JPH06128188A - 塩素化カルボン酸の塩化物の製造方法 - Google Patents
塩素化カルボン酸の塩化物の製造方法Info
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- JPH06128188A JPH06128188A JP2406311A JP40631190A JPH06128188A JP H06128188 A JPH06128188 A JP H06128188A JP 2406311 A JP2406311 A JP 2406311A JP 40631190 A JP40631190 A JP 40631190A JP H06128188 A JPH06128188 A JP H06128188A
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Abstract
として有用な高純度の塩素化カルボン酸塩化物を得る。 【構成】 式 (II) : 【化1】 〔R1 :水素原子またはC1-4 アルキル基、R2 :(C
H2)n (n:2〜4の整数)または -CH2-C(C6H5)
2-〕のラクトンとホスゲンと反応させて式(I): 【化2】 の塩素化カルボン酸塩化物を製造する方法において、触
媒として三置換されたホスフィン酸化物または硫化物を
用いて温度90〜180 ℃で反応を行わせる。
Description
化物の製造方法に関するものである。特に、脂肪族ラク
トンをホスゲン化して塩素化された脂肪族カルボン酸の
塩化物を製造する方法に関するものである。
クトン、特に4−ブチロラクトンを触媒としてのピリジ
ンの存在下で温度 120℃でホスゲン化する塩素化カルボ
ン酸塩化物の製造方法が記載されている。しかし、ヨー
ロッパ特許出願第 253,214号に示されるように、この製
法の結果、特にその第2実施例を再現するのは困難であ
る。
ppes) の論文(「ジャーナル オブオルガニック ケミ
ストリィ(J.Org.Chem.) 」第40巻、第21号、1975年、30
26〜3031頁) では、芳香族オルトクロロメチルベンゾイ
ルクロリドを対応する芳香族ラクトンと過剰量のジクロ
ロトリフェニルホスホランから得ているが、この化合物
は極めてコストの高い実験室試薬であり、しかも不安定
で、特に加水分解され易い。また、この化合物は生成し
た酸塩化物と反応するため、BF3 等のルイス(Lewis)
酸と錯化させた後に使用するのが好ましいため、この方
法はさらに複雑になる。ここに記載のフタリドの転化以
外に、ラクトンを出発原料とする他の実験は全く行われ
ていない。
3,214号では、ブチロラクトン、バレロラクトンまたは
カプロラクトン等のラクトンを第四アンモニウム塩の存
在下、好ましくはさらに塩酸の存在下で高温でホスゲン
化している。しかし、触媒として使用される第4アンモ
ニウム塩が高温では不安定であるためその活性の一部が
失われるという欠点がある。また、多量に使用される塩
酸は高温では腐食性があので、特殊な設備や注意が必要
になり、副反応も起こる。また、ラクトンが重合するの
で、反応媒体を正しく撹拌するのは容易ではなく、分解
によって他の不純物も生成する。従って、この方法を用
いるのは困難で、高い収率を得るためには多数の連続し
た操作が必要である。
植物防護剤を製造するための合成中間体として古くから
研究されてきており、この塩素化カルボン酸塩化物を容
易且つ経済的に高収率で得ることが求められている。さ
らに、これらの塩化物は光安定性と貯蔵安定性に優れて
いなければならない。
欠点のない塩素化カルボン酸塩化物の製造方法を提供す
ることにある。
(II) :
有するアルキル基を表し、R2 は (CH2)n 基(但し、
nは2〜4の整数を表す)または−CH2 −C(C6 H
5 )2 −基を表す)のラクトンをホスゲンと反応させる
ことによって下記の式(I):
素化カルボン酸塩化物を製造する方法において、
なる18個以下の炭素原子を有する直鎖または分岐アルキ
ル基または4個以下の炭素原子を有する1つまたは複数
のアルキル基を有するフェニル基を表し、Xは酸素原子
を表すか、あるいは、Y1 、Y2 およびY3 は互いに同
一または異なる4個以下の炭素原子を有していてもよい
1つまたは複数のアルキル基を有するフェニル基を表し
且つXは硫黄原子を表す)の三置換ホスフィンの酸化物
または硫化物、または、上記式(III) の化合物と塩素化
剤との反応生成物、または、これら化合物の混合物を触
媒として用して、90〜180 ℃の温度で行うことを特徴と
する方法を見出した。
ましいものは、上記の式(II)においてR1 が水素原子ま
たはメチル基であるラクトンであり、例えば4−ブチロ
ラクトン、4−バレロラクトン、5−バレロラクトン、
6−カプロラクトンおよび2,2-ジフェニル−4−ブチロ
ラクトンが挙げられる。
式(III) の化合物において、Y1 、Y2 およびY3 が互
いに同一または異なった12個以下の炭素原子を有する直
鎖または分岐アルキル基、または1つまたは複数のメチ
ル基を有していてもよいフェニル基である化合物であ
る。
剤、例えば塩化オキサリル、塩化チオニル、ホスゲンお
よび五塩化燐との反応生成物に代えることもできる。こ
れらの反応生成物は公知のように各化合物を混合するこ
とによって得られる。
生成物との混合物を用いることもできる。
リブチルホスフィンオキサイド、トリオクチルホスフィ
ンオキサイド、トリドデシルホスフィンオキサイド、ト
リフェニルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフ
ィンスルフィド、トリ−p−トリルホスフィンオキサイ
ドが挙げられる。
クチルホスフィンオキサイドとトリフェニルホスフィン
オキサイドである。
好に実施することができる。触媒量は通常、出発原料の
ラクトンに対して 0.1〜5モル%、好ましくは 0.5〜2.
5 モル%である。
できるが、 120〜160 ℃の範囲が好ましい。
しいが、反応媒体中に存在する化合物、特にホスゲンに
対して不活性な溶媒を添加することもできる。この溶媒
としは、沸点が十分に高い塩素化されたまたは塩素化さ
れていない芳香族溶媒、例えばモノクロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンイ、ソプロピルベンゼンおよびキシレン
を挙げることができる。
される。この過剰量は10〜20%であるのが好ましい。
圧または大気圧に近い圧力で非連続的または連続的に実
施することができる。
トンと、触媒と、必要に応じて用いられる溶媒とを先ず
最初に反応装置に導入する。反応混合物を所定温度まで
加熱した後、ホスゲンガスを徐々に混合物中に吹き込
み、生成した二酸化炭素と過剰量のホスゲンとを冷却器
で冷却する。反応終了時には反応混合物を冷却し、窒素
ガスを流す。生成した塩素化された酸塩化物は通常の方
法、例えば蒸留または結晶化によって単離することがで
きる。
原材料を出発原料として、光安定性および熱安定性に優
れた高純度の塩素化カルボン酸塩化物を高収率で得るこ
とができる。
発明の反応条件下で安定性が高いので1回または複数回
再使用しても効率は同じである。従って、蒸留残留物を
次の操作で再循環すなわち再使用することができる。
間体、例えば塩素化ケトンの製造あるいは神経弛緩剤、
抗アレルゲン剤、抗うつ剤および下痢止め剤等の医薬の
製造または殺虫剤等の植物防護剤の製造に特に有用であ
る。以下、本発明の実施例を説明する。
器を備えたホスゲン化反応装置中に172 g(2モル)の
4−ブチロラクトンと、 5.6g(0.02モル) のトリフェ
ニルホスフィンオキサイドと導入する。この混合物を 1
40℃に加熱し、ホスゲンガスを吹き込む。240 gのホス
ゲンを9時間の反応時間で導入した後、反応混合物を冷
却し、窒素を送って脱気する。減圧蒸留によって4−ク
ロロブチロイルクロリド 233.5gを回収することができ
る。収率は82%である(沸点:82℃、33mmHg)。GPC
分析によって測定したこの塩化物の純度は99%である。
4リットルの反応装置中に 22500g(29モル)の4−ブ
チロラクトンと、80g(0.285 モル) のトリフェニルホ
スフィンオキサイドと導入する。この混合物を 140℃に
加熱し、ホスゲンガスを徐々に導入する。3200g(32.3
モル)のホスゲンを導入して、12時間後に転換を終了す
る。脱気後、減圧蒸留てけ、4−クロロブチロイルクロ
リド3560gが得られる。GPC分析によって測定する純
度は99%である。収率は86%である(沸点:70℃、20mm
Hg) 。
ェニルホスフィンオキサイドを含んだものに相当する実
施例2の操作の反応装置の残留物 500gを実施例2と同
じ型式の容量4リットルの反応装置中に、2500g(29モ
ル)の4−ブチロラクトンを導入する。この混合物を 1
40℃に加熱し、ホスゲンガスをゆっくり導入する。3400
g(34.34モル)のホスゲン導入して、13時間後に転換を
終了する。脱気後、減圧蒸留して4−クロロブチロイル
クロリド3640g(25.8モル)を回収することができる。
純度は98.9% (GPC分析) で、収率は88.9%である
(沸点:70℃、20mmHg)。得られた塩化物の光安定性と
耐候安定性の試験結果は以下の通り:光安定性 APHA着色 温度:20℃ 最初:30 期間:1か月 最終:30耐侯試験器内での安定性 APHA着色 温度:50℃ 最初:30 期間:1か月 最終:30
(2モル)の4−ブチロラクトンと、 7.7g(0.02モ
ル) のトリオクチルホスフィンオキサイドとを反応装置
に導入する。この混合物を 150℃に加熱し、 272gのホ
スゲンガスを15時間導入する。反応混合物を冷却し、脱
気し、減圧蒸留すると、4−クロロブチロイルクロリド
218.6gを回収することができる。純度は98%(GPC
分析)で、収率は76%である(沸点:60℃、14mmHg)。
(2モル)の4−バレロラクトンと、11.2g(0.04モ
ル) のトリフェニルホスフィンオキサイドとを反応装置
に導入する。この混合物を 150℃に加熱し、 268gのホ
スゲンガスを9時間導入する。反応混合物を冷却し、脱
気する。蒸留によって4−クロロメチルブチロイルクロ
リドが単離される(沸点:68℃、18mmHg) 。収率は反応
した4−バレロラクトンに対して70%である
(2モル)の5−バレロラクトンと、11.2g(0.04モ
ル) のトリフェニルホスフィンオキサイドとを反応装置
に導入する。この混合物を 140℃に加熱し、 236gのホ
スゲンガスを5時間導入した後、反応混合物を冷却し、
脱気する。減圧蒸留すると5−クロロバレロイルクロリ
ド 217gが回収できる。純度:99%(GNP分析)。収
率:70%(沸点:59℃、0.25mmHg)。
(2モル)の6−カプロラクトンと、 5.6g(0.02モ
ル) のトリフェニルホスフィンオキサイドとを反応装置
に導入する。この混合物を140 ℃に加熱し、 265gのホ
スゲンガスを徐々に導入する。ラクトンの転換は6時間
後に終了する。減圧蒸留すると6−クロロカプロイルク
ロリド 270gが回収される。純度:99%。収率:70%
(沸点:67℃、 0.3mmHg)。
(0.419 モル)の 2,2−ジフェニル−4−ブチロラクト
ンと、1.15g(4×10-3モル) のトリフェニルホスフィ
ンオキサイドとを反応装置に導入する。この混合物を徐
々に 150℃に加熱し、72gのホスゲンガスをゆっくりと
導入する。15時間の反応後に反応は60%進行する。次い
で、混合物を冷却し、窒素ガスで脱気する。蒸留により
2,2−ジフェニル−4−クロロブチロイルクロリドが得
られる。沸点は 200℃、 0.9mmHgである。
管および冷却器を備えたホスゲン化反応装置中に172 g
(2モル)の4−ブチロラクトンと、 5.9g(0.02モ
ル) のトリフェニルホスフィンスルフィドと導入する。
この混合物を 140℃に加熱し、ホスゲンガスを吹き込
む。ホスゲン 273gを8時間かけて導入した後、反応混
合物を冷却し、窒素で脱気する。減圧蒸留すると4−ク
ロロブチロイルクロリド 200gを回収できる(GNC分
析による純度は99%)。収率は70%である。
(2モル)の4−ブチロラクトンと、 4.4g(0.02モ
ル) のトリブチルホスフィンオキサイドとを反応装置に
導入する。この混合物を 150℃に加熱し、ホスゲンガス
を吹き込む。 280gのホスゲンを15時間かけて導入した
後、反応混合物を冷却し、窒素で脱気する。減圧蒸留に
より4−クロロブチロイルクロリド 171gが回収される
(GNC分析による純度は99%) 。収率は60%である。
Claims (9)
- 【請求項1】下記の式(II): 【化1】 (ここで、R1 は水素原子または1〜4個の炭素原子を
有するアルキル基を表し、R2 は (CH2)n 基(但し、
nは2〜4の整数を表す)または−CH2 −C(C6 H
5 )2 −基を表す)のラクトンをホスゲンと反応させる
ことによって下記の式 (I): 【化2】 (ここで、R1 およびR2 は上記の意味を有する)の塩
素化カルボン酸塩化物を製造する方法において、 上記反応を、下記 (III): 【化3】 (ここで、Y1 、Y2 およびY3 は互いに同一または異
なる18個以下の炭素原子を有する直鎖または分岐アルキ
ル基または4個以下の炭素原子を有する1つまたは複数
のアルキル基を有するフェニル基を表し、Xは酸素原子
を表すか、あるいは、Y1 、Y2 およびY3 は互いに同
一または異なる4個以下の炭素原子を有していてもよい
1つまたは複数のアルキル基を有するフェニル基を表し
且つXは硫黄原子を表す)の三置換ホスフィンの酸化物
または硫化物、または、上記式(III) の化合物と塩素化
剤との反応生成物、または、これら化合物の混合物を触
媒として用して、90〜180 ℃の温度で行うことを特徴と
する方法。 - 【請求項2】上記触媒を、ラクトンに対して0.1 〜5モ
ル%の割合で添加する請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】Y1 、Y2 およびY3 が互いに同一または
異なる12個以下の炭素原子を有する直鎖または分岐アル
キル基または1つまたは複数のメチル基を有するフェニ
ル基である請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】ホスゲンを理論量またはラクトンに対して
10〜20モル%過剰に添加する請求項1〜3のいずれか1
項に記載の方法。 - 【請求項5】触媒がトリオクチルホスフィンオキサイド
またはトリフェニルホスフィンオキサイドである請求項
1〜4のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項6】上記温度が 120〜160 ℃の範囲である請求
項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】上記反応を、反応系内に存在する化合物に
対して不活性な芳香族炭化水素の中から選択される溶媒
の中で実施する請求項1〜6のいずれか1項に記載の方
法。 - 【請求項8】R1 が水素原子またはメチル基を表す請求
項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項9】ラクトンが4−ブチロラクトン、4−バレ
ロラクトン、5−バレロラクトン、6−カプロラクトン
および 2, 2-ジフェニル−4−ブチロラクトンの中から
選択される請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
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