JPH0611729Y2 - 可動式ロケ−トピン装置 - Google Patents

可動式ロケ−トピン装置

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JPH0611729Y2
JPH0611729Y2 JP4574486U JP4574486U JPH0611729Y2 JP H0611729 Y2 JPH0611729 Y2 JP H0611729Y2 JP 4574486 U JP4574486 U JP 4574486U JP 4574486 U JP4574486 U JP 4574486U JP H0611729 Y2 JPH0611729 Y2 JP H0611729Y2
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JP
Japan
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shaft
block
locate pin
stay
movable
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JP4574486U
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JPS62159234U (ja
Inventor
和雄 早川
Original Assignee
大和工業株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は溶接機等においてワークの位置決めを行う際に
用いて有用な可動式ロケートピンに関するものである。
従来の技術 一般にワークの位置を正確に決定するためには、該ワー
クの複数個所に穿設した孔部に、外方からロケートピン
を挿通して、ワークを固定する手段が用いられている。
この時ワークの形状によってロケートピンの挿通方向は
種々異なってくるものであって、1個のワークに対して
ロケートピンが左右、又は上下方向から挿入される場合
もある。このような場合に該ロケートピンの挿通及び抜
去を容易にするため、ロケートピン自体を可動式とし、
操作を容易にする工夫がなされている。このような従来
手段の一例を第6図(A)(B)に示す。同図において1はブ
ロックステイ、2は該ブロックステイ1の上方に固定さ
れたブロックであって、このブロック2にシャフトが長
手方向に摺動自在な貫通穴3を設けてある。この貫通穴
3の壁面にはブッシュ4が装着されていて、このブッシ
ュ4に摺接するシャフト5が挿通されている。このシャ
フト5の先端部にロケートピン6が固着されているとと
もに、シャフト5の他端部にはフリージョイント7の一
端が固定される。このフリージョイント7の他端はシリ
ンダ装置8のロッド9に連結されている。10はシリン
ダ装置8を支持するための他のブロックステイである。
上記の構成によれば、シリンダ装置8を駆動させること
によって、該シリンダ装置8の駆動力がロッド9,フリ
ージョイント7を経由してシャフト5に伝わり、該シャ
フト5がブッシュ4の内面を摺動するので、ロケートピ
ン6がブロック2から出没して、図示しないワークの位
置決め穴に前記ロケートピン6を出入りさせることが可
能となる。前記フリージョイント7は、ロッド9とシャ
フト5間にあって両者を曲折自在に連結しており、ロッ
ド9の駆動力をシャフト5に滑らかに伝える作用があ
る。
考案が解決しようとすれ問題点 しかしながらこのような従来の可動式ロケートピン構造
の場合、ロケートピン6の突出位置を正確にセットする
操作が面倒であるという問題点があった。即ちロケート
ピン6の位置調整を行うには、ブロックステイ1及びブ
ロックステイ10の両者を移動して、夫々締付ボルト1
1,11及び締付ボルト12,12を用いて図外の基台
上に固定しなければならないので、位置決定までに可成
の時間を要する。又2個のブロックステイをセットする
ために広い取付面積を確保しなければならないので、装
置のレイアウト上の難点がある他、高価なフリージョイ
ント7を準備しなければならないのでコストが上昇する
という問題点をも有している。
そこで本考案はこのような従来の可動式ロケートピン装
置が有している問題点を解消して、構成簡易にして位置
調整が容易に行える上、狭い場所にも取付けることがで
きる装置の提供を目的とするものである。
問題点を解決するための手段 ブロックステイ上に固定したブロックに、シャフトが長
手方向に沿って摺動自在な貫通穴を形成し、該貫通穴の
内方に、先端部にロケートピンを突設した第1シャフト
及び該第1シャフトと所定の間隙を保持するとともに、
上下、左右方向へ曲折自在に噛合う歯部によって相互に
連結された第2シャフトを挿通し、前記ブロックの端部
に、前記第2シャフトに連結されて第1シャフトの先端
部に突設したロケートピンをブロックの外方へ出没させ
るシリング装置を配設した構成にしてある。
作用 シリンダ装置を働かせることによって、該シリンダ装置
のロッドが第2シャフトに伝えられ、更にこの第2シャ
フトと所定の間隙を保持して曲折自在に噛合う歯部によ
って前記ロッドの動きが第1シャフトに伝わり、該第1
シャフトの先端部に突設したロケートピンが前記ブロッ
クの開口端からワークの位置決め用孔部に出没する。従
って単一のブロックステイ及びブロック内に、前記した
ロケートピンの駆動機構をすべて収納した装置が得られ
る。
実施例 以下図面に基づいて本考案に係る可動式ロケートピン装
置の一実施例を説明する。
第1図(A)(B)に示す構成において、21はブロックステ
イであって、締付ボルト22,22を用いて図外の基台
上に固定される。23は前記ブロックステイに締付ボル
ト24,24を用いて固定されたブロックであって、こ
のブロック23にシャフトが長手方向に摺動自在な貫通
穴25を設けてある。26は貫通穴25の壁面一部に取
付けたブッシュであって、このブッシュ26に摺接する
第1シャフト27が挿通されている。この第1シャフト
27の先端部にロケートピン28が突設されている。2
9は第2シャフトであって、この第2シャフト29と前
記第1シャフト27とは、両者を組み付けた状態を示す
第2図及び組み付ける前の状態を示す第3図に示したよ
うに、両シャフト27,29に歯部27a,歯部29a
が設けられていて、この歯部27a,29aを所定の間
を保持して噛合する。このようにして第1シャフト27
と第2シャフト29が歯部27a,29aによって相互
に連結されているので、両シャフトは、上下,左右方向
へ曲折自在である。30は第2シャフト29に連結され
たロッドであって、このロッド30は、ブラケット31
に固定されたシリンダ装置32より突出している。上記
ブラケット31は締付ボルト33,33によってブロッ
ク23に固定される。
かかる構成による可動式ロケートピン装置の作用は以下
の通りである。即ち図外のワークの近傍所定位置にブロ
ックステイ21をセットし、ロケートピン28の突出位
置を決定する。次にエア又は油圧源を起動してシリンダ
装置32を駆動するとロッド30が伸長し、このロッド
30の動きが第2シャフト29及び歯部29a,27a
を介して第1シャフト27に伝えられ、この第1シャフ
ト27を図示の左方へ移動させる。従って第1シャフト
27の先端部に突設したロケートピン28がブロック2
3の開口部からワークの方向へ出没するので、予じめワ
ークの所定位置に穿設した位置決め用孔部の内方へ該ロ
ケートピン28を突入又は退出させることが可能であ
る。
上記の動作において、第1シャフト27と第2シャフト
29は、歯部27a,29aによって噛合されていると
ともに、両シャフト間に所定の間隙 が形成されているので、第1シャフト27と第2シャフ
ト29は所定の角度範囲内で、上下,左右方向へ曲折自
在であり、ロッド30の作用に基づく第1シャフト27
と第2シャフト29の摺動が滑らかに遂行される。第4
図(A)(B)(C)(D)は、第2図に示したように
組み付けた第1シャフト27と第2シャフト29及びシ
リンダ装置32を側部から見た動作態様図であり、前記
間隙ρの範囲内で第1シャフト27と第2シャフト29
とが上下方向に自在に曲折可能であることを表わしてい
る。
更に第5図(A)(B)(C)(D)は、同様に第2図
に示したように組み付けた第1シャフト27と第2シャ
フト29及びシリンダ装置32を上部から見た動作態様
図であり、第1シャフト27と第2シャフト29とが左
右方向に自在に曲折可能であることを表わしている。
従って本願考案によれば、第1シャフト27と第2シャ
フト29とを歯部27a,29aの噛合によって連結す
るという簡易な構成によって従来のフリージョイントと
略同一の動作態様が実現されるという特徴を有してい
る。
考案の効果 以上詳細に説明した本考案に係る可動式ロケートピン装
置を用いることによって、以下に記す作用効果がもたら
される。即ち装置の主要部が唯1個のブロックの内方及
び外方にすべてまとめられているので、ロケートピンの
位置調整が極めて容易である。上記位置調整は、ブロッ
クが固定されたブロックステイの位置決めを行えば良
く、操作を簡易化することができる。又装置全体がコン
パクト化されるので、前記ブロックステイを取付ける場
所を広く確保する必要性がなくなり、狭い場所でも取付
可能となってレイアウト上有利である。更に従来の高価
なフリージョイントに代えて、シャフトを第1シャフト
と第2シャフトに分割し、両シャフト間に設けた歯部を
噛合せて、シャフトが上下,左右方向へ曲折自在な構成
としたことによって前記フリージョイントと略同一な機
能を持たせることが可能となり、措置の製作に要するコ
ストを低廉化させることが可能となり、各種溶接機等に
おけるワークの位置決め用ロケートピン装置に適用して
有効に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)(B)は本考案に係る可動式ロケートピン装置の
構成を示しており、第1図(B)は要部断面図、第1図(A)
は同A矢視図、第2図は装置の一部分を取り出して説明
する斜視図、第3図は同装置の一部分を分解して示す斜
視図、第4図は第2図に示した第1シャフトと第2シャ
フトを側部から見た動作態様図、第5図は同上部から見
た動作態様図、第6図(B)は従来の可動式ロケートピ
ン装置の一例を示す要部断面図、同図(A)は同A矢視
図である。 21……ブロックステイ、23……ブロック、25……
貫通孔、26……ブッシュ、27……第1シャフト、2
8……ロケートピン、29……第2シャフト、27a,
29a……歯部、30……ロッド、31……ブラケッ
ト、32……シリンダ装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】ブロックステイ上に固定したブロックに、
    シャフトが長手方向に沿って摺動自在な貫通穴を形成
    し、該貫通穴の内方に、先端部にロケートピンを突設し
    た第1シャフト及び該第1シャフトと所定の間隙を保持
    するとともに、上下,左右方向へ曲折自在に噛合う歯部
    によって相互に連結された第2シャフトを挿通し、前記
    ブロックの端部に、前記第2シャフトに連結されて第1
    シャフトの先端部に突設したロケートピンをブロックの
    外方へ出没させるシリンダ装置を配設したことを特徴と
    する可動式ロケートピン装置。
JP4574486U 1986-03-28 1986-03-28 可動式ロケ−トピン装置 Expired - Lifetime JPH0611729Y2 (ja)

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JP4574486U JPH0611729Y2 (ja) 1986-03-28 1986-03-28 可動式ロケ−トピン装置

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JP4574486U JPH0611729Y2 (ja) 1986-03-28 1986-03-28 可動式ロケ−トピン装置

Publications (2)

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JPS62159234U JPS62159234U (ja) 1987-10-09
JPH0611729Y2 true JPH0611729Y2 (ja) 1994-03-30

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8859436B2 (en) 1996-05-28 2014-10-14 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon
US8871022B2 (en) 2007-11-21 2014-10-28 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for preparation of epitaxially textured thick films
US8883656B2 (en) 2002-08-19 2014-11-11 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Single-shot semiconductor processing system and method having various irradiation patterns
US8889569B2 (en) 2009-11-24 2014-11-18 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for non-periodic pulse sequential lateral soldification
US9012309B2 (en) 2007-09-21 2015-04-21 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Collections of laterally crystallized semiconductor islands for use in thin film transistors
US9466402B2 (en) 2003-09-16 2016-10-11 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions

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JPS62159234U (ja) 1987-10-09

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