JPH06119992A - プラズマ銃 - Google Patents
プラズマ銃Info
- Publication number
- JPH06119992A JPH06119992A JP4267498A JP26749892A JPH06119992A JP H06119992 A JPH06119992 A JP H06119992A JP 4267498 A JP4267498 A JP 4267498A JP 26749892 A JP26749892 A JP 26749892A JP H06119992 A JPH06119992 A JP H06119992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- gun
- sources
- anode
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
ることができると共に、集束コイルの磁力線によるプラ
ズマへの悪影響を未然に防止することができる新規なプ
ラズマ銃を提供するものである。 【構成】 本発明はプラズマPを発生するプラズマ源3
a,3b,3cと、該プラズマ源3a,3b,3cで発
生したプラズマを引き出すリング状の陽極4a,4b
と、該リング状陽極4a,4bで引き出されたプラズマ
Pを集束する集束コイル6a,6bと、上記プラズマ源
3a,3b,3cに対向して設けられた対向電極7とか
らなるプラズマ銃において、上記プラズマ源3a,3
b,3cを複数並列して設けると共に、上記リング状陽
極4a,4b及び集束コイル集束コイル6a,6bを上
記プラズマ源3a,3b,3cの並列方向に楕円状に形
成することを特徴としている。
Description
マ溶解、アーク放電によるイオンプレーティングなどに
使用するプラズマ発生装置のプラズマ銃に関するもので
ある。
プラズマを発生させたプラズマを直接処理母材に照射し
たり、処理母材に蒸着する蒸着分子に衝突させてイオン
化させるなどの種々の用途に使用されている。
うに、真空容器aの一側部にプラズマ銃bを備え、ま
た、このプラズマ銃bと対向電極c間に一対の集束コイ
ルdを備えた構成をしており、さらに、この真空容器a
内に蒸発材料が入れられたルツボeと処理母材fを配置
すると共に、電子銃gを備えることでイオンプレーティ
ング装置として使用されることになる。
発材料に電子銃gからビームBを当てて蒸発させ、これ
を真空容器a内上部に配置された処理母材fに被膜させ
る際に、プラズマ銃bから出射される略円柱状のプラズ
マで蒸発粒子をイオン化させて被膜を形成すべき処理母
材fへの到達を促進して良好な被膜が形成されるように
したものである。また、この集束コイルdはプラズマ銃
bから出射されるプラズマの周囲に磁場を発生させてプ
ラズマが拡散するのを防止する働きを成している。ま
た、このプラズマ銃bは図5及び図6に示すように、一
端に出射口hが開口された円筒状のプラズマチャンバー
i内に、プラズマを発生する円筒形のプラズマ源jと、
一対のリング状陽極k,lを備えた構成をしており、プ
ラズマ源jに導入されたガスGをアーク放電によってプ
ラズマ化し、これを陽極k,lの電界力によって出射口
h側へ引き出して出射するものである。
ス、化学プロセス分野においては生産効率を向上させる
ために、できるだけ大面積のプラズマが必要となる。し
かしながら、上述したような、従来のプラズマ発生装置
の場合では、プラズマ銃bから出射されるプラズマは円
筒形状で出射されるため、その面積は小さいものであっ
た。そのため、本発明者らは上記集束コイルdを楕円形
状に形成し、プラズマ銃bから出射された円筒形状のプ
ラズマを偏平状に集束することで、プラズマ面積を増大
させたプラズマ発生装置を先に提案している(特願平4
−21311号等)。
によってのみプラズマを偏平させているため、その偏平
率には限度があり、さらに大きな面積、すなわちシート
状のプラズマを得ることは困難であった。また、さらに
プラズマを集束成形するために設けられた集束コイルd
の磁力線がプラズマb内にも流れてしまい、プラズマ銃
bで発生するプラズマに悪影響を及ぼしてしまうことが
あった。
するために案出されたものであり、その目的は大面積の
プラズマを容易に得ることができると共に、集束コイル
の磁力線による悪影響を未然に防止することができる新
規なプラズマ銃を提供するものである。
の第一の発明はプラズマを発生するプラズマ源と、該プ
ラズマ源で発生したプラズマを引き出すリング状の陽極
と、該リング状陽極で引き出されたプラズマを集束する
集束コイルと、上記プラズマ源に対向して設けられた対
向電極とからなるプラズマ銃において、上記プラズマ源
を複数並列して設けると共に、上記リング状陽極及び集
束コイルを上記プラズマ源の並列方向に楕円状に形成す
るものであり、また、第二の発明は上記プラズマ源及び
楕円状陽極の周囲に、これを囲繞するように磁性体から
なる磁気シールドを設けたものである。
を複数並列して設けると共に、上記リング状陽極及び集
束コイルを上記プラズマ源の並列方向に楕円状に形成し
たため、リング状陽極によって上記プラズマ源から複数
のプラズマが同時に引き出され、さらに、これらプラズ
マは、楕円状の集束コイルから発生する磁力線によって
拡散を抑えられ、その形状がシート状に成形されつつ対
向電極に到達することになる。従って、本発明のプラズ
マ銃では大面積のプラズマを容易に発生することができ
る。また、第二の発明は上記プラズマ源及び楕円状陽極
の周囲に、これを囲繞するように磁性体からなる磁気シ
ールドを設けたものであるため、集束コイルから発生す
る磁力線がシールドされ、上記プラズマ源及び楕円状陽
極で発生するプラズマに与える悪影響を未然に防止する
ことができる。
ながら詳述する。
の一実施例を示したものである。図示するように、楕円
状のプラズマ出口5が開口された円筒状のケーシング2
内には、陰極となるべく3つのプラズマ源3a,3b,
3cが上下方向に並列に配置されており、それぞれから
は三つのプラズマP1 、P2 、P3 が発生されるように
なっている。また、これらプラズマ源3a,3b,3c
の下流側にはケーシング2内周面に沿って二つの楕円形
状の陽極4a,4bが設けられており、プラズマ源3
a,3b,3cで発生したマイナスイオンからあるプラ
ズマPを纏めて電気的に引き出し、ケーシング2のプラ
ズマ出口5方向に出射するようになっている。また、図
3及び図4に示すようにケーシング2のプラズマ出口5
にはそれぞれ楕円形状をした一対の集束コイル6a,6
bが設けられており、発生する磁力線Mによって、内部
を通過するプラズマPの拡散を抑えると共に、これをシ
ート状に集束成形する働きを成している。さらに、この
ケーシング2のプラズマ出口5の対向部には集束コイル
6bの断面長さ方向に延出した楕円状あるいは棒状の対
向電極7が設けられており、上記プラズマ源3a,3
b,3cで発生したプラズマPを電気的に引き付ける働
きをなしている。また、このケーシング2は鉄、コバル
ト、ニッケル等の磁性体からなっており、集束コイル6
a,6bで発生する磁力線Gがケーシング2内に透過し
ないように磁気シールドの働きをなしている。
b,3cで発生した3つのプラズマP1 、P2 、P3 は
先ず、陽極4aによって電気的に引き出された後、陽極
4bによってさらに加速されてプラズマ出口5から出射
されることになる。このとき、プラズマ源3a,3b,
3cで発生した3つのプラズマP1 、P2 、P3 は、そ
れぞれが干渉し合って一つのプラズマPとなり、扇状に
拡散しつつ出射されることになる。次に、プラズマ出口
5から出射された扇状のプラズマPは楕円状の集束コイ
ル6a,6b内を通過する際に、図3及び図4に示すよ
うに、この集束コイル6a,6bによって図示するよう
に発生している磁力線Mによってその拡散状態が抑えら
れつつ、シート状に集束形成された後、対向電極7に到
達することになる。また、プラズマ源3a,3b,3c
側に流れる磁力線Mは磁気シールドたるケーシング2を
伝わってその端部より集束コイル6a,6bの内方側へ
流れプラズマPを集束する働きをなすことになる。
ラズマ源を複数並列して設けることで、シート状のプラ
ズマPを容易に得ることが出来ると共に、その面積を大
巾に増大することができる。また、このプラズマ源の周
囲に磁性体からなる磁気シールドを設けたものであるた
め、集束コイルから発生する磁力線がシールドされ、上
記プラズマ源及び楕円状陽極で発生するプラズマに与え
る悪影響を未然に防止することができる。
構成で説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、その数は必要に応じて増減させても同様の作用、
効果を得ることができることは勿論である。
をした大面積のプラズマを容易に得ることが可能となる
ため、成膜プロセス、化学プロセス分野における生産効
率の向上に大巾に貢献することができる。また、磁力線
による悪影響を低減することができるため、成形性の良
い良好なプラズマを得ることができる等といった優れた
効果を有する。
ティングを示す概略図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 プラズマを発生するプラズマ源と、該プ
ラズマ源で発生したプラズマを引き出すリング状の陽極
と、該リング状陽極で引き出されたプラズマを集束する
集束コイルと、上記プラズマ源に対向して設けられた対
向電極とからなるプラズマ銃において、上記プラズマ源
を複数並列して設けると共に、上記リング状陽極及び集
束コイルを上記プラズマ源の並列方向に楕円状に形成す
ることを特徴とするプラズマ銃。 - 【請求項2】 上記プラズマ源及び楕円状陽極の周囲
に、これを囲繞するように磁性体からなる磁気シールド
を設けたことを特徴とする請求項1記載のプラズマ銃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04267498A JP3079802B2 (ja) | 1992-10-06 | 1992-10-06 | プラズマ銃 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04267498A JP3079802B2 (ja) | 1992-10-06 | 1992-10-06 | プラズマ銃 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06119992A true JPH06119992A (ja) | 1994-04-28 |
JP3079802B2 JP3079802B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=17445692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04267498A Expired - Fee Related JP3079802B2 (ja) | 1992-10-06 | 1992-10-06 | プラズマ銃 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3079802B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008291339A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Micro Materials Japan:Kk | イオンクラスタービーム蒸着装置 |
JP2009170237A (ja) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Hitachi Displays Ltd | 局所プラズマ処理装置及び処理方法 |
WO2019049921A1 (ja) | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 株式会社Ihi | 炭素繊維複合素材及びその製造方法、並びに炭素繊維複合素材の製造装置、プリプレグ、炭素繊維強化樹脂複合材料 |
-
1992
- 1992-10-06 JP JP04267498A patent/JP3079802B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008291339A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Micro Materials Japan:Kk | イオンクラスタービーム蒸着装置 |
JP4601076B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2010-12-22 | 株式会社マイクロマテリアルズジャパン | イオンクラスタービーム蒸着装置 |
JP2009170237A (ja) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Hitachi Displays Ltd | 局所プラズマ処理装置及び処理方法 |
WO2019049921A1 (ja) | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 株式会社Ihi | 炭素繊維複合素材及びその製造方法、並びに炭素繊維複合素材の製造装置、プリプレグ、炭素繊維強化樹脂複合材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3079802B2 (ja) | 2000-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI273625B (en) | Ion beam mass separation filter and its mass separation method, and ion source using the same | |
US6866753B2 (en) | Vacuum arc vapor deposition apparatus and vacuum arc vapor deposition method | |
JPH06275545A (ja) | ガスクラスターイオン援用による化合物薄膜の 形成方法 | |
JPH06119992A (ja) | プラズマ銃 | |
JP3079789B2 (ja) | プラズマ銃及びプラズマ発生装置 | |
JPH0660393B2 (ja) | プラズマ集中型高速スパツタ装置 | |
JPH0488165A (ja) | スパッタ型イオン源 | |
JPH09256148A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
JPH1136063A (ja) | アーク式蒸発源 | |
JPH089776B2 (ja) | イオンプレーティング方法および装置 | |
JPH05217691A (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP3236928B2 (ja) | ドライエッチング装置 | |
JP3078602B2 (ja) | Hcd型イオンプレーティング装置 | |
JPH03226569A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
JP4767613B2 (ja) | 成膜装置 | |
JPS63203767A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPS6254076A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPH0368764A (ja) | 薄膜形成用プラズマ処理装置 | |
JPS6280264A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
JPH0465149B2 (ja) | ||
JPH0293073A (ja) | シートプラズマ式cvd装置 | |
JPH04232264A (ja) | サブストレートのコーティング装置 | |
JPH062120A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
JPH0794708B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
JPH03177567A (ja) | 真空蒸着装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080623 Year of fee payment: 8 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080623 Year of fee payment: 8 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090623 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |