１１によ
り構成され各部の真空排気を行っている。
【００１１】鏡体部の真空リークを行う場合、任意の設
定により該当部のメインバルブ１１をClose 後、該当の
リークバルブ１２，１３，１４をOpenにし、Ｎ2 リーク
ガスリークを開始する。大気圧検出１５，１６，１７の
いずれかが大気圧となった場合、大気圧信号１９を真空
計１８によりＮ2 ガスリーク弁２０を制御（大気圧時に
Ｎ2 ガスリーク弁をCrose とする）する事により、該当
部のＮ2 ガスによる圧力の異常上昇を防ぐ事が可能とな
る。
定により該当部のメインバルブ１１をClose 後、該当の
リークバルブ１２，１３，１４をOpenにし、Ｎ2 リーク
ガスリークを開始する。大気圧検出１５，１６，１７の
いずれかが大気圧となった場合、大気圧信号１９を真空
計１８によりＮ2 ガスリーク弁２０を制御（大気圧時に
Ｎ2 ガスリーク弁をCrose とする）する事により、該当
部のＮ2 ガスによる圧力の異常上昇を防ぐ事が可能とな
る。
【００１２】以上のよう本実施例によれば、Ｎ2 ガスリ
ーク時の鏡体各部の圧力の異常な上昇を大気圧検出器を
設ける事により防ぐ事が可能となり、ＥＤＸ検出器のウ
ィンドーの破損や、可動機構部の脱落といった問題の解
決が図られるといった効果が有る。
ーク時の鏡体各部の圧力の異常な上昇を大気圧検出器を
設ける事により防ぐ事が可能となり、ＥＤＸ検出器のウ
ィンドーの破損や、可動機構部の脱落といった問題の解
決が図られるといった効果が有る。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、電子顕微鏡に用いるＮ
2 ガスリーク機構に於いてリーク時に起こる異常加圧に
より、可動部分やＥＤＸ検出器のウィンドー破損といっ
た問題の解決が図られ、効果は顕著である。
2 ガスリーク機構に於いてリーク時に起こる異常加圧に
より、可動部分やＥＤＸ検出器のウィンドー破損といっ
た問題の解決が図られ、効果は顕著である。
【図１】本発明の一実施例の構成図を示す。
１…鏡体、２…試料、３…観察室バルブ、４…カメラ室
バルブ、５…観察室、６…カメラ室、７…ＥＤＸ検出器
ウィンドー、８…ＥＤＸ検出器、９…ＴＭＰ、１０…Ｒ
Ｐ、１１…メインバルブ、１２…鏡体リークバルブ、１
３…観察室リークバルブ、１４…カメラ室リークバル
ブ、１５…鏡体大気圧検出、１６…観察室大気圧検出、
１７…カメラ室大気圧検出、１８…真空計、１９…大気
圧信号、２０…Ｎ2 ガスリーク弁、２１…減圧弁、２２
…Ｎ2 ガスボンベ、２３…可動絞り、２４…Ｎ2 ガス配
管。
バルブ、５…観察室、６…カメラ室、７…ＥＤＸ検出器
ウィンドー、８…ＥＤＸ検出器、９…ＴＭＰ、１０…Ｒ
Ｐ、１１…メインバルブ、１２…鏡体リークバルブ、１
３…観察室リークバルブ、１４…カメラ室リークバル
ブ、１５…鏡体大気圧検出、１６…観察室大気圧検出、
１７…カメラ室大気圧検出、１８…真空計、１９…大気
圧信号、２０…Ｎ2 ガスリーク弁、２１…減圧弁、２２
…Ｎ2 ガスボンベ、２３…可動絞り、２４…Ｎ2 ガス配
管。
Claims (1)
- 【請求項１】電子顕微鏡等に用いる真空リーク機構に於
いて、Ｎ2 ガスリークを行う場合、真空排気容器に組込
まれた真空ゲージよりの信号によりＮ2 ガスリーク弁を
制御し、可動部分の脱落やＥＤＸ検出器の破損を防止す
る事を特徴とする電子顕微鏡の真空リーク機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4285680A JPH06139984A (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | 電子顕微鏡の真空リーク機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4285680A JPH06139984A (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | 電子顕微鏡の真空リーク機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06139984A true JPH06139984A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17694660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4285680A Pending JPH06139984A (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | 電子顕微鏡の真空リーク機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06139984A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009540512A (ja) * | 2006-06-07 | 2009-11-19 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | 小型の走査型電子顕微鏡 |
| US8598524B2 (en) | 2006-06-07 | 2013-12-03 | Fei Company | Slider bearing for use with an apparatus comprising a vacuum chamber |
-
1992
- 1992-10-23 JP JP4285680A patent/JPH06139984A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009540512A (ja) * | 2006-06-07 | 2009-11-19 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | 小型の走査型電子顕微鏡 |
| US8309921B2 (en) | 2006-06-07 | 2012-11-13 | Fei Company | Compact scanning electron microscope |
| US8598524B2 (en) | 2006-06-07 | 2013-12-03 | Fei Company | Slider bearing for use with an apparatus comprising a vacuum chamber |
| US9025018B2 (en) | 2006-06-07 | 2015-05-05 | Fei Company | User interface for an electron microscope |
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