JPH06115628A - ウェハの搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェハの搬送方法において、２枚目のウェハ
のプリアライメントステーションでの作業が終わったと
き、１枚目のウェハの一連の処理が終了するまで放置さ
れることがないようにすることを目的とする。 【構成】 多数のウェハがウェハカセットに貯蔵され、
一連の処理が行われるウェハの処理方法において、前記
ウェハカセットから送り出された１枚目のウェハが最初
に予備排気室に送り込まれたとき、２枚目のウェハが前
記ウェハカセットから取出されて前記プリアライメント
ステーションに送られ、前記２枚目のウェハの前記プリ
アライメントステーションでの処理が終ったとき、前記
１枚目のウェハの一連の処理が終了し前記ウェハカセッ
トの中に貯蔵されるまで、前記２枚目のウェハを前記ウ
ェハカセットの中に一時貯留するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、電子顕微鏡などの真
空容器にウェハを連続的に搬送するときに、効率よくか
つ安全に搬送できるようにした、ウェハの搬送方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来電子顕微鏡などの試料となるウェハ
を、連続的に搬送するものとしては、例えば、図２に示
すようにして行われている。ウェハ１は多数（例えば２
５個）のものが、ウェハカセットＡの中に貯蔵されてお
り、それがロボットＲによって１枚づつ取り出され、ま
ずプリアライメントステーションＢに送られて、そこで
ウェハ１の方向を合わせる作業が行われる。

【０００３】プリアライメントが行われたウェハ１は、
再びロボットＲにより予備排気室Ｃに送られ、その中の
トレイに載置されてそこで低真空の状態にされる。低真
空になったならば、トレイに載置されたまゝ、ロボット
Ｒ以外の搬送装置（図の矢印Ｈで示す）により、試料室
Ｄに送り込まれて高真空にされ、そこで高倍率の写真撮
影や分析が行われる。

【０００４】それが終了したならば、ウェハ１はトレイ
に載置されたまゝ、矢印Ｈで示す搬送装置により、再び
予備排気室Ｃに送られ、空気でリークさせ大気状態とし
た後、ロボットＲによって元のウェハカセットＡの中に
貯蔵され、ウェハ１の一連の処理を終了する。この場合
の作業工程の時間の経過状態を図３ａに示す。

【０００５】このとき、２枚目のウェハについては、図
３ｂに示すように、最初のウェハの一連の処理が終了し
てから、ロボットＲによってプリアライメントステーシ
ョンＢに搬送するようにしてもよいが、処理時間を短縮
して作業効率を向上させるため、図３ｃに示すように、
図３ａにおいて１枚目のウェハ１が、プリアライメント
ステーションＢから予備排気室Ｃに送り込まれた後に、
ロボットＲによって、ウェハカセットＡの中に貯蔵され
ている２枚目のウェハを取り出して、これを、プリアラ
イメントステーションＢに搬送するようにする。

【０００６】そして２枚目のウェハのプリアライメント
ステーションＢでの作業が終わったならば、プリアライ
メントは長い時間を要するわけではないから、そこで２
枚目のウェハを待機させておき、１枚目のウェハの一連
の処理が終了した時に、２枚目のウェハは予備排気室Ｃ
に送るところから作業が開始される。よって図３ｃの場
合は、図３ｂに示す場合よりも作業時間が短くなり、そ
れだけ作業効率が高いことになる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところでこのような、
従来のウェハの搬送方法にあっては、２枚目のウェハの
プリアライメントステーションでの作業が終わったなら
ば、２枚目のウェハは、１枚目のウェハの一連の処理が
終了するまで、そのまゝ待機して放置されるようになっ
ていたため、不慮の事故（例えば停電）があったときに
は、ウェハの安全性が損なわれるという問題があった。

【０００８】この発明はこのような従来の課題に着目し
てなされたもので、２枚目のウェハのプリアライメント
ステーションでの作業が終わったとき、２枚目のウェハ
が、１枚目のウェハの一連の処理が終了するまで放置さ
れることがないようにした、ウェハの搬送方法を提供す
ることを目的とする。

【０００９】なお２枚目以降の３枚目、４枚目のウェハ
についても、２枚目と同じ問題があり、同様に解決され
るので、以後２枚目というときは３枚目またはそれ以降
のものを含むものとする。その場合、３枚目のウェハに
おいては２枚目のウェハが前記の１枚目のウェハに相当
する役割を演ずるものとし、以下同様である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するための手段として、その構成を、多数のウェハが
ウェハカセットに貯蔵され、該ウェハが１枚づつ取り出
されてプリアライメントステーションに送られ、次いで
予備排気室に、次に高真空の試料室に送られて処理さ
れ、再び前記予備排気室に送られた後、前記ウェハカセ
ットの中に貯蔵されることにより、一連の処理が行われ
るウェハの処理方法において、前記ウェハカセットから
送り出された１枚目のウェハが最初に前記予備排気室に
送り込まれたとき、２枚目のウェハが前記ウェハカセッ
トから取出されて前記プリアライメントステーションに
送られ、前記２枚目のウェハの前記プリアライメントス
テーションでの処理が終ったとき、前記１枚目のウェハ
の一連の処理が終了し前記ウェハカセットの中に貯蔵さ
れるまで、前記２枚目のウェハを前記ウェハカセットの
中に一時貯留することとした。

【００１１】

【作用】次に本発明の作用を説明する。送り出された１
枚目のウェハが最初に前記予備排気室に送り込まれたと
き、２枚目のウェハが、前記ウェハカセットから取出さ
れて前記プリアライメントステーションに送られる。そ
うすると１枚目のウェハがプリアライメントステーショ
ンに送られ、予備排気室に次いで高真空の試料室に送ら
れて一連の処理が行われ、再び予備排気室に送られて前
記ウェハカセットの中に貯蔵されてから後に、２枚目の
ウェハの処理を開始するよりも、２枚目のウェハの処理
時間が短縮される。

【００１２】上記のようにすると、２枚目のウェハは前
記プリアライメントステーションに送られて、そこでの
処理が終了した後、１枚目のウェハの一連の処理が終了
するまで、プリアライメントステーションに放置される
ことになるが、前記２枚目のウェハが前記プリアライメ
ントステーションでの処理が終ったとき、前記１枚目の
ウェハの一連の処理が終了するまで、前記ウェハカセッ
トの中に一時貯留されるので、２枚目のウェハの安全性
が保持される。

【００１３】

【実施例】以下、この発明を図面に基づいて説明する。
図２に示すように、電子顕微鏡などの試料となるウェハ
１は多数（例えば２５個）のものが、ウェハカセットＡ
の中に貯蔵されていること、それがロボットＲによって
１枚づつ取り出され、まずプリアライメントステーショ
ンＢに送られ、そこでウェハ１の方向を合わせる作業が
行われる。

【００１４】プリアライメントが行われたウェハ１は、
再びロボットＲにより予備排気室Ｃに送られ、その中の
トレイに載置されてそこで低真空状態から高真空状態に
される。高真空になったならば、トレイに載置されたま
ゝ、ロボットＲ以外の搬送装置（図の矢印Ｈで示す）に
より、試料室Ｄに送り込まれて、そこで高倍率の写真撮
影や分析・計測が行われる。

【００１５】それが終了したならば、ウェハ１はトレイ
に載置されたまゝ、ロボットＲ以外の搬送装置により、
再び予備排気室Ｃに送られ、空気でリークさせて大気状
態とした後、ロボットＲによって元のウェハカセットＡ
の中に貯蔵され、ウェハ１の一連の処理を終了する。こ
ゝまでは従来技術と同様であり、同一部材は同一符号を
以て示すが、以下図１のシークエンス図により、従来技
術と本発明とを対比させて説明する。

【００１６】従来においては、図１（ａ）のシークエン
ス図に示すように、の線で示す１枚目のウェハの一連
の処理が終了してから後に、の線で示す２枚目のウェ
ハを送り出す処理が開始されていた。そこで、図１
（ｂ）のシークエンス図に示すように、送り出された１
枚目のウェハ１が、最初に予備排気室Ｃに送り込まれた
時点で、２枚目のウェハ２は、ウェハカセットＡから取
出されてプリアライメントステーションＢに送られるよ
うにする。なお、図１（ａ）（ｂ）（ｃ）における二重
線ｒは、ロボットＲによる操作を示す。

【００１７】そして２枚目のウェハ２は、ウェハカセッ
トＡから取出されてプリアライメントステーションＢに
送られて処理された後は、図１（ｂ）の線で示すよう
に、１枚目のウェハ１の一連の処理が終了して、ウェハ
カセットＡの中に貯蔵されるまでの間は、プリアライメ
ントステーションＢに放置されたまゝになっており、
の線で示す１枚目のウェハの一連の処理が終了してから
後に、プリアライメントステーションＢから予備排気室
Ｃへの搬送が開始される。

【００１８】そこで本発明においては、プリアライメン
トステーションＢに放置されたまゝになることを回避す
るため、図１（ｃ）の線で示すように、２枚目のウェ
ハ２についての、プリアライメントステーションＢでの
処理が終ったときには、１枚目のウェハ１の一連の処理
が終了してウェハカセットＡの中に貯蔵されるまでの間
に、ロボットＲにより、２枚目のウェハ２をウェハカセ
ットＡの中に一時貯留する。

【００１９】また、３枚目のウェハは、図１（ｃ）の線
で示すように、で示す２枚目のウェハがウェハカセ
ットＡの中に一時貯留されていたものが予備排気室Ｃに
移動した後に、プリアライメントステーションＢに送ら
れ、そこでの処理が終わった後、ウェハカセットＡの中
に一時貯留される。４枚目、５枚目以下が同様にくりか
えされることは、前述の通りである。

【００２０】なお、本願発明は上記実施例に限定され
ず、１枚目のウェハが予備排気室に送り込まれた後、試
料室Ｄに送り込まれて処理が行われている間に、２枚
目、３枚目、……の複数のウェハのプリアライメントを
継続して行い、ウェハカセットに貯蔵するようにしても
よい。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ウェハカセットから送り出された１枚目のウェハが
最初に予備排気室に送り込まれたとき、２枚目のウェハ
がウェハカセットから取出されてプリアライメントステ
ーションに送られるようにしたので、２枚目のウェハの
処理時間が短縮され、従って全体のウェハ処理時間を短
縮することができる。また２枚目のウェハのプリアライ
メントステーションでの処理が終ったとき、前記１枚目
のウェハの一連の処理が終了し前記ウェハカセットの中
に貯蔵されるまで、前記２枚目のウェハを前記ウェハカ
セットの中に一時貯留することとしたので、常にウェハ
を安全な状態に保持することができるという効果を有す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理を従来技術と共に示すシークエン
ス図である。

【図２】本発明及び従来技術の背景となるウェハの処理
の装置を示す斜視図である。

【図３】従来のウェハ処理の作業工程の時間の経過状態
を示す説明図である。

【符号の説明】

１ １枚目のウェハ ２ ２枚目のウェハ Ａ ウェハカセット Ｂ プリアライメントステーション Ｃ 予備排気室 Ｄ 試料室

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】多数のウェハがウェハカセットに貯蔵さ
   れ、該ウェハが１枚づつ取り出されてプリアライメント
   ステーションに送られ、次いで予備排気室に、次に高真
   空の試料室に送られて処理され、再び前記予備排気室に
   送られた後、前記ウェハカセットの中に貯蔵されること
   により、一連の処理が行われるウェハの処理方法におい
   て、前記ウェハカセットから送り出された１枚目のウェ
   ハが最初に前記予備排気室に送り込まれたとき、２枚目
   のウェハが前記ウェハカセットから取出されて前記プリ
   アライメントステーションに送られ、前記２枚目のウェ
   ハの前記プリアライメントステーションでの処理が終っ
   たとき、前記１枚目のウェハの一連の処理が終了し前記
   ウェハカセットの中に貯蔵されるまで、前記２枚目のウ
   ェハを前記ウェハカセットの中に一時貯留することを特
   徴とするウェハの搬送方法。