JPH06107597A - （Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製造法 - Google Patents
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製造法Info
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- JPH06107597A JPH06107597A JP7913793A JP7913793A JPH06107597A JP H06107597 A JPH06107597 A JP H06107597A JP 7913793 A JP7913793 A JP 7913793A JP 7913793 A JP7913793 A JP 7913793A JP H06107597 A JPH06107597 A JP H06107597A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エス
テルの簡便な製造。 【構成】β，γ−不飽和 α−ケト（−）−８−フェニ
ルメンチルエステル及び（−）−トランス−２−フェニ
ルシクロヘキシルエステルを適当な還元剤を用いてαカ
ルボニル基を還元し（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−
不飽和エステルを簡便に得ることができる。
テルの簡便な製造。 【構成】β，γ−不飽和 α−ケト（−）−８−フェニ
ルメンチルエステル及び（−）−トランス−２−フェニ
ルシクロヘキシルエステルを適当な還元剤を用いてαカ
ルボニル基を還元し（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−
不飽和エステルを簡便に得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は天然生理活性物質の部分
構造として知られ、また、医薬品や農薬の合成中間体と
して有用な（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エ
ステルの製造法に関するものである。
構造として知られ、また、医薬品や農薬の合成中間体と
して有用な（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エ
ステルの製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の方法】（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽
和カルボン酸誘導体の合成法としては、酸化還元酵素を
用いて、β，γ−不飽和 α−ケトカルボン酸を還元し
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和カルボン酸へ
変換する方法が最近開発されている[Tetrahedron,47巻,
9019ヘ゜ーシ゛(1991年)およびTetrahedron Lett.,33巻,817ヘ
゜ーシ゛(1992年)]。また、その光学的な対掌体である
（Ｓ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの化
学合成法も最近報告されている[J.Org.Chem.,56巻,4337
ヘ゜ーシ゛,(1991年)]。しかしながら、β，γ−不飽和 α−
ケトエステルの化学的な還元法によるものは未だ報告さ
れていない。
和カルボン酸誘導体の合成法としては、酸化還元酵素を
用いて、β，γ−不飽和 α−ケトカルボン酸を還元し
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和カルボン酸へ
変換する方法が最近開発されている[Tetrahedron,47巻,
9019ヘ゜ーシ゛(1991年)およびTetrahedron Lett.,33巻,817ヘ
゜ーシ゛(1992年)]。また、その光学的な対掌体である
（Ｓ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの化
学合成法も最近報告されている[J.Org.Chem.,56巻,4337
ヘ゜ーシ゛,(1991年)]。しかしながら、β，γ−不飽和 α−
ケトエステルの化学的な還元法によるものは未だ報告さ
れていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、β，γ−
不飽和 α−ケトエステルを高い選択性をもって化学的
に不斉還元することができれば、（Ｒ）−α−ヒドロキ
シ−β，γ−不飽和エステルが従来よりもより簡便、か
つ迅速に入手可能となる方法を提供できると考えられ
る。
不飽和 α−ケトエステルを高い選択性をもって化学的
に不斉還元することができれば、（Ｒ）−α−ヒドロキ
シ−β，γ−不飽和エステルが従来よりもより簡便、か
つ迅速に入手可能となる方法を提供できると考えられ
る。
【０００４】本発明は、この様な観点から簡便な反応操
作により（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エス
テルを製造する方法を提供することを目的とするもので
ある。
作により（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エス
テルを製造する方法を提供することを目的とするもので
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、既に周知
の方法により得られるβ，γ−不飽和 α−ケトエステ
ルを不斉還元の手法を用いて（Ｒ）−α−ヒドロキシ−
β，γ−不飽和エステルへ変換する方法を開発すべく研
究を重ねた結果、下記化３（化３中、Ｒは、アルキル
基、アリール基を示し、Ｒ*は、不斉補助剤を示す。）
の反応工程において、不斉補助剤として（−）−８−フ
ェニルメンチル基もしくは（−）−トランス−２−フェ
ニルシクロヘキシル基を用い、還元剤として水素化ホウ
素トリ（ｓ−ブチル）リチウムを用いることで、ジアス
テレオ選択的な還元を可能とし、（Ｒ）−α−ヒドロキ
シ−β，γ−不飽和エステルが得られることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
の方法により得られるβ，γ−不飽和 α−ケトエステ
ルを不斉還元の手法を用いて（Ｒ）−α−ヒドロキシ−
β，γ−不飽和エステルへ変換する方法を開発すべく研
究を重ねた結果、下記化３（化３中、Ｒは、アルキル
基、アリール基を示し、Ｒ*は、不斉補助剤を示す。）
の反応工程において、不斉補助剤として（−）−８−フ
ェニルメンチル基もしくは（−）−トランス−２−フェ
ニルシクロヘキシル基を用い、還元剤として水素化ホウ
素トリ（ｓ−ブチル）リチウムを用いることで、ジアス
テレオ選択的な還元を可能とし、（Ｒ）−α−ヒドロキ
シ−β，γ−不飽和エステルが得られることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
【化３】
【０００６】すなわち、本発明は一般式［１］で表され
るβ，γ−不飽和 α−ケトエステルを適当な還元剤で
処理することによりαカルボニル基をジアステレオ選択
的に還元することを特徴とする一般式［２］で示される
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製
造法に関するものである。
るβ，γ−不飽和 α−ケトエステルを適当な還元剤で
処理することによりαカルボニル基をジアステレオ選択
的に還元することを特徴とする一般式［２］で示される
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製
造法に関するものである。
【０００７】以下、本発明について詳述する。本発明方
法における原料化合物であるβ，γ−不飽和 α−ケト
エステルは、一般式［１］で表されるものであるが、Ｒ
の具体例としてはフェネチル、ペンタデシルなどのアル
キル基、フェニルなどのアリール基等を挙げることがで
きる。Ｒ *の具体例としては、（−）−メントール、
（−）−８−フェニルメントール、（−）−トランス−
２−フェニルシクロヘキシル等の光学活性なアルコール
類を挙げることができる。
法における原料化合物であるβ，γ−不飽和 α−ケト
エステルは、一般式［１］で表されるものであるが、Ｒ
の具体例としてはフェネチル、ペンタデシルなどのアル
キル基、フェニルなどのアリール基等を挙げることがで
きる。Ｒ *の具体例としては、（−）−メントール、
（−）−８−フェニルメントール、（−）−トランス−
２−フェニルシクロヘキシル等の光学活性なアルコール
類を挙げることができる。
【０００８】還元剤は、水素化ホウ素系還元剤が好まし
く、その使用量は、一般式［１］化合物中１モルに対し
て１モルから２モル、好ましくは１．２モルが用いられ
る。
く、その使用量は、一般式［１］化合物中１モルに対し
て１モルから２モル、好ましくは１．２モルが用いられ
る。
【０００９】水素化ホウ素系還元剤の具体例としては、
水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リ
チウム、水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）カリウムなど
を挙げることができる。
水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リ
チウム、水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）カリウムなど
を挙げることができる。
【００１０】反応は、エーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶媒を用いて実施し、反応温度は−１０
０〜−４０℃、好ましくは−７８℃である。
どのエーテル系溶媒を用いて実施し、反応温度は−１０
０〜−４０℃、好ましくは−７８℃である。
【００１１】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する。
ＮＭＲスペクトルは、ＪＥＯＬ社製ＥＸ−４００を用い
て測定した。
ＮＭＲスペクトルは、ＪＥＯＬ社製ＥＸ−４００を用い
て測定した。
【００１２】
【実施例１】２−（Ｒ）−ヒドロキシ−６−フェニル−
３−ヘキセン酸（−）−８−フェニルメンチルの製造
３−ヘキセン酸（−）−８−フェニルメンチルの製造
【００１３】２−オキソ−６−フエニル−３−ヘキセン
酸（−）−８−フェニルメンチル１３８ｍｇ（０．３３
ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（６ｍｌ）に、−７８℃にて
水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン溶
液（１Ｍ）を０．３７ｍｌを滴下し１時間攪はんする。
メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウム水
溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５ｍ
ｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエー
テルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層クロ
マトグラフィーにて精製し、標記化合物を１１２ｍｇ
（８１％，Ｒ：Ｓ＝９８．５：１．５）で得る。1ＨＮ
ＭＲにより構造を確認した。そのデータを以下に示す。
酸（−）−８−フェニルメンチル１３８ｍｇ（０．３３
ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（６ｍｌ）に、−７８℃にて
水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン溶
液（１Ｍ）を０．３７ｍｌを滴下し１時間攪はんする。
メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウム水
溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５ｍ
ｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエー
テルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層クロ
マトグラフィーにて精製し、標記化合物を１１２ｍｇ
（８１％，Ｒ：Ｓ＝９８．５：１．５）で得る。1ＨＮ
ＭＲにより構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【００１４】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ= 0.87 (d, 3
H, J=6.8), 0.97-1.15 (m, 3H), 1.22 (s, 3H), 1.31
(s, 3H), 1.46 (m, 1H), 1.57-1.68 (m, 2H), 1.88 (m,
1H),1.94 (br, 1H), 2.06 (ddd, 1H, J=3.4, 10.7, 1
2.2), 2.34 (dt, 2H, J=6.8,7.8), 2.67 (t, 2H, J=7.
8), 4.26 (m, 1H, J=1.5, 5.9), 4.89 (dt, 1H, J=4.4,
10.7), 5.43 (dd, 1H, J=5.9, 15.6), 5.86 (ddt, 1H,
J=1.5, 6.8, 15.6), 7.1-7.2 (m, 4H), 7.2-7.35 (m,
6H).
H, J=6.8), 0.97-1.15 (m, 3H), 1.22 (s, 3H), 1.31
(s, 3H), 1.46 (m, 1H), 1.57-1.68 (m, 2H), 1.88 (m,
1H),1.94 (br, 1H), 2.06 (ddd, 1H, J=3.4, 10.7, 1
2.2), 2.34 (dt, 2H, J=6.8,7.8), 2.67 (t, 2H, J=7.
8), 4.26 (m, 1H, J=1.5, 5.9), 4.89 (dt, 1H, J=4.4,
10.7), 5.43 (dd, 1H, J=5.9, 15.6), 5.86 (ddt, 1H,
J=1.5, 6.8, 15.6), 7.1-7.2 (m, 4H), 7.2-7.35 (m,
6H).
【００１５】
【実施例２】２−（Ｒ）−ヒドロキシ−３−オクタデセ
ン酸（−）−８−フェニルメンチルの製造
ン酸（−）−８−フェニルメンチルの製造
【００１６】２−オキソ−３−オクタデセン酸（−）−
８−フェニルメンチル４７０ｍｇ（０．９２ｍｍｏｌ）
のエーテル溶液（１８ｍｌ）に、−７８℃にて水素化ホ
ウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン溶液（１
Ｍ）を１．１０ｍｌを滴下し１時間攪はんする。メタノ
ール（１．５ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウム水溶液
（１．０ｍｌ）、３０％過酸化水素水（１．０ｍｌ）を
加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエーテルで
抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層クロマトグ
ラフィーにて精製し、標記化合物を３４８ｍｇ（７４
％，Ｒ：Ｓ＝１００：０）で得る。1ＨＮＭＲにより構
造を確認した。そのデータを以下に示す。
８−フェニルメンチル４７０ｍｇ（０．９２ｍｍｏｌ）
のエーテル溶液（１８ｍｌ）に、−７８℃にて水素化ホ
ウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン溶液（１
Ｍ）を１．１０ｍｌを滴下し１時間攪はんする。メタノ
ール（１．５ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウム水溶液
（１．０ｍｌ）、３０％過酸化水素水（１．０ｍｌ）を
加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエーテルで
抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層クロマトグ
ラフィーにて精製し、標記化合物を３４８ｍｇ（７４
％，Ｒ：Ｓ＝１００：０）で得る。1ＨＮＭＲにより構
造を確認した。そのデータを以下に示す。
【００１７】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ= 0.87 (t, 3
H, J=6.8), 0.88 (d, 3H, J=6.8),0.98-1.13 (m, 2H),
1.17-1.38 (m, 28H), 1.31 (s, 3H), 1.45 (m, 1H), 1.
57-1.66 (m, 2H), 1.89 (m, 1H, J=12.2), 1.97-2.09
(m, 4H), 4.27 (dd, 1H, J=5.1, 6.3), 4.88 (dt, 1H,
J=4.4, 10.7), 5.37 (dd, 1H, J=6.3, 15.1), 5.80 (d
t, 1H, J=6.8, 15.1), 7.15-7.20 (m, 1H), 7.23-7.34
(m, 4H).
H, J=6.8), 0.88 (d, 3H, J=6.8),0.98-1.13 (m, 2H),
1.17-1.38 (m, 28H), 1.31 (s, 3H), 1.45 (m, 1H), 1.
57-1.66 (m, 2H), 1.89 (m, 1H, J=12.2), 1.97-2.09
(m, 4H), 4.27 (dd, 1H, J=5.1, 6.3), 4.88 (dt, 1H,
J=4.4, 10.7), 5.37 (dd, 1H, J=6.3, 15.1), 5.80 (d
t, 1H, J=6.8, 15.1), 7.15-7.20 (m, 1H), 7.23-7.34
(m, 4H).
【００１８】
【実施例３】２−（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニル−
３−ブテン酸（−）−８−フェニルメンチルの製造
３−ブテン酸（−）−８−フェニルメンチルの製造
【００１９】２−オキソ−４−フェニル−３−ブテン酸
（−）−８−フェニルメンチル１０８ｍｇ（０．２８ｍ
ｍｏｌ）のエーテル溶液（５ｍｌ）に、−７８℃にて水
素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン溶液
（１Ｍ）を０．３３ｍｌを滴下し１時間攪はんする。メ
タノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウム水溶
液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５ｍｌ）
を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエーテル
で抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層クロマト
グラフィーにて精製し、標記化合物を９８ｍｇ（９０
％，Ｒ：Ｓ＝９８．５：１．５）で得る。1ＨＮＭＲに
より構造を確認した。そのデータを以下に示す。
（−）−８−フェニルメンチル１０８ｍｇ（０．２８ｍ
ｍｏｌ）のエーテル溶液（５ｍｌ）に、−７８℃にて水
素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン溶液
（１Ｍ）を０．３３ｍｌを滴下し１時間攪はんする。メ
タノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウム水溶
液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５ｍｌ）
を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエーテル
で抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層クロマト
グラフィーにて精製し、標記化合物を９８ｍｇ（９０
％，Ｒ：Ｓ＝９８．５：１．５）で得る。1ＨＮＭＲに
より構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【００２０】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ= 0.86 (d, 3
H, J=6.3), 0.99-1.36 (m, 3H), 1.22 (s, 3H), 1.31
(s, 3H), 1.46 (m, 1H), 1.58-1.70 (m, 2H), 1.90 (m,
1H,J=11.7), 2.09 (dt, 1H, J=3.4, 10.7), 2.05-2.13
(br, 1H), 4.49 (d, 1H, J=5.4), 4.93 (dt, 1H, J=4.
4, 10.7), 6.15 (dd, 1H, J=5.4, 16.1), 6.73 (d, 1H,
J=16.1), 7.15-7.42 (m, 10H).
H, J=6.3), 0.99-1.36 (m, 3H), 1.22 (s, 3H), 1.31
(s, 3H), 1.46 (m, 1H), 1.58-1.70 (m, 2H), 1.90 (m,
1H,J=11.7), 2.09 (dt, 1H, J=3.4, 10.7), 2.05-2.13
(br, 1H), 4.49 (d, 1H, J=5.4), 4.93 (dt, 1H, J=4.
4, 10.7), 6.15 (dd, 1H, J=5.4, 16.1), 6.73 (d, 1H,
J=16.1), 7.15-7.42 (m, 10H).
【００２１】
【実施例４】２−（Ｒ）−ヒドロキシ−６−フェニル−
３−ヘキセン酸（−）−２−フェニルシクロヘキシルの
製造
３−ヘキセン酸（−）−２−フェニルシクロヘキシルの
製造
【００２２】２−オキソ−６−フエニル−３−ヘキセン
酸（−）−２−フェニルシクロヘキシル１２２ｍｇ
（０．３４ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（７ｍｌ）に、−
７８℃にて水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムの
ヘキサン溶液（１Ｍ）を０．４０ｍｌを滴下し１時間攪
はんする。メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナ
トリウム水溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水
（０．５ｍｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水
を加えエーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮
し薄層クロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を１
０３ｍｇ（８４％，Ｒ：Ｓ＝９７：３）で得る。1ＨＮ
ＭＲにより構造を確認した。そのデータを以下に示す。
酸（−）−２−フェニルシクロヘキシル１２２ｍｇ
（０．３４ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（７ｍｌ）に、−
７８℃にて水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムの
ヘキサン溶液（１Ｍ）を０．４０ｍｌを滴下し１時間攪
はんする。メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナ
トリウム水溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水
（０．５ｍｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水
を加えエーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮
し薄層クロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を１
０３ｍｇ（８４％，Ｒ：Ｓ＝９７：３）で得る。1ＨＮ
ＭＲにより構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【００２３】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ= 1.28-1.62
(m, 4H), 1.79 (m, 1H, J=13.2), 1.86-1.98 (m, 2H),
2.09 (dt, 2H, J=6.8, 8.3), 2.18 (m, 1H), 2.50 (t,
2H,J=8.3), 2.68 (ddd, 1H, J=3.9, 10.7, 12.2), 2.73
(d, 1H, J=6.4), 4.36 (dd, 1H, J=5.4, 6.4), 4.8 (d
d, 1H, J=5.4, 15.1), 5.05 (dt, 1H, J=4.4, 10.8),
5.59 (dt, 1H, J=6.8, 15.1), 7.10-7.32 (m, 10H).
(m, 4H), 1.79 (m, 1H, J=13.2), 1.86-1.98 (m, 2H),
2.09 (dt, 2H, J=6.8, 8.3), 2.18 (m, 1H), 2.50 (t,
2H,J=8.3), 2.68 (ddd, 1H, J=3.9, 10.7, 12.2), 2.73
(d, 1H, J=6.4), 4.36 (dd, 1H, J=5.4, 6.4), 4.8 (d
d, 1H, J=5.4, 15.1), 5.05 (dt, 1H, J=4.4, 10.8),
5.59 (dt, 1H, J=6.8, 15.1), 7.10-7.32 (m, 10H).
【００２４】
【実施例５】２−（Ｒ）−ヒドロキシ−３−オクタデセ
ン酸（−）−２−フェニルシクロヘキシルの製造
ン酸（−）−２−フェニルシクロヘキシルの製造
【００２５】２−オキソ−３−オクタデセン酸（−）−
２−フェニルシクロヘキシル２８５ｍｇ（０．６３ｍｍ
ｏｌ）のエーテル溶液（１２．５ｍｌ）に、−７８℃に
て水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン
溶液（１Ｍ）を０．７５ｍｌを滴下し１時間攪はんす
る。メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５
ｍｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエ
ーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層ク
ロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を２３２ｍｇ
（８４％，Ｒ：Ｓ＝９８：２）で得る。1ＨＮＭＲによ
り構造を確認した。そのデータを以下に示す。
２−フェニルシクロヘキシル２８５ｍｇ（０．６３ｍｍ
ｏｌ）のエーテル溶液（１２．５ｍｌ）に、−７８℃に
て水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサン
溶液（１Ｍ）を０．７５ｍｌを滴下し１時間攪はんす
る。メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５
ｍｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエ
ーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層ク
ロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を２３２ｍｇ
（８４％，Ｒ：Ｓ＝９８：２）で得る。1ＨＮＭＲによ
り構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【００２６】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ= 0.88 (t, 3
H, J=6.4), 1.15-1.42 (m, 28H), 1.43-1.62 (m, 2H),
1.70-1.83 (m, 2H), 1.85-1.98 (m, 2H), 2.17 (m, 1
H), 2.68 (ddd, 1H, J=3.9, 10.7, 12.2), 4.34 (dd, 1
H, J=5.9, 6.3), 4.73 (dd, 1H, J=5.9, 15.1), 5.04
(dt, 1H, J=4.4, 10.7), 5.53 (dt, 1H, J=6.8, 15.1),
7.13-7.19 (m, 3H), 7.21-7.27 (m, 2H).
H, J=6.4), 1.15-1.42 (m, 28H), 1.43-1.62 (m, 2H),
1.70-1.83 (m, 2H), 1.85-1.98 (m, 2H), 2.17 (m, 1
H), 2.68 (ddd, 1H, J=3.9, 10.7, 12.2), 4.34 (dd, 1
H, J=5.9, 6.3), 4.73 (dd, 1H, J=5.9, 15.1), 5.04
(dt, 1H, J=4.4, 10.7), 5.53 (dt, 1H, J=6.8, 15.1),
7.13-7.19 (m, 3H), 7.21-7.27 (m, 2H).
【００２７】
【実施例６】２−（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニル−
３−ブテン酸（−）−２−フェニルシクロヘキシルの製
造
３−ブテン酸（−）−２−フェニルシクロヘキシルの製
造
【００２８】２−オキソ−４−フェニル−３−ブテン酸
（−）−２−フェニルシクロヘキシル１１７ｍｇ（０．
３５ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（７ｍｌ）に、−７８℃
にて水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサ
ン溶液（１Ｍ）を０．４２ｍｌを滴下し１時間攪はんす
る。メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５
ｍｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエ
ーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層ク
ロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を１１３ｍｇ
（９６％，Ｒ：Ｓ＝９８：２）で得る。1ＨＮＭＲによ
り構造を確認した。そのデータを以下に示す。
（−）−２−フェニルシクロヘキシル１１７ｍｇ（０．
３５ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（７ｍｌ）に、−７８℃
にて水素化ホウ素トリ（ｓ−ブチル）リチウムのヘキサ
ン溶液（１Ｍ）を０．４２ｍｌを滴下し１時間攪はんす
る。メタノール（０．７ｍｌ）、１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液（０．５ｍｌ）、３０％過酸化水素水（０．５
ｍｌ）を加え１時間以上かけて室温に戻す。水を加えエ
ーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、濃縮し薄層ク
ロマトグラフィーにて精製し、標記化合物を１１３ｍｇ
（９６％，Ｒ：Ｓ＝９８：２）で得る。1ＨＮＭＲによ
り構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【００２９】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ= 1.20-1.62
(m, 4H), 1.80 (m, 1H), 1.83-1.98(m, 2H), 2.17-2.25
(m,1H), 2.70 (dt, 1H, J=3.4, 12.2), 2.89 (d, 1H,
J=5.9), 4.60 (m, 1H), 5.07 (dt, 1H, J=4.4, 10.3),
5.49 (dd, 1H, J=5.4, 15.6), 6.53 (dd, 1H, J=1.5, 1
5.6), 6.99-7.36 (m, 10H).
(m, 4H), 1.80 (m, 1H), 1.83-1.98(m, 2H), 2.17-2.25
(m,1H), 2.70 (dt, 1H, J=3.4, 12.2), 2.89 (d, 1H,
J=5.9), 4.60 (m, 1H), 5.07 (dt, 1H, J=4.4, 10.3),
5.49 (dd, 1H, J=5.4, 15.6), 6.53 (dd, 1H, J=1.5, 1
5.6), 6.99-7.36 (m, 10H).
【００３０】
【発明の効果】本発明によって、簡便な反応操作により
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルを製
造する方法を提供することが可能となった。
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルを製
造する方法を提供することが可能となった。
Claims (4)
- 【請求項１】 【化１】 化１で表されるβ，γ−不飽和 α−ケトエステル（化
１中、Ｒは、アルキル基、アリール基を示し、Ｒ*は、
不斉補助剤を示す。）を還元剤で処理することによりα
カルボニル基をジアステレオ選択的に還元することを特
徴とする化２で表される（化２中、Ｒは、アルキル基、
アリール基を示し、Ｒ*は、不斉補助剤を示す。）
（Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製
造法。 【化２】 - 【請求項２】不斉補助剤として（−）−８−フェニルメ
ントールを用いることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の製造法。 - 【請求項３】不斉補助剤として（−）−トランス−２−
フェニルシクロヘキサノールを用いることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の製造法。 - 【請求項４】還元剤として、水素化ホウ素トリ（ｓ−ブ
チル）リチウムを用いることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7913793A JPH06107597A (ja) | 1992-03-12 | 1993-03-12 | （Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-88136 | 1992-03-12 | ||
| JP8813692 | 1992-03-12 | ||
| JP7913793A JPH06107597A (ja) | 1992-03-12 | 1993-03-12 | （Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107597A true JPH06107597A (ja) | 1994-04-19 |
Family
ID=26420204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7913793A Pending JPH06107597A (ja) | 1992-03-12 | 1993-03-12 | （Ｒ）−α−ヒドロキシ−β，γ−不飽和エステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06107597A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016516744A (ja) * | 2013-03-27 | 2016-06-09 | ファイザー アイルランド ファーマシューティカルズ | プレガバリンの調製のための方法および中間体 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP7913793A patent/JPH06107597A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016516744A (ja) * | 2013-03-27 | 2016-06-09 | ファイザー アイルランド ファーマシューティカルズ | プレガバリンの調製のための方法および中間体 |
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