JPH06128763A - 反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装置 - Google Patents
反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装置Info
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- JPH06128763A JPH06128763A JP27455792A JP27455792A JPH06128763A JP H06128763 A JPH06128763 A JP H06128763A JP 27455792 A JP27455792 A JP 27455792A JP 27455792 A JP27455792 A JP 27455792A JP H06128763 A JPH06128763 A JP H06128763A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 形状，大きさの異なる多種多様な供試体に対
して柔軟に対応できると共に空気の流通性を良好にした
反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止
装置を提供する。 【構成】 下部電極１上に供試体Ｓを載置すると共に供
試体Ｓの上方に上部電極３を設け、この上部電極３と前
記下部電極１との間で反応性イオンを発生させることに
より、前記供試体Ｓのエッチング部にエッチング処理を
行う反応性イオンエッチング装置であって、前記下部電
極１上に載置された供試体Ｓを囲繞すべく、外周に適宜
な間隔で複数の脚５Ａを、かつほぼ中央部に開口部５Ｂ
を備えた電極カバー５を着脱可能に設け、この電極カバ
ー５の開口部５Ｂの内側下面で前記供試体Ｓのエッチン
グ部ＳＥを押えると共に、電極カバー５の開口部５Ｂに
前記供試体Ｓのエッチング部ＳＥに対応した部分に開口
部７Ａを備えたマスク７を前記供試体Ｓを押えるべく着
脱可能に装着してなることを特徴とする。
して柔軟に対応できると共に空気の流通性を良好にした
反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止
装置を提供する。 【構成】 下部電極１上に供試体Ｓを載置すると共に供
試体Ｓの上方に上部電極３を設け、この上部電極３と前
記下部電極１との間で反応性イオンを発生させることに
より、前記供試体Ｓのエッチング部にエッチング処理を
行う反応性イオンエッチング装置であって、前記下部電
極１上に載置された供試体Ｓを囲繞すべく、外周に適宜
な間隔で複数の脚５Ａを、かつほぼ中央部に開口部５Ｂ
を備えた電極カバー５を着脱可能に設け、この電極カバ
ー５の開口部５Ｂの内側下面で前記供試体Ｓのエッチン
グ部ＳＥを押えると共に、電極カバー５の開口部５Ｂに
前記供試体Ｓのエッチング部ＳＥに対応した部分に開口
部７Ａを備えたマスク７を前記供試体Ｓを押えるべく着
脱可能に装着してなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、反応性イオンエッチ
ング装置における供試体の汚染防止装置に関する。
ング装置における供試体の汚染防止装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】反応性イオンエッチング装置は、イオン
を電界，磁界により加速させてその衝撃で供試体を食刻
する装置として使用されており、半導体製造時の異常解
析検査などに広く利用されている。
を電界，磁界により加速させてその衝撃で供試体を食刻
する装置として使用されており、半導体製造時の異常解
析検査などに広く利用されている。
【０００３】通常、供試体を載置する部分、すなわち、
下部電極はエッチングの均質性を考慮して供試体よりも
大きくしてある。そのために供試体以外の下部電極など
も同時にイオン衝撃に曝されている。しかも、イオンは
衝突した相手と化学的な反応を起すと同時に衝突の力学
的エネルギーによって相手を削り取るため、削り取られ
た物質は周囲に飛び散ることになる。
下部電極はエッチングの均質性を考慮して供試体よりも
大きくしてある。そのために供試体以外の下部電極など
も同時にイオン衝撃に曝されている。しかも、イオンは
衝突した相手と化学的な反応を起すと同時に衝突の力学
的エネルギーによって相手を削り取るため、削り取られ
た物質は周囲に飛び散ることになる。
【０００４】また、反応性イオンは、供試体と化学反応
を起こして揮発性の物質を生成するように選ばれるが、
下部電極を構成する材質とは化学反応を起こさない、す
なわち、化学反応を起こさないように下部電極の材質は
選ばれる。
を起こして揮発性の物質を生成するように選ばれるが、
下部電極を構成する材質とは化学反応を起こさない、す
なわち、化学反応を起こさないように下部電極の材質は
選ばれる。
【０００５】しかしながら、削り取られた下部電極の材
質は飛び散って当然供試体の表面にも降りそそぐことに
なり、供試体の表面が汚染される。汚染の原因となる材
質はイオンと結合して揮発性物質にならないため、エッ
チングされた供試体の表面はムラを生じることになる。
この場合、草が生えているように見えるため、いわゆる
ＲＩＥ ＧＲＡＳＳと呼ばれている（Reative Ion Etch
GRASS）。
質は飛び散って当然供試体の表面にも降りそそぐことに
なり、供試体の表面が汚染される。汚染の原因となる材
質はイオンと結合して揮発性物質にならないため、エッ
チングされた供試体の表面はムラを生じることになる。
この場合、草が生えているように見えるため、いわゆる
ＲＩＥ ＧＲＡＳＳと呼ばれている（Reative Ion Etch
GRASS）。
【０００６】汚染発生源として下部電極について上述し
たが、エッチング対象が集積回路の最終製品の場合は、
リードフレーム，ボンディングワイヤ，パッケージも汚
染源になり得るのである。
たが、エッチング対象が集積回路の最終製品の場合は、
リードフレーム，ボンディングワイヤ，パッケージも汚
染源になり得るのである。
【０００７】この汚染を防止する手段としては、下部電
極のみならず、供試体のうちエッチングしない部分をす
べて、削り取られない材質またはイオンと化学反応して
揮発性の物質に変わる材質で覆う必要がある。
極のみならず、供試体のうちエッチングしない部分をす
べて、削り取られない材質またはイオンと化学反応して
揮発性の物質に変わる材質で覆う必要がある。
【０００８】そこで、従来、供試体が集積回路の最終製
品の場合には、図９に示されているような汚染カバーが
知られている。すなわち、図９において下部電極１０１
のほぼ中央部に供試体Ｓを載置すると共に、ポリカーボ
ネート製のキャップ１０３と、石英製の円盤１０５に供
試体Ｓ用の穴を開けた汚染防止カバーが知られている。
品の場合には、図９に示されているような汚染カバーが
知られている。すなわち、図９において下部電極１０１
のほぼ中央部に供試体Ｓを載置すると共に、ポリカーボ
ネート製のキャップ１０３と、石英製の円盤１０５に供
試体Ｓ用の穴を開けた汚染防止カバーが知られている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の汚染防止カバーの構造では、供試体Ｓの大きさと形
状が異なる場合には、ポリカーボネート製のキャップ１
０３および石英製の円盤１０５をその都度作り直さなけ
ればならない。すなわち、供試体Ｓの大きさと形状にあ
った汚染防止カバーを沢山あらかじめ準備しておく必要
がある。
来の汚染防止カバーの構造では、供試体Ｓの大きさと形
状が異なる場合には、ポリカーボネート製のキャップ１
０３および石英製の円盤１０５をその都度作り直さなけ
ればならない。すなわち、供試体Ｓの大きさと形状にあ
った汚染防止カバーを沢山あらかじめ準備しておく必要
がある。
【００１０】また、従来の汚染防止カバーの構造は、供
試体Ｓをポリカーボネート製のキャップ１０３で包み込
む形状となっているので、前記キャップ１０３の内外の
空気の流通が悪い。すなわち、反応性イオンエッチング
装置は低圧力の真空ポンプを使用しているため、空気の
流通をよくする必要がある。勿論過大な真空ポンプを使
用すれば実用上差し支えないが、高コストとなり経済的
でない。
試体Ｓをポリカーボネート製のキャップ１０３で包み込
む形状となっているので、前記キャップ１０３の内外の
空気の流通が悪い。すなわち、反応性イオンエッチング
装置は低圧力の真空ポンプを使用しているため、空気の
流通をよくする必要がある。勿論過大な真空ポンプを使
用すれば実用上差し支えないが、高コストとなり経済的
でない。
【００１１】この発明の目的は、上記問題点を改善する
ために、形状，大きさの異なる多種多様な供試体に対し
て柔軟に対応できると共に空気の流通性を良好にした反
応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装
置を提供することにある。
ために、形状，大きさの異なる多種多様な供試体に対し
て柔軟に対応できると共に空気の流通性を良好にした反
応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装
置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この第１発明は、下部電極上に供試体を載置すると
共に供試体の上方に上部電極を設け、この上部電極と前
記下部電極との間で反応性イオンを発生させることによ
り、前記供試体のエッチング部にエッチング処理を行う
反応性イオンエッチング装置であって、前記下部電極上
に載置された供試体を囲繞すべく、外周に適宜な間隔で
複数の脚を、かつほぼ中央部に開口部を備えた電極カバ
ーを着脱可能に設け、この電極カバーの開口部の内側下
面で前記供試体のエッチング部を押えると共に、電極カ
バーの開口部に前記供試体のエッチング部に対応した部
分に開口部を備えたマスクを前記供試体を押えるべく着
脱可能に装着して反応性イオンエッチング装置における
供試体の汚染防止装置を構成した。
に、この第１発明は、下部電極上に供試体を載置すると
共に供試体の上方に上部電極を設け、この上部電極と前
記下部電極との間で反応性イオンを発生させることによ
り、前記供試体のエッチング部にエッチング処理を行う
反応性イオンエッチング装置であって、前記下部電極上
に載置された供試体を囲繞すべく、外周に適宜な間隔で
複数の脚を、かつほぼ中央部に開口部を備えた電極カバ
ーを着脱可能に設け、この電極カバーの開口部の内側下
面で前記供試体のエッチング部を押えると共に、電極カ
バーの開口部に前記供試体のエッチング部に対応した部
分に開口部を備えたマスクを前記供試体を押えるべく着
脱可能に装着して反応性イオンエッチング装置における
供試体の汚染防止装置を構成した。
【００１３】また、この第２の発明は、下部電極上に供
試体を載置すると共に供試体の上方に上部電極を設け、
この上部電極と前記下部電極との間で反応性イオンを発
生させることにより、前記供試体のエッチング部にエッ
チング処理を行う反応性イオンエッチング装置であっ
て、前記供試体のエッチング部に対応した部分に開口部
を備えたマスクを前記供試体上に載置し、前記下部電極
上に載置された供試体を囲繞すべく、外周に適宜な間隔
で複数の脚を、かつほぼ中央部に開口部を備えた電極カ
バーを着脱可能に設け、この電極カバーの開口部に、前
記マスクの開口部より大きな開口部を備えてなると共に
前記マスクを上方から押える高さ調整ダクトを着脱可能
に装着して反応性イオンエッチング装置における供試体
の汚染防止装置を構成した。
試体を載置すると共に供試体の上方に上部電極を設け、
この上部電極と前記下部電極との間で反応性イオンを発
生させることにより、前記供試体のエッチング部にエッ
チング処理を行う反応性イオンエッチング装置であっ
て、前記供試体のエッチング部に対応した部分に開口部
を備えたマスクを前記供試体上に載置し、前記下部電極
上に載置された供試体を囲繞すべく、外周に適宜な間隔
で複数の脚を、かつほぼ中央部に開口部を備えた電極カ
バーを着脱可能に設け、この電極カバーの開口部に、前
記マスクの開口部より大きな開口部を備えてなると共に
前記マスクを上方から押える高さ調整ダクトを着脱可能
に装着して反応性イオンエッチング装置における供試体
の汚染防止装置を構成した。
【００１４】
【作用】この発明の反応性イオンエッチング装置におけ
る供試体の汚染防止装置を採用することにより、下部電
極上に供試体を載置すると共に、供試体の上方に設けら
れた上部電極と前記下部電極との間で反応性イオンを発
生させることにより、供試体の一部にエッチング処理が
行われて良好なエッチング部が得られる。
る供試体の汚染防止装置を採用することにより、下部電
極上に供試体を載置すると共に、供試体の上方に設けら
れた上部電極と前記下部電極との間で反応性イオンを発
生させることにより、供試体の一部にエッチング処理が
行われて良好なエッチング部が得られる。
【００１５】この第１の発明によれば、供試体の高さが
同じで形状が異なる場合に使用され、供試体を囲繞して
下部電極上に適宜な間隔で複数の脚を備えた電極カバー
が着脱可能に設けられる。この電極カバーのほぼ中央部
に設けられた開口部にマスクを装着することによって、
供試体がマスクで押えられる。しかも、マスクに設けら
れた開口部によって、供試体の一部のみがエッチング部
としてエッチング処理され、エッチング部以外の供試体
の部分はマスク並びに電極カバーでカバーされるためエ
ッチング処理が施されない。そのために、エッチング処
理により削り取られた物質は、下部電極および供試体の
エッチング部以外の部分には飛び散らないから汚染され
ることから防止される。しかも、複数の脚間には穴が形
成されているので電極カバーにおける内外の空気の流通
はよい。さらに、供試体の形状変化に対してはマスクの
みを取り換えることによって対応できる。
同じで形状が異なる場合に使用され、供試体を囲繞して
下部電極上に適宜な間隔で複数の脚を備えた電極カバー
が着脱可能に設けられる。この電極カバーのほぼ中央部
に設けられた開口部にマスクを装着することによって、
供試体がマスクで押えられる。しかも、マスクに設けら
れた開口部によって、供試体の一部のみがエッチング部
としてエッチング処理され、エッチング部以外の供試体
の部分はマスク並びに電極カバーでカバーされるためエ
ッチング処理が施されない。そのために、エッチング処
理により削り取られた物質は、下部電極および供試体の
エッチング部以外の部分には飛び散らないから汚染され
ることから防止される。しかも、複数の脚間には穴が形
成されているので電極カバーにおける内外の空気の流通
はよい。さらに、供試体の形状変化に対してはマスクの
みを取り換えることによって対応できる。
【００１６】また、第２の発明によれば、供試体の高さ
が異なり、かつ形状が異なる場合に使用され、供試体を
囲繞して下部電極上に適宜間隔で複数の脚を備えた電極
カバーが着脱可能に設けられる。また、供試体上にマス
クが載置される。そして、電極カバーに設けられた開口
部から高さ調整ダクトが装着されるマスクを上方から押
える。調整ダクトおよびマスクにあけられた開口部によ
って供試体の一部のみがエッチング部としてエッチング
処理され、エッチング部以外の供試体の部分はマスク並
びに電極カバーでカバーされるため、エッチング処理が
施されない。しかも、第１の発明と同様に汚染防止が図
られると共に、空気の流通性が良好である。調整ダクト
を用いているので、供試体の高さが異なっても対応でき
るものである。
が異なり、かつ形状が異なる場合に使用され、供試体を
囲繞して下部電極上に適宜間隔で複数の脚を備えた電極
カバーが着脱可能に設けられる。また、供試体上にマス
クが載置される。そして、電極カバーに設けられた開口
部から高さ調整ダクトが装着されるマスクを上方から押
える。調整ダクトおよびマスクにあけられた開口部によ
って供試体の一部のみがエッチング部としてエッチング
処理され、エッチング部以外の供試体の部分はマスク並
びに電極カバーでカバーされるため、エッチング処理が
施されない。しかも、第１の発明と同様に汚染防止が図
られると共に、空気の流通性が良好である。調整ダクト
を用いているので、供試体の高さが異なっても対応でき
るものである。
【００１７】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１８】図１，図２および図３に示されているよう
に、反応性イオンエッチング装置における図示省略のベ
ース上には例えばカソードからなる下部電極１が設けら
れていると共に、この下部電極１上にはエッチング処理
されるＩ．Ｃチップなどの供試体Ｓが載置されている。
この供試体Ｓの上方には例えばアノードからなる上部電
極３が設けられている。
に、反応性イオンエッチング装置における図示省略のベ
ース上には例えばカソードからなる下部電極１が設けら
れていると共に、この下部電極１上にはエッチング処理
されるＩ．Ｃチップなどの供試体Ｓが載置されている。
この供試体Ｓの上方には例えばアノードからなる上部電
極３が設けられている。
【００１９】この上部電極３と下部電極１との間で反応
性イオンを発生させることにより、供試体Ｓの一部にエ
ッチング処理が行われて、エッチング部ＳＥが得られる
ものである。
性イオンを発生させることにより、供試体Ｓの一部にエ
ッチング処理が行われて、エッチング部ＳＥが得られる
ものである。
【００２０】前記下部電極１上には前記供試体Ｓを囲繞
すべく例えばフッ素樹脂製からなる円盤状の電極カバー
５が着脱可能に設けられている。この電極カバー５の外
周部には適宜な間隔で複数（本実施例では４本）の脚５
Ａが備えられている。この各脚５Ａが前記下部電極１の
外周部に係脱されている。
すべく例えばフッ素樹脂製からなる円盤状の電極カバー
５が着脱可能に設けられている。この電極カバー５の外
周部には適宜な間隔で複数（本実施例では４本）の脚５
Ａが備えられている。この各脚５Ａが前記下部電極１の
外周部に係脱されている。
【００２１】しかも、電極カバー５のほぼ中央部には開
口部５Ｂが形成されている。この開口部５Ｂの内側の下
面５Ｃが前記供試体Ｓの外側上面を押えているものであ
る。
口部５Ｂが形成されている。この開口部５Ｂの内側の下
面５Ｃが前記供試体Ｓの外側上面を押えているものであ
る。
【００２２】前記電極カバー５の開口部５Ｂには例えば
図４に示されているようなフッ素樹脂製からなる矩形状
のマスク７が着脱可能に装着されている。しかも、この
マスク７のほぼ中央部には開口部７Ａが形成されてい
る。
図４に示されているようなフッ素樹脂製からなる矩形状
のマスク７が着脱可能に装着されている。しかも、この
マスク７のほぼ中央部には開口部７Ａが形成されてい
る。
【００２３】上記構成により、マスク７に形成された開
口部７Ａによって供試体Ｓにエッチング処理が行われて
供試体Ｓの一部にエッチング部ＳＥを得ることができ
る。エッチング部ＳＥ以外の表面は、マスク７および電
極カバー５によってカバーされているから、エッチング
処理されることなく、かつ削り取られた物質が飛び散ら
ず付着することはなく、汚染されることを防止すること
ができる。
口部７Ａによって供試体Ｓにエッチング処理が行われて
供試体Ｓの一部にエッチング部ＳＥを得ることができ
る。エッチング部ＳＥ以外の表面は、マスク７および電
極カバー５によってカバーされているから、エッチング
処理されることなく、かつ削り取られた物質が飛び散ら
ず付着することはなく、汚染されることを防止すること
ができる。
【００２４】また、電極カバー５の外周には適宜な間隔
で複数の脚５Ａが設けられているために、図３に示され
ているように、下部電極１と電極カバー５の間には穴９
が形成され、電極カバー５の内外に空気を流通させるこ
とができる。したがって、反応性イオンエッチング装置
における真空ポンプを大型にすることなく、通常使用さ
れている低圧力の真空ポンプを使用することができる。
で複数の脚５Ａが設けられているために、図３に示され
ているように、下部電極１と電極カバー５の間には穴９
が形成され、電極カバー５の内外に空気を流通させるこ
とができる。したがって、反応性イオンエッチング装置
における真空ポンプを大型にすることなく、通常使用さ
れている低圧力の真空ポンプを使用することができる。
【００２５】供試体Ｓの高さが同じであれば、供試体Ｓ
の形状に応じて、開口部７Ａの異なったマスク７のみ取
り換えることによって対応させることができる。
の形状に応じて、開口部７Ａの異なったマスク７のみ取
り換えることによって対応させることができる。
【００２６】図５〜図７には別の実施例が示されてい
る。図５〜図７において、上記実施例における部品と同
じ部品には同一の符号を付し、異なっている点について
説明する。
る。図５〜図７において、上記実施例における部品と同
じ部品には同一の符号を付し、異なっている点について
説明する。
【００２７】図５〜図７において、下部電極１上に載置
された供試体Ｓを囲繞して電極カバー５が上述の実施例
と同じく着脱可能に設けられている。この電極カバー５
における各脚５Ａの高さは、エッチングすべき対象の多
種多様な供試体Ｓのうち、最大な高さよりも予め高く設
定されている。そして、電極カバー５の開口部５Ｂには
例えばフランジ１１Ｆを備えたフッ素樹脂製からなる中
空角柱形状の高さ調整ダクト１１が着脱可能に装着され
る。この高さ調整ダクト１１の下面は、下部電極１上に
載置された供試体Ｓ上に置かれているマスク７の上面を
押えている。なお、高さ調整ダクト１１のほぼ中央部に
は前記マスク７の開口部７Ａより大きな開口部１１Ａが
形成されている。
された供試体Ｓを囲繞して電極カバー５が上述の実施例
と同じく着脱可能に設けられている。この電極カバー５
における各脚５Ａの高さは、エッチングすべき対象の多
種多様な供試体Ｓのうち、最大な高さよりも予め高く設
定されている。そして、電極カバー５の開口部５Ｂには
例えばフランジ１１Ｆを備えたフッ素樹脂製からなる中
空角柱形状の高さ調整ダクト１１が着脱可能に装着され
る。この高さ調整ダクト１１の下面は、下部電極１上に
載置された供試体Ｓ上に置かれているマスク７の上面を
押えている。なお、高さ調整ダクト１１のほぼ中央部に
は前記マスク７の開口部７Ａより大きな開口部１１Ａが
形成されている。
【００２８】上記構成により、作用並びに効果は上述し
た実施例と同様の作用並びに効果を奏すると共に、供試
体Ｓの高さが種々異なっていても対応でき、マスク７の
みを取り換えればよい。
た実施例と同様の作用並びに効果を奏すると共に、供試
体Ｓの高さが種々異なっていても対応でき、マスク７の
みを取り換えればよい。
【００２９】なお、この発明は、前述した実施例に限定
されることなく、適宜の変更を行うことにより、その他
の態様で実施し得るものである。
されることなく、適宜の変更を行うことにより、その他
の態様で実施し得るものである。
【００３０】
【発明の効果】以上のごとき実施例の説明より理解され
るように、この発明によれば、特許請求の範囲に記載さ
れているとおりの構成であるから、下部電極上に載置さ
れた供試体を囲繞して電極カバーを着脱可能に設けてあ
ると共に、電極カバーの開口部にマスクを着脱可能に装
着してあるから、電極カバー，供試体から削り取られた
物質は、供試体の表面に付着することなく、汚染防止を
図ることができる。
るように、この発明によれば、特許請求の範囲に記載さ
れているとおりの構成であるから、下部電極上に載置さ
れた供試体を囲繞して電極カバーを着脱可能に設けてあ
ると共に、電極カバーの開口部にマスクを着脱可能に装
着してあるから、電極カバー，供試体から削り取られた
物質は、供試体の表面に付着することなく、汚染防止を
図ることができる。
【００３１】電極カバーの外周に適宜な間隔で複数の脚
を備えたことにより、電極カバーと下部電極との間には
穴が形成されるから、電極カバーの内外における空気の
流通性が従来よりも良好となる。したがって、反応性イ
オンエッチング装置に過大な真空ポンプを用いることな
く、従来と同様に低圧力の真空ポンプを用いて対応させ
ることができる。
を備えたことにより、電極カバーと下部電極との間には
穴が形成されるから、電極カバーの内外における空気の
流通性が従来よりも良好となる。したがって、反応性イ
オンエッチング装置に過大な真空ポンプを用いることな
く、従来と同様に低圧力の真空ポンプを用いて対応させ
ることができる。
【００３２】供試体の高さがほぼ同じである場合には供
試体の形状が種々異なっても、マスクのみを取り換える
だけで済み、供試体の高さが異なっている場合には高さ
調整ダクトを電極カバーの開口部に装着することに対応
でき、マスクのみを取り換えるだけで済む。
試体の形状が種々異なっても、マスクのみを取り換える
だけで済み、供試体の高さが異なっている場合には高さ
調整ダクトを電極カバーの開口部に装着することに対応
でき、マスクのみを取り換えるだけで済む。
【図１】この発明の反応性イオンエッチング装置におけ
る供試体の汚染防止装置の一実施例を示す斜視図であ
る。
る供試体の汚染防止装置の一実施例を示す斜視図であ
る。
【図２】図１におけるII−II線に沿った拡大断面図であ
る。
る。
【図３】図１におけるIII −III 線に沿った拡大断面図
である。
である。
【図４】マスクの一例を示す斜視図である。
【図５】図１に代る他の実施例を示す斜視図である。
【図６】図５におけるVI−VI線に沿った拡大断面図であ
る。
る。
【図７】図５におけるVII −VII 線に沿った拡大断面図
である。
である。
【図８】高さ調整ダクトの他の実施例を示す正面図であ
る。
る。
【図９】従来の反応性イオンエッチング装置における汚
染防止装置の正面断面図である。
染防止装置の正面断面図である。
１ 下部電極 ３ 上部電極 ５ 電極カバー ５Ａ 脚 ５Ｂ 開口部 ７ マスク ７Ａ 開口部 ９ 穴 １１ 高さ調整ダクト
Claims (2)
- 【請求項１】 下部電極上に供試体を載置すると共に供
試体の上方に上部電極を設け、この上部電極と前記下部
電極との間で反応性イオンを発生させることにより、前
記供試体のエッチング部にエッチング処理を行う反応性
イオンエッチング装置であって、前記下部電極上に載置
された供試体を囲繞すべく、外周に適宜な間隔で複数の
脚を、かつほぼ中央部に開口部を備えた電極カバーを着
脱可能に設け、この電極カバーの開口部の内側下面で前
記供試体のエッチング部を押えると共に、電極カバーの
開口部に前記供試体のエッチング部に対応した部分に開
口部を備えたマスクを前記供試体を押えるべく着脱可能
に装着してなることを特徴とする反応性イオンエッチン
グ装置における供試体の汚染防止装置。 - 【請求項２】 下部電極上に供試体を載置すると共に供
試体の上方に上部電極を設け、この上部電極と前記下部
電極との間で反応性イオンを発生させることにより、前
記供試体のエッチング部にエッチング処理を行う反応性
イオンエッチング装置であって、前記供試体のエッチン
グ部に対応した部分に開口部を備えたマスクを前記供試
体上に載置し、前記下部電極上に載置された供試体を囲
繞すべく、外周に適宜な間隔で複数の脚を、かつほぼ中
央部に開口部を備えた電極カバーを着脱可能に設け、こ
の電極カバーの開口部に、前記マスクの開口部より大き
な開口部を備えてなると共に前記マスクを上方から押え
る高さ調整ダクトを着脱可能に装着してなることを特徴
とする反応性イオンエッチング装置における供試体の汚
染防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27455792A JPH06128763A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27455792A JPH06128763A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128763A true JPH06128763A (ja) | 1994-05-10 |
Family
ID=17543391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27455792A Pending JPH06128763A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 反応性イオンエッチング装置における供試体の汚染防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06128763A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001230235A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 水晶板のプラズマエッチング装置および水晶板の製造方法並びに水晶板 |
| JP2004193632A (ja) * | 2004-03-22 | 2004-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 水晶板のプラズマエッチング装置 |
-
1992
- 1992-10-13 JP JP27455792A patent/JPH06128763A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001230235A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 水晶板のプラズマエッチング装置および水晶板の製造方法並びに水晶板 |
| JP2004193632A (ja) * | 2004-03-22 | 2004-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 水晶板のプラズマエッチング装置 |
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